JP4730771B2 - 処理液供給ノズル及び基板処理装置 - Google Patents
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Description
ガラス基板の下面から超音波を印加することでガラス基板表面に付着されていた微細なパーティクルを表面から浮き上がらせ、この浮き上がったパーティクルを整流されたイオン水によって洗い流す方法である。
ノズルから処理液を噴出している間は上記の現象が繰り返し生じるため、ノズルのスリット状吐出口からカーテン状に流下する処理液を、左右に振られるように基板上へ噴出させることができる。
従って、実際にこのような処理液供給ノズルを備えた基板処理装置を構成し、処理液として例えば洗浄液を流下させた場合は、基板表面を満遍なく洗浄することができる。
本発明の基板処理装置によれば、このような処理液供給ノズルを有するので、基板上を満遍なく洗浄することができ、基板表面の洗浄効果を高めることが可能になる。
従って、基板が大型化された場合においても、例えば洗浄処理や現像処理に好適な処理液供給ノズル及び基板処理装置を提供することが可能になる。
図1は、本発明に係る処理液供給ノズルを備えた基板処理装置の一実施の形態を示す側面図である。
図2は、一方のノズル半体の突き合わせ面を示す図であり、図3(a)及び(b)は、図2の要部拡大図である。
図4(a)及び(b)は、ノズルから噴出される処理液の振れ方向を説明する図であり、図5は、搬送される基板に対して、ノズルから噴出される処理液の振れ方向を説明する図である。
なお、以下に示す実施の形態では、本発明を、洗浄液を基板上へ噴出させる洗浄液供給ノズル及びこの洗浄液供給ノズルを備えた基板洗浄装置に適用した場合を説明する。
このような構成の基板洗浄装置15では、ガラス基板Gが搬送されると、洗浄液供給ノズル2からガラス基板G上に供給された洗浄液は、相対的にガラス基板Gの搬送方向とは逆方向に向かって流れる。
なお、ガラス基板Gを搬送せずに洗浄液供給ノズル2を移動させることも可能である。
水平方向供給路4には、外部より洗浄液が水平方向供給路4内に供給される供給穴7が所定間隔で形成されており、水平方向供給路4と上下方向供給路5との間には絞り部6が形成されている。
具体的には、ノズル半体2aの突き合わせ面の、水平方向供給路4から下方に分岐した複数の上下方向供給路5において、例えば、上部に凸部(上部凸部)8 が形成され、中間部に凸部(中間凸部)9が形成され、下部に凸部(下部凸部)10 が形成されている。
先ず、供給穴7から供給された洗浄液は、水平方向供給路4内に充満し、絞り部6を介して上下方向供給路5内に入る。
乾燥した冷却エア)が吹き込まれるため、洗浄液の流速はこのエアによって加速される。
流路12,13を通過する洗浄液の方向と流量は、上部凸部8、中間凸部9及び下部凸部10の形状によって制御され、流路12,13の断面積を等しくしてもアンバランスが生じる。
即ち、例えば、スリット状吐出口14よりガラス基板Gの表面に単に洗浄液を噴出させた場合は、図5に示すように、基板Gの搬送方向(図中矢印A参照)に対して、同じライン軸(X軸)上の洗浄液の流れ(図中矢印B参照)のみの力により洗浄を行うことになる。
しかしながら、本実施の形態の洗浄装置15を用いた場合では、図5に示すように、ガラス基板Gの搬送方向(図中矢印A参照)に対して、クロスするライン軸(Y軸)上の洗浄液の流れ(図中矢印C参照)の力により洗浄を行うことができる。
このため、このような均一に交差する洗浄液の力により、同じライン軸(X軸)上の洗浄液の流れ(図中矢印B参照)のみの力により洗浄を行う場合と比較して、洗浄効果を大幅に向上させることができる。
これにより、このような洗浄液供給ノズル2を備える基板洗浄装置15を構成し、実際に処理液として洗浄液を流下させた場合は、上述したような洗浄液の左右への往復運動により、基板上に付着していたパーティクルの洗浄効果(除去効果)を、例えば従来の基板の下面から超音波振動を印加する場合と比較して更に高めることができる。
また、例えば基板が大型化されても、例えば部分的に超音波が弱くなるようなこともなく、上述したような洗浄液の左右への往復運動により、基板上に付着していたパーティクルを満遍なく洗浄することができる。
また、例えば超音波発振機を設ける必要もなく、コストを安価にすることもできる。
この場合は、上述した洗浄液供給ノズル2において、例えば、水平方向供給路4の供給穴7から気体を導入する構成とすることができる。
これにより、上述したような洗浄液の流れと同様にして、気体がガラス基板G表面に噴出され、基板G上の微細なパーティクルを除去することができる。
なお、気体(エア)としてドライエアや、オゾンエア・ガス関連を用いることにより微細なパーティクルの洗浄力を向上させることができる。また、気体としてイオン化エアを用いることにより除電機能を付加させることもできる。
この場合は、洗浄液を基板Gの搬送方向と反対方向にスムーズに流すことができる。
また、洗浄液の流量を多くすることで、洗浄液の往復運動の流速(速さ)をあげることもでき、このようにして洗浄力を向上させることもできる。
Claims (3)
- 下端部にスリット状吐出口が形成された処理液供給ノズルにおいて、該処理液供給ノズルは2つの半体を接合することで前記スリット状吐出口に連通する処理液の供給路が形成され、少なくとも一方の半体の突き合わせ面には前記供給路を流下する処理液を左右に分配する凸部が設けられ、
前記供給路は、処理液の供給口が開口する水平方向供給路と、該水平方向供給路から下方に分岐された複数の上下方向供給路からなり、該上下方向供給路に前記凸部が設けられていることを特徴とする処理液供給ノズル。 - 前記供給路の途中には、エア供給口が開口されていることを特徴とする請求項1に記載の処理液供給ノズル。
- 請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の処理液供給ノズルが搬送路の上方に配置された基板処理装置であって、前記基板の幅方向と前記処理液供給ノズルのスリット状吐出口とが平行に配置されていることを特徴とする基板処理装置。
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