TWI400131B - 基板處理裝置 - Google Patents

Description

基板處理裝置 技術領域

本發明係有關於一種沿著與基板之運送方向交叉之方向供給處理液至前述基板上面以進行處理的基板處理裝置。

背景技術

例如，在液晶顯示裝置之製造製程中，具有將電路圖案形成於玻璃製基板之製程。當將電路圖案形成於基板時，係藉由將抗蝕劑塗布於業已成膜之基板，再進行曝光，並在曝光後利用顯像液進行顯像處理，再以蝕刻液進行蝕刻處理，而於基板表面精密地形成電路圖案。

當基板業已形成電路圖案時，便利用剝離液除去黏著殘留於前述基板表面之抗蝕劑膜或抗蝕劑殘渣等有機物。當業已利用剝離液除去有機物時，便利用洗淨液洗淨處理前述基板之板面，再交接至下一個製程。

當利用顯像液、蝕刻液、剝離液及洗淨液等處理液處理基板時，係一面以運送裝置朝預定方向運送前述基板，一面朝與基板之運送方向交叉的方向直線狀的供給前述處理液，以處理前述基板之上面。專利文獻1顯示有將處理液供給至所運送之基板的噴嘴體。

專利文獻1所示之噴嘴體的下面形成有多數吐出口，且該等吐出口係沿著長度方向形成並隔有預定間隔者。又， 前述噴嘴體包含有：儲存所供給之處理液的存液室；及一端與前述吐出口連通，而另一端與前述存液室連通，並使儲存於存液室之處理液流通至吐出口並吐出之處理液吐出流路。

此外，具有前述結構之噴嘴體係以長度方向沿著與前述基板之運送方向交叉的方向配置，並配置於所運送之前述基板之上方。藉此，當從前述吐出口流出處理液時，可沿著與運送方向交叉之方向將前述處理液直線狀的供給至朝預定方向運送之基板上面。

前述噴嘴體之存液室連接有供給管，而可從前述供給管供給處理液至存液室。處理液係一面儲存於前述存液室，一面通過處理液吐出流路並從形成於噴嘴體下面之吐出口吐出。

然而，依據前述結構，當從供給管供給處理液至存液室時，處理液會有捲入空氣的情況。當處理液捲入空氣時，前述空氣會變成氣泡，並與供給至基板之處理液一起從吐出口流出。

與處理液一起流出之氣泡會殘留於基板而不破裂，在該情況下，會成為處理液無法附著於基板殘留有氣泡之部分的狀態，或附著量較其他部分少之狀態，因此以處理液進行之基板處理會有產生不均一的情況。

因此，已有一種提案係在將處理液供給至基板時除去含於前述處理液之氣泡。專利文獻2顯示有一種不讓氣泡進入供給至基板之處理液的處理裝置。

專利文獻2所示之處理裝置具有處理液吐出噴嘴。前述處理液吐出噴嘴之框體上面連接有送液管與排液管，且下面形成有吐出孔。而該處理裝置係從前述送液管供給處理液至形成於前述框體之儲液處，再從前述吐出口朝基板之上面供給供給至儲液處之處理液。

產生於前述儲液處的氣泡會因浮力而附著於儲液處的頂部面。又，頂部面形成朝前述排液管高度傾斜的傾斜面。因此，產生於前述儲液處的氣泡會與處理液一起流至前述送液管，故可防止從前述吐出孔供給至前述基板之處理液含有氣泡。

【專利文獻1】特開2003-170086號公報

【專利文獻1】特開平11-156278號公報

發明揭示

在專利文獻2所揭示之結構中，係如前所述使含於處理液之氣泡黏著於形成在框體之儲液處上面，並使前述氣泡與處理液一起從前述排液管排出。

因此，框體必須連接有排液管，並且必須透過前述排液管使氣泡與處理液一同從前述儲液處排出，故具有導致結構複雜化，且需要花費許多的時間與費用於處理所排出之處理液的問題。

本發明係提供一種可使捲入處理液之氣泡與處理液分離並確實地排出的基板處理裝置。

本發明係一種基板處理裝置，係利用由處理液供給機構所供給之處理液處理所運送之基板上面者，而前述處理液供給機構包含有：主貯液部，係連接有用以供給前述處理液之供液管者；第1流出部，係設於前述主貯液部下端，並使從前述供液管供給且貯存於前述主貯液部之前述處理液流出者；輔助貯液部，係用以貯存從前述第1流出部流出之前述處理液者；第2流出部，係設於前述輔助貯液部，並將從前述第1流出部流至前述輔助貯液部之前述處理液供給至前述基板上面者；及第1放出部，係設於前述輔助貯液部，且與大氣連通，並將與來自前述第1流出部之前述處理液一起流出的氣泡放出至大氣者。

根據本發明，即使處理液捲入氣泡，含於處理液之氣泡會在前述處理液從主貯液部之第1流出部流至輔助貯液部且殘留於輔助貯液部時，因浮力而上昇，並從與大氣連通之第1放出部放出，因此可防止從設於前述輔助貯液部之第2流出部供給至基板之處理液含有氣泡。

實施發明之最佳型態

以下，一面參照圖式一面說明本發明之實施型態。

第1圖至第4圖係顯示本發明第1實施型態。第1圖係沿著處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。該處理裝置具有室1。前述室1之結構包含有：上面具有開口之本體部2；及可 開關前述本體部2之上面開口的蓋體部3。蓋體部3之寬度方向的一側由鉸鏈4連結於前述本體部2，並可旋動，而其寬度方向之另一側設有未圖示之把手。

前述室1之本體部2於底部之寬度方向的兩端部設有支撐構件11。一對支撐構件11上安裝有可裝卸之運送裝置12，且該運送裝置12業已單位化。前述運送裝置12具有一對放置於前述支撐構件11之上面的基部構件13。一對基部構件13係由多數，例如，3根連結構件14(第1圖中只顯示1根)所連結。

各基部構件13沿著長度方向設有支撐板15。在與一對支撐板15對應之位置上，隔著預定間隔設有軸承16。相對應之一對軸承16支撐有運送軸17的兩端部，並使其可自由旋轉。即，一對基部構件13於與室1之寬度方向正交的長度方向上，隔著預定間隔設有多數運送軸17。

又，雖然未圖示，但室1之長度方向的一側壁形成有輸入口，而另一側形成有送出口，而可從前述輸入口將用於液晶顯示裝置之玻璃製的基板W供給至室1內。

各運送軸17上隔著預定間隔設有多數運送滾子18。前述連結構件14之兩端部設有引導滾子18，其係用以引導從前述輸入口供入且由前述運送滾子18如後述般運送之基板W之寬度方向的兩端部者。引導滾子19可防止由運送滾子18所運送之基板W蛇行。

前述運送軸17係因驅動機構21之驅動而旋轉。前述驅動機構21具有驅動源22，且於前述驅動源22之輸出軸23嵌 合有驅動齒輪24。又，前述驅動齒輪24與嵌合於安裝軸25之從動齒輪26互相咬合。前述安裝軸25與前述運送軸17之端部設有互相咬合之齒輪(圖未示)。

藉此，當前述驅動源22運作時，便會驅動前述運送軸17旋轉，因此可以設於前述運送軸17之運送滾子18支撐且運送供入前述室1內之基板W。

前述室1內設有作為處理液L之供給裝置的處理液供給機構31，其係沿著與基板W之運送方向正交之寬度方向直線狀的供給顯像液、蝕刻液、剝離液或洗淨液等處理液L至由設於前述運送軸17之運送滾子18以水平狀態運送之基板W上面。

前述處理液供給機構31具有如第2圖至第4圖所示之主貯液部32。前述主貯液部32係沿著前述基板W之寬度方向，即，室1之寬度方向形成細長且截面呈矩形之箱型狀。前述主貯液部32之寬度尺寸設定成較前述基板W之寬度尺寸長，且其上面隔著預定間隔連接有多數用以供給處理液L至前述主貯液部32內之供液管33的一端。各供液管33之另一端係透過未圖示之流量控制閥連接於同樣未圖示之處理液L的供給源。

前述主貯液部32內部設有大致水平之平板狀承接構件34，且該承接構件34位於與各供液管33相對之部分之高度方向的中間部分。前述承接構件34可承接從前述供液管33供給至主貯液部32的處理液L。藉此，從供液管33供給至主貯液部32之處理液L會平穩地流入主貯液部32內，故可減少 捲入處理液L之氣泡。

前述主貯液部32之底部壁32a的長度方向上隔著預定間隔鑽有多數用以形成第1流出部之流出孔36。藉此，從前述供液管33供給至前述主貯液部32之處理液L可從前述流出孔36流出。

又，從供液管33供給之處理液L的供給量與從流出孔36流出之流出量係被設定的，以使從供液管33供給之處理液L充滿前述主貯液部32。

從前述流出孔36流出之處理液L係貯存於輔助貯液部38。如第4圖所示，前述輔助貯液部38係截面形狀呈漏斗狀，且包含有：形成一對沿著前述主貯液部32之寬度方向傾斜之傾斜面39a、39b的V字型底部壁41；直立設於前述底部壁41之其中一傾斜面39a側的上端，且與前述主貯液部32之側面平行並隔著間隔相對的側部壁42；及設於前述側部壁42上端，並可關閉輔助貯液部38之上面開口的上部壁43。

前述底部壁41之另一傾斜面39b的上端部與朝前述主貯液部32之下面開啟之流出孔36相對。前述傾斜面39b之下端，即，底部壁41之最下端開口形成有作為第2流出部之狹縫44，且該狹縫44橫跨於長度方向之大致全長。

供給至前述主貯液部32並從前述流出孔36流至前述傾斜面39b之上端部的處理液L係沿著傾斜面39b流動，並貯存於漏斗狀的底部壁41，再從形成於前述底部壁41之狹縫44直線狀的流出。藉此，可橫跨與朝預定方向所運送之基板W之運送方向交叉的寬度方向全長供給處理液L。

又，前述流出孔36與狹縫44之面積係被設定的，且從供液管33供給至主貯液部32之處理液L的供給量亦係被控制的，以使一定量的處理液L貯存於前述輔助貯液部38之底部壁41。即，從主貯液部32流至輔助貯液部38之處理液L並非直接從狹縫44朝基板W上面流出，而是儲存於輔助貯液部38預定時間之後，再從前述狹縫44流出。

從主貯液部32之流出孔36流出之處理液L係沿著輔助貯液部39b之傾斜面流動。因此，若從前述流出孔36流出之處理液L捲入氣泡的話，前述氣泡會在處理液L沿著傾斜面39b流動時，因浮力上昇而與處理液L分離。

再者，流動於傾斜面39b之處理液L係貯存於輔助貯液部38之底部壁41之後，再從狹縫44流出。因此，即使氣泡殘留於所貯存的處理液L中，含於處理液L之氣泡仍會在處理液L從狹縫44流出之前上昇，而與處理液L分離。

此外，由於處理液L貯存於輔助貯液部38，因此可使處理液L沿著基板W之寬度方向從細長的狹縫44朝基板W均一地流出。藉此，可均一地處理基板W的上面全體。

前述輔助貯液部38之上部壁43連接有作為第1放出部之第1排氣管45，其係用以放出與處理液L分離且於前述輔助貯液部38內上昇之氣泡者。藉此，與處理液L分離之氣泡會通過前述第1排氣管45而放出至大氣。

又，如第1圖所示，第1排氣管45設於輔助貯液部38之長度方向的兩端部。

根據具有前述結構之處理裝置，可於室1內朝預定方向 運送供給至室1內之基板W，並可在運送途中，從處理液供給機構31沿著與基板W之運送方向交叉之寬度方向供給處理液L至基板W上面。藉此，基板W係在經由處理液L處理後送出室1。

前述處理液供給機構31具有主貯液部32。由供液管33供給至前述主貯液部32之處理液L並非直接從供液管33落至主貯液部32內，而是由與供液管33相對設置之承接構件34承接後再落下。藉此，處理液L會平穩地流入主貯液部32內，因此亦可減少流入時捲入處理液L之氣泡的量。

貯存於前述主貯液部32之處理液L係如第4圖之箭號A所示，從形成於主貯液部32之下面的流出孔36流出，並沿著形成於輔助貯液部38之底部壁41的傾斜面39b流動，再貯存於輔助貯液部38之漏斗狀的底部壁41，接著從設於前述傾斜面39b之下端的狹縫44流出，再供給至運送於室1內之基板W上面。

當從前述主貯液部32之流出孔36流出之處理液L含有氣泡時，前述氣泡會在處理液L從流出孔36流出並沿著傾斜面39b流動時上昇，而與處理液L分離，此時，未從處理液L除去之氣泡係在流動於傾斜面39b之處理液L從狹縫44流出之前，即，處理液L貯存於輔助貯液部38之底部壁41上時依浮力上昇，而與處理液L分離。

此外，由於與處理液L分離之氣泡係從第1排氣管45放出至大氣，因此從前述輔助貯液部38之狹縫44供給至基板W之處理液L不會含有氣泡。故，可利用處理液L均一地處 理基板W之上面全體。

即，根據具有前述結構之處理液供給機構31，由於供給至主貯液部32之處理液L係先貯存於輔助貯液部38再供給至基板W，因此處理液L所含有的氣泡係在處理液L從主貯液部32流至輔助貯液部38時及貯存於輔助貯液部38時依浮力上昇，而與處理液分離，再通過第1排氣管45放出至大氣。

因此，氣泡不會如習知般與處理液L一起排出，而可與處理液L分離並放出至大氣，故可以簡單的結構確實地從處理液L除去氣泡。

第5圖係顯示本發明第2實施型態之處理液供給機構31A。在本實施型態之處理液供給機構31A中，主貯液部32之側壁部32b的下端部形成有作為第1流出部之流出孔36A，其係使供給至主貯液部32之處理液流至輔助貯液部38者。

如箭號A所示，從前述流出孔36A流出的處理液L係流入形成於前述主貯液部32之側壁部32b外側的輔助貯液部38，並暫時地貯存於該處，再從形成於輔助貯液部38之底部壁41的狹縫44流出，且供給至朝預定方向運送的基板W上面。

前述輔助貯液部38之上部壁43連接有作為第1放出部之第1排氣管45，而前述主貯液部32之側壁部上部連接有構成第2放出部之第2排氣管51的一端。前述第2排氣管51之中間部設有開關閥52，且該第2排氣管51彎曲成L字狀，以使 另一端部之前端面51a高於貯存於主貯液部32之處理液L的上面。

若先開啟前述開關閥52並使含於供給至前述主貯液部32之處理液的氣泡與處理液分離的話，前述氣泡會從前述第2排氣管51排至外部，而不會儲存於主貯液部32內的上部。

根據具有前述結構之處理液供給機構31A，使供給至主貯液部32之處理液L流至輔助貯液部38的流出孔36A係形成於前述主貯液部32之側壁部32b。

因此，前述流出孔36A係朝向與供給處理液L至主貯液部32之供液管33之直線方向正交的方向，故從前述流出孔36A流至輔助貯液部38之處理液L不易受從前述供液管33供給至主貯液部32之處理液L的壓力影響。

這樣一來，從主貯液部32通過前述流出孔36A流至輔助貯液部38之處理液L的流量不易改變，因此可穩定從輔助貯液部38之狹縫44供給至基板W之處理液L的流出量，故可利用處理液L穩定地進行基板W的處理。

第6圖係顯示本發明第3實施型態之處理液供給機構31B。本實施型態係第2實施型態之變形例，且形成輔助貯液部38之底部壁41的一對傾斜面39a、39b中，位於主貯液部32側之其中一傾斜面39b較另一傾斜面39a突出於下方。

藉此，從狹縫44流出之處理液L係由其中一傾斜面39b引導而平穩地供給至基板W上面。即，可防止因供給至基板W上面之處理液L不穩定而捲入空氣，並在含有氣泡的狀 態下供給至基板W上面的情況發生，故可確實且均一地進行基板W的處理。

又，在第5圖與第6圖所示之第2、第3實施型態中，係以同一符號標示與第1實施型態相同的部分，並省略其說明。

在前述各實施型態中，係將流出孔形成於主貯液部，並將狹縫形成於輔助貯液部，以作為第1、第2流出部，但無論各流出部是流出孔還是狹縫皆不造成影響。

為了從輔助貯液部放出氣泡至大氣中，係將第1排氣管連接於前述輔助貯液部，但亦可不連接第1排氣管，而只形成排氣孔。

1‧‧‧室

2‧‧‧本體部

3‧‧‧蓋體部

4‧‧‧鉸鏈

11‧‧‧支撐構件

12‧‧‧運送裝置

13‧‧‧基部構件

14‧‧‧連結構件

15‧‧‧支撐板

16‧‧‧軸承

17‧‧‧運送軸

18‧‧‧運送滾子

19‧‧‧引導滾子

21‧‧‧驅動機構

22‧‧‧驅動源

23‧‧‧輸出軸

24‧‧‧驅動齒輪

25‧‧‧安裝軸

26‧‧‧從動齒輪

31,31A,31B‧‧‧處理液供給機構

32‧‧‧主貯液部

32a‧‧‧底部壁

32b‧‧‧側壁部

33‧‧‧供液管

34‧‧‧承接構件

36,36A‧‧‧流出孔

38‧‧‧輔助貯液部

39a,39b‧‧‧傾斜面

41‧‧‧底部壁

42‧‧‧側部壁

43‧‧‧上部壁

44‧‧‧狹縫

45‧‧‧第1排氣管

51‧‧‧第2排氣管

51a‧‧‧前端面

52‧‧‧開關閥

A‧‧‧箭號

W‧‧‧基板

L‧‧‧處理液

第1圖係顯示本發明第1實施型態之圖，且該圖係沿著處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。

第2圖係設於前述處理裝置內之處理液供給機構的正視圖。

第3圖係前述處理液供給機構的截面圖。

第4圖係前述處理液供給機構之放大縱向截面圖。

第5圖係顯示本發明第2實施型態之圖，且該圖係沿著處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。

第6圖係係顯示本發明第3實施型態之圖，且該圖係沿著處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。

31‧‧‧處理液供給機構

32‧‧‧主貯液部

32a‧‧‧底部壁

33‧‧‧供液管

34‧‧‧承接構件

36‧‧‧流出孔

38‧‧‧輔助貯液部

39a,39b‧‧‧傾斜面

41‧‧‧底部壁

42‧‧‧側部壁

43‧‧‧上部壁

44‧‧‧狹縫

45‧‧‧第1排氣管

L‧‧‧處理液

A‧‧‧箭號

Claims (7)

1. 一種基板處理裝置，係利用由處理液供給機構所供給之處理液來處理被運送之基板之上面者，其特徵在於，前述處理液供給機構包含有：主貯液部，係連接有用以供給前述處理液之供液管者；第1流出部，係設於前述主貯液部之下端，並使從前述供液管朝前述主貯液部供給而貯存之處理液流出者；輔助貯液部，係具有承接已由該第1流出部流出之處理液的傾斜面、以及設於該傾斜面之下端而將已由前述第1流出部流出之處理液朝前述基板之上面供給的第2流出部，貯存已從前述第1流出部流出之處理液者；及第1放出部，係設於前述輔助貯液部，且與大氣連通，並將由前述第1流出部與處理液一起流出的氣泡放出至大氣者，又，前述第1流出部係沿著前述主貯液部之長方向形成之複數流出孔，且前述傾斜面亦沿著前述長方向形成。
2. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述第1流出部形成於前述主貯液部之底部壁。
3. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述第1流出部形成於前述主貯液部之側部壁。
4. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述主貯 液部形成有第2放出部，該第2放出部係將由前述供液管與處理液一起供給至前述主貯液部的氣泡放出至大氣者。
5. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中從前述主貯液部之第1流出部流至前述輔助貯液部的處理液在暫時地貯存於前述輔助貯液部之後，再從輔助貯液部之第2流出部流出。
6. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述主貯液部設有用以承接從前述供液管供給之處理液的承接構件。
7. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述第2流出部係沿著與前述基板之運送方向交叉之方向形成的狹縫。