JPH0964009A - 基板処理装置における気液分離回収装置 - Google Patents

基板処理装置における気液分離回収装置

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JPH0964009A
JPH0964009A JP21439995A JP21439995A JPH0964009A JP H0964009 A JPH0964009 A JP H0964009A JP 21439995 A JP21439995 A JP 21439995A JP 21439995 A JP21439995 A JP 21439995A JP H0964009 A JPH0964009 A JP H0964009A
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JP
Japan
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gas
liquid
cup
box
component
Prior art date
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Pending
Application number
JP21439995A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshimitsu Fukutomi
義光 福冨
Hiroyuki Yoshii
弘至 吉井
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カップに取り囲まれた空間内に配置された基
板の表面に処理液を供給して前記基板に対し所定の処理
を行う基板処理装置において、カップからの気液混合流
体を確実に気体成分と液体成分とに分離回収することが
できる小型の気液分離回収装置を提供する。 【解決手段】 カップの直下位置に回収ボックス31が
配置されてカップからの気液混合流体MFが開口33を
介して鉛直方向Zに沿って回収ボックス31内に流れ込
む。この回収ボックス31内には、開口33と対向して
仕切り板34が配置されて上記のようにして流れ込んで
きた気液混合流体MFが垂直に仕切り板34に衝突して
気体成分と液体成分に分離される。このため、カップか
ら気液分離位置までの距離が短く、確実に気液分離回収
を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、カップに取り囲
まれた空間内に配置された半導体ウエハや液晶用ガラス
基板などの基板の表面に処理液(現像液、エッチング液
や洗浄液など)を供給して基板に対し所定の処理を行う
基板処理装置においてカップで補集された気液混合流体
を気体成分と液体成分に分離し、それぞれを回収する気
液分離回収装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば基板の表面に塗布され
たレジスト膜を所定のパターンに露光した後、図4に示
す現像装置(基板処理装置)に搬送し、次のようにして
現像処理している。この現像装置は2つのヘッド10を
備えており、各ヘッド10では、スピンチャック1に保
持された基板2の表面にまず現像液を供給して基板表面
の現像処理を開始し、所定の現像時間経過後にモータM
によりスピンチャック1を回転駆動することでスピンチ
ャック1上の基板2を回転させて現像液を振り切り、さ
らに基板2を回転させた状態のままで純水などの洗浄液
を基板表面に供給してリンス処理を行い、最後に基板2
の回転速度を上げて洗浄液を振り切るように構成されて
いる。このような装置においては、基板2を取り囲むよ
うにカップ3を設け、振り切られた処理液(現像液や洗
浄液)を補集し、気体成分と液体成分の気液混合流体を
パイプ4を介してヘッド10の外部に排出している。
【0003】また、このような現像装置では、カップ3
からの気液混合流体を気体成分と液体成分に分離し、回
収するために気液分離回収装置が設けられている。同図
に示す気液分離回収装置20は、各ヘッド10に対応し
て設けられた集合ボックス21と、パイプ22により各
集合ボックス21に連結された排気ボックス23とで構
成されており、カップ3からの気液混合流体は一旦集合
ボックス21に集められた後、パイプ22を介して排気
ボックス23に送られ、この排気ボックス23のスリッ
ト24間を通過することで気体成分(同図の細矢印)と
液体成分(同図の太矢印)に分離され、それぞれ排気お
よび排液される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のように構成され
た気液分離回収装置20では、カップ3から排気ボック
ス23までの距離が長くなり、配管途中、特にパイプ2
2の継目部分で気液混合流体がリークして現像装置を汚
染してしまうという問題がある。
【0005】また、カップ3から排気ボックス23まで
の配管経路内で現像液に溶けたレジスト成分がレジスト
かすとして付着して回収効率を低下させるという問題が
ある。
【0006】さらに、上記のように1つの排気ボックス
23に対して複数のヘッド10を接続しているので、各
ヘッド10から同時期に気液混合流体が排気ボックス2
3内に流れ込むおそれがあり、このような場合に対応す
るために、比較的大きな容量を持った排気ボックス23
を準備する必要がある。このため、気液分離回収装置2
0が大型化するという問題もある。
【0007】本発明の目的は、カップに取り囲まれた空
間内に配置された基板の表面に処理液を供給して前記基
板に対し所定の処理を行う基板処理装置において、カッ
プからの気液混合流体を確実に気体成分と液体成分とに
分離回収することができる小型の気液分離回収装置を提
供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、カッ
プに取り囲まれた空間内に配置された基板の表面に処理
液を供給して前記基板に対し所定の処理を行う基板処理
装置において前記カップからの処理液と排気との気液混
合流体を気体成分と液体成分に分離し、それぞれを回収
する気液分離回収装置であって、上記目的を達成するた
め、前記カップの直下位置に配置されるとともに、その
上面側に設けられた導入口を介して前記カップと連結さ
れた回収ボックスと、前記回収ボックス内で前記導入口
と対向配置され、前記導入口を介してほぼ鉛直方向に沿
って前記回収ボックス内に導入された気液混合流体を気
体成分と液体成分に分離し、前記気体成分を前記回収ボ
ックスの上方空間側に導く一方、前記液体成分を前記回
収ボックスの底面空間側に導く仕切り板と、を備えてい
る。このように回収ボックスをカップの直下位置に配置
し、この回収ボックス内でカップからの気液混合流体が
気体成分と液体成分に分離される。
【0009】請求項2の発明は、前記回収ボックスの側
面部に前記上方空間と接して開口部が設けられている。
このため、前記仕切り板により導かれた気体成分が当該
開口部を介して前記回収ボックスの外に排気される。
【0010】
【発明の実施の形態】図1は、この発明にかかる基板処
理装置における気液分離回収装置の一実施形態を示す斜
視図である。この基板処理装置は、図1に示すように、
モータMにチャック1が連結されており、チャック1上
に基板2を保持した状態でモータMを作動させることに
より、チャック1と基板2とが一体的に回転するように
なっている。また、このチャック1を取り囲むように、
カップ3が配置されており、図示を省略するノズルから
現像液をチャック1に保持された基板2の表面に供給し
た後、モータMを作動させてチャック1と一体的に基板
2を回転させると、その遠心力により余剰の現像液など
が排液として基板表面から振り切られ、カップ3に補集
される。
【0011】一方、このカップ3には、気液分離回収装
置30がパイプ4により接続されており、1つのヘッド
10に専用の気液分離回収装置30が設けられている。
【0012】この気液分離回収装置30では、図1に示
すように、2つの回収ボックス31がカップ3の直下位
置に配置されており、カップ3からの気液混合流体がパ
イプ4を介して鉛直方向Zに沿って回収ボックス31内
に導入される。ここで、各回収ボックス31内の構成は
同一であるため、一方の回収ボックス31内の構成を説
明するとともに、その回収ボックス31内での気液混合
流体の分離方法などについて図2および図3を参照しつ
つ説明する。
【0013】図2は図1の気液分離回収装置の部分拡大
図であり、一方の回収ボックス31を示す斜視図であ
り、また図3はその断面図である。回収ボックス31の
上面側には、煙突状の接続部32が上方に伸びており、
パイプ4(図1)と接続されてカップ3からの気液混合
流体MFが接続部32の開口(導入口)33を通って回
収ボックス31内に垂直に流れ込むようになっている。
なお、以下の説明の理解を容易にするため、気液混合流
体MFを構成する気体成分、液体成分およびミスト成分
を図面においてそれぞれ細矢印、太矢印および黒点で表
す。また、細矢印および太矢印については、それぞれが
気体成分および液体成分の進む方向を示している。
【0014】回収ボックス31内には、図3に示すよう
に、右手方向に進むにしたがって上方に反った形状に湾
曲成形された仕切り板34が配置されており、回収ボッ
クス31内を上方空間USと底面空間BSとに仕切って
いる。ただし、この仕切り板34の一方端34aは回収
ボックス31の側面部35と離隔して開口部36が形成
されており、この開口部36を介して上方空間USと底
面空間BSとは互いに連通している。
【0015】また、この仕切り板34の一方端34aは
開口33と対向しており、この開口33を通過して流れ
込んだ気液混合流体MFの約半分程度が仕切り板34に
ほぼ垂直に衝突するように構成されている。一方、仕切
り板34に衝突しなかった気液混合流体MFについて
は、底面37に垂直に衝突する。
【0016】さらに、回収ボックス31の側面部38に
上方空間USと接して開口部39が設けられており、こ
の開口部39を介して回収ボックス31の上方空間US
が排気用ボックス40の下空間41に接続されている。
また、図2に示すように、この排気用ボックス40の中
間部42には開口部43が設けられて排気用ボックス4
0の下空間41と上空間44とが互いに連通されるとと
もに、側面部45に開口部46が設けられて上空間44
が図示を省略する排気手段と接続されている。このた
め、排気手段を作動させている間、回収ボックス31の
上方空間USが開口部39−排気用ボックスの下空間4
1−開口部43−上空間44−開口部46という経路で
排気される。
【0017】次に、上記のように構成された気液分離回
収装置30の動作について説明する。なお、この気液分
離回収装置30では、少なくとも基板処理装置を作動さ
せている間、排気手段は常時作動しており、上記経路で
排気流れが形成されている。
【0018】基板処理装置により基板処理を行うと、カ
ップ3に処理液が補集され、カップ3からの気液混合流
体MFがパイプ4および開口(導入口)33を介して回
収ボックス31内に流れ込む。このとき、気液混合流体
MFは鉛直方向Zに沿って流れており、その約半分が仕
切り板34に、また残りが底面37に、それぞれ垂直に
衝突する。
【0019】このように気液混合流体MFが仕切り板3
4に衝突すると、気体成分は軽く、排気流れにより仕切
り板34に沿って上方空間US側に導かれる(細矢印r
参照)一方、液体成分はある程度質量を持っており、傾
斜している仕切り板34に沿って下方側に流れ、開口部
36を介して底面空間BSに流れ込む(太矢印R参
照)。また、底面37に衝突した気液混合流体MFにつ
いては、液体成分は直接底面空間BSに流れ込む一方、
気体成分は排気流れに引かれて上部空間US側に導かれ
る。このように、この実施形態にかかる気液分離回収装
置30によれば、気液混合流体MFを気体成分および液
体成分に分離することができ、しかも、気液混合流体M
Fを鉛直方向Zに沿って回収ボックス31内に導入し、
ほぼ垂直状態で仕切り板34および底面37に衝突させ
て気液分離させているので、気体成分および液体成分を
効率良く分離することができる。なお、この実施形態で
は、気液混合流体MFの半分程度が仕切り板34に衝突
するようにしているが、すべての気液混合流体MFが仕
切り板34の一方端34aに衝突するようにしてもよ
い。
【0020】こうして分離された液体成分については、
回収ボックス31の底面37を伝わってドレン部47よ
り外部に排液されて回収される。
【0021】一方、上記のようにして分離された気体成
分は排気流れに沿って排気される。すなわち、気体成分
は開口部39−排気用ボックスの下空間41−開口部4
3−上空間44−開口部46という経路で気液分離回収
装置30の外部に排気され、回収される。
【0022】ところで、気液混合流体MFにミスト成分
が含まれることがあるが、ミスト成分を含む気液混合流
体MFが回収ボックス31内に流れ込むと、仕切り板3
4あるいは底面37と衝突した際に、その一部が排気流
れに乗って上方空間US側に導かれるが、仕切り板34
に沿って移動する間に仕切り板34の表面領域48(図
2の斜線領域)に接触付着したり、開口部39を通過す
る際に側面部38の一部領域49(図2の斜線領域)に
接触付着するので、ミストが気体成分に含まれるのを大
幅に抑制することができる。
【0023】以上のように、この実施形態にかかる気液
分離回収装置30によれば、カップ3の直下位置に回収
ボックス31を配置してカップ3からの気液混合流体M
Fの気液分離を行っているので、カップ3から気液分離
位置までの距離が短く、気液混合流体のリースを防止し
ながら、確実に気液分離回収を行うことができる。ま
た、上記距離が短くなったことで、配管経路内でのレジ
ストかすの付着を防止することができ、回収効率を向上
させることができる。
【0024】また、上記のように1つのヘッド10に対
して1つの気液分離回収装置30を配置しており、図4
の従来例の集合ボックス21の代わりに気液分離回収装
置30を配置したことと等価で、しかも従来例における
気体と液体を分離する排気ボックス23を設ける必要が
ないため、気液分離回収装置30の小型化を図ることが
できる。
【0025】なお、上記実施形態は、基板処理装置とし
て基板に現像液を供給して現像する現像装置を一例とし
て挙げて説明したが、本発明は現像装置のみならず、エ
ッチング処理装置、剥離処理装置等、カップに取り囲ま
れた空間内に配置された基板の表面に処理液を供給して
当該基板に対し所定の処理を行う基板処理装置全搬に適
用することができる。
【0026】また、上記実施形態では、1つの気液分離
回収装置30に2つの回収ボックス31を設けている
が、回収ボックス31の個数や配置などは上記実施形態
に限定されるものではなく、任意である。
【0027】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、カップの直下
位置に回収ボックスを配置し、その回収ボックスの上面
側に設けられた導入口を介して前記カップと連結して、
前記導入口を介してほぼ鉛直方向に沿って前記カップか
らの気液混合流体を前記回収ボックス内に導入するとと
もに、仕切り板を前記導入口と対向配置することで導入
された気液混合流体を前記仕切り板に衝突させているの
で、気液混合流体を確実に気体成分と液体成分とに分離
回収することができる。
【0028】請求項2の発明によれば、前記回収ボック
スの側面部に前記上方空間と接して開口部を設けて仕切
り板により導かれた気体成分を当該開口部を介して前記
回収ボックスの外に排気しているので、気体成分をより
確実に回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかる基板処理装置における気液分
離回収装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1の気液分離回収装置の部分拡大図である。
【図3】図1の気液分離回収装置の断面図である。
【図4】従来の気液分離回収装置を示す図である。
【符号の説明】
2 基板 3 カップ 30 気液分離回収装置 31 回収ボックス 33 開口(導入口) 34 仕切り板 37 底面 38 側面部 39 開口部 BS 底面空間 MF 気液混合流体 US 上方空間 Z 鉛直方向

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カップに取り囲まれた空間内に配置され
    た基板の表面に処理液を供給して前記基板に対し所定の
    処理を行う基板処理装置において前記カップからの処理
    液と排気との気液混合流体を気体成分と液体成分に分離
    し、それぞれを回収する気液分離回収装置であって、 前記カップの直下位置に配置されるとともに、その上面
    側に設けられた導入口を介して前記カップと連結された
    回収ボックスと、 前記回収ボックス内で前記導入口と対向配置され、前記
    導入口を介してほぼ鉛直方向に沿って前記回収ボックス
    内に導入された気液混合流体を気体成分と液体成分に分
    離し、前記気体成分を前記回収ボックスの上方空間側に
    導く一方、前記液体成分を前記回収ボックスの底面空間
    側に導く仕切り板と、を備えたことを特徴とする基板処
    理装置における気液分離回収装置。
  2. 【請求項2】 前記回収ボックスの側面部に前記上方空
    間と接して開口部が設けられており、前記仕切り板によ
    り導かれた気体成分を当該開口部を介して前記回収ボッ
    クスの外に排気する請求項1記載の基板処理装置におけ
    る気液分離回収装置。
JP21439995A 1995-08-23 1995-08-23 基板処理装置における気液分離回収装置 Pending JPH0964009A (ja)

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