JP2002066428A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
- Publication number
- JP2002066428A JP2002066428A JP2000259049A JP2000259049A JP2002066428A JP 2002066428 A JP2002066428 A JP 2002066428A JP 2000259049 A JP2000259049 A JP 2000259049A JP 2000259049 A JP2000259049 A JP 2000259049A JP 2002066428 A JP2002066428 A JP 2002066428A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cup body
- liquid separator
- discharge
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
ップ体内に生じる気流を円滑に排出できるようにしたス
ピン処理装置を提供することにある。 【解決手段】 カップ体1と、このカップ体内に設けら
れ基板を保持した状態で回転駆動される回転テーブル9
と、上記カップ体の底部に周方向に一定間隔で設けられ
上記カップ体内の排気を行なう偶数の排出部24と、上
記カップ体の下方に配置され上記カップ体の周方向にお
いて隣り合う一対の排出部の一方が一端に、他方が他端
にそれぞれ長手方向に対して左右対称に接続された気液
分離器26A,26Bと、この気液分離器の上記一端と
他端との中間部に接続された排気管31と、上記気液分
離器の長手方向の中間部で、上記排気管よりも下方に接
続された排液管34とを具備する。
Description
ルによって回転させながら処理するスピン処理装置に関
する。
製造過程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの
基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフ
ォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基板
に対して処理液による処理及び洗浄が行なわれたのち、
乾燥処理が行なわれる。基板に対してこのような一連の
処理を行なう場合、上記基板を回転テ−ブルに保持し、
この回転テ−ブルとともに回転させ、それによって生じ
る遠心力を利用する、スピン処理装置が用いられる。
この処理槽内にスピンカップが配置されている。このス
ピンカップは上面が開口しており、内部には回転テーブ
ルが設けられている。この回転テーブルには上記基板が
保持される。
れ、この排出管は気液分離器を介して排気ポンプに接続
されている。気液分離器は、排気中に含まれる処理液
(液体)と気体を分離する。
上記カップ体内の気体と液体が混じり合った状態で上記
排出管から排出されたのち、上記気液分離器で気体と液
体とに分離され、気体と液体は上記気液分離器に接続さ
れた排気管と排液管とから排出されるようになってい
る。液体が排気管に流入すると、排気管の腐食や排気ポ
ンプの損傷を招くから、気液分離器は分離した液体が排
気側に流入しない構造としなければならない。
された基板を乾燥処理する場合、回転テーブルに基板を
保持してこの回転テーブルを高速度で回転させること
で、基板に付着した処理液を遠心力で飛散させ、乾燥さ
せるようにしている。基板から飛散した処理液は、上記
排出管に生じた上記排気ポンプの吸引力によってカップ
体内から排出されるようになっている。
−93873号公報に示す構造が知られている。この公
報に示された気液分離器は、箱形状の本体を有し、この
本体の上面には一端がスピン処理装置のカップ体の底部
に接続された複数の排出管の他端が接続されている。
面には排気管が接続されている。この排気管には排気ポ
ンプが接続されている。したがって、排気ポンプが作動
すると、その吸引力が本体の内部空間を介して排出管に
作用するから、この排出管を通じて上記カップ体内の排
気が行なわれるようになっている。
気液分離器によると、排気ポンプの吸引力が複数の排気
管に均等に作用する構成となっていなかった。そのた
め、各排気管を通じてカップ体内の排気が均一に行なえ
ないということがあった。
乾燥処理時にカップ体内の回転テーブルが高速回転する
ことで発生する気流の一部が円滑に排出されず、カップ
体の内周面に衝突して上方へ舞い上がりやすくなる。
した処理液の一部がミストになって舞い上がり、カップ
体内で浮遊することになる。その結果、乾燥処理時にミ
ストが基板に再付着し、汚染の原因になるということが
あった。
なうことができ、しかも排気中に含まれる液体を気体と
確実に分離して排出できるようにしたスピン処理装置を
提供することにある。
を回転させて処理するスピン処理装置において、カップ
体と、このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状
態で回転駆動される回転テーブルと、上記カップ体の底
部に周方向に一定間隔で設けられ上記カップ体内の排気
を行なう偶数の排出部と、上記カップ体の下方に配置さ
れ上記カップ体の周方向において隣り合う一対の排出部
の一方が一端に、他方が他端にそれぞれ長手方向に対し
て左右対称に接続された気液分離器と、この気液分離器
の上記一端と他端との中間部に接続された排気管と、上
記気液分離器の長手方向の中間部で、上記排気管よりも
下方に接続された排液管とを具備したことを特徴とする
スピン処理装置にある。
するスピン処理装置において、カップ体と、このカップ
体内に設けられ上記基板を保持した状態で回転駆動され
る回転テーブルと、上記カップ体の周壁に周方向に所定
間隔で開口形成された偶数の導入口部と、上記回転テー
ブルの回転方向に沿って設けられ一端が上記導入口部に
連通し他端が閉塞されていて、上記回転テーブルの回転
によって上記カップ体内に生じる気流が上記導入口部か
ら導入される偶数の導入路と、この導入路の他端に設け
られ上記回転テーブルの回転によって上記導入路に導入
された気流を排出する偶数の排出部と、上記カップ体の
下方に配置され上記カップ体の周方向において隣り合う
一対の排出部の一方が一端に、他方が他端にそれぞれ長
手方向に対して左右対称に接続された気液分離器と、こ
の気液分離器の上記一端と他端との中間部に接続された
排気管と、上記気液分離器の長手方向の中間部で、上記
排気管よりも下方に接続された排液管とを具備したこと
を特徴とするスピン処理装置にある。
面は、長手方向両端部から中間部に向かって低く傾斜し
た第1の傾斜面に形成されているとともに、上記排出部
と上記気液分離器とは排出管によって接続されていて、
この排出管の上記気液分離器に接続された下端部の端面
は上記第1の傾斜面と平行になる第2の傾斜面に形成さ
れていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の
スピン処理装置にある。
は、この気液分離器に接続された上記排気管と排液管と
の間の高さ位置に透孔部材が設けられており、上記排出
管の下端部は上記透孔部材を貫通していることを特徴と
する請求項3記載のスピン処理装置にある。
プ体内の排気流量を調整する流量調整弁が設けられてい
ることを特徴とする請求項4記載のスピン処理装置にあ
る。
偶数の排出部を、気液分離器に接続された排気管を中心
にして左右対称に接続したから、各排出部に排気管を通
じて排気ポンプの吸引力を均一に作用させ、カップ体内
の排気を均一に行なうことができる。カップ体内の気体
と液体が排出部を通じて気液分離器内に吸引されると、
この気液分離器内で液体は落下するから、液体は排気管
よりも下方に接続された排液管から排出され、気体は排
気管から排出される。つまり、気体と液体を分離して排
出できる。
回転することで生じる気流は、カップ体の周壁に周方向
に所定間隔で形成された偶数の導入口部からそれぞれ導
入路を通じて排出部へ排出されるから、回転テーブルの
回転によって生じる気流は乱れを生じることなく、比較
的円滑に排出される。
を、排液管が接続された中間部に向かって低く傾斜した
第1の傾斜面とし、排出部に一端を接続した排出管の気
液分離器に接続された下端部の端面を、第1の傾斜面と
平行な第2の傾斜面としたから、排出管の内周面を伝わ
って滴下する液体が排気管に作用する吸引力で排気管に
吸引され難くなる。
れた透孔部材によって、排出管から滴下する液体が排気
管へ吸引されるのをより一層、確実に阻止することが可
能となる。
を設けたことで、各排出管からの排気が均一になるよう
調整することができる。
図面を参照して説明する。
ある。このカップ体1はベース板2上に設けられてい
る。つまり、カップ体1は中心部に向かって高く傾斜し
た底板3を有し、この底板3の周辺部には周壁4が設け
られている。この周壁4には、図2に示すように周方向
に等間隔で偶数である4つの導入口部5が開口形成され
ている。
れ、この通孔6には中空状の駆動軸7が挿通されてい
る。なお、通孔6は遮蔽板6aによって閉塞されてい
る。
モータ8が取り付けられ、この駆動モータ8の図示しな
い回転子に上記駆動軸7が連結されている。この駆動軸
7のカップ体1内に突出した上端には、図2に示すよう
に平面形状がほぼ十字状の回転テーブル9が取り付けら
れている。
に連結固定された基部11と、この基部11に周方向に
所定間隔で一端部を連結した4本のアーム12とから構
成されていて、各アーム12の先端部にはそれぞれ一対
の係合ピン13が立設されている。さらに、各アーム1
2の先端部と上記基部11とには、それぞれ支持ピン1
4が立設されている。
ば液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形状の基板1
5が角部を各アーム12の先端部に設けられた一対の係
合ピン13に係合させ、この角部の下面と中心部の下面
とをそれぞれ上記支持ピン14に支持されて着脱可能に
保持される。
と、上記回転テーブル9は基板15を保持した状態で図
2に矢印Aで示す反時計方向に回転駆動されるようにな
っている。
4の上端には、リング状の反射防止部材16が設けられ
ている。この反射防止部材16は、上記周壁4に連結さ
れた外周端が内周端よりも低くなるよう傾斜して設けら
れた傾斜部16aと、この傾斜部16aの内周端に垂設
された垂直部16bとからなる。
口部5と対応する部分にカバー体22が設けられてい
る。各カバー体22は、上記導入口部5側に位置する一
端から上記回転テーブル9の回転方向に沿う他端部にゆ
くにつれてカップ体1の外周面との間隔が漸次大きくな
る導入路23を、上記カップ体1の周方向に沿って形成
している。つまり、導入路23は、一端から他端に行く
につれて断面積が漸次大きくなるよう形成されている。
この閉塞端部には排出部としての排出口24が形成され
ている。この排出口24には図1に示すように排出管2
5の一端(上端)が接続されている。
位置する2本の排出管25、言い換えれば周方向におい
て隣り合う一対の排出管25は第1の気液分離器26A
に接続され、径方向他端側に位置する2本の排出管25
は第2の気液分離器26Bに接続されている。各排出管
25には流量調整弁としてのバタフライバルブ30が設
けられている。
端側と他端側に設けられた各一対の排出管25の間隔よ
りも長尺な矩形箱形状に形成された本体26を有する。
この本体26の上面の長手方向一端部と他端部とにそれ
ぞれ一対の排出管25が気密に接続されている。各排出
管25の下端部は本体26内に突出している。
3に示すように長手方向両端から中央部に向かって低く
傾斜する逆への字状の第1の傾斜面27に形成されてい
る。
高さ方向中途部にはL字状の排気口体29が接続されて
いる。一対の気液分離器26A,26Bに接続された排
気口体29には、図1と図2に示すようにそれぞれ排気
管31の一端が接続されている。一対の排気管31はカ
ップ体1の径方向中心に対して対称形状になっており、
それぞれの他端はT字状の接続管32を介して排気ポン
プ33の吸引側に接続されている。
で、長手方向中央部、つまり上記排気口体29よりも下
方で、第1の傾斜面27の最も低くなる位置には排液管
34が接続されている。この排液管34からは、気液分
離器26A,26B内に滴下する液体として基板15を
洗浄処理した処理液が排出される。
面の第1の傾斜面27とほぼ同じ逆への字状に屈曲され
た透孔部材35が上記排気口体29と排液管34との間
の高さ位置に設けられている。この透孔部材35は、例
えばパンチングメタルのように多数の透孔35aを有す
る板材によって形成されている。
一対の排出管25の下端部は、上記透孔部材35の下面
側に貫通している。つまり、排出管25の下端面は透孔
部材35の下面側に位置している。そして、この排出管
25の下端面は、上記第1の傾斜面27に対してわずか
な間隔で平行に離間対向する第2の傾斜面28に形成さ
れている。
ル9が回転駆動されると、その回転によって気流が生じ
る。この気流は回転テーブル9の回転方向、つまり図2
に矢印Bで示す反時計方向で、かつ回転テーブル9の回
転の外周に対して接線方向に沿って生じる。
Bは、回転テーブル9の回転による遠心力と、導入口部
5に作用する排気ポンプ33の吸引力とによってカップ
体1の周壁に形成された導入口部5からカバー体22に
よって形成された導入路23へ流入する。
路23の一端から他端へと流れ、この他端部に形成され
た排出口24を通じて排出管25から気液分離器26内
へ吸引され、ここで液体と気体とに分離されて排出され
るようになっている。
ば、洗浄処理された基板15を乾燥処理する場合、基板
15を保持した回転テーブル9を高速度で回転させる
と、その回転によって気流Bが生じる。この気流Bは回
転する基板15の回転方向、つまり回転の接線方向に生
じる。
は、カップ体1の周壁4に形成された導入口部5から導
入路23へ流入し、この導入路23の末端部に形成され
た排出口24から排出管25へ吸引排出される。
Bには、基板15から飛散した洗浄液が含まれており、
気液分離器26で気体と液体とが分離され、気体は排気
管31から排出され、液体は排液管34を通じて排出さ
れる。
Bは、カップ体1の周壁4に周方向に沿って所定間隔で
形成された複数の導入口部5から導入路23へ流入す
る。つまり、導入路23へ排出されるから、回転テーブ
ル9の回転によって生じた気流Bは、カップ体1の内周
面に沿ってほとんど流れずに導入口部5へ流入すること
になる。
生じる気流Bは、ほとんどが流れに乱れが生じて渦流や
上昇気流となる前にそれぞれの導入口部5へ流入して排
出されるから、気流Bに含まれるミストがカップ体1内
で浮遊して基板15に再付着するのを防止することがで
きる。
入口部5側から排出口24側に行くにつれて断面積が次
第に大きくなるよう形成されている。そのため、導入路
23に流入した気流が排出口24から排出管25へ流入
するまでに、導入路23内の圧力が上昇するのを防止す
るから、導入路23に流入した気流Bがカップ体1内へ
戻る逆流現象が生じるの防止する。
排出が円滑に行なわれ、気流に含まれるミストがカップ
体1内に浮遊して基板15に再付着するのを防止するこ
とができる。
って生じる気流Bの流れ方向に沿う、カップ体1の周壁
4に沿って形成されているから、そのことによってもカ
ップ体1内に生じる気流Bが導入口部5から導入路21
へ円滑に流入し易くなり、カップ体1内に渦流や上昇気
流が生じるのが抑制される。
5のうち、径方向一端側と他端側に位置するそれぞれ2
本の排出管25は、第1、第2の気液分離器26A,2
6Bの本体26の上面に、この本体26の側面に接続さ
れた排気管31を中心にして対称に接続されている。し
かも、第1、第2の気液分離器26A,26Bにそれぞ
れ接続された一対の排気管31はカップ体1の径方向中
心に対して対称形状になっている。
排出管25を通じて排気ポンプ33の吸引力がほぼ均等
に作用する。それによって、各排出部24からの気流の
排出がほぼ均等に行なわれ、カップ体1内で気流に乱れ
が生じ難くなるから、ミストが浮遊するのを抑制するこ
とができる。
液分離器26A、26Bの本体26内に流入すると、そ
の気流に含まれる液体は排出管25の内面を伝わって下
端面から滴下し、気体は透孔部材35の透孔35aを通
じて排気管31へ吸引される。
出管25の下端面から滴下する液体が排気管31へ吸引
される気体の流れに乗って排気管31へ流入する虞があ
る。しかしながら、排出管25の下端面は、気液分離器
26A、26Bの本体26の内底面に形成された第1の
傾斜面27と平行になる第2の傾斜面28に形成されて
いる。つまり、第2の傾斜面28は排気管31が接続さ
れた排気口体29に向かって低く傾斜している。そのた
め、排気管31に作用する排気ポンプ33の吸引力が排
出管25の第2の傾斜面28に作用しにくいため、この
排出管25から滴下する液体が排気管31に吸引され難
い。
管25から排気管31へ吸引される気体の流れに乗った
としても、排出管25の下端は透孔部材35を貫通して
いるから、排出管25から排気管31へ向かう液体は透
孔部材35の透孔35aを通過せずに透孔部材35に衝
突し、本体26の底部に滴下する確率が高い。したがっ
て、そのことによっても、気液分離器26A,26Bで
分離された液体が排気管31に流入するの阻止すること
ができる。
設けられている。バタフライバルブ30は通常、全開で
使用される。しかしながら、カップ体1内からの気流の
吸引バランスが崩れた場合には、それに応じて4つのバ
タフライバルブ30の開度を調整することができる。し
たがって、バタフライバルブ30の開度を調整すること
で、カップ体1内からの排気をバランスよく行なうこと
が可能となる。
がそれぞれ4つ形成されている場合について説明した
が、導入口部5の数は4つに限られず、2つあるいは6
つなどの偶数であればよく、要は1つの気液分離器の本
体に対して2つの排出管を、この本体の長手方向中央部
を中心にして左右対称に接続することができればよい。
だけに限られず、円形状の半導体ウエハなどであっても
よいこと勿論である。
た偶数の排出部を、気液分離器に接続された排気管を中
心にして左右対称に接続した。
で気体と液体を分離して排出するようにしても、各排出
部に排気管を通じて排気ポンプの吸引力を均一に作用さ
せ、カップ体内の排気を均一に行なうことができる。つ
まり、カップ体内で気流の乱れが生じてミストが舞い上
がるのを防止することができる。
回転することで生じる気流を、カップ体の周壁に周方向
に所定間隔で形成された偶数の導入口部からそれぞれ導
入路を通じて排出部へ排出するようにした。
じる気流はカップ体内で乱れが生じる前に導入口部から
導入路へ流入するから、そのことによってもカップ体内
でミストが舞い上がるのを防止することができる。
を、排液管が接続された中間部に向かって低く傾斜下第
1の傾斜面とし、排出部に一端を接続した排出管の気液
分離器に接続された下端部の端面を、第1の傾斜面と平
行な第2の傾斜面とした。
れた下端面は排気管に作用する吸引力が作用し難くなる
から、排出管の内周面を伝わって滴下する液体が排気管
に吸引され難くなる。
材を設け、この透孔部材に排出管を貫通させたから、排
出管から滴下する液体が排気管へ吸引されようとして
も、液体は透孔部材に衝突して滴下する確率が高くなる
から、液体が排気管へ吸引されるのをより一層、確実に
阻止することが可能となる。
を設けたから、排気管及び排出管を通じて排出部に作用
する吸引力を調整し、カップ体内からの排気を均一化す
ることができる。
装置の概略的構成の縦断面図。
Claims (5)
- 【請求項1】 基板を回転させて処理するスピン処理装
置において、 カップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状態で回
転駆動される回転テーブルと、 上記カップ体の底部に周方向に一定間隔で設けられ上記
カップ体内の排気を行なう偶数の排出部と、 上記カップ体の下方に配置され上記カップ体の周方向に
おいて隣り合う一対の排出部の一方が一端に、他方が他
端にそれぞれ長手方向に対して左右対称に接続された気
液分離器と、 この気液分離器の上記一端と他端との中間部に接続され
た排気管と、 上記気液分離器の長手方向の中間部で、上記排気管より
も下方に接続された排液管とを具備したことを特徴とす
るスピン処理装置。 - 【請求項2】 基板を回転させて処理するスピン処理装
置において、 カップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状態で回
転駆動される回転テーブルと、 上記カップ体の周壁に周方向に所定間隔で開口形成され
た偶数の導入口部と、 上記回転テーブルの回転方向に沿って設けられ一端が上
記導入口部に連通し他端が閉塞されていて、上記回転テ
ーブルの回転によって上記カップ体内に生じる気流が上
記導入口部から導入される偶数の導入路と、 この導入路の他端に設けられ上記回転テーブルの回転に
よって上記導入路に導入された気流を排出する偶数の排
出部と、上記カップ体の下方に配置され上記カップ体の
周方向において隣り合う一対の排出部の一方が一端に、
他方が他端にそれぞれ長手方向に対して左右対称に接続
された気液分離器と、 この気液分離器の上記一端と他端との中間部に接続され
た排気管と、 上記気液分離器の長手方向の中間部で、上記排気管より
も下方に接続された排液管とを具備したことを特徴とす
るスピン処理装置。 - 【請求項3】 上記気液分離器の内底面は、長手方向両
端部から中間部に向かって低く傾斜した第1の傾斜面に
形成されているとともに、上記排出部と上記気液分離器
とは排出管によって接続されていて、この排出管の上記
気液分離器に接続された下端部の端面は上記第1の傾斜
面と平行になる第2の傾斜面に形成されていることを特
徴とする請求項1又は請求項2記載のスピン処理装置。 - 【請求項4】 上記気液分離器内には、この気液分離器
に接続された上記排気管と排液管との間の高さ位置に透
孔部材が設けられており、上記排出管の下端部は上記透
孔部材を貫通していることを特徴とする請求項3記載の
スピン処理装置。 - 【請求項5】 上記排出管には、カップ体内の排気流量
を調整する流量調整弁が設けられていることを特徴とす
る請求項4記載のスピン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000259049A JP4504537B2 (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | スピン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000259049A JP4504537B2 (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | スピン処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002066428A true JP2002066428A (ja) | 2002-03-05 |
JP4504537B2 JP4504537B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=18747271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000259049A Expired - Fee Related JP4504537B2 (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | スピン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4504537B2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005006415A1 (ja) * | 2003-07-09 | 2005-01-20 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR20220070854A (ko) * | 2020-11-23 | 2022-05-31 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2022082529A (ja) * | 2020-11-23 | 2022-06-02 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置 |
KR20220072014A (ko) * | 2020-11-23 | 2022-06-02 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2022104583A (ja) * | 2020-12-28 | 2022-07-08 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097938A (ja) * | 1995-04-19 | 1997-01-10 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置およびその制御方法 |
JPH0964009A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置における気液分離回収装置 |
JPH1154470A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | スピン処理装置 |
JP4358410B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2009-11-04 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
-
2000
- 2000-08-29 JP JP2000259049A patent/JP4504537B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097938A (ja) * | 1995-04-19 | 1997-01-10 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置およびその制御方法 |
JPH0964009A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置における気液分離回収装置 |
JPH1154470A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | スピン処理装置 |
JP4358410B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2009-11-04 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
US9977352B2 (en) | 2003-07-09 | 2018-05-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
WO2005006415A1 (ja) * | 2003-07-09 | 2005-01-20 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR102573602B1 (ko) * | 2020-11-23 | 2023-09-01 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2022082529A (ja) * | 2020-11-23 | 2022-06-02 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置 |
KR20220072014A (ko) * | 2020-11-23 | 2022-06-02 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
KR20220072016A (ko) * | 2020-11-23 | 2022-06-02 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP7253029B2 (ja) | 2020-11-23 | 2023-04-05 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置 |
KR20220070854A (ko) * | 2020-11-23 | 2022-05-31 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
US11782348B2 (en) | 2020-11-23 | 2023-10-10 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for treating substrate |
KR102635384B1 (ko) | 2020-11-23 | 2024-02-14 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
KR102635385B1 (ko) | 2020-11-23 | 2024-02-14 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2022104583A (ja) * | 2020-12-28 | 2022-07-08 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP7299964B2 (ja) | 2020-12-28 | 2023-06-28 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4504537B2 (ja) | 2010-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3556043B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
JP2002066428A (ja) | スピン処理装置 | |
KR20000062665A (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
TW201816840A (zh) | 液體處理裝置及液體處理方法 | |
JP4796902B2 (ja) | 基板のスピン処理装置 | |
JP2010192686A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4759183B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JP2013207265A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3529724B2 (ja) | 回転式基板処理装置 | |
JP4358410B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JP2002329705A (ja) | スピン処理装置 | |
JPH1154470A (ja) | スピン処理装置 | |
JP4410331B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JP2003218004A (ja) | スピン処理装置 | |
JP2002170807A (ja) | スピン処理装置 | |
JP2003093979A (ja) | スピン処理装置 | |
JP2013207266A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH1142460A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2002001240A (ja) | スピン処理装置 | |
KR20220091774A (ko) | 스핀 코터 및 이를 구비하는 기판 처리장치 | |
JPH1043665A (ja) | スピンコーター | |
JP2001276714A (ja) | スピン処理装置 | |
JPH11283902A (ja) | スピン処理装置 | |
JPH06275506A (ja) | 回転塗布装置及びその方法 | |
JPH0684775A (ja) | 回転機構 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070810 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100402 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100420 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100423 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4504537 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140430 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |