JP2022082529A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の効果が上述した効果によって限定されることはなく、言及されなかった効果は本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されることができる。
1200 処理容器
1220 外側カップ
1240 内側カップ
1260 ファンフィルターユニット
1400 基板支持ユニット
1420 支持板
1440 回転軸
1460 駆動器
1600 液供給ユニット
1700 気流案内ダクト
1720 ガイド板
1722 排液ホール
1900 排気ユニット
Claims (20)
- 基板を処理する装置において、
内部空間を有する処理容器と、
前記内部空間で基板を支持し、回転させる支持ユニットと、
前記内部空間内の気流を排気する排気ユニットと、を含み、
前記排気ユニットは、
前記支持ユニットに支持される基板の回転方向に対して接線方向に気流を流入するように提供される気流案内ダクトを含む基板処理装置。 - 前記気流案内ダクトは、螺旋形状に提供される請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記気流案内ダクトは、その長さ方向が基板の回転軸から同一距離を維持しながら、その入口からその出口に向かって漸進的に高さが低くなるように提供される請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記支持ユニットは、
基板を支持する支持板と、
前記支持板を回転させる回転軸と、
前記回転軸に結合されて前記回転軸を回転力を提供する駆動器と、を含み、
前記処理容器は、
前記内部空間を提供する外側カップと、
前記外側カップと離隔されるように前記内部空間に配置される、そして前記回転軸又は前記駆動器を囲む内側カップと、を含み、
前記気流案内ダクトは、前記外側カップと前記内側カップとの間に提供される請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記外側カップと前記内側カップとの間には螺旋形状に提供されるガイド板が提供され、
前記気流案内ダクトは、前記外側カップ、前記内側カップ、そして前記ガイド板によって規定される請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記ガイド板は、前記回転軸で遠くなる方向に下方傾くように提供され、
前記ガイド板で前記外側カップと隣接する領域には排液ホールが形成される請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記内側カップは、前記内部空間内で排気管が結合された排気空間を規定し、
前記気流案内ダクトから流出した気流は、前記排気空間に流入された後、前記処理容器から排気されるように提供される請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記外側カップと前記内側カップとの間には前記外側カップの床壁から上部に延長される気液分離板が提供され、
前記気流案内ダクトは、前記外側カップと前記気液分離板との間の空間に気流を流出するように提供される請求項7に記載の基板処理装置。 - 前記気流案内ダクトは、入口を有する流入部を具備し、
前記気流案内ダクトで前記入口を有する流入部は、前記処理容器の外側壁を通じて前記処理容器の外部に延長されるように配置される請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記流入部は、その長さ方向が前記支持ユニットに支持される基板の接線方向と平行である方向に提供される請求項9に記載の基板処理装置。
- 前記支持ユニットは、
基板が置かれる回転可能な支持板を有し、
前記内部空間で前記支持板より下領域に排気空間が規定され、
前記排気ユニットは、前記排気空間に流入された気流を前記内部空間の外部に排気する個別排気管をさらに含み、
前記個別排気管と前記気流案内ダクトは、圧力調節部材が設置された統合排気管に連結される請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記気流案内ダクトは、前記処理容器の内部空間内に位置される請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記気流案内ダクトは、前記処理容器の内側壁に装着される請求項12に記載の基板処理装置。
- 前記気流案内ダクトは、その長さ方向が上下方向に提供され、
前記気流案内ダクトは、上壁及び側壁を含み、
前記上壁は、ブロッキング面に提供され、
前記側壁の中で前記支持ユニットに支持された基板の接線と平行である方向を対向する面には気流を流入する入口が形成され、残りの面は、ブロッキング面に提供される請求項13に記載の基板処理装置。 - 前記内部空間に下降気流を供給するファンユニットと、
前記支持ユニットに支持された基板に処理液を供給するノズルと、をさらに含む請求項1乃至請求項14の中でいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記気流案内ダクトは、複数が前記支持ユニットに支持された基板の円周方向に沿って互いに離隔されるように提供される請求項9乃至請求項14の中でいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板を処理する装置において、
内部空間を有する処理容器と、
前記内部空間内で基板を支持及び回転させる支持板を有する支持ユニットと、
前記内部空間内雰囲気を排気する排気ユニットと、を具備し、
前記排気ユニットは、
前記処理容器の内側壁と前記支持板に支持された基板との間の空間を通じて前記内部空間の中で前記支持板より下に位置した排気空間に流入される経路である第1経路の気流を前記処理容器の外部に排気する排気管と、
前記第1経路とは異なる第2経路に前記気流を案内する気流案内ダクトと、を含む基板処理装置。 - 前記第2経路は、前記支持ユニットに支持される基板の回転方向に対して接線方向の経路である請求項17に記載の基板処理装置。
- 前記支持ユニットは、
前記支持板を回転させる回転軸と、
前記回転軸に結合されて前記回転軸を回転力を提供する駆動器と、を含み、
前記処理容器は、
前記内部空間を提供する外側カップと、
前記外側カップと離隔されるように前記内部空間に配置される、そして前記回転軸又は前記駆動器を囲む内側カップと、を含み、
前記気流案内ダクトは、前記外側カップと前記内側カップとの間に提供される請求項18に記載の基板処理装置。 - 基板を処理する装置において、
内部空間を有する処理容器と、
前記内部空間内で基板を支持及び回転させる支持板を有する支持ユニットと、
前記支持板に支持された基板の回転によって前記基板上で前記基板の外側に流れる気流の流れ方向を案内する気流案内ダクトと、を有し、
前記気流案内ダクトで前記気流を流入する入口は、前記支持板に支持された基板と同一又は隣接する高さに提供される基板処理装置。
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