JP2002025969A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
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- JP2002025969A JP2002025969A JP2000200202A JP2000200202A JP2002025969A JP 2002025969 A JP2002025969 A JP 2002025969A JP 2000200202 A JP2000200202 A JP 2000200202A JP 2000200202 A JP2000200202 A JP 2000200202A JP 2002025969 A JP2002025969 A JP 2002025969A
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- rotation
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
ップ体内に生じる気流を円滑に排出できるようにしたス
ピン処理装置を提供することにある。 【解決手段】 カップ体1と、このカップ体内に設けら
れ基板を保持した状態で回転駆動される回転テーブル9
と、上記カップ体の周壁に周方向に所定間隔で開口形成
された複数の導入口部5と、一端が上記導入口部に連通
され他端が閉塞されるとともに、この他端を上記一端よ
りも上記回転テーブルの回転方向下流側に位置させて設
けられ上記回転テーブルの回転によって上記カップ体内
に回転テーブルの回転方向に沿って生じる気流が上記導
入口部から導入される導入路21と、この導入路の他端
に設けられ上記回転テーブルの回転によって上記導入路
に導入された気流を排出する排出口24とを具備する。
Description
ルによって回転させながら処理するスピン処理装置に関
する。
製造過程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの
基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフ
ォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基板
に対して処理液による処理及び洗浄が行なわれたのち、
乾燥処理が行なわれる。基板に対してこのような一連の
処理を行なう場合、上記基板を回転テ−ブルに保持し、
この回転テ−ブルとともに回転させ、それによって生じ
る遠心力を利用する、スピン処理装置が用いられる。
この処理槽内にスピンカップが配置されている。このス
ピンカップは上面が開口しており、内部には回転テーブ
ルが設けられている。この回転テーブルには上記基板が
保持される。
れ、この排出管は上記処理槽の底壁を貫通して外部に導
出され、気液分離器を介して排気ポンプに接続されてい
る。
上記カップ体内の空気及び処理液が上記排出管から外部
へ排出されるようになっている。
された基板を乾燥処理する場合、回転テーブルに基板を
保持してこの回転テーブルを高速度で回転させること
で、基板に付着した処理液を遠心力で飛散させ、乾燥さ
せるようにしている。基板から飛散した処理液は、上記
排出管に生じた吸引力によってカップ体内から排出され
るようになっている。
カップ体内にはその回転によって回転テーブルの回転方
向に沿う気流が発生し、その気流に乗って基板に付着し
た処理液も飛散し、カップ体の内周面に衝突する。
排出管が接続されている。そのため、カップ体の内周面
に衝突した気流は、カップ体の底部に接続された排出管
に吸引され難いため、一部が上昇気流となってしまう。
その結果、その上昇気流に処理液がミスト状となって含
まれるため、そのミストが乾燥処理された基板に再付着
して汚染の原因になるということがある。
2536号公報に示されるように、カップ体の内周面に
周方向に沿って整流用溝部を形成し、回転テーブルの回
転によって生じる気流を、上記整流用溝部に沿って流
し、この整流用溝部に連通する1つの排気口へ排出する
ようにしたスピンドライヤーが提案されている。
回転テーブルの回転によって生じる気流は、最長でカッ
プ体の内周面のほぼ全周に沿って流れることになるな
ど、カップ体の内周面に沿って流れる距離が長くなるた
め、その流れの途中で渦流や上昇気流が発生し易いとい
うことがあった。
1つの排気口から排出するようにしているため、回転テ
ーブルの回転によって生じる気流の量や速度が変動する
と、上記排気口から円滑に排出されにくいということも
あった。
ップ体内で浮遊し、回転テーブルに保持された基板に再
付着して基板の汚染の原因になるということがあった。
カップ体内に生じる気流を円滑に排出できるようにした
スピン処理装置を提供することにある。
を回転させて処理するスピン処理装置において、カップ
体と、このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状
態で回転駆動される回転テーブルと、上記カップ体の周
壁に周方向に所定間隔で開口形成された複数の導入口部
と、一端が上記導入口部に連通され他端が閉塞されると
ともに、この他端を上記一端よりも上記回転テーブルの
回転方向下流側に位置させて設けられ上記回転テーブル
の回転によって上記カップ体内に回転テーブルの回転方
向に沿って生じる気流が上記導入口部から導入される導
入路と、この導入路の他端に設けられ上記回転テーブル
の回転によって上記導入路に導入された気流を排出する
排出部とを具備したことを特徴とするスピン処理装置に
ある。
ップ体の周方向に沿って形成されていることを特徴とす
る請求項1記載のスピン処理装置にある。
は、上記導入口部に連通した一端から上記排出部が設け
られた他端にゆくにつれて漸次大きくなることを特徴と
する請求項1記載のスピン処理装置にある。
回転することで生じる気流は、カップ体の周壁に周方向
に所定間隔で形成された複数の導入口部からそれぞれ導
入路を通じて排出部へ排出されるから、回転テーブルの
回転によって生じる気流がカップ体の内周面に沿って流
れる距離が短くなるため、気流の乱れを生じることな
く、比較的円滑に排出される。
体の周方向に沿って形成したことで、回転テーブルの回
転によって生じる気流が上記導入路へ円滑に流入させる
ことができる。
状を気流の流れ方向に沿って漸次大きくしたことで、こ
の導入部に流入した気流の圧力変動を少なくして円滑に
排出することが可能となる。
面を参照して説明する。
を示し、図中1はカップ体である。このカップ体1はベ
ース板2上に設けられている。つまり、カップ体1は中
心部に向かって高く傾斜した底板3を有し、この底板3
の周辺部には周壁4が設けられている。この周壁4に
は、図2に示すように周方向に等間隔で4つの導入口部
5が開口形成されている。
れ、この通孔6には中空状の駆動軸7が挿通されてい
る。なお、通孔6は遮蔽板6aによって閉塞されてい
る。
モータ8が取り付けられ、この駆動モータ8の図示しな
い回転子に上記駆動軸7が連結されている。この駆動軸
7のカップ体1内に突出した上端には平面形状がほぼ十
字状の回転テーブル9が取り付けられている。
に連結固定された基部11と、この基部11に周方向に
所定間隔で一端部を連結した4本のアーム12とから構
成されていて、各アーム12の先端部にはそれぞれ一対
の係合ピン13が立設されている。さらに、各アーム1
2の先端部と上記基部11とには、それぞれ支持ピン1
4が立設されている。
ば液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形状の基板1
5が角部を各アームの先端部に設けられた一対の係合ピ
ン13に係合させ、この角部の下面と中心部の下面とを
それぞれ上記支持ピン14に支持されて着脱可能に保持
される。
と、上記回転テーブル9は基板15を保持した状態で図
2に矢印Aで示す反時計方向に回転駆動されるようにな
っている。
4の上端には、リング状の反射防止部材16が設けられ
ている。この反射防止部材16は、上記周壁4に連結さ
れた外周端が内周端よりも低くなるよう傾斜して設けら
れた傾斜部16aと、この傾斜部16aの内周端に垂設
された垂直部16bとからなる。
口部5と対応する部分にカバー体22が設けられてい
る。各カバー体22は、上記導入口部5側に位置する一
端から上記回転テーブル9の回転方向に沿う他端部にゆ
くにつれてカップ体1の外周面との間隔が漸次大きくな
る導入路23を、上記カップ体1の周方向に沿って形成
している。つまり、導入路23は、一端から他端に行く
に断面積がつれて漸次大きくなるよう形成されている。
この閉塞端部には排出部としての排出口24が形成され
ている。この排出口24には図1に示すように同じく排
出部としての排出管25の一端が接続され、この排出管
25の他端には気液分離器26を介して排気ポンプ27
が接続されている。この排気ポンプ27の吸引力は、上
記排出口24及び導入路23を介して上記導入口部5に
作用するようになっている。
ル9が回転駆動されると、その回転によって気流が生じ
る。この気流は回転テーブル9の回転方向、つまり図2
に矢印Bで示す反時計方向で、かつ回転テーブル9の回
転の外周に対して接線方向に沿って生じる。
Bは、回転テーブル9の回転による遠心力と、導入口部
5に作用する排気ポンプ27の吸引力とによってカップ
体1の周壁に形成された導入口部5からカバー体22に
よって形成された導入路23へ流入する。
路23の一端から他端へと流れ、この他端部に形成され
た排出口24を通じて排出管25へ吸引され、気液分離
器26で液体と気体とに分離される。
ば、洗浄処理された基板15を乾燥処理する場合、基板
15を保持した回転テーブル9を高速度で回転させる
と、その回転によって気流Bが生じる。この気流Bは回
転する基板15の回転方向、つまり回転の接線方向に生
じる。
は、カップ体1の周壁4に形成された導入口部5から導
入路23へ流入し、この導入路23の末端部に形成され
た排出口24から排出管25へ吸引排出される。
Bには、基板15から飛散した洗浄液が含まれるから、
気液分離器26では気体と液体とが分離され、それぞれ
が別々に排出される。
Bは、カップ体1の周壁4に周方向に沿って所定間隔で
形成された複数の導入口部5から導入路23へ流入す
る。つまり、排出されるから、回転テーブル9の回転に
よって生じた気流Bは、カップ体1の内周面に沿ってほ
とんど流れずに導入口部5へ流入する。
生じる気流Bは、ほとんどが流れに乱れが生じる前にそ
れぞれの導入口部5へ流入し、渦流や上昇気流となるこ
とがほとんどないから、気流Bに含まれるミストがカッ
プ体1内で浮遊して基板15に再付着するのを防止する
ことができる。
入口部5側から排出口24側に行くにつれて断面積が次
第に大きくなるよう形成されている。そのため、導入路
23に流入した気流が排出口24から排出管25へ流入
するまでに、導入路23内の圧力が上昇するのを防止す
るから、導入路23に流入した気流Bがカップ体1内へ
戻る逆流現象が生じるの防止する。
排出が円滑に行なわれ、気流に含まれるミストがカップ
体1内に浮遊して基板15に再付着するのを防止するこ
とができる。
って生じる気流Bの流れ方向に沿う、カップ体1の周壁
4に沿って形成されているから、そのことによってもカ
ップ体1内に生じる気流Bが導入口部5から導入路21
へ円滑に流入し易くなり、カップ体1内に渦流や上昇気
流が生じるのが抑制される。
aと垂直部16bとを有する反射防止部材16が設けら
れている。そのため、回転テーブル9の回転によって生
じる気流がカップ体1の周壁4の内周面に衝突すること
で、上昇気流が生じるようなことがあっても、その上昇
気流に含まれるミストは反射防止部材16の傾斜部16
aの内面に衝突して付着し、さらには垂直部16bに衝
突して付着するから、カップ体1内で浮遊して基板15
に再付着するのを防止できる。
す。この実施の形態は、カップ体1の周壁4の周方向に
2つの導入口部5を約180度間隔で形成し、これらの
導入口部5にそれぞれカバー体22によって形成された
導入路23の一端を連通させている。導入路23は、上
記第1の実施の形態と同様、カップ体1の周壁4に沿っ
て形成されているとともに、導入口部5側の一端から排
出口24が形成された他端に行くにつれて断面積が漸次
大きくなるよう形成されている。
回転テーブル9の回転によって生じる気流を、渦流や上
昇気流とせずにカップ体1内から円滑に排出することが
可能となる。
び導入路23がそれぞれ4つ形成されているのに対し、
第2の実施の形態では2つであるから、数が少ない分、
気流がカップ体の内周面に沿って流れる距離が長くなる
が、1つの場合に比べば、その距離を十分に短くできる
から、渦流や上昇気流の発生を抑制することが可能であ
る。
2つに限定されず、3つあるいは5つ以上であってもよ
く、要は複数であればよいことになる。
だけに限られず、円形状に半導体ウエハなどであっても
よいこと勿論である。
が回転することで生じる気流を、カップ体の周壁に周方
向に所定間隔で形成された複数の導入口部からそれぞれ
導入路を通じて排出部へ排出するようにした。
ップ体内に生じる気流は、そのカップ体の内周面に沿っ
て流れる距離が導入口部の数に応じて短くなることで、
その流れの途中で上昇気流や渦流などになり難くなるた
め、気流に含まれるミストがカップ体内で浮遊して基板
に再付着するのを防止することができる。
する導入路をカップ体の周方向に沿って形成した。
じる気流が上記導入路へ円滑に流入し易くなるから、導
入口部から導入路に流入した気流を円滑に排出すること
ができる。
状を気流の流れ方向に沿って漸次大きく形成した。
から排出されるまでの間に導入部内の圧力が上昇するの
を防止できるから、そのことによっても気流を円滑に排
出することが可能となる。
装置の概略的構成の縦断面図。
装置の横断面図。
Claims (3)
- 【請求項1】 基板を回転させて処理するスピン処理装
置において、 カップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状態で回
転駆動される回転テーブルと、 上記カップ体の周壁に周方向に所定間隔で開口形成され
た複数の導入口部と、 一端が上記導入口部に連通され他端が閉塞されるととも
に、この他端を上記一端よりも上記回転テーブルの回転
方向下流側に位置させて設けられ上記回転テーブルの回
転によって上記カップ体内に回転テーブルの回転方向に
沿って生じる気流が上記導入口部から導入される導入路
と、 この導入路の他端に設けられ上記回転テーブルの回転に
よって上記導入路に導入された気流を排出する排出部と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。 - 【請求項2】 上記導入路は、上記カップ体の周方向に
沿って形成されていることを特徴とする請求項1記載の
スピン処理装置。 - 【請求項3】 上記導入路の断面積は、上記導入口部に
連通した一端から上記排出部が設けられた他端にゆくに
つれて漸次大きくなることを特徴とする請求項1記載の
スピン処理装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2000200202A JP4358410B2 (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | スピン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2000200202A JP4358410B2 (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | スピン処理装置 |
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JP4358410B2 JP4358410B2 (ja) | 2009-11-04 |
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ID=18698101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000200202A Expired - Lifetime JP4358410B2 (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | スピン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013207265A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN108461423A (zh) * | 2017-02-20 | 2018-08-28 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置和基板处理方法 |
JP2022082529A (ja) * | 2020-11-23 | 2022-06-02 | セメス カンパニー,リミテッド | 基板処理装置 |
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---|---|---|---|---|
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2000
- 2000-06-30 JP JP2000200202A patent/JP4358410B2/ja not_active Expired - Lifetime
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