JPH1145871A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH1145871A JPH1145871A JP20015497A JP20015497A JPH1145871A JP H1145871 A JPH1145871 A JP H1145871A JP 20015497 A JP20015497 A JP 20015497A JP 20015497 A JP20015497 A JP 20015497A JP H1145871 A JPH1145871 A JP H1145871A
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- Japan
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- substrate
- holding table
- curved shape
- airflow
- arms
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カップ体内部での乱流の発生を防止して基板
の良好な処理を行うことが可能な基板処理装置を提供す
ること。 【解決手段】 洗浄処理された基板31をカップ体21
内部に設けられた保持テーブル30に保持して回転駆動
させる基板処理装置20において、上記保持テーブル3
0は、本体部34と、この本体部34に取り付けられ、
回転方向先端の一側面が突出した曲線形状に形成されて
なるアーム部35a,35bと、を有することを特徴と
している。
の良好な処理を行うことが可能な基板処理装置を提供す
ること。 【解決手段】 洗浄処理された基板31をカップ体21
内部に設けられた保持テーブル30に保持して回転駆動
させる基板処理装置20において、上記保持テーブル3
0は、本体部34と、この本体部34に取り付けられ、
回転方向先端の一側面が突出した曲線形状に形成されて
なるアーム部35a,35bと、を有することを特徴と
している。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を回転させて
乾燥処理を行う基板処理装置に関する。
乾燥処理を行う基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、液晶表示装置の製造過程におい
ては、ワークとしての矩形状のガラス製の基板に回路パ
ターンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスがあ
る。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが
繰り返し行われる。
ては、ワークとしての矩形状のガラス製の基板に回路パ
ターンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスがあ
る。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが
繰り返し行われる。
【0003】洗浄された基板を乾燥させるためには、上
記基板を保持テーブルに保持し、この保持テーブルとと
もに高速回転させ、それによって生じる遠心力を利用し
て上記基板に付着した洗浄液を除去するということが行
われている。そのため、一般に基板処理装置が用いられ
ている。
記基板を保持テーブルに保持し、この保持テーブルとと
もに高速回転させ、それによって生じる遠心力を利用し
て上記基板に付着した洗浄液を除去するということが行
われている。そのため、一般に基板処理装置が用いられ
ている。
【0004】上記矩形状の基板を保持するための保持テ
ーブル1は、図4に示すように、円盤状に形成された本
体部2を有し、この本体部2の円盤状の外周に4本の直
線状に設けられたアーム3が周方向に所定の間隔で外周
に向かい突設されている。この4本のアーム3は同じ長
さを有しており、それぞれのアーム3の先端部4には係
合部として所定間隔で離間した2本の第1のピン5と、
この第1のピン5に比べて短く、この第1のピン5より
もアーム3の基端側に位置する1本の第2のピン6が突
設されている。
ーブル1は、図4に示すように、円盤状に形成された本
体部2を有し、この本体部2の円盤状の外周に4本の直
線状に設けられたアーム3が周方向に所定の間隔で外周
に向かい突設されている。この4本のアーム3は同じ長
さを有しており、それぞれのアーム3の先端部4には係
合部として所定間隔で離間した2本の第1のピン5と、
この第1のピン5に比べて短く、この第1のピン5より
もアーム3の基端側に位置する1本の第2のピン6が突
設されている。
【0005】上記保持テーブル1の上面では、基板7の
4つの角部を各アーム3の一対の第1のピン5に係合さ
せるとともに、角部下面を上記第2のピン6に支持させ
る。つまり、上記基板7は保持テーブル1の4本のアー
ム3がその矩形の対角線方向に沿う状態で保持されてい
る。
4つの角部を各アーム3の一対の第1のピン5に係合さ
せるとともに、角部下面を上記第2のピン6に支持させ
る。つまり、上記基板7は保持テーブル1の4本のアー
ム3がその矩形の対角線方向に沿う状態で保持されてい
る。
【0006】そして、上記基板7を保持した保持テーブ
ル1を高速で回転させれば、遠心力によって上記基板7
に付着した洗浄液が除去され、この基板7の乾燥処理を
行うことが可能となっている。
ル1を高速で回転させれば、遠心力によって上記基板7
に付着した洗浄液が除去され、この基板7の乾燥処理を
行うことが可能となっている。
【0007】このような基板7を保持する保持テーブル
1がカップ体の内部に収納され、保持テーブルの回転に
より洗浄液が外部へ飛散するのを防止している。そし
て、例えばこのカップ体の底部もしくは側壁に設けられ
た排出口体より、上記洗浄液およびこの洗浄液を含む雰
囲気を排出するようになっている。
1がカップ体の内部に収納され、保持テーブルの回転に
より洗浄液が外部へ飛散するのを防止している。そし
て、例えばこのカップ体の底部もしくは側壁に設けられ
た排出口体より、上記洗浄液およびこの洗浄液を含む雰
囲気を排出するようになっている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近は、液
晶表示装置の大型化によって上記基板も大きくなってき
ている。例えば、従来は300mm ×400mm の大きさであっ
たが、最近では550mm ×650mm の大きさの基板が用いら
れるようになってきている。
晶表示装置の大型化によって上記基板も大きくなってき
ている。例えば、従来は300mm ×400mm の大きさであっ
たが、最近では550mm ×650mm の大きさの基板が用いら
れるようになってきている。
【0009】そのため、上記保持テーブル1に基板7を
載置してこの保持テーブル1を回転駆動させると、この
回転駆動にともなって発生する気流も増大したものとな
っている。この気流の増大の原因としては、上記基板7
の大型化によって発生するとともに、この大型の基板7
を支持し、この基板7とともに回転駆動を行う保持テー
ブル1によっても引き起こされるものとなっている。
載置してこの保持テーブル1を回転駆動させると、この
回転駆動にともなって発生する気流も増大したものとな
っている。この気流の増大の原因としては、上記基板7
の大型化によって発生するとともに、この大型の基板7
を支持し、この基板7とともに回転駆動を行う保持テー
ブル1によっても引き起こされるものとなっている。
【0010】特に、4本の直線状のアーム3より保持テ
ーブル1が構成される場合、この保持テーブル1を回転
駆動させると、アーム3が長くなる分だけアーム3に生
じる空気抵抗が大きくなりそれにともなって大きな駆動
力が必要となる。これとともに、大きな空気抵抗が生じ
ている分だけ、この直線状のアーム3によって引き起こ
される気流も大きなものとなっている。
ーブル1が構成される場合、この保持テーブル1を回転
駆動させると、アーム3が長くなる分だけアーム3に生
じる空気抵抗が大きくなりそれにともなって大きな駆動
力が必要となる。これとともに、大きな空気抵抗が生じ
ている分だけ、この直線状のアーム3によって引き起こ
される気流も大きなものとなっている。
【0011】このような気流は、上記カップ体内部で入
り乱れて乱流となり、そのため上記排出口体から洗浄液
およびこの洗浄液を含む雰囲気を良好に排出できないと
いった問題が発生している。すなわち、乱流の発生によ
って洗浄液および洗浄液を含む雰囲気が排出口体より排
出されず、処理中の基板に洗浄液などを戻してしまうこ
とがある。
り乱れて乱流となり、そのため上記排出口体から洗浄液
およびこの洗浄液を含む雰囲気を良好に排出できないと
いった問題が発生している。すなわち、乱流の発生によ
って洗浄液および洗浄液を含む雰囲気が排出口体より排
出されず、処理中の基板に洗浄液などを戻してしまうこ
とがある。
【0012】洗浄液が再び基板に付着すると、洗浄液に
含まれているパーティクルが基板の表面に再び付着し、
そのため基板の乾燥処理などが良好に行われない、とい
った課題が生じている。
含まれているパーティクルが基板の表面に再び付着し、
そのため基板の乾燥処理などが良好に行われない、とい
った課題が生じている。
【0013】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、カップ体内部での乱流
の発生を防止して基板の良好な処理を行うことが可能な
基板処理装置を提供しようとするものである。
ので、その目的とするところは、カップ体内部での乱流
の発生を防止して基板の良好な処理を行うことが可能な
基板処理装置を提供しようとするものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
洗浄処理された基板をカップ体内部に設けられた保持テ
ーブルに保持して回転駆動させる基板処理装置におい
て、上記保持テーブルは、本体部と、この本体部に取り
付けられ、回転方向先端の一側面が突出した曲線形状に
形成されてなるアーム部と、を有することを特徴として
いる。
洗浄処理された基板をカップ体内部に設けられた保持テ
ーブルに保持して回転駆動させる基板処理装置におい
て、上記保持テーブルは、本体部と、この本体部に取り
付けられ、回転方向先端の一側面が突出した曲線形状に
形成されてなるアーム部と、を有することを特徴として
いる。
【0015】請求項2記載の発明は、上記アーム部は、
回転駆動時に上記回転方向先端の一側面に衝突した気流
が外方へ向かって逃げやすい角度の曲線形状に形成され
ていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置で
ある。
回転駆動時に上記回転方向先端の一側面に衝突した気流
が外方へ向かって逃げやすい角度の曲線形状に形成され
ていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置で
ある。
【0016】請求項1の発明によると、上記保持テーブ
ルは、本体部と、この本体部に取り付けられ、回転方向
先端の一側面が突出した曲線形状に形成されてなるアー
ム部とを有しているため、上記保持テーブルの回転駆動
によりこの一側面に衝突した気流はこのアーム部の曲線
形状に沿って逃げやすくなる。そのため、上記保持テー
ブルが回転駆動されても、このアーム部が気流より受け
る抵抗を低減することが可能となるとともに、この抵抗
の低減によって上記カップ体内部で乱流の発生も低減す
ることが可能となっている。
ルは、本体部と、この本体部に取り付けられ、回転方向
先端の一側面が突出した曲線形状に形成されてなるアー
ム部とを有しているため、上記保持テーブルの回転駆動
によりこの一側面に衝突した気流はこのアーム部の曲線
形状に沿って逃げやすくなる。そのため、上記保持テー
ブルが回転駆動されても、このアーム部が気流より受け
る抵抗を低減することが可能となるとともに、この抵抗
の低減によって上記カップ体内部で乱流の発生も低減す
ることが可能となっている。
【0017】請求項2の発明によると、上記アーム部
は、回転駆動時に上記回転方向先端の一側面に衝突した
気流が外方へ向かって逃げやすい角度の曲線形状に形成
されているため、上記保持テーブルが回転駆動される
と、このアーム部に衝突した気流が外方へ向かい排出さ
れやすくなる。そのため、カップ体内部で乱流の発生を
より低減させることが可能となっている。
は、回転駆動時に上記回転方向先端の一側面に衝突した
気流が外方へ向かって逃げやすい角度の曲線形状に形成
されているため、上記保持テーブルが回転駆動される
と、このアーム部に衝突した気流が外方へ向かい排出さ
れやすくなる。そのため、カップ体内部で乱流の発生を
より低減させることが可能となっている。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図1または図2に基づいて説明する。図2に示す
基板処理装置20は、カップ体21を備えている。この
カップ体21は、下カップ21aと上カップ21bとか
ら構成されている。上記下カップ21aは上面が開放し
たお椀状に形成されており、その底部中心部分には通孔
22が形成され、さらに外周の上端縁には受けフランジ
23が形成されている。
いて、図1または図2に基づいて説明する。図2に示す
基板処理装置20は、カップ体21を備えている。この
カップ体21は、下カップ21aと上カップ21bとか
ら構成されている。上記下カップ21aは上面が開放し
たお椀状に形成されており、その底部中心部分には通孔
22が形成され、さらに外周の上端縁には受けフランジ
23が形成されている。
【0019】上記上カップ21bは外周面が凸曲面をな
したリング状に形成されており、その外周面には取付け
部材24を介して連結フランジ25を上記受けフランジ
23にパッキング26を介して接合させ、それらを複数
の蝶ナット27で結合することにより一体化させてい
る。
したリング状に形成されており、その外周面には取付け
部材24を介して連結フランジ25を上記受けフランジ
23にパッキング26を介して接合させ、それらを複数
の蝶ナット27で結合することにより一体化させてい
る。
【0020】上記下カップ21aに形成された通孔22
からそのカップ体21の内部へはモータ28の駆動軸2
9が挿通されている。この駆動軸29の上端には保持テ
ーブル30が取り付けられ、上記モータ28によって高
速回転させられるようになっている。この保持テーブル
30には、前工程である洗浄工程で洗浄された矩形状の
液晶表示装置として用いられる基板31が後述するごと
く保持されるようになっている。したがって、上記保持
テーブル30が高速回転されることで、上記基板31に
付着した洗浄液が遠心力で除去されるようになってい
る。
からそのカップ体21の内部へはモータ28の駆動軸2
9が挿通されている。この駆動軸29の上端には保持テ
ーブル30が取り付けられ、上記モータ28によって高
速回転させられるようになっている。この保持テーブル
30には、前工程である洗浄工程で洗浄された矩形状の
液晶表示装置として用いられる基板31が後述するごと
く保持されるようになっている。したがって、上記保持
テーブル30が高速回転されることで、上記基板31に
付着した洗浄液が遠心力で除去されるようになってい
る。
【0021】上記下カップ21aの底壁には複数の排水
口体32が設けられ、この排水口体32は図示しない排
水ポンプに配管接続されている。また、下カップ21a
の周壁には、上カップ21bの下端よりも上部に周方向
に所定間隔で複数の排気口体33が接続され、これらは
図示しない排気ポンプに配管接続されている。
口体32が設けられ、この排水口体32は図示しない排
水ポンプに配管接続されている。また、下カップ21a
の周壁には、上カップ21bの下端よりも上部に周方向
に所定間隔で複数の排気口体33が接続され、これらは
図示しない排気ポンプに配管接続されている。
【0022】上記排水口体32からは下カップ21aに
溜まる洗浄液が排出され、上記排気口体33は上記保持
テーブル30が高速回転されることで発生する空気流を
同図に矢印Aで示すように円滑な流れとするための吸引
力を発生させるようになっている。
溜まる洗浄液が排出され、上記排気口体33は上記保持
テーブル30が高速回転されることで発生する空気流を
同図に矢印Aで示すように円滑な流れとするための吸引
力を発生させるようになっている。
【0023】図1に示すように、上記保持テーブル30
は、円板状に形成されて上記駆動軸29に連結された本
体部34を有しており、この本体部34の外周には4本
のアーム35a,35bが取り付けられている。このア
ーム35a,35bは、対角線上の位置に同一形状のア
ームが配列されるように上記本体部34に取り付けられ
ている。
は、円板状に形成されて上記駆動軸29に連結された本
体部34を有しており、この本体部34の外周には4本
のアーム35a,35bが取り付けられている。このア
ーム35a,35bは、対角線上の位置に同一形状のア
ームが配列されるように上記本体部34に取り付けられ
ている。
【0024】上記アーム35a,35bは、図1では矢
印Bの方向に回転駆動されるように設けられており、こ
の回転方向先端側の側面36a,36bが、矢印Bの方
向へ突出した曲線形状(流線形状)に形成されている。
印Bの方向に回転駆動されるように設けられており、こ
の回転方向先端側の側面36a,36bが、矢印Bの方
向へ突出した曲線形状(流線形状)に形成されている。
【0025】ここで本実施の形態では、上記アーム35
a,35bは、上方から平面視した場合に図1の点Pが
最も回転方向先端側に突出するように設けられている。
すなわち、アーム35a,35bは、保持テーブル30
の回転中心Oから外方へ向かい延出された直線mと、点
Pでのみ接するように設けられている。
a,35bは、上方から平面視した場合に図1の点Pが
最も回転方向先端側に突出するように設けられている。
すなわち、アーム35a,35bは、保持テーブル30
の回転中心Oから外方へ向かい延出された直線mと、点
Pでのみ接するように設けられている。
【0026】そしてこの点Pを境として、上記側面36
a,36bは上方から平面視すると曲線形状(流線形
状)に形成されているが、この曲線は側面36a,36
bの内径側および外径側のいずれの位置でも曲率が0を
なさず一定の向きに曲げられるように形成されている。
a,36bは上方から平面視すると曲線形状(流線形
状)に形成されているが、この曲線は側面36a,36
bの内径側および外径側のいずれの位置でも曲率が0を
なさず一定の向きに曲げられるように形成されている。
【0027】上記各アーム35a,35bの外周側先端
には、例えば鉤型を成すように設けられた先端部37が
設けられている。この先端部37には基板31の係合部
を形成する一対の第1のピン38が周方向に所定間隔で
離間して立設されているとともに、第1のピン38より
も径方向内方で、一対の第1のピン38の間の部分に
は、第1のピン38よりも高さ寸法が低い第2のピン3
9が立設されている。
には、例えば鉤型を成すように設けられた先端部37が
設けられている。この先端部37には基板31の係合部
を形成する一対の第1のピン38が周方向に所定間隔で
離間して立設されているとともに、第1のピン38より
も径方向内方で、一対の第1のピン38の間の部分に
は、第1のピン38よりも高さ寸法が低い第2のピン3
9が立設されている。
【0028】そのため、上記基板31は角部を一対の第
1のピン38に係合させ、それぞれの側辺部の下面を上
記第1のピン38よりも基端側に設けられた第2のピン
39の上端と係合させて保持されるようになっている。
1のピン38に係合させ、それぞれの側辺部の下面を上
記第1のピン38よりも基端側に設けられた第2のピン
39の上端と係合させて保持されるようになっている。
【0029】以上のような構成の基板処理装置20の作
用について、以下に説明する。上記保持テーブル30に
基板31を保持し、上記モータ28を作動させて保持テ
ーブル30を回転駆動させると、上記アーム35a,3
5bの側面36a,36bに気流が衝突するようにな
る。この側面36a,36bに気流が衝突しても、モー
タ28が作動すればアーム35a,35bはこれを押し
のけて回転駆動するが、この場合、気流の一部は側面3
6a,36bに沿って流出される。
用について、以下に説明する。上記保持テーブル30に
基板31を保持し、上記モータ28を作動させて保持テ
ーブル30を回転駆動させると、上記アーム35a,3
5bの側面36a,36bに気流が衝突するようにな
る。この側面36a,36bに気流が衝突しても、モー
タ28が作動すればアーム35a,35bはこれを押し
のけて回転駆動するが、この場合、気流の一部は側面3
6a,36bに沿って流出される。
【0030】ここで、気流が垂直面から所定の傾斜角度
を有して側面36a,36bに衝突した場合、この気流
は衝突角度が成す鋭角側よりも鈍角側に向かって流れや
すくなっている。また上記点Pを境として、側面36
a,36bに衝突する気流の鋭角側および鈍角側の向き
が変化している。
を有して側面36a,36bに衝突した場合、この気流
は衝突角度が成す鋭角側よりも鈍角側に向かって流れや
すくなっている。また上記点Pを境として、側面36
a,36bに衝突する気流の鋭角側および鈍角側の向き
が変化している。
【0031】そのため、上記保持テーブル30の回転速
度が十分遅い場合、上記点Pの近傍を境として、これよ
り径方向内方側では回転中心である点Oに向かい側面3
6a,36bに沿って気流が流れやすくなり、またこれ
より径方向外方側では外方に向かい側面36a,36b
に沿って気流が流れやすくなっている。
度が十分遅い場合、上記点Pの近傍を境として、これよ
り径方向内方側では回転中心である点Oに向かい側面3
6a,36bに沿って気流が流れやすくなり、またこれ
より径方向外方側では外方に向かい側面36a,36b
に沿って気流が流れやすくなっている。
【0032】なお、上記点Pより径方向外方側では、外
方に向かうにつれて側面36a,36bに衝突する気流
の鈍角側の角度が大きくなるため、点Pより径方向外方
側では外方に向かって気流が一層流れやすいものとなっ
ている。
方に向かうにつれて側面36a,36bに衝突する気流
の鈍角側の角度が大きくなるため、点Pより径方向外方
側では外方に向かって気流が一層流れやすいものとなっ
ている。
【0033】また、上記保持テーブル30の回転速度が
上昇するにつれて、径方向内方側へ気流が流れやすくな
る領域と、径方向外方側へ気流が流れやすくなる領域と
の境界点が点Pより径方向内方側へ移動する。
上昇するにつれて、径方向内方側へ気流が流れやすくな
る領域と、径方向外方側へ気流が流れやすくなる領域と
の境界点が点Pより径方向内方側へ移動する。
【0034】しかしながら、この場合でも、上記側面3
6a,36bが曲線形状(流線形状)に形成されている
ので、上記アーム35a,35bが回転駆動したときに
この側面36a,36bに沿って気流が流れやすくな
り、そのため気流から受ける抵抗力が低減される。よっ
て上記保持テーブル30の回転駆動に要する動力を低減
することが可能となっている。
6a,36bが曲線形状(流線形状)に形成されている
ので、上記アーム35a,35bが回転駆動したときに
この側面36a,36bに沿って気流が流れやすくな
り、そのため気流から受ける抵抗力が低減される。よっ
て上記保持テーブル30の回転駆動に要する動力を低減
することが可能となっている。
【0035】また、上記アーム35a,35bの側面3
6a,36bの形状が曲線形状(流線形状)に形成され
ているため、上記カップ体21内部での乱流の発生も低
減することが可能となっている。
6a,36bの形状が曲線形状(流線形状)に形成され
ているため、上記カップ体21内部での乱流の発生も低
減することが可能となっている。
【0036】さらに、乱流の発生が低減されることによ
って、洗浄液を含む雰囲気の排出性能を向上させること
ができる。このため、洗浄液を含む雰囲気により、基板
31の表面に洗浄液が再び付着するのを防止することが
可能となっている。
って、洗浄液を含む雰囲気の排出性能を向上させること
ができる。このため、洗浄液を含む雰囲気により、基板
31の表面に洗浄液が再び付着するのを防止することが
可能となっている。
【0037】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、ア
ーム35a,35bの形状を、上方から平面視した場合
に図1の点Pが最も回転方向先端側に突出する形状とし
たが、これ以外の曲線形状、例えば図3に示すようにア
ーム40a,40bの径方向内方に向かうにつれて回転
方向先端側に向かい突出する形状としても構わない。こ
の場合には、このアーム40a,40bの側面と、この
側面41a,41bに衝突する気流が成す角度は、径方
向外方側の角度が必ず鈍角となり、そのため気流は常に
径方向外方に向かって流れやすくなっている。このた
め、アーム35a,35bの回転駆動により気流が径方
向外方へ排出されやすくなり、乱流の発生をより低減さ
せることが可能となっている。
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、ア
ーム35a,35bの形状を、上方から平面視した場合
に図1の点Pが最も回転方向先端側に突出する形状とし
たが、これ以外の曲線形状、例えば図3に示すようにア
ーム40a,40bの径方向内方に向かうにつれて回転
方向先端側に向かい突出する形状としても構わない。こ
の場合には、このアーム40a,40bの側面と、この
側面41a,41bに衝突する気流が成す角度は、径方
向外方側の角度が必ず鈍角となり、そのため気流は常に
径方向外方に向かって流れやすくなっている。このた
め、アーム35a,35bの回転駆動により気流が径方
向外方へ排出されやすくなり、乱流の発生をより低減さ
せることが可能となっている。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によると、上記保持テーブルは、本体部と、この本体
部に取り付けられ、回転方向先端の一側面が突出した曲
線形状に形成されてなるアーム部とを有しているため、
上記保持テーブルの回転駆動によりこの一側面に衝突し
た気流はこのアーム部の曲線形状に沿って逃げやすくな
る。そのため、上記保持テーブルが回転駆動されても、
このアーム部が気流より受ける抵抗を低減することが可
能となるとともに、この抵抗の低減によって上記カップ
体内部で乱流の発生も低減することができる。
明によると、上記保持テーブルは、本体部と、この本体
部に取り付けられ、回転方向先端の一側面が突出した曲
線形状に形成されてなるアーム部とを有しているため、
上記保持テーブルの回転駆動によりこの一側面に衝突し
た気流はこのアーム部の曲線形状に沿って逃げやすくな
る。そのため、上記保持テーブルが回転駆動されても、
このアーム部が気流より受ける抵抗を低減することが可
能となるとともに、この抵抗の低減によって上記カップ
体内部で乱流の発生も低減することができる。
【0039】請求項2記載の発明によると、上記アーム
部は、回転駆動時に上記回転方向先端の一側面に衝突し
た気流が外方へ向かって逃げやすい角度の曲線形状に形
成されているため、上記保持テーブルが回転駆動される
と、このアーム部に衝突した気流が外方へ向かい排出さ
れやすくなる。そのため、カップ体内部で乱流の発生を
より低減可能となっている。
部は、回転駆動時に上記回転方向先端の一側面に衝突し
た気流が外方へ向かって逃げやすい角度の曲線形状に形
成されているため、上記保持テーブルが回転駆動される
と、このアーム部に衝突した気流が外方へ向かい排出さ
れやすくなる。そのため、カップ体内部で乱流の発生を
より低減可能となっている。
【図1】本発明の一実施の形態に係わる保持テーブルの
構造を示す平面図。
構造を示す平面図。
【図2】同実施の形態に係わる基板処理装置の構成を示
す側面図。
す側面図。
【図3】同実施の形態に係わる保持テーブルの変形例の
構造を示す平面図。
構造を示す平面図。
【図4】従来の基板保持テーブルの構造を示す平面図。
20…基板処理装置 21…カップ体 30…保持テーブル 31…基板 34…本体部 35a,35b,40a,40b…アーム 36a,36b,41a,41b…側面 37…先端部 38…第1のピン 39…第2のピン
Claims (2)
- 【請求項1】 洗浄処理された基板をカップ体内部に設
けられた保持テーブルに保持して回転駆動させる基板処
理装置において、 上記保持テーブルは、本体部と、この本体部に取り付け
られ、回転方向先端の一側面が突出した曲線形状に形成
されてなるアーム部と、 を有することを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項2】 上記アーム部は、回転駆動時に上記回転
方向先端の一側面に衝突した気流が外方へ向かって逃げ
やすい角度の曲線形状に形成されていることを特徴とす
る請求項1記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20015497A JPH1145871A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20015497A JPH1145871A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1145871A true JPH1145871A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=16419696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20015497A Pending JPH1145871A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1145871A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100696594B1 (ko) * | 2005-07-21 | 2007-03-22 | 김성우 | 콘크리트 거푸집용 유니트 |
JP2009262024A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Kureo:Kk | 遠心脱水装置の脱水処理物保持装置 |
CN113483547A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-10-08 | 江苏时新景观照明有限公司 | 一种旋转式led路灯支架低温烘干设备 |
-
1997
- 1997-07-25 JP JP20015497A patent/JPH1145871A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100696594B1 (ko) * | 2005-07-21 | 2007-03-22 | 김성우 | 콘크리트 거푸집용 유니트 |
JP2009262024A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Kureo:Kk | 遠心脱水装置の脱水処理物保持装置 |
CN113483547A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-10-08 | 江苏时新景观照明有限公司 | 一种旋转式led路灯支架低温烘干设备 |
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