JPH10281643A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH10281643A JPH10281643A JP9115097A JP9115097A JPH10281643A JP H10281643 A JPH10281643 A JP H10281643A JP 9115097 A JP9115097 A JP 9115097A JP 9115097 A JP9115097 A JP 9115097A JP H10281643 A JPH10281643 A JP H10281643A
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- substrate holding
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板から除去された処理液等が再び基板に付
着するのを防止する。 【解決手段】 上端部が基板保持台１５側に延在するよ
うに形成された複数個の分割カップ体２３〜３０でカッ
プ３１を構成し、基板保持台１５の回転方向に対して上
流側の分割カップ体２３の後端部２３ａが、隣接した下
流側の分割カップ体２４の前端部２４ａより基板保持台
１５から遠くに位置するように、基板保持台１５の回転
の周方向に所定の間隔で配置した。
着するのを防止する。 【解決手段】 上端部が基板保持台１５側に延在するよ
うに形成された複数個の分割カップ体２３〜３０でカッ
プ３１を構成し、基板保持台１５の回転方向に対して上
流側の分割カップ体２３の後端部２３ａが、隣接した下
流側の分割カップ体２４の前端部２４ａより基板保持台
１５から遠くに位置するように、基板保持台１５の回転
の周方向に所定の間隔で配置した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体基板、液
晶表示パネル用のガラス基板、半導体装置のマスク基板
等を回転させて、表面を処理液で処理する基板処理装置
に関するものである。
晶表示パネル用のガラス基板、半導体装置のマスク基板
等を回転させて、表面を処理液で処理する基板処理装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の基板処理装置は、図１２及び図１
３に示すように、例えば特開昭５２−１３５４５３号公
報に記載されている。図１２及び図１３において、給気
口１を有するケース２内にモータ等の駆動源３で駆動さ
れる鉛直方向の回転軸４に固着され、水平面内で回転可
能な基板保持台５が配置されている。そして、ケース２
内には、基板保持台５を囲んで回転軸４と同心円上で、
かつ接線方向に対して０度から４０度の角度、例えば図
１２では３０度の角度で複数個の羽根６が設けられてい
る。さらに、ケース２の外周の接線方向には排気及び処
理液の廃液を行う排出口７が設けられている。
３に示すように、例えば特開昭５２−１３５４５３号公
報に記載されている。図１２及び図１３において、給気
口１を有するケース２内にモータ等の駆動源３で駆動さ
れる鉛直方向の回転軸４に固着され、水平面内で回転可
能な基板保持台５が配置されている。そして、ケース２
内には、基板保持台５を囲んで回転軸４と同心円上で、
かつ接線方向に対して０度から４０度の角度、例えば図
１２では３０度の角度で複数個の羽根６が設けられてい
る。さらに、ケース２の外周の接線方向には排気及び処
理液の廃液を行う排出口７が設けられている。
【０００３】上記構成において、基板保持台５に半導体
ウエハである基板８を収納し、回転軸４を介して駆動源
３により基板保持台５を９００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐ
ｍで回転させる。これにより、基板８から振り飛ばされ
た処理液や塵埃は、羽根６の内壁面に当たる。そして、
基板保持台５の回転による接線方向の気流により、羽根
６の内壁面からケース２の内壁面側に矢印９〜１１のよ
うに吹き飛ばされる。さらに、ケース２の内壁面に衝突
した霧状の処理液や塵埃等は、羽根６の外壁面に衝突し
たり、ケース２の内壁面に沿って排出口７から排出され
る。
ウエハである基板８を収納し、回転軸４を介して駆動源
３により基板保持台５を９００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐ
ｍで回転させる。これにより、基板８から振り飛ばされ
た処理液や塵埃は、羽根６の内壁面に当たる。そして、
基板保持台５の回転による接線方向の気流により、羽根
６の内壁面からケース２の内壁面側に矢印９〜１１のよ
うに吹き飛ばされる。さらに、ケース２の内壁面に衝突
した霧状の処理液や塵埃等は、羽根６の外壁面に衝突し
たり、ケース２の内壁面に沿って排出口７から排出され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の基板処理装置は
以上のように構成されていたので、基板８が回転される
ことにより給気口１から導入されるが、基板８の近傍の
一部の気体に気流の乱れが生じて矢印１２、１３のよう
に、基板８の上部から折り返して回転中心側に流れる。
これにより、基板８から除去された処理液等が再び基板
８に付着し、基板８に乾燥しみ等が発生して歩留まりが
低下するという問題点があった。
以上のように構成されていたので、基板８が回転される
ことにより給気口１から導入されるが、基板８の近傍の
一部の気体に気流の乱れが生じて矢印１２、１３のよう
に、基板８の上部から折り返して回転中心側に流れる。
これにより、基板８から除去された処理液等が再び基板
８に付着し、基板８に乾燥しみ等が発生して歩留まりが
低下するという問題点があった。
【０００５】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、基板から除去された処理液等が
再び基板に付着するのを防止することができる基板処理
装置を提供することを目的とする。
ためになされたもので、基板から除去された処理液等が
再び基板に付着するのを防止することができる基板処理
装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係わる
基板処理装置は、駆動体により駆動される基板保持台の
周囲にカップを配置し、基板保持台に保持された基板を
回転させて、基板の表面を処理液で処理する基板処理装
置において、上端部が基板保持台側に延在するように形
成された複数個の分割カップ体を、基板保持台の回転方
向に対して上流側の分割カップ体の後端部が、隣接した
下流側の分割カップ体の前端部より基板保持台から遠く
に位置するように、基板保持台の回転の周方向に所定の
間隔で配置してカップが構成されているものである。
基板処理装置は、駆動体により駆動される基板保持台の
周囲にカップを配置し、基板保持台に保持された基板を
回転させて、基板の表面を処理液で処理する基板処理装
置において、上端部が基板保持台側に延在するように形
成された複数個の分割カップ体を、基板保持台の回転方
向に対して上流側の分割カップ体の後端部が、隣接した
下流側の分割カップ体の前端部より基板保持台から遠く
に位置するように、基板保持台の回転の周方向に所定の
間隔で配置してカップが構成されているものである。
【０００７】請求項２の発明に係わる基板処理装置は、
上流側の分割カップ体の後端部と下流側の分割カップ体
の前端部とが、基板保持台の回転の半径方向で重なるよ
うにしたものである。
上流側の分割カップ体の後端部と下流側の分割カップ体
の前端部とが、基板保持台の回転の半径方向で重なるよ
うにしたものである。
【０００８】請求項３の発明に係わる基板処理装置は、
分割カップ体は下端部が基板保持台の回転方向に対して
上流側より下流側が下方になるように上流側から下流側
に向かって傾斜部が設けられているものである。
分割カップ体は下端部が基板保持台の回転方向に対して
上流側より下流側が下方になるように上流側から下流側
に向かって傾斜部が設けられているものである。
【０００９】
実施の形態１．図１は、この発明の実施の形態１の構成
を示す断面図、図２は図１を一部破断した平面図、図３
は図１の要部を示す正面図、図４は図２のＩＶ−ＩＶ線
の断面図である。
を示す断面図、図２は図１を一部破断した平面図、図３
は図１の要部を示す正面図、図４は図２のＩＶ−ＩＶ線
の断面図である。
【００１０】図１〜図４において、１４は上部に開口部
１４ａを有するケース、１５は基板保持台で、ケース１
４内でほぼ水平に回転可能に配置してある。１６は基板
保持台１５に固着された支持ピンで、後述の基板１７が
載置される。１７は基板で、液晶パネル等に使用される
角形状のガラス基板、半導体基板又は半導体製造装置の
マスク基板である。１８は基板保持台１５に固着された
位置決めピンで、基板１７の端面と当接するように配置
されている。１９は基板保持台１５と固着された回転
軸、２０は固定部２１に取り付けられたモータ等の駆動
手段で、回転軸１９を介して基板保持台１５を９００ｒ
ｐｍ〜１，５００ｒｐｍで回転させる。２２は基板保持
台１５の下方に回転軸１９と同軸状に配置された廃液回
収ケースで、外周部が低くなるように傾斜が設けられて
いる。
１４ａを有するケース、１５は基板保持台で、ケース１
４内でほぼ水平に回転可能に配置してある。１６は基板
保持台１５に固着された支持ピンで、後述の基板１７が
載置される。１７は基板で、液晶パネル等に使用される
角形状のガラス基板、半導体基板又は半導体製造装置の
マスク基板である。１８は基板保持台１５に固着された
位置決めピンで、基板１７の端面と当接するように配置
されている。１９は基板保持台１５と固着された回転
軸、２０は固定部２１に取り付けられたモータ等の駆動
手段で、回転軸１９を介して基板保持台１５を９００ｒ
ｐｍ〜１，５００ｒｐｍで回転させる。２２は基板保持
台１５の下方に回転軸１９と同軸状に配置された廃液回
収ケースで、外周部が低くなるように傾斜が設けられて
いる。
【００１１】２３〜３０は基板保持台１５の周囲に配置
された８個の周方向に所定の長さを有する分割カップ体
で、上端部が基板保持台１５側に延在するように曲面状
に形成されている。３１は８個の分割カップ体２３〜３
０で構成されたカップで、基板保持台１５の回転方向に
対して上流側の例えば分割カップ体２３の後端部２３ａ
が隣接した下流側の分割カップ体２４の前端部２４ａよ
り基板保持台１５から遠くに位置している。さらに、上
流側の分割カップ体２３の後端部２３ａと下流側の分割
カップ体２４の前端部２４ａとが基板保持台１５の回転
の半径方向で重なるように、基板保持台１５の回転の周
方向に所定の間隔で配置されている。なお、各分割カッ
プ体２３〜３０の相互間は、すべて同様に配置されてい
る。
された８個の周方向に所定の長さを有する分割カップ体
で、上端部が基板保持台１５側に延在するように曲面状
に形成されている。３１は８個の分割カップ体２３〜３
０で構成されたカップで、基板保持台１５の回転方向に
対して上流側の例えば分割カップ体２３の後端部２３ａ
が隣接した下流側の分割カップ体２４の前端部２４ａよ
り基板保持台１５から遠くに位置している。さらに、上
流側の分割カップ体２３の後端部２３ａと下流側の分割
カップ体２４の前端部２４ａとが基板保持台１５の回転
の半径方向で重なるように、基板保持台１５の回転の周
方向に所定の間隔で配置されている。なお、各分割カッ
プ体２３〜３０の相互間は、すべて同様に配置されてい
る。
【００１２】次に動作について説明する。図１〜図４に
おいて、基板１７を支持ピン１６を介して基板保持台１
５で保持して、駆動手段２０により基板保持台１５を９
００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐｍで高速回転させる。これ
により、基板１７が高速回転されるので、基板１７上の
洗浄液、現像液等の処理液は、基板保持台１５の回転に
よって発生した気流と共に、基板１７の回転の接線方向
に飛散する。飛散した処理液３２は気流と共に図５に示
すように、例えば分割カップ体２３の曲面状の壁面に沿
って下方へ案内される。そして、処理液３２は気流によ
り分割カップ体２３の壁面に沿って、基板保持台１５の
回転により生じた気流の上流側から下流側へと分割カッ
プ体２３の壁面を移動する。即ち、上流側の分割カップ
体２３の壁面に沿って下流側の分割カップ体２４の前端
部の裏側へ運ばれて落下する。落下した処理液は、廃液
回収ケース２２により気流と共に誘導されて廃液回収ケ
ース２２の外周部から排出される。
おいて、基板１７を支持ピン１６を介して基板保持台１
５で保持して、駆動手段２０により基板保持台１５を９
００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐｍで高速回転させる。これ
により、基板１７が高速回転されるので、基板１７上の
洗浄液、現像液等の処理液は、基板保持台１５の回転に
よって発生した気流と共に、基板１７の回転の接線方向
に飛散する。飛散した処理液３２は気流と共に図５に示
すように、例えば分割カップ体２３の曲面状の壁面に沿
って下方へ案内される。そして、処理液３２は気流によ
り分割カップ体２３の壁面に沿って、基板保持台１５の
回転により生じた気流の上流側から下流側へと分割カッ
プ体２３の壁面を移動する。即ち、上流側の分割カップ
体２３の壁面に沿って下流側の分割カップ体２４の前端
部の裏側へ運ばれて落下する。落下した処理液は、廃液
回収ケース２２により気流と共に誘導されて廃液回収ケ
ース２２の外周部から排出される。
【００１３】以上により、基板１７から飛散した処理液
は、例えば分割カップ体２３の曲面状の壁面に沿って下
方に滑らかに案内されながら、基板保持台１５の回転に
より生じた気流と共に、上流側の分割カップ体２３の後
端部２３ａへ到達して離脱する。即ち、隣接した下流側
の分割カップ体２４の前端部の裏側へ運ばれて排出され
る。したがって、基板１７から除去された処理液が再び
基板１７側に運ばれるのを防止することができる。
は、例えば分割カップ体２３の曲面状の壁面に沿って下
方に滑らかに案内されながら、基板保持台１５の回転に
より生じた気流と共に、上流側の分割カップ体２３の後
端部２３ａへ到達して離脱する。即ち、隣接した下流側
の分割カップ体２４の前端部の裏側へ運ばれて排出され
る。したがって、基板１７から除去された処理液が再び
基板１７側に運ばれるのを防止することができる。
【００１４】なお、上記ではカップ３１を８個の分割カ
ップ体２３〜３０で構成したものについて説明したが、
複数個であればよく分割数を限定するものではない。
ップ体２３〜３０で構成したものについて説明したが、
複数個であればよく分割数を限定するものではない。
【００１５】実施の形態２．図６は実施の形態２の構成
を示す断面図、図７は図６を一部破断した平面図、図８
は図６の要部を示す正面図、図９は図７のＩＸ−ＩＸ線
の断面図である。
を示す断面図、図７は図６を一部破断した平面図、図８
は図６の要部を示す正面図、図９は図７のＩＸ−ＩＸ線
の断面図である。
【００１６】図６〜図９において、１４〜２２は実施の
形態１のものと同様のものである。３３〜４０は基板保
持台１５の周囲に配置された８個の周方向に所定の長さ
を有する分割カップ体で、上端部が基板保持台１５側に
延在するように曲面状に形成されている。さらに、分割
カップ体３３〜４０は下端部が上流側より下流側が下方
になるように上流側から下流側に向かって傾斜が設けら
れている。４１は８個の分割カップ体３３〜４０で構成
されたカップで、基板保持台１５の回転方向に対して上
流側の例えば分割カップ体３９の後端部３９ａが、隣接
した下流側の分割カップ体４０の前端部４０ａより基板
保持台１５から遠くに位置している。さらに、上流側の
分割カップ体３９の後端部３９ａと下流側の分割カップ
体４０の前端部４０ａとが基板保持台１５の回転の半径
方向で重なるように、基板保持台１５の回転の周方向に
所定の間隔で配置されている。なお、各分割カップ体３
３〜４０の相互間は、すべて同様に配置されている。
形態１のものと同様のものである。３３〜４０は基板保
持台１５の周囲に配置された８個の周方向に所定の長さ
を有する分割カップ体で、上端部が基板保持台１５側に
延在するように曲面状に形成されている。さらに、分割
カップ体３３〜４０は下端部が上流側より下流側が下方
になるように上流側から下流側に向かって傾斜が設けら
れている。４１は８個の分割カップ体３３〜４０で構成
されたカップで、基板保持台１５の回転方向に対して上
流側の例えば分割カップ体３９の後端部３９ａが、隣接
した下流側の分割カップ体４０の前端部４０ａより基板
保持台１５から遠くに位置している。さらに、上流側の
分割カップ体３９の後端部３９ａと下流側の分割カップ
体４０の前端部４０ａとが基板保持台１５の回転の半径
方向で重なるように、基板保持台１５の回転の周方向に
所定の間隔で配置されている。なお、各分割カップ体３
３〜４０の相互間は、すべて同様に配置されている。
【００１７】次に動作について説明する。図６〜図９に
おいて、基板１７を支持ピン１６を介して基板保持台１
５で保持して、駆動手段２０により基板保持台１５を９
００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐｍで高速回転させる。これ
により、基板１７が高速回転されるので、基板１７上の
洗浄液、現像液等の処理液は、基板保持台１５の回転に
よって発生した矢印４２で示す気流と共に、基板１７の
回転の接線方向に飛散する。飛散した処理液４３は図６
に示すように、気流と共に例えば分割カップ体３９の曲
面状の壁面に沿って下方へ案内される。そして、分割カ
ップ体３９の下端に到達した処理液４３は、分割カップ
体３９の傾斜部３９ｂに沿って重力及び気流に誘導され
ながら、分割カップ体３９の上流部３９ｃから下流部３
９ｄへと移動する。そして、隣接した下流側の分割カッ
プ体４０の前端部４０ａの裏側である分割カップ体３９
の後端部３９ｄで落下する。落下した処理液は、廃液回
収ケース２２により気流と共に誘導されて廃液回収ケー
ス２２の外周部から排出される。
おいて、基板１７を支持ピン１６を介して基板保持台１
５で保持して、駆動手段２０により基板保持台１５を９
００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐｍで高速回転させる。これ
により、基板１７が高速回転されるので、基板１７上の
洗浄液、現像液等の処理液は、基板保持台１５の回転に
よって発生した矢印４２で示す気流と共に、基板１７の
回転の接線方向に飛散する。飛散した処理液４３は図６
に示すように、気流と共に例えば分割カップ体３９の曲
面状の壁面に沿って下方へ案内される。そして、分割カ
ップ体３９の下端に到達した処理液４３は、分割カップ
体３９の傾斜部３９ｂに沿って重力及び気流に誘導され
ながら、分割カップ体３９の上流部３９ｃから下流部３
９ｄへと移動する。そして、隣接した下流側の分割カッ
プ体４０の前端部４０ａの裏側である分割カップ体３９
の後端部３９ｄで落下する。落下した処理液は、廃液回
収ケース２２により気流と共に誘導されて廃液回収ケー
ス２２の外周部から排出される。
【００１８】以上により、基板１７から飛散した処理液
は、例えば分割カップ体３９の壁面に沿って下方に滑ら
かに案内されて下端に到達した後、傾斜部３９ｂに沿っ
て重力及び基板保持台１５の回転により生じた気流に誘
導されながら、下流側の分割カップ体４０の前端部４０
ａの裏側へ運ばれて離脱する。即ち、分割カップ体３９
の後端部３９ａから落下して排出される。したがって、
基板１７から除去された処理液が再び基板１７側に運ば
れるのを防止することができる。
は、例えば分割カップ体３９の壁面に沿って下方に滑ら
かに案内されて下端に到達した後、傾斜部３９ｂに沿っ
て重力及び基板保持台１５の回転により生じた気流に誘
導されながら、下流側の分割カップ体４０の前端部４０
ａの裏側へ運ばれて離脱する。即ち、分割カップ体３９
の後端部３９ａから落下して排出される。したがって、
基板１７から除去された処理液が再び基板１７側に運ば
れるのを防止することができる。
【００１９】なお、上記ではカップ４１を８個の分割カ
ップ体３３〜４０で構成したものについて説明したが、
複数個であればよく分割数を限定するものではない。
ップ体３３〜４０で構成したものについて説明したが、
複数個であればよく分割数を限定するものではない。
【００２０】実施の形態３．図１０は実施の形態３の構
成を示す断面図、図１１は図１０を一部破断した平面図
である。
成を示す断面図、図１１は図１０を一部破断した平面図
である。
【００２１】図１０及び図１１において、１４〜３０は
実施の形態１のものと同様のものである。４４は基板保
持台１５の周囲に配置した８個の分割カップ体２３〜３
０で構成されたカップで、基板保持台１５の回転方向に
対して上流側の例えば分割カップ体２３の後端部２３ａ
が、隣接した下流側の分割カップ体２４の前端部２４ａ
より基板保持台１５から遠くに位置している。さらに、
上流側の分割カップ体２３の後端部２３ａと下流側の分
割カップ体２４の後端部２４ａとが基板保持台１５の回
転の半径方向で重ならないように、基板保持台１５の回
転の周方向に所定の間隔で配置されている。なお、各分
割カップ体２３〜３０の相互間は、すべて同様に配置さ
れている。
実施の形態１のものと同様のものである。４４は基板保
持台１５の周囲に配置した８個の分割カップ体２３〜３
０で構成されたカップで、基板保持台１５の回転方向に
対して上流側の例えば分割カップ体２３の後端部２３ａ
が、隣接した下流側の分割カップ体２４の前端部２４ａ
より基板保持台１５から遠くに位置している。さらに、
上流側の分割カップ体２３の後端部２３ａと下流側の分
割カップ体２４の後端部２４ａとが基板保持台１５の回
転の半径方向で重ならないように、基板保持台１５の回
転の周方向に所定の間隔で配置されている。なお、各分
割カップ体２３〜３０の相互間は、すべて同様に配置さ
れている。
【００２２】次に動作について説明する。図１０及び図
１１において、基板保持台１５が駆動手段２０により９
００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐｍの高速で回転されること
により、基板１７上の処理液が基板１７の回転の接線方
向に飛散する。飛散した処理液は例えば分割カップ体２
３の壁面に当たってから、基板保持台１５の回転により
生じた気流により、分割カップ体２３の上流側から下流
側の後端部２３ａへと運ばれて、下流側の分割カップ体
２４の前端部２４ａより基板保持台１５から遠い位置で
落下する。落下した処理液は、廃液回収ケース２２によ
り気流と共に誘導されて廃液回収ケース２２の外周部か
ら排出される。
１１において、基板保持台１５が駆動手段２０により９
００ｒｐｍ〜１，５００ｒｐｍの高速で回転されること
により、基板１７上の処理液が基板１７の回転の接線方
向に飛散する。飛散した処理液は例えば分割カップ体２
３の壁面に当たってから、基板保持台１５の回転により
生じた気流により、分割カップ体２３の上流側から下流
側の後端部２３ａへと運ばれて、下流側の分割カップ体
２４の前端部２４ａより基板保持台１５から遠い位置で
落下する。落下した処理液は、廃液回収ケース２２によ
り気流と共に誘導されて廃液回収ケース２２の外周部か
ら排出される。
【００２３】以上により、基板１７から飛散した処理液
は、例えば分割カップ体２３滑らかな曲面状の壁面に沿
って下方に案内されながら、基板保持台１５の回転によ
り生じた気流と共に、上流側の分割カップ体２３の後端
部２３ａへ到達して離脱する。即ち、隣接した下流側の
分割カップ体２４の前端部２４ａより、基板保持台１５
から遠い位置で気流に流されながら落下する。したがっ
て、基板１７から除去された処理液が再び基板１７側に
運ばれるのを防止することができる。
は、例えば分割カップ体２３滑らかな曲面状の壁面に沿
って下方に案内されながら、基板保持台１５の回転によ
り生じた気流と共に、上流側の分割カップ体２３の後端
部２３ａへ到達して離脱する。即ち、隣接した下流側の
分割カップ体２４の前端部２４ａより、基板保持台１５
から遠い位置で気流に流されながら落下する。したがっ
て、基板１７から除去された処理液が再び基板１７側に
運ばれるのを防止することができる。
【００２４】なお、上記ではカップ４４を８個の分割カ
ップ体２３〜３０で構成したものについて説明したが、
複数個であればよく分割数を限定するものではない。
ップ体２３〜３０で構成したものについて説明したが、
複数個であればよく分割数を限定するものではない。
【００２５】さらに、カップ４４は実施の形態１と同様
の分割カップ体２３〜３０で構成したものについて説明
したが、実施の形態２と同様の分割カップ体３３〜４０
で構成しても同様の効果を期待することができる。
の分割カップ体２３〜３０で構成したものについて説明
したが、実施の形態２と同様の分割カップ体３３〜４０
で構成しても同様の効果を期待することができる。
【００２６】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、基板から除去
されて飛散した処理液は上端部が基板保持台側に延在し
たカップにより案内されながら、基板保持台の回転によ
り生じた気流と共に、下流側の分割カップ体の前端部よ
り基板保持台から遠い位置で上流側の分割カップ体の後
端部から離脱するので、再び基板側に運ばれて基板に付
着するのを防止できる。したがって、基板に乾燥しみ等
が発生するのを防止して、歩留まりの向上を図ることが
できる。
されて飛散した処理液は上端部が基板保持台側に延在し
たカップにより案内されながら、基板保持台の回転によ
り生じた気流と共に、下流側の分割カップ体の前端部よ
り基板保持台から遠い位置で上流側の分割カップ体の後
端部から離脱するので、再び基板側に運ばれて基板に付
着するのを防止できる。したがって、基板に乾燥しみ等
が発生するのを防止して、歩留まりの向上を図ることが
できる。
【００２７】請求項２の発明によれば、基板から除去さ
れた処理液は基板保持台の回転により生じた気流と共
に、下流側の分割カップ体の前端部の裏側で、上流側の
分割カップ体の後端部から離脱するので、再び基板側に
運ばれて基板に付着するのを防止できる。したがって、
基板に乾燥しみ等が発生するのを防止して、歩留まりの
向上を図ることができる。
れた処理液は基板保持台の回転により生じた気流と共
に、下流側の分割カップ体の前端部の裏側で、上流側の
分割カップ体の後端部から離脱するので、再び基板側に
運ばれて基板に付着するのを防止できる。したがって、
基板に乾燥しみ等が発生するのを防止して、歩留まりの
向上を図ることができる。
【００２８】請求項３の発明によれば、基板から除去さ
れて分割カップ体の下端に到達した処理液は、傾斜部に
沿って重力及び基板保持台の回転により生じた気流に誘
導されながら、基板保持台から遠くになる方向へ運ばれ
て分割カップ体から離脱するので、再び基板側に運ばれ
て基板に付着するのを防止できる。したがって、基板に
乾燥しみ等が発生するのを防止して、歩留まりの向上を
図ることができる。
れて分割カップ体の下端に到達した処理液は、傾斜部に
沿って重力及び基板保持台の回転により生じた気流に誘
導されながら、基板保持台から遠くになる方向へ運ばれ
て分割カップ体から離脱するので、再び基板側に運ばれ
て基板に付着するのを防止できる。したがって、基板に
乾燥しみ等が発生するのを防止して、歩留まりの向上を
図ることができる。
【図１】 この発明の実施の形態１の構成を示す断面図
である。
である。
【図２】 図１を一部破断した平面図である。
【図３】 図１の要部を示す正面図である。
【図４】 図２のＩＶ−ＩＶ線の断面図である。
【図５】 実施の形態１の動作を示す説明図である。
【図６】 この発明の実施の形態２の構成を示す断面図
である。
である。
【図７】 図６を一部破断した平面図である。
【図８】 図６の要部を示す正面図である。
【図９】 図７のＩＸ−ＩＸ線の断面図である。
【図１０】 この発明の実施の形態３の構成を示す断面
図である。
図である。
【図１１】 図１０を一部破断した平面図である。
【図１２】 従来の基板処理装置の構成を示す断面図で
ある。
ある。
【図１３】 図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線の断面図で
ある。
ある。
１５ 基板保持台、１７ 基板、２０ 駆動手段、２３
〜３０，３３〜４０ 分割カップ体、３１，４１，４４
カップ、２３ａ 後端部、２４ａ 前端部、３９ｂ
傾斜部。
〜３０，３３〜４０ 分割カップ体、３１，４１，４４
カップ、２３ａ 後端部、２４ａ 前端部、３９ｂ
傾斜部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牟田 真理 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内 (72)発明者 久米 聡 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 駆動手段により駆動される基板保持台の
周囲にカップを配置し、上記基板保持台に保持された基
板を回転させて、上記基板の表面を処理液で処理する基
板処理装置において、上記カップは、上端部が上記基板
保持台側に延在するように形成された複数個の分割カッ
プ体を、上記基板保持台の回転方向に対して上流側の上
記分割カップ体の後端部が、隣接した下流側の上記分割
カップ体の前端部より上記基板保持台から遠くに位置す
るように、上記基板保持台の回転の周方向に所定の間隔
で配置して構成されていることを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項２】 分割カップ体は、基板保持台の回転方向
の上流側の分割カップ体の後端部と下流側の分割カップ
体の前端部とが、基板保持台の回転の半径方向に対して
重なるように配置されていることを特徴とする請求項１
に記載の基板処理装置。 - 【請求項３】 分割カップ体は、下端部が基板保持台の
回転方向に対して上流側より下流側が下方になるように
上流側から下流側に向かって傾斜部が設けられているこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9115097A JPH10281643A (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9115097A JPH10281643A (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | 基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10281643A true JPH10281643A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=14018498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9115097A Pending JPH10281643A (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10281643A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012047793A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Toho Technology Corp | フォトマスクの洗浄装置およびフォトマスクの洗浄システム |
| TWI406349B (zh) * | 2007-08-03 | 2013-08-21 | Advanced Display Proc Eng Co | 基底處理裝置 |
| JP2015050263A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
-
1997
- 1997-04-09 JP JP9115097A patent/JPH10281643A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI406349B (zh) * | 2007-08-03 | 2013-08-21 | Advanced Display Proc Eng Co | 基底處理裝置 |
| JP2012047793A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Toho Technology Corp | フォトマスクの洗浄装置およびフォトマスクの洗浄システム |
| JP2015050263A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
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