KR20220093776A

KR20220093776A - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20220093776A
Application number: KR1020200184835A
Authority: KR
Inventors: 방성진; 박동운; 엄기상
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2020-12-28
Filing date: 2020-12-28
Publication date: 2022-07-05

Abstract

본 발명은 외측 컵과, 상기 외측 컵의 내측에 위치되며, 상기 외측 컵과 조합되어 액이 회수되는 회수 경로를 형성하는 내측 컵을 갖는 처리 용기; 상기 처리 용기의 내부에 제공되며, 그리고 회전 가능한 스핀 헤드 및 상기 스핀 헤드를 회전시키는 구동모터; 및 상기 구동모터 상부에 안착되고 상기 내측 컵을 지지하는 정류판을 포함하되; 상기 정류판은 저면에 상기 구동모터의 상면과 소정간격 이격되어 세팅되도록 갭 돌기를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.

Description

기판 처리 장치{APPARATUSE FOR TREATING SUBSTRATE}

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 회전하는 기판에 액을 공급하여 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다.

반도체 소자를 제조하기 위해서는 세정, 증착, 사진, 식각, 그리고 이온주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 이러한 공정들 중 사진 공정은 기판의 표면에는 포토 레지스트와 같은 감광액을 도포하여 막을 형성하는 도포 공정, 기판에 형성된 막에 회로 패턴을 전사하는 노광 공정, 노광 처리된 영역 또는 그 반대 영역에서 선택적으로 기판 상에 형성된 막을 제거하는 현상 공정을 포함한다.

도 1은 기판에 포토 레지스트를 도포하는 기판 처리 장치(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 내부 공간을 가지는 처리 용기(10), 내부 공간에서 기판(W)을 지지하는 지지 유닛(20), 그리고 지지 유닛(20)에 놓인 기판(W) 상으로 처리액(82)을 공급하는 노즐(30)을 가진다. 처리 용기(10)는 외측 컵(12)과 내측 컵(14)을 가진다. 또한, 처리 용기(10)의 상부에는 내부 공간으로 하강 기류를 공급하는 팬필터 유닛(도시되지 않음)이 배치되고, 내부 공간 중 하부 영역에는 처리액을 배출하는 배출관(60) 및 처리 공간 내 분위기를 배기하는 배기관(70)이 연결된다.

도 1과 같은 구조의 기판 처리 장치(1)에서 회전하는 기판(W)에 처리액(82)을 공급하면서 기판(W)을 처리할 때 원심력에 의해 기판(W)의 표면에서 기류(84)는 도 2와 같이 기판(W)의 중심에서 가장자리를 향해 기판(W)의 회전 방향을 따라 흐른다. 그리고, 기판 저면과 내측 컵 사이 간격은 기판 가장자리 영역에서의 기류 흐름에 큰 영향을 미친다.

본 발명은 정류판을 장착할 때, 정류판 하단 기류를 통과시키기 위한 에어 갭을 형성할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명은 정류판의 레벨링 작업을 누락시키지 않는 기판 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명은 내측컵의 높이를 정밀하게 세팅할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 일 측면에 따르면, 외측 컵과, 상기 외측 컵의 내측에 위치되며, 상기 외측 컵과 조합되어 액이 회수되는 회수 경로를 형성하는 내측 컵을 갖는 처리 용기; 상기 처리 용기의 내부에 제공되며, 그리고 회전 가능한 스핀 헤드 및 상기 스핀 헤드를 회전시키는 구동모터; 및 상기 구동모터 상부에 안착되고 상기 내측 컵을 지지하는 정류판을 포함하되; 상기 정류판은 저면에 상기 구동모터의 상면과 소정간격 이격되어 세팅되도록 갭 돌기를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.

또한, 상기 갭돌기는 상기 정류판의 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공될 수 있다.

또한, 상기 정류판은 상기 구동모터의 사이 공간으로 기류를 통과시키기 위한 레벨링 볼트들을 더 포함하며, 상기 레벨링 볼트들은 상기 정류판과 상기 구동모터 사이에 제공될 수 있다.

또한, 상기 갭돌기는 상기 정류판의 저면에 일정 간격으로 3개 이상이 제공될 수 있다.

또한, 상기 정류판은 상기 내측 컵의 내경보다 큰 지름을 갖는 원반 형상을 갖되; 그 중앙에는 상기 스핀 헤드의 회전축이 위치하는 중앙홀을 가질 수 있다.

또한, 상기 정류판은 가장자리를 따라 상방향으로 돌출되어 형성되는 링형상의 제1리브를 포함하고, 상기 제1리브는 상기 내측 컵의 저면에 형성된 삽입홈에 삽입되어 상기 내측컵을 지지할 수 있다.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판 지지 유닛의 구동모터 상부에 안착되는 정류판에 있어서: 원반 형상의 몸체를 갖되, 상기 몸체의 중앙에는 스핀 헤드의 회전축이 위치하는 중앙홀을 가지며, 상기 몸체의 저면에는 상기 구동모터의 상부면에 안착시 불안정성을 제공하기 위한 갭 돌기를 갖는 정류판이 제공될 수 있다.

또한, 상기 갭돌기는 상기 몸체의 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공될 수 있다.

또한, 상기 몸체와 상기 구동모터의 사이 공간으로 기류를 통과시키기 위한 에어 갭 형성을 위한 레벨링 볼트들을 더 포함하며, 상기 레벨링 볼트들은 상기 정류판과 상기 구동모터 사이에 제공될 수 있다.

또한, 상기 몸체는 가장자리를 따라 상방향으로 돌출되어 형성되는 링형상의 제1리브; 및 상기 중앙홀 주변을 따라 상방향으로 돌출되어 형성되는 링형상의 제2리브를 포함할 수 있다.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 내부 공간을 가지는 처리 용기; 상기 처리 용기의 내부에 제공되며, 그리고 회전 가능한 스핀 헤드 및 상기 스핀 헤드를 회전시키는 구동모터를 가지는 지지 유닛; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛; 상기 내부 공간 내 기류를 배기하는 배기 유닛; ?? 상기 구동모터 상부에 소정 간격 이격된 상태로 안착되는 그리고 저면에 갭 돌기를 갖는 정류판을 포함하되; 상기 처리 용기는, 상기 내부 공간을 제공하는 외측 컵; 상기 외측 컵과 이격되도록 상기 내부 공간에 배치되는, 그리고 상기 구동 모터를 감싸는 내측 컵을 포함하며, 상기 정류판의 하부 영역에서는 상기 정류판과 상기 구동모터 사이의 틈새를 통해 외측에서 내측으로 향하는 기류가 발생되고, 상기 기류는 상기 정류판의 중앙홀을 통해 상기 정류판의 상부 영역으로 유입되며, 상기 정류판의 상부 영역에서 상기 기류가 내측에서 외측으로 향하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.

또한, 상기 정류판은 원반 형상의 몸체를 갖고, 상기 갭 돌기는 상기 몸체가 상기 구동모터의 상부면에 안착시 불안정성을 제공하도록 상기 정류판의 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공될 수 있다.

또한, 상기 몸체는 레벨링 볼트들에 의해 상기 구동모터의 상부로부터 이격될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 정류판을 장착할 때, 정류판 하단 기류를 통과시키기 위한 에어 갭을 제공할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 정류판의 레벨링 작업을 누락시키지 않고 작업할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 내측컵의 높이를 정밀하게 세팅할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 회전하는 기판에 처리액을 공급하여 기판에 액막을 형성할 때 기판의 전체 영역에서 액막의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 기판을 회전시키면서 액처리하는 일반적인 구조의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치에서 기판 표면 상에서 기류의 방향을 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 1의 기판 처리 장치에서 기판 가장자리에서의 기류 흐름을 보여주는 요부 확대도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 5는 도 4의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 6은 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 7은 도 6의 반송 로봇을 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 8은 도 6의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 9는 도 6의 열 처리 챔버의 정면도이다.
도 10는 본 발명에 따른 회전되는 기판에 액을 공급하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 11은 도 10의 요부 확대도이다.
도 12는 도 11에 도시된 정류판의 상면 사시도이다.
도 13은 도 11에 도시된 정류판의 저면 사시도이다.
도 14 및 도 15는 정류판의 설치 과정을 설명하기 위한 도면들이다.
도 16 및 도 17은 정류판의 변형예를 보여주는 도면들이다.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장 및 축소된 것이다.

본 실시예의 장치는 원형 기판에 대해 사진 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다. 특히 본 실시예의 장치는 노광장치에 연결되어 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않고, 기판을 회전시키면서 기판에 처리액을 공급하는 다양한 종류의 공정에 사용될 수 있다. 아래에서는 기판으로 웨이퍼가 사용된 경우를 예로 들어 설명한다.

이하에서는, 도 4 내지 도 17을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 설명한다.

도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 5는 도 4의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이고, 도 6은 도 4의 기판 처리 장치의 평면도이다.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치(10)는 인덱스 모듈(100, index module), 처리 모듈(300, treating module), 그리고 인터페이스 모듈(500, interface module)을 포함한다. 일 실시예에 의하며, 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)은 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하에서 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)이 배열된 방향을 제1 방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)과 수직한 방향을 제2 방향(14)이라 하고, 제1 방향(12) 및 제2 방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3 방향(16)으로 정의한다.

인덱스 모듈(100)은 기판(W)이 수납된 용기(F)로부터 기판(W)을 처리 모듈(300)로 반송하고, 처리가 완료된 기판(W)을 용기(F)로 수납한다. 인덱스 모듈(100)의 길이 방향은 제2 방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(100)은 로드 포트(110)와 인덱스 프레임(130)을 가진다. 인덱스 프레임(130)을 기준으로 로드 포트(110)는 처리 모듈(300)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(F)는 로드 포트(110)에 놓인다. 로드 포트(110)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드 포트(110)는 제2 방향(14)을 따라 배치될 수 있다.

용기(F)로는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod, FOUP)와 같은 밀폐용 용기(F)가 사용될 수 있다. 용기(F)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드 포트(110)에 놓일 수 있다.

인덱스 프레임(130)의 내부에는 인덱스 로봇(132)이 제공된다. 인덱스 프레임(130) 내에는 길이 방향이 제2 방향(14)으로 제공된 가이드 레일(136)이 제공되고, 인덱스 로봇(132)은 가이드 레일(136) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(132)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.

처리 모듈(300)은 기판(W)에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 용기(F)에 수납된 기판(W)을 전달받아 기판 처리 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 도포 블록(300a) 및 현상 블록(300b)을 가진다. 도포 블록(300a)은 기판(W)에 대해 도포 공정을 수행하고, 현상 블록(300b)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행한다. 도포 블록(300a)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 현상 블록(300b)은 복수 개가 제공되며, 현상 블록(300b)들은 서로 적층되게 제공된다. 도 4의 실시 예에 의하면, 도포 블록(300a)은 2개가 제공되고, 현상 블록(300b)은 2개가 제공된다. 도포 블록(300a)들은 현상 블록(300b)들의 아래에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 2개의 도포 블록(300a)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다. 또한, 2개의 현상 블록(300b)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다.

도 6을 참조하면, 도포 블록(300a)은 열 처리 챔버(320), 반송 챔버(350), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312, 316)를 가진다. 열 처리 챔버(320)는 기판(W)에 대해 열 처리 공정을 수행한다. 열 처리 공정은 냉각 공정 및 가열 공정을 포함할 수 있다. 액 처리 챔버(360)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 액 막을 형성한다. 액 막은 포토레지스트 막 또는 반사 방지막일 수 있다. 반송 챔버(350)는 도포 블록(300a) 내에서 열 처리 챔버(320)와 액 처리 챔버(360) 간에 기판(W)을 반송한다.

반송 챔버(350)는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공된다. 반송 챔버(350)에는 반송 로봇(352)이 제공된다. 반송 로봇(352)은 열 처리 챔버(320), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312, 316) 간에 기판을 반송한다. 일 예에 의하면, 반송 로봇(352)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 가지며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 챔버(350) 내에는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공되는 가이드 레일(356)이 제공되고, 반송 로봇(352)은 가이드 레일(356) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다.

도 7은 반송 로봇의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 7을 참조하면, 핸드(352)는 베이스(352a) 및 지지돌기(352b)를 가진다. 베이스(352a)는 원주의 일부가 절곡된 환형의 링 형상을 가질 수 있다. 베이스(352a)는 기판(W)의 직경보다 큰 내경을 가진다. 지지돌기(352b)는 베이스(352a)로부터 그 내측으로 연장된다. 지지돌기(352b)는 복수 개가 제공되며, 기판(W)의 가장자리 영역을 지지한다. 일 예에 의하며, 지지돌기(352b)는 등간격으로 4개가 제공될 수 있다.

열 처리 챔버(320)는 복수 개로 제공된다. 열 처리 챔버(320)들은 제1 방향(12)을 따라 나열되게 배치된다. 열처리 챔버(320)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 위치된다.

도 8은 도 6의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 9는 도 8의 열 처리 챔버의 정면도이다.

도 8과 도 9를 참조하면, 열 처리 챔버(320)는 하우징(321), 냉각 유닛(322), 가열 유닛(323), 그리고 반송 플레이트(324)를 가진다.

하우징(321)은 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 하우징(321)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(미도시)가 형성된다. 반입구는 개방된 상태로 유지될 수 있다. 선택적으로 반입구를 개폐하도록 도어(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. 냉각 유닛(322), 가열 유닛(323), 그리고 반송 플레이트(324)는 하우징(321) 내에 제공된다. 냉각 유닛(322) 및 가열 유닛(323)은 제2 방향(14)을 따라 나란히 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 유닛(322)은 가열 유닛(323)에 비해 반송 챔버(350)에 더 가깝게 위치될 수 있다.

냉각 유닛(322)은 냉각 판(322a)을 가진다. 냉각 판(322a)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 냉각 판(322a)에는 냉각 부재(322b)가 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 부재(322b)는 냉각 판(322a)의 내부에 형성되며, 냉각 유체가 흐르는 유로로 제공될 수 있다.

가열 유닛(323)은 가열 판(323a), 커버(323c), 그리고 히터(323b)를 가진다. 가열 판(323a)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가진다. 가열 판(323a)은 기판(W)보다 큰 직경을 가진다. 가열 판(323a)에는 히터(323b)가 설치된다. 히터(323b)는 전류가 인가되는 발열 저항체로 제공될 수 있다. 가열 판(323a)에는 제3 방향(16)을 따라 상하 방향으로 구동 가능한 리프트 핀(323e)들이 제공된다. 리프트 핀(323e)은 가열 유닛(323) 외부의 반송 수단으로부터 기판(W)을 인수받아 가열 판(323a) 상에 내려놓거나 가열 판(323a)으로부터 기판(W)을 들어올려 가열 유닛(323) 외부의 반송 수단으로 인계한다. 일 예에 의하면, 리프트 핀(323e)은 3개가 제공될 수 있다. 커버(323c)는 내부에 하부가 개방된 공간을 가진다. 커버(323c)는 가열 판(323a)의 상부에 위치되며 구동기(323d)에 의해 상하 방향으로 이동된다. 커버(323c)가 이동되어 커버(323c)와 가열 판(323a)이 형성하는 공간은 기판(W)을 가열하는 가열 공간으로 제공된다.

반송 플레이트(324)는 대체로 원판 형상을 제공되고, 기판(W)과 대응되는 직경을 가진다. 반송 플레이트(324)의 가장자리에는 노치(324b)가 형성된다. 노치(324b)는 상술한 반송 로봇(352)의 핸드에 형성된 돌기(352b)와 대응되는 형상을 가질 수 있다. 또한, 노치(324b)는 핸드에 형성된 돌기(352b)와 대응되는 수로 제공되고, 돌기(352b)와 대응되는 위치에 형성된다. 핸드와 반송 플레이트(324)가 상하 방향으로 정렬된 위치에서 핸드와 반송 플레이트(324)의 상하 위치가 변경하면 핸드(354)와 반송 플레이트(324) 간에 기판(W)의 전달이 이루어진다. 반송 플레이트(324)는 가이드 레일(324d) 상에 장착되고, 구동기(324c)에 의해 가이드 레일(324d)을 따라 이동될 수 있다. 반송 플레이트(324)에는 슬릿 형상의 가이드 홈(324a)이 복수 개 제공된다. 가이드 홈(324a)은 반송 플레이트(324)의 끝 단에서 반송 플레이트(324)의 내부까지 연장된다. 가이드 홈(324a)은 그 길이 방향이 제2 방향(14)을 따라 제공되고, 가이드 홈(324a)들은 제1 방향(12)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 가이드 홈(324a)은 반송 플레이트(324)와 가열 유닛(323) 간에 기판(W)의 인수인계가 이루어질 때 반송 플레이트(324)와 리프트 핀(323e)이 서로 간섭되는 것을 방지한다.

기판(W)의 냉각은 기판(W)이 놓인 반송 플레이트(324)가 냉각 판(322a)에 접촉된 상태에서 이루어진다. 냉각 판(322a)과 기판(W) 간에 열 전달이 잘 이루어지도록 반송 플레이트(324)는 열 전도성이 높은 재질로 제공된다. 일 예에 의하면, 반송 플레이트(324)는 금속 재질로 제공될 수 있다.

열 처리 챔버(320)들 중 일부의 열처리 챔버(320)에 제공된 가열 유닛(323)은 기판(W) 가열 중에 가스를 공급하여 포토레지스트의 기판(W) 부착율을 향상시킬 수 있다. 일 예에 의하면, 가스는 헥사메틸디실란(HMDS, hexamethyldisilane) 가스일 수 있다.

액 처리 챔버(360)는 복수 개로 제공된다. 액 처리 챔버(360)들 중 일부는 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 액 처리 챔버(360)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 배치된다. 액 처리 챔버(360)들은 제1 방향(12)을 따라 나란히 배열된다. 액 처리 챔버(360)들 중 어느 일부는 인덱스 모듈(100)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액 처리 챔버(360)를 전단 액 처리 챔버(362)(front liquid treating chamber)라 칭한다. 액 처리 챔버(360)들 중 다른 일부는 인터페이스 모듈(500)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액 처리 챔버(360)를 후단 액처리 챔버(364)(rear heat treating chamber)라 칭한다.

전단 액 처리 챔버(362)는 기판(W)상에 제1액을 도포하고, 후단 액 처리 챔버(364)는 기판(W) 상에 제2액을 도포한다. 제1액과 제2액은 서로 상이한 종류의 액일 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 제1액은 반사 방지막이고, 제2액은 포토레지스트이다. 포토레지스트는 반사 방지막이 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액은 포토레지스트이고, 제2액은 반사 방지막일 수 있다. 이 경우, 반사 방지막은 포토레지스트가 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액과 제2액은 동일한 종류의 액이고, 이들은 모두 포토레지스트일 수 있다.

이하에서는, 본 발명의 공정 챔버들 중 회전하는 기판 상에 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치의 구조에 대해 상세히 설명한다.

아래에서는 기판 처리 장치가 포토 레지스트를 도포하는 장치인 경우를 예로 들어 설명한다. 그러나, 기판 처리 장치는 회전하는 기판(W)에 보호막 또는 반사 방지막과 같은 막을 형성하는 장치일 수 있다. 또한, 선택적으로 기판 처리 장치는 기판(W)에 현상액과 같은 처리액(82)을 공급하는 장치일 수 있다.

도 10은 회전하는 기판에 처리액을 공급하여 기판을 액 처리하는 기판 처리 장치의 일 실시예를 보여주는 단면도이고, 도 11은 도 10의 요부 확대도이며, 도 12는 도 11에 도시된 정류판의 상면 사시도이고, 도 13은 도 11에 도시된 정류판의 저면 사시도이다.

도 10 내지 도 13을 참조하면, 기판 처리 장치는 하우징(1100), 처리 용기(1200), 기판 지지 유닛(1400), 액 공급 유닛(1600), 정류판(1700) 그리고 배기 유닛(3900)을 포함한다.

하우징(1100)은 내부 공간(1120)을 가지는 직사각의 통 형상으로 제공된다. 하우징(1100)의 일측에는 개구(1102)가 형성된다. 개구(1102)는 기판(W)이 반출입되는 통로로 기능한다. 개구(1100)에는 도어(도시되지 않음)가 설치되며, 도어는 개구를 개폐한다.

하우징(1100)의 내부 공간(1120)에는 처리 용기(1200)가 제공된다. 처리 용기(1200)는 내부 공간(1280)을 가진다. 내부 공간(1280)은 상부가 개방되도록 제공된다.

지지 유닛(1400)은 처리 용기(1200)의 내부 공간(1280) 내에서 기판(W)을 지지한다. 지지 유닛(1400)은 지지판(1420), 회전축(1440), 그리고 구동기(1460)를 가진다.

지지판(1420)은 그 상부면이 원형으로 제공되는 스핀 헤드 형태로 제공된다. 지지판(1420)은 기판(W)보다 작은 직경을 가진다. 지지판(1420)은 진공압에 의해 기판(W)을 지지하도록 제공된다. 선택적으로 지지판(1420)은 기판(W)을 지지하는 기계적 클램핑 구조를 가질 수 있다. 지지판(1420)의 저면 중앙에는 회전축(1440)이 결합되고, 회전축(1440)에는 회전축(1440)에 회전력을 제공하는 구동기(1460)가 제공된다. 구동기(1460)는 모터일 수 있다.

액 공급 유닛(1600)은 기판(W) 상에 처리액(82)을 공급한다. 처리액(82)을 포토 레지스트와 같은 도포액일 수 있다. 액 공급 유닛(1600)은 노즐(1620), 노즐 이동 부재(1640) 및 그리고 액 공급원(도시되지 않음)을 가진다.

노즐(1620)은 하나 또는 복수 개로 제공되며, 기판(W)으로 처리액(82)을 토출한다. 노즐(1620)은 노즐 이동 부재(1640)에 지지된다. 노즐 이동 부재(1640)는 공정 위치 및 대기 위치 간에 노즐(1620)을 이동시킨다. 공정 위치에서 노즐(1620)은 지지판(1420)에 놓인 기판(W)으로 처리액(82)을 공급하고, 처리액(82)의 공급을 완료한 노즐(1620)은 대기 위치에서 대기한다. 대기 위치에서 노즐(1620)은 홈 포트(도면 미도시)에서 대기하며, 홈 포트는 하우징(1100) 내에서 처리 용기(1200)의 바깥쪽에 위치한다.

하우징(1100)의 상벽에는 내부 공간으로 하강기류(84)를 공급하는 팬필터 유닛(1260)이 배치된다. 팬필터 유닛(1260)은 외부의 공기를 내부 공간으로 도입하는 팬과 외부의 공기를 여과하는 필터를 가진다.

하우징(1100)에서 처리 용기(1200)의 바깥쪽에는 처리 용기(1200)와 하우징(1100) 사이의 공간으로 공급되는 기류(84)를 배기하는 배기관(1140)이 연결된다.

처리 용기(1200)는 외측 컵(1220)과 내측 컵(1240)을 가진다.

외측 컵(1220)은 지지 유닛(1400) 및 이에 지지된 기판(W)을 감싸도록 제공된다. 외측 컵(1220)은 바닥벽(1222), 측벽(1224), 그리고 상벽(1226)을 가진다. 외측 컵(1220)의 내부는 상술한 내부 공간(1280)으로 제공된다. 내부 공간(1280)은 상부의 처리 공간과 하부의 배기 공간(1248)을 포함한다.

바닥벽(1222)은 원형으로 제공되며, 중앙에 개구를 가진다. 측벽(1224)은 바닥벽(1222)의 외측단으로부터 상부로 연장된다. 측벽(1224)은 링 형상으로 제공되며, 바닥벽(1222)에 수직하게 제공된다. 일 예에 의하면 측벽(1224)은 지지판(1420)의 상면과 동일 높이까지 연장되거나, 지지판(1420)의 상면보다 조금 낮은 높이까지 연장된다. 상벽(1226)은 링 형상을 가지며, 중앙에 개구를 가진다. 상벽(1226)은 측벽(1224)의 상단으로부터 외측 컵(1220)의 중심축을 향해 상향 경사지게 제공된다.

내측 컵(1240)은 외측 컵(1220)의 내측에 위치된다. 내측 컵(1240)은 내벽(1242), 외벽(1244), 그리고 상벽(1246)을 가진다. 내벽(1242)은 상하방향으로 관통된 관통공을 가진다. 내벽(1242)은 정류판(1700)과 함께 구동기(1460)를 감싸도록 배치된다. 내측 컵(1240)은 정류판(1700)에 의해 지지된다. 내측 컵(1240)의 장착 높이는 구동기(1460)에 설치되는 정류판(1700)의 높이에 의해 조절될 수 있다. 내벽(1242)과 정류판(1700)은 구동기(1460)가 처리 공간 내 기류(84)에 노출되는 것을 최소화한다. 내벽(1242)의 하단은 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)에 위치될 수 있다. 외벽(1244)은 내벽(1242)과 이격되도록, 그리고 내벽(1242)을 감싸도록 배치된다. 외벽(1244)은 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 이격되게 위치된다. 내벽(1242)은 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)으로부터 상부로 이격되게 배치된다. 상벽(1246)은 외벽(1244)의 상단과 내벽(1242)의 상단을 연결한다. 상벽(1246)은 링 형상을 가지며, 지지판(1420)을 감싸도록 배치된다. 일 예에 의하면, 상벽(1246)은 위로 볼록한 형상을 가진다. 상벽(1246)은 외벽(1244)의 상단으로부터 회전축(1440)을 향해 상향 경사진 외측 상벽(1246a)과, 이로부터 내벽(1242)의 상단까지 하향 경사진 내측 상벽(1246b)을 가진다. 지지판(1420)은 내측 상벽(1246b)에 의해 둘러싸인 공간에 위치될 수 있다. 일 예에 의하면, 상벽(1226) 중 최정점은 지지판(1420)보다 외측에 위치되고, 지지 유닛(1400)에 지지된 기판(W)의 끝단보다 내측에 위치될 수 있다. 상벽(1246)은 저면에 삽입홈(1247)을 갖는다. 정류판(1700)의 제1리브(1712)는 삽입홈(1247)에 삽입되어 내측 컵(1240)을 지지한다.

처리 공간 중 지지판(1420)의 아래 공간은 배기 공간(1248)으로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 배기 공간(1248)은 내측 컵(1240)에 의해 규정(define)될 수 있다. 내측 컵(1240)의 외벽(1244), 상벽(1246), 그리고 내벽(1242)으로 둘러싸여진 공간 및/또는 그 아래 공간이 배기 공간(1248)으로 제공될 수 있다.

한편, 지지판(1420)과 회전축(1440) 그리고 구동기(1460)가 위치하는 내측 컵(1240)의 내측 공간은 정류판(1700)에 의해 상부 영역(X1)과 하부 영역(X2)으로 나누어질 수 있다. 하부 영역(X2)에는 구동기(1460)가 위치되고, 상부 영역(X1)에는 지지판(1420)이 위치된다. 상부 영역(X1)과 하부 영역(X2)은 정류판(1700)과 구동기(1460)의 커버(1462) 사이의 틈새에 해당되는 에어 갭(1702)에 의해 연통된다. 공정 진행시, 하부 영역의 공기는 에어 갭을 통해 상부 영역으로 흐르게 된다. 이러한 기류는 내측 컵이 상벽과 기판 저면 사이의 틈새를 통해 배기 공간으로 흐르게 된다.

외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)에는 처리액(82)을 배출하는 배출관(1250)이 연결된다. 배출관(1250)은 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 내측 컵(1240)의 외벽(1244) 사이로 유입된 처리액(82)을 처리 용기(1200)의 외부로 배출한다. 일 예에 의하면, 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 내측 컵의 측벽 사이의 공간은 처리액(82)을 배출하는 배출 공간(1252)으로 제공되고, 배출관(1250)은 배출 공간(1252)에서 처리액(82)을 배출하도록 제공된다. 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 내측 컵(1240)의 외벽(1244) 사이의 공간으로 흐르는 기류(84)는 배기 공간(1248)으로 유입된다. 이 과정에서 기류(84) 내에 함유된 처리액(82)은 배출 공간(1252)에서 배출관(1250)을 통해 처리 용기(1200)의 외부로 배출되고, 기류는 처리 용기(1200)의 배기 공간(1248)으로 유입된다.

배출관(1250)은 하나 또는 복수 개가 제공될 수 있다. 배출관(1250)이 복수 개가 제공되는 경우, 배출관(1250)은 내측 컵(1240)의 원주 방향을 따라 복수 개 제공될 수 있다.

도시하지 않았으나, 지지판(1420)과 외측 컵(1220)의 상대 높이를 조절하는 승강 구동기가 제공될 수 있다. 일 예에 의하면 승강 구동기는 외측 컵(1220)을 상하 방향으로 승하강시킬 있다. 예컨대, 지지판(1420)에 기판(W)을 로딩하거나 지지판(1420)으로부터 기판(W)을 언로딩할 때 기판(W)을 반송하는 반송부재가 외측 컵(1220)과 간섭하는 것을 방지하도록 지지판(1420)은 외측 컵(1220)의 상단보다 높은 높이에 위치한다. 또한, 공정을 진행시에는 기판(W)이 처리 공간 내에 위치하도록 지지판(1420)이 외측 컵(1220)의 상단부다 낮은 높이에 위치한다.

배기 유닛(3900)은 처리 용기 내의 내부 공간의 기류(84)를 배기한다. 배기 유닛(3900)은 개별 배기관(3820) 그리고 통합 배기관(3840)을 포함할 수 있다.

개별 배기관(3820)은 기판 처리 장치(3000) 내의 배기 공간(1248)과 연결된다. 개별 배기관(3820)은 1개 또는 복수 개 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 개별 배기관(3820)은 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)에 연결되며, 개별 배기관(3820)의 입구(3722)는 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)으로부터 일정 높이 이격되게 배치된다.

통합 배기관(3840)은 외측 컵(1220)의 외부에 배치된다. 일 예에 의하면, 통합 배기관(3840)은 하우징(1100)의 아래에 배치될 수 있다. 통합 배기관(3840)은 기류 도입부(3842)와 기류 배출부(3844)를 가진다.

일 예에 의하면, 기류 도입부(3842)는 링 형상을 가진다. 기류 도입부(3842)는 개별 배기관(3820)과 결합되어, 개별 배기관(3820)으로부터 유출된 가스는 통합 배기관의 기류 도입부(3842)로 유입된다. 기류 배출부(3844)는 기류 도입부(3842)로 둘러싸여진 공간 내에 위치되고, 연결부는 기류 도입부(3842)와 기류 배출부(3844)를 연결하여, 기류 도입부(3842)로 도입된 가스가 기류 배출부(3844)를 향해 흐르도록 한다. 기류 도입부(3842) 중 개별 배기관(3820)이 연결되는 지점과 기류 배출부(3844) 사이에는 기액 분리판(3846)이 제공될 수 있다.

도 11 내지 도 13을 참조하면, 정류판(1700)은 구동기의 커버(1462)에 결합된다. 정류판(1700)은 내측 컵(1240)의 내경보다 큰 지름을 갖는 원반 형상의 몸체(1710)를 포함한다. 몸체(1710)의 중앙에는 회전축(1440)이 위치하는 중앙홀(1720)을 갖는다. 몸체(1710)의 상면에는 링 형상의 제1리브(1712)와 제2리브(1714)가 제공된다. 제1리브(1712)는 몸체(1710)의 가장자리를 따라 상방향으로 돌출되어 형성된다. 제1리브(1712)는 내측 컵의 저면에 형성된 삽입홈(1247)에 삽입되며, 내측컵(1240)은 정류판(1700)에 지지된다.

정류판(1700)는 구동기 커버(1462)와의 공간으로 기류가 통과되도록 레벨링 볼트(1780)들을 포함한다. 레벨링 볼트(1780)들은 몸체(1710)의 체결공(1716)을 통해 구동기 커버(1462)에 체결된다. 한편, 레벨링 볼트(1780)는 체결 볼트(1782) 및 레벨 세트 스크류(1784)를 포함하는 세트 형태로 제공된다. 정류판(1700)은 레벨링 볼트(1780)들에 의해 구동기 커버 상에서 레벨링될 수 있다.

한편, 정류판(1700)의 하부 영역에서는 정류판(1700)과 구동기 커버(1462) 사이의 틈새(1702)를 통해 외측에서 내측으로 향하는 기류가 발생되고, 기류는 정류판(1700)의 중앙홀(1720)을 통해 정류판(1700)의 상부 영역으로 유입되며, 정류판(1700)의 상부 영역에서 기류가 내측에서 외측으로 향하게 된다.

한편, 정류판(1700)은 저면에 갭 돌기(1730)를 포함한다. 갭 돌기(1730)는 구동기 커버(1462)의 상면과 소정간격 이격되어 세팅되도록 제공된다. 갭 돌기(1730)는 정류판의(1700) 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공된다.

도 14 및 도 15는 정류판의 장착 과정을 설명하기 위한 도면들이다.

도 14 및 도 15에서와 같이, 정류판이 구동기 커버(1462)에 놓여지며, 갭 돌기(1730)에 의해 정류판은 의도적으로 기울어진다. 따라서, 작업자는 정류판이 기울어진 상태를 직관적으로 확인시켜 줌으로써 정류판의 레벨링 작업을 유도하게 된다. 레벨링 작업은 레벨링 볼트들을 이용하게 되며, 정류판(1700)과 구동기(1460)의 커버(1462) 사이에는 기류가 통과할 수 있는 에어 갭(1702)이 형성된다. 그리고, 정류판의 레벨링에 의해 내측 컵과 기판 저면 사이의 간격을 정밀하게 세팅할 수 있다.

도 16 및 도 17은 정류판의 변형예를 보여주는 도면들이다.

도 16 및 도 17을 참조하며, 변형예에 따른 정류판(1700a)은 도 12에 도시된 정류판(1700)과 대체로 유사한 구성과 기능으로 제공됨으로, 이하에서는 본 실시예와의 차이점을 위주로 변형예를 설명하기로 한다.

본 변형예에서, 갭 돌기(1730a)는 몸체(1710) 저면에 적어도 3개 이상 제공된다. 갭 돌기(1730a)는 일정 간격 이격되어 배치된다. 이때 갭 돌기(1730a)의 높이는 정류판(1700a)의 세팅 높이에 맞게 형성될 수 있다. 따라서, 별도의 레벨링 작업이 필요없기 때문에 레벨 세트 스크류(도 14에 도시됨)들을 생략할 수 있고, 체결 볼트(1782)만으로 구동기 커버(1462)에 고정하면 된다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

(작용) 본 발명의 레지스트(regist) 도포장치에서는, 구분 링 상면의 기판 주변부 직하에 제2의 통기구를 마련함과 동

시에, 컵 저면의 중앙부에 흡기구를 마련했기 때문에, 구분 링과 컵 저면에서 형성되는 링형 공간내를 배기구로부터

강제 배기 그러면, 기판 상부로부터 기판외주부근을 거쳐 제1의 통기구에 이르는 기류 외에 제2의 통기구에 이르는

대략 수직의 기류를 일으킴과 동시에, 컵 하부로부터도 공기를 흡인해 기판 이면을 따라서 기판 중심 집합으로부터

외주로 향해 제2의 통기구에 이르는 기류를 일으킨다. 이 제2의 통기구에 이르는 두 개의 기류는 함께 레지스터 미스

트의 기판 이면으로의 회전 포함을 저지한다.

(0011) 한편, 위에서 서술한 바와 같이 배기구로부터의 강제 배기에 의해 컵 하부로부터도 공기를 흡인하기 때문에,

배기량을 종래 장치의 경우와 동등하게 그러면, 기판 상부로부터의 공기 흡인량은 감소하게 된다.따라서, 기판 주변부

위의 기류의 유속이 내리고, 막 두께의 균일성이 좋아지는 방향으로 작용한다.기판상의 기류의 유속을 내릴 필요가

없으면, 배기량을 약간 늘어나 레지스터 미스트의 기판 이면으로의 돌아서 들어가 방지를 보다 확실한 것으로 할 수

있다.

기판 이면으로의 레지스터 미스트의 부착은 대부

분 없어지고, 게다가 도포 막 두께의 균일성이 약간 향상되었다.

기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;

상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과;

상기 기판 지지 유닛을 감싸며, 처리액을 회수하는 처리 용기를 포함하되,

상기 처리 용기는,

상기 기판 지지 유닛을 감싸며, 내부에 처리 공간을 가지는 외측컵과;

상기 처리 공간에 위치되며, 상기 처리 공간의 분위기가 배기되는 배기구를 가지는 배기관과;

상기 배기구에 유입되는 처리액을 차단하는 차단 부재를 포함하는 기판 처리 장치

상기 처리 용기는,

상기 처리 공간을 내측 공간 및 외측 공간으로 구획하는 내측컵을 더 포함하되,

상기 배기관은 상기 내측 공간에 위치되는 기판 처리 장치.

1700 : 정류판 1710 : 몸체
1720 : 중앙홀 1730 : 갭 돌기

Claims

외측 컵과, 상기 외측 컵의 내측에 위치되며, 상기 외측 컵과 조합되어 액이 회수되는 회수 경로를 형성하는 내측 컵을 갖는 처리 용기;
상기 처리 용기의 내부에 제공되며, 그리고 회전 가능한 스핀 헤드 및 상기 스핀 헤드를 회전시키는 구동모터; 및
상기 구동모터 상부에 안착되고 상기 내측 컵을 지지하는 정류판을 포함하되;
상기 정류판은
저면에 상기 구동모터의 상면과 소정간격 이격되어 세팅되도록 갭 돌기를 포함하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 갭돌기는
상기 정류판의 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공되는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 정류판은
상기 구동모터의 사이 공간으로 기류를 통과시키기 위한 레벨링 볼트들을 더 포함하며,
상기 레벨링 볼트들은 상기 정류판과 상기 구동모터 사이에 제공되는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 갭돌기는
상기 정류판의 저면에 일정 간격으로 3개 이상이 제공되는 기판 처리 장치.
제2항 또는 제4항에 있어서,
상기 정류판은
상기 내측 컵의 내경보다 큰 지름을 갖는 원반 형상을 갖되;
그 중앙에는 상기 스핀 헤드의 회전축이 위치하는 중앙홀을 갖는 기판 처리 장치.
제5항에 있어서,
상기 정류판은
가장자리를 따라 상방향으로 돌출되어 형성되는 링형상의 제1리브를 포함하고,
상기 제1리브는 상기 내측 컵의 저면에 형성된 삽입홈에 삽입되어 상기 내측컵을 지지하는 기판 처리 장치.
기판 지지 유닛의 구동모터 상부에 안착되는 정류판에 있어서:
원반 형상의 몸체를 갖되, 상기 몸체의 중앙에는 스핀 헤드의 회전축이 위치하는 중앙홀을 가지며, 상기 몸체의 저면에는 상기 구동모터의 상부면에 안착시 불안정성을 제공하기 위한 갭 돌기를 갖는 정류판.
제7항에 있어서,
상기 갭돌기는
상기 몸체의 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공되는 정류판.
제8항에 있어서,
상기 몸체와 상기 구동모터의 사이 공간으로 기류를 통과시키기 위한 에어 갭 형성을 위한 레벨링 볼트들을 더 포함하며,
상기 레벨링 볼트들은 상기 정류판과 상기 구동모터 사이에 제공되는 정류판.
제7항에 있어서,
상기 갭돌기는
상기 정류판의 저면에 일정 간격으로 3개 이상이 제공되는 정류판.
제7항에 있어서,
상기 몸체는
가장자리를 따라 상방향으로 돌출되어 형성되는 링형상의 제1리브; 및
상기 중앙홀 주변을 따라 상방향으로 돌출되어 형성되는 링형상의 제2리브를 포함하는 정류판.
기판을 처리하는 장치에 있어서,
내부 공간을 가지는 처리 용기;
상기 처리 용기의 내부에 제공되며, 그리고 회전 가능한 스핀 헤드 및 상기 스핀 헤드를 회전시키는 구동모터를 가지는 지지 유닛;
상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛;
상기 내부 공간 내 기류를 배기하는 배기 유닛; ??
상기 구동모터 상부에 소정 간격 이격된 상태로 안착되는 그리고 저면에 갭 돌기를 갖는 정류판을 포함하되;
상기 처리 용기는,
상기 내부 공간을 제공하는 외측 컵;
상기 외측 컵과 이격되도록 상기 내부 공간에 배치되는, 그리고 상기 구동 모터를 감싸는 내측 컵을 포함하며,
상기 정류판의 하부 영역에서는 상기 정류판과 상기 구동모터 사이의 틈새를 통해 외측에서 내측으로 향하는 기류가 발생되고, 상기 기류는 상기 정류판의 중앙홀을 통해 상기 정류판의 상부 영역으로 유입되며, 상기 정류판의 상부 영역에서 상기 기류가 내측에서 외측으로 향하는 기판 처리 장치.
제12항에 있어서,
상기 정류판은 원반 형상의 몸체를 갖고,
상기 갭 돌기는 상기 몸체가 상기 구동모터의 상부면에 안착시 불안정성을 제공하도록 상기 정류판의 중심에서 벗어난 위치에 하나만 제공되는 기판 처리 장치.
제13항에 있어서,
상기 몸체는 레벨링 볼트들에 의해 상기 구동모터의 상부로부터 이격되는 기판 처리 장치.