JPH11283902A - スピン処理装置 - Google Patents

スピン処理装置

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JPH11283902A
JPH11283902A JP8348998A JP8348998A JPH11283902A JP H11283902 A JPH11283902 A JP H11283902A JP 8348998 A JP8348998 A JP 8348998A JP 8348998 A JP8348998 A JP 8348998A JP H11283902 A JPH11283902 A JP H11283902A
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cup
substrate
rotary table
air flow
rotation
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Katsunori Kaneko
勝則 金子
Akinori Iso
明典 磯
Harumichi Hirose
治道 広瀬
Akira Hara
暁 原
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は回転テ−ブを回転させて基板を処
理する際に、その基板が微粒子などによって汚染されず
らいスピン処理装置を提供することにある。 【解決手段】 カップ21と、このカップの底部中心部
から内部へ挿通された回転駆動される駆動軸26と、こ
の駆動軸に連結されて回転させられるとともに上面に基
板20が保持される回転テ−ブル27と、上記カップの
底部に設けられ上記回転テーブルの回転によって発生す
る空気流を排出する排出管42と、上記カップの内底部
に設けられ上記回転テーブルの回転によって発生する空
気流を整流して上記排気管へ導く整流体34とを具備
し、上記整流体は、上面が上記カップ内の空気の流れ方
向に沿って漸次低く傾斜した傾斜面37aに形成されて
いるとともに先端部に上記空気流を導入する導入口38
が開口形成された複数の風洞部37が上記カップの周方
向に沿って設けられてなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は回転テ−ブルによ
って基板を回転させて処理するスピン処理装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置の製造過程におい
ては、ワ−クとしてのガラス製の基板に回路パタ−ンを
形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。
これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが繰り
返し行われる。洗浄された基板を乾燥させたり、基板に
レジストを均一に塗布するためには、上記基板を回転テ
−ブルに保持し、この回転テ−ブルとともに回転させ、
それによって生じる遠心力を利用する、スピン処理装置
が用いられている。
【0003】一般に、スピン処理装置は、図5に示すよ
うにカップ1を有する。このカップ1は下カップ2aと
上カップ2bとから構成されている。上記下カップ2a
は上面が開放したお椀状に形成され、その底部中心部分
には通孔3が形成され、上端縁には受けフランジ4が形
成されている。
【0004】上記上カップ2bは外周面が凸曲面をなし
たリング状に形成されていて、その外周面には取付け部
材5を介して連結フランジ6が設けられている。そし
て、上カップ2bはその連結フランジ6を上記受けフラ
ンジ4にパッキング7を介して接合させ、それらを複数
の蝶ナット8で結合することで一体化されている。
【0005】上記下カップ2aに形成された通孔3から
そのカップ1の内部へはモ−タ9の駆動軸11が挿通さ
れている。この駆動軸11の上端には回転テ−ブル12
が取付けられている。この回転テ−ブル12の上面には
支持ピン13および支持ピン13よりも径方向外方にガ
イドピン14がそれぞれ周方向に所定間隔で突設されて
いる。上記支持ピン13は回転テ−ブル12の上面に供
給される基板15の下面を支持し、上記ガイドピン14
は上記基板15の外周面に係合してその基板15が回転
テ−ブル12上で動くのを阻止している。
【0006】上記下カップ2aの底壁には複数の排水口
体17が設けられ、この排水口体17は図示しないタン
クに配管接続されている。また、下カップ2aの周壁に
は、上カップ2bの下端よりも上部に周方向に所定間隔
で複数の排気口体16が接続され、これらは図示しない
排気ポンプに配管接続されている。
【0007】このような構成のスピン処理装置によれ
ば、上記基板15を乾燥させたり、基板15に図示しな
い供給ノズルから滴下されたレジストを均一に分布させ
る場合などには、上記モ−タ9に通電し、その駆動軸1
1に取付けられた回転テ−ブル12を回転させる。
【0008】回転テ−ブル12を回転させて遠心力を発
生させれば、その遠心力によって基板15の上面に付着
した洗浄液を乾燥させたり、その上面に滴下させられた
レジストを均一に分布せるなどのことができる。
【0009】ところで、回転テ−ブル12を回転させる
と、その回転によって遠心力が発生するだけでなく、カ
ップ1内には回転テ−ブル12の回転にともない空気の
流れが生じることが避けられない。その空気流は図6に
矢印Aで示すように回転テ−ブル12の外周面から排気
口体16へ吸引される流れとなる。
【0010】上記空気流Aが乱れのない状態であればよ
いのだが、その空気流Aは回転テ−ブル12の外周面か
ら下方へ向かって流れ、上カップ2bの下端を通ったの
ち、上方へ向かって流れ方向を変えて排気口体16から
流出するという、屈曲した経路となる。
【0011】そのため、回転テ−ブル11の回転によっ
て生じる空気流Aは、排気口体16へ円滑に流れずらい
ため、その空気流Aの一部は同図に矢印Bで示すような
空気流となる。つまり、乱気流となる。乱気流Bの発生
によって空気の一部が回転テ−ブ12上に保持された基
板15の上面や下面に向かう流れとなるから、空気中に
含まれた微粒子やミストが上記基板15の上面や下面に
付着し、基板15を汚染するということがある。
【0012】そこで、本件出願人は特開平7−6609
9号公報に示されるスピン処理装置を提案した。つま
り、この先行技術は、図6に示すようにカップ体の内底
部に整流板aが設けられている。この整流板aには導入
口bが開口形成され、この導入口bよりも矢印Xで示す
空気の流れ方向下流側にはほぼ45度の角度で屈曲され
たガイド板cを固着する。それによって、回転テーブル
の回転によって生じる空気流を矢印Yで示すように上記
ガイド板cによって導入口bへ導入するようにしてい
る。
【0013】このような構成によれば、回転テーブルの
回転によって生じる空気が上記ガイド板cにガイドされ
て上記導入口bに導入されるから、整流板aがない場合
に比べてカップ内に生じる乱気流を抑制することができ
る。
【0014】しかしながら、上記先行技術においては、
回転テーブルの回転によって生じる空気流がガイド板c
に衝突してその流れ方向が変換されて導入口bに導入さ
れる。そのため、空気流はガイド板cに衝突したとき
に、その一部が乱気流となって導入口bに円滑に導入さ
れずに基板15の上面や下面に向かう空気流となること
があるから、それによって基板の汚染を招くということ
がある。
【0015】また、洗浄された基板を乾燥処理する場合
には、基板から洗浄液が滴下する。そのため、その洗浄
液を円滑に排出処理することで、カップ内で発生する乱
気流などによって上記洗浄液がミストとなって上記基板
に再付着するのを防止する必要がある。
【0016】しかしながら、上述した先行技術において
は、整流板aの上面が水平面となっているばかりか、空
気流Yが衝突するガイド板cを有するから、この上面に
滴下した洗浄液が円滑に排出されず、カップ内で発生す
る乱気流によってミスト化したり、空気流Yに含まれる
洗浄液がガイド板cに衝突してミスト化し、基板に付着
するということがあった。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のス
ピン処理装置においては、回転テ−ブルを回転させるこ
とで発生する空気流の一部が乱気流となり、上記回転テ
−ブルの上面に保持された基板に向かう流れとなるか
ら、空気中に含まれた微粒子が上記基板に付着し易いと
いうことがあったり、基板から滴下した液体が円滑に排
出されず、ミストとなって基板に付着するということが
あった。
【0018】この発明は、回転テ−ブルを回転させるこ
とで空気流が生じても、その空気流が基板に向かう乱気
流となって、基板に微粒子が付着し易いということがな
いようにしたスピン処理装置を提供することにある。こ
の発明は、回転テーブルを回転させることで基板から滴
下する液体を円滑に排出することができるようにしたス
ピン処理装置を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1の発明は、基板を回転させることで、この基
板に所定の処理を行うスピン処理装置において、カップ
と、このカップの底部中心部から内部へ挿通された回転
駆動される駆動軸と、この駆動軸に連結されて回転させ
られるとともに上面に上記基板が保持される回転テ−ブ
ルと、上記カップの底部に設けられ上記回転テーブルの
回転によって発生する空気流を排出する排出手段と、上
記カップの内底部に設けられ上記回転テーブルの回転に
よって発生する空気流を整流して上記排出手段へ導く整
流体とを具備し、上記整流体は、上面が上記カップ内の
空気の流れ方向に沿って漸次低く傾斜した傾斜面に形成
されているとともに先端部に上記空気流を導入する導入
口が開口形成された中空状をなし上記カップの周方向に
沿って設けられた複数の風洞部およびこの風洞部内に導
入された空気流を上記排出手段へ導く流通部とを有する
ことを特徴とする。
【0020】請求項2の発明は、基板を回転させること
で、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置におい
て、カップと、このカップの底部中心部から内部へ挿通
された回転駆動される駆動軸と、この駆動軸に連結され
て回転させられるとともに上面に上記基板が保持される
回転テ−ブルと、上記カップの内底部に設けられ上記回
転テーブルの回転によって発生する空気流を排出する排
出手段と、上記カップの内底部の周辺部に設けられ径方
向外方から内方に向かって低く傾斜した傾斜面を有し、
この傾斜面によって上記基板から滴下する液体を上記排
出手段へ導くガイド部材とを具備したことを特徴とす
る。
【0021】請求項1の発明によれば、回転テーブルの
回転によってカップ内で発生する空気流は、整流体の風
洞部の傾斜面に沿って円滑に流れ、周方向において隣り
合う風洞部の除気傾斜面に沿う空気の流れ方向に向かっ
て開口した導入口からその風洞部内に円滑に流入して排
出されるから、衝突による乱気流の発生をくということ
がほとんどない。
【0022】請求項2の発明によれば、カップの内底部
に径方向外方から内方へ向かって低く傾斜した傾斜面を
有するガイド部材を設けたことで、基板から滴下した液
体は上記傾斜面に沿って円滑に排出されるため、カップ
内の気流によってミストが発生するのを防止できる。
【0023】
【実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を図1乃
至図4を参照して説明する。図1に示すスピン処理装置
は、たとえば液晶表示装置の基板や半導体ウエハなどの
基板20を乾燥処理するためのもので、その装置はカッ
プ21を備えている。このカップ21は下カップ22
a、上カップ22bおよび内カップ22cから構成され
ている。下カップ22aは上面が開放したお椀状をなし
ていて、その上端縁にはシ−ルパッキング23が取着さ
れ、底壁中心部には径方向外方に向かって低く傾斜した
円錐状の第1の傾斜面24aが形成されている。この第
1の傾斜面24aの中心部(頂部)には通孔24が形成
されている。
【0024】上記通孔24には、モ−タ25の駆動軸2
6が挿通され、カップ21内に突出した上記駆動軸26
の上端は回転テ−ブル27の下面に設けられた円盤状の
連結部材28に連結されている。この連結部材28の下
面周辺部には円周溝29が形成され、この円周溝29に
は上記通孔24の周縁部を形成する周壁24bの上端部
が挿入されている。
【0025】上記下カップ22aの底壁の上記通孔24
の周辺部には遮蔽リング31が上記連結部材28の外周
面を覆う状態で設けられている。それによって、基板2
0を後述するごとく乾燥処理する際にカップ1内に飛散
する液体が上記通孔24を通ってモ−タ25を濡らすの
を防止できるようになっている。
【0026】上記回転テ−ブル27の上面には複数の支
持ピン32と、その支持ピン32よりも径方向外方に位
置する複数のガイドピン33とが周方向に所定間隔で突
設されている。支持ピン32は回転テ−ブル27の上面
に供給される上記基板20の下面を支持し、上記ガイド
ピン33は上記基板20の外周面に係合し、その基板2
0が回転テ−ブル27上でずれ動くのを阻止するように
なっている。
【0027】上記下カップ22aの内底部には整流体3
4が配設されている。この整流体34はリング状の基部
35を有する。この基部35は、図4に示すように上部
壁35a、内壁35b及び外壁35cを有し、それによ
って三方が囲まれているとともに下面が開放した流通部
としての流通路36を形成している。
【0028】上記上部壁35aには、それぞれ周方向に
ほぼ90度の範囲にわたる4つの中空状の風洞部37が
設けられている。この風洞部37は、上面が上記回転テ
ーブル27の回転方向に沿って漸次低く傾斜した傾斜面
37aに形成されているとともに、その内部空間の高さ
寸法も上記傾斜面37aに対応して漸次低くなってい
る。
【0029】上記風洞部37の高さ寸法が最も高い先端
面は導入口38がほぼ垂直に開口形成され、高さ寸法が
最も低くなる後端部は上記基部35の上部壁35aに形
成された流通部としての連通孔39を介して上記基部3
5内の流通路36に連通している。
【0030】図1に示すように、上記下カップ22aの
底部壁の上記連通孔39に対応する部位には排出口41
が開口形成されている。つまり、下カップ22aには周
方向に90度間隔で4つの排出口41が形成されてい
る。各排出口41にはそれぞれ排出管42の一端がが接
続されている。各排出管42の他端は気液分離タンク4
3を介して排出ポンプ44に連通している。
【0031】したがって、上記カップ21内の雰囲気は
上記排出ポンプ44の吸引力により、風洞部37から連
通孔39を通って基部35の流通路36に導入され、こ
こから排出口41を通って上記排出管42へ排出される
ようになっている。
【0032】上記4つの風洞部37の内周側にはリング
状のガイド部材45が設けられている。このガイド部材
45の板面は径方向内方に向かって低く傾斜した第2の
傾斜面45aに形成されている。つまり、第2の傾斜面
45aは上記下カップ22aの第1の傾斜面24aと逆
方向に傾斜している。
【0033】上記第2の傾斜面45aの外形寸法は上記
回転テーブル27の外径寸法よりも大きく設定されてい
る。それによって、上記回転テーブル27に保持された
基板20からの液体、例えば洗浄液は上記第2の傾斜面
45aに滴下する。
【0034】第2の傾斜面45aに滴下した洗浄液はそ
の第2の傾斜面45aによって下カップ22aの内底面
へ円滑にガイドされ、そこから図4に示すように上記基
部35の内壁35bに周方向に所定間隔で形成された通
孔46を通って流通路36へ流入するようになってい
る。
【0035】図1に示すように、上記下カップ22aの
上端部には上記上カップ22bが着脱自在に取着されて
いる。この上カップ22bは上記回転テ−ブル27と対
応する部分が開放したリング状をなしていて、その下端
部には上記下カップ22aの上端縁に設けられたパッキ
ング23の部分に液密かつ着脱自在に係合取着される係
合部47が形成されている。
【0036】上記内カップ22cは外周面が凸曲面に形
成されたリング状をなしていて、その下端部は上記上カ
ップ22bの内面周辺部に取着された断面クランク状の
保持リング48に係合保持されている。つまり、上記内
カップ22cは上記回転テ−ブル27の周辺部分を覆う
状態で設けられている。
【0037】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て洗浄後の基板20を乾燥させる場合について説明す
る。回転テ−ブル27に洗浄液によって洗浄処理されて
濡れた状態にある基板20が供給されると、モ−タ25
に通電されて上記回転テ−ブル27が回転駆動される。
それによって、基板20に付着した洗浄液に遠心力が作
用し、その遠心力で洗浄液が飛散し、基板20が乾燥さ
せられる。また、カップ21内には上記洗浄液を含む空
気流が回転テーブル27の回転方向と同方向に発生す
る。
【0038】上記空気流は上記カップ21内の整流体3
4の風洞部37の上面の傾斜面37aに沿って流れる。
この傾斜面37aは回転テーブル27の回転方向に沿っ
て漸次低く形成されているから、上記空気流は傾斜面3
7aに沿って円滑に流れる。
【0039】整流体34には基部35の上面に周方向に
沿って4つの風洞部37が形成されている。そのため、
所定の風洞部37の傾斜面37aに沿って流れた空気流
は、その所定の風洞部37の後端に隣接する他の風洞部
37の導入口38からその内部空間27bへ流入する。
【0040】上記導入口38は傾斜面37aの後端部に
ほぼ垂直に開口形成されているから、傾斜面37bに沿
って流れる空気流は衝突などによる乱流となることな
く、上記導入口38から上記風洞部37の内部空間へ円
滑に流入し、連通孔39、流通路36および排気口41
を経て排出管42へ排気される。
【0041】そのため、カップ21内には、回転テーブ
ル27に保持された基板20の上面と下面に向かう空気
流が生じることがほとんどないから、空気流に含まれる
塵埃が上記基板20に付着して基板20を汚染するのが
防止される。
【0042】回転テーブル27を回転させることで、上
記基板20からは洗浄液が飛散する。洗浄液の一部は回
転テーブル27の回転によって発生する空気流に含ま
れ、この空気流とともに整流体34の風洞部37の傾斜
面37aに沿って流れ、その内部空間37bから基部3
5の流通路36を経て排出管42へ排出されることにな
る。
【0043】また、基板20からの洗浄液の残りの一部
は上記整流体34のガイド部材45の第2の傾斜面45
aに滴下し、その第2の傾斜面45aから下カップ22
aの第1の傾斜面24aを経て基部35の内壁35に形
成された通孔46を通り、流通路36を経て排出口41
から排出されることになる。
【0044】このように、基板20から飛散する洗浄液
の一部は、風洞部37の傾斜面37aにガイドされて円
滑に排出され、残りの一部は上記ガイド部材45の第2
の傾斜面45aにガイドされて円滑に排出される。その
ため、洗浄液がカップ21内に滞留するのが低減される
から、回転テーブル27の回転によって後述するごとく
カップ21内で発生する気流で洗浄液がミスト化し、基
板20に付着するのを防止することができる。
【0045】なお、この発明は上記一実施の形態に限定
されず、その発明の要旨の範囲内で種々変形可能であ
る。たとえば、上記一実施の形態では洗浄された基板を
乾燥させる場合について説明したが、基板にレジストな
どの処理液を均一に散布させる場合にも、この発明の装
置を用いれば、その処理液に微粒子が付着するのを防止
することができる。
【0046】また、カップには、整流体の各風洞部の後
端部に対応して排出口を形成したがが、風洞部の数と排
出口の数は対応していなくてもよく、例えば2つの風洞
部に対して1つの排出口を設けるようにしてもよい。さ
らに、風洞部の数も4つに限られず、3つあるいは5つ
以上であっても差し支えない。
【0047】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、カップの内底
部に、カップ内に生じる空気の流れ方向に沿って漸次低
く傾斜した傾斜面を有するとともに、その先端部にカッ
プ内に生じる空気流を導入する導入口が形成された複数
の風洞部が上記カップの周方向に沿って設けられた整流
体を配置するようにした。
【0048】そのため、回転テーブルの回転によってカ
ップ内で発生する空気流は、整流体の風洞部の傾斜面に
沿って円滑に流れてその導入口から風洞部内に流入して
排出されるから、空気流が整流体に衝突して乱気流の発
生を招き、基板を汚染するのを防止することができる。
【0049】請求項2の発明によれば、カップの内底部
に径方向外方から内方へ向かって低く傾斜した傾斜面を
有するガイド部材を設けるようにした。そのため、基板
から滴下した液体は上記傾斜面に沿って円滑に排出され
るため、カップ内に液体が滞留し、その液体がカップ内
の気流によってミストとなって基板に付着するのを防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態を示す装置の縦断面
図。
【図2】同じく整流体の斜視図。
【図3】同じく整流板の平面図。
【図4】同じく図3のZ−Z線に沿う整流体の断面図。
【図5】従来の装置の縦断面図。
【図6】従来の整流板の一部分の斜視図。
【符号の説明】
20…基板 21…カップ 25…モ−タ 26…駆動軸 27…回転テ−ブ 34…整流体 36…流通路(流通部) 37…風洞部 37a…傾斜面 39…流通孔(流通部) 42…排出管(排出手段) 45…ガイド部材
フロントページの続き (72)発明者 原 暁 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を回転させることで、この基板に所
    定の処理を行うスピン処理装置において、 カップと、 このカップの底部中心部から内部へ挿通された回転駆動
    される駆動軸と、 この駆動軸に連結されて回転させられるとともに上面に
    上記基板が保持される回転テ−ブルと、 上記カップの底部に設けられ上記回転テーブルの回転に
    よって発生する空気流を排出する排出手段と、 上記カップの内底部に設けられ上記回転テーブルの回転
    によって発生する空気流を整流して上記排出手段へ導く
    整流体とを具備し、 上記整流体は、上面が上記カップ内の空気の流れ方向に
    沿って漸次低く傾斜した傾斜面に形成されているととも
    に先端部に上記空気流を導入する導入口が開口形成され
    た中空状をなし上記カップの周方向に沿って設けられた
    複数の風洞部およびこの風洞部内に導入された空気流を
    上記排出手段へ導く流通部とを有することを特徴とする
    スピン処理装置。
  2. 【請求項2】 基板を回転させることで、この基板に所
    定の処理を行うスピン処理装置において、 カップと、 このカップの底部中心部から内部へ挿通された回転駆動
    される駆動軸と、 この駆動軸に連結されて回転させられるとともに上面に
    上記基板が保持される回転テ−ブルと、 上記カップの内底部に設けられ上記回転テーブルの回転
    によって発生する空気流を排出する排出手段と、 上記カップの内底部の周辺部に設けられ径方向外方から
    内方に向かって低く傾斜した傾斜面を有し、この傾斜面
    によって上記基板から滴下する液体を上記排出手段へ導
    くガイド部材とを具備したことを特徴とするスピン処理
    装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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