JP4359580B2 - 処理液供給装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶パネル、その他の表示用パネル等をはじめ、各種の用途に用いられるガラス基板等の枚葉式基板に対する洗浄、エッチング、現像、剥離などのウエット処理に用いる省液型の処理液供給装置の改良に関するものである。

従来、特許文献１に記載されているような処理液回収タイプと通称される処理液（洗浄液）供給装置が知られている。この処理液供給装置は、箱形を呈する上部筐体と下部筐体とを対向配置し、これら上下の筐体間に基板処理路を形成して基板にこの基板処理路を通過させるようになされている。そして、上下の筐体の基板搬送方向下流側から基板処理路に向けて処理液を供給するとともに、上下の筐体の基板搬送方向上流側から基板処理に供された後の処理液を排出するようになされている。

かかる構成の処理液供給装置によれば、基板は、上下の筐体間の基板処理路を通過する間に基板処理路に供給された必要かつ充分な量の処理液によって所定の処理が施されるため、搬送中の基板の表裏面に処理液をスプレーする方式に比べて処理液の量を少なくすることができ、これによってランニングコストの低減化を図ることができるばかりか、処理液供給装置をコンパクト化することが可能になり、設備コストの低減化にも貢献する。
特開２００３−５３２８３号公報

しかしながら、特許文献１に記載されているような処理液供給装置において、上下の筐体の幅寸法（基板搬送方向に直交する方向の寸法）が長さ寸法（基板搬送方向の寸法）に比して十分に長く、かつ、筐体を構成する材料として疎水性材料（例えば合成樹脂材料）が適用された場合など、上下の筐体間の基板処理路に導入された処理液が上下の筐体における処理液供給側の端部および処理液排出側の端部から外部に漏洩するという不都合が生じる。

本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、処理液回収タイプのものを対象とし、たとえ上下の筐体が疎水性の材料で形成され、かつ、基板幅方向に長大なものであっても、基板処理中に処理液が筐体間から漏洩するのを有効に防止することができる処理液供給装置を提供することを目的としている。

本発明は、通過する基板の上面に対向する上部底板、前記上部底板の基板搬送方向の下流端に設けられ、前記上部底板の下面側に処理液を供給する上部液供給路部、および上流端に設けられ、前記供給された処理液を前記上部底板の下面側から吸引排出する上部液排出路部とを備えた上部処理部と、前記上部処理部に対向配置され、通過する基板の下面に対向する下部天板、前記下部天板の基板搬送方向の下流端に設けられ、前記下部天板の上面側に処理液を供給する下部液供給路部、および上流端に設けられ、前記供給された処理液を前記下部天板の上面側から吸引排出する下部液排出路部とを備えた下部処理部とを備えた処理液供給装置において、前記上部液排出路部は、下面に向かい開通した処理液を吸引する吸引孔を有し、前記吸引孔の下面は、前記上部底板の下面より下方に突出していることを特徴とするものである。

かかる構成によれば、基板搬送方向の上流端から上部処理部の上部底板と、下部処理部の下部天板との間に搬入された基板は、その上面側が基板搬送方向の下流側の上部液供給路部から上部処理部に供給された処理液によって処理が施されるとともに、その下面側が下流端の下部液供給路部から下部処理部に供給された処理液によって処理され、表裏面が処理された状態で処理液供給装置から搬出される。

一方、上部液供給路部から供給された処理液は、下流端から上流端に向けて基板と向流で接触しながら流下しつつ上部処理部で基板上面に対して処理を施した後、上流端に設けられた上部液排出路部によって吸引排出されるとともに、下部液供給路部から供給された処理液は、下流端から上流端に向けて流下しつつ下部処理部で基板下面に対して処理を施した後、上流端に設けられた下部液排出路部によって吸引排出される。

このように、基板は、処理液供給装置に上流端から搬入され下流端に向けて搬送されることにより、下流端から供給され上流端に向けて流下する処理液との向流接触によってその表裏面が処理されるため、従来のように基板に対して処理液を散布する方式に比較し、確実な処理を確保しつつ処理液の量を少なくすることが可能になる。

そして、上部液排出路部は、吸引孔の下面が上部底板の下面より下方に突出している（すなわち、排出路部の下面が上部底板の下面より下位レベルになるように設置位置が設定されている）ため、基板の上面側に形成された上部処理部を下流端から上流端に向けて流下する処理液は、下面が上部底板の下面より下位レベルになるように設置位置が設定された排出路部に衝突し、これによって処理液供給装置外に排出されてしまうような不都合が防止され、上部液排出路部に確実に吸引される。

このように、吸引孔の下面を上部底板の下面より下方に突出させることにより、極めて簡単な構成でありながら、処理液が処理液供給装置の上流端から外部に漏洩することを有効に抑えることが可能になる。

本発明によれば、吸引孔の下面を上部底板の下面より下方に突出させることにより、極めて簡単な構成でありながら、処理液が処理液供給装置の上流端から外部に漏洩することを有効に抑えることができる。

本発明に係る処理液供給装置は、基板を水平姿勢で搬送する搬送路の途中に設けられ、搬送中の基板に対し上下の筐体から基板の表裏面に処理液を向流で供給して所定の処理を施し、処理後の処理液を上下の筐体を介して回収し得るように構成された、いわゆる処理液回収タイプの装置の改良に係るものである。

図１は、本発明に係る処理液供給装置の一実施形態を示す分解斜視図であり、図２は、その組み立て斜視図である。また、図３は、図２のＡ−Ａ線断面図である。なお、図３における円内には、前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１を拡大して示している。因みに、これらの図は、本発明に係る処理液供給装置についての理解を容易ならしめるために設計事項的な部分を取り去って当該処理液供給装置を原理的に示した、いわゆる原理図である。また、図１〜図３において、Ｘ−Ｘ方向を左右方向、Ｙ−Ｙ方向を前後方向といい、特に−Ｘ方向を左方、＋Ｘ方向を右方、−Ｙ方向を前方、＋Ｙ方向を後方という。

そして、これらの図において、基板Ｂ（本実施形態においてはガラス基板）は、後方から前方に向かって搬送されるのに対し、処理液は基板Ｂに対し前方から後方に向けて供給され、これによって基板Ｂは、処理液供給装置１０内において処理液と向流で接触して所定の処理が施される。

図１〜図３に示すように、処理液供給装置１０は、複数の搬送ローラ５１１（図８参照）が並設されてなる水平に前後方向に延びた基板搬送路５１に対し、上部に配設される上部筐体（上部処理部）２０と、この上部筐体２０と対向した状態で上部筐体２０の下部に対向配設される下部筐体（下部処理部）３０とを備えた基本構成を有している。

前記上部筐体２０は、平面視で矩形状を呈する上部底板２１と、この上部底板２１の前方縁部に一体的に立設された左右方向に延びる上部ノズルブロック（上部液供給路部）２２と、上部底板２１の後方縁部に一体的に立設された前記上部ノズルブロック２２と同一長の上部排液ブロック（上部液排出路部）２３と、これら上部ノズルブロック２２および上部排液ブロック２３の上縁部間に架設された上部天板２４と、上部ノズルブロック２２の前面および上部排液ブロック２３の後面にそれぞれ固定された当該上部ノズルブロック２２および上部排液ブロック２３とそれぞれ同一長を有する前後方向一対の上部ウイング２５とを備えて構成されている。

前記下部筐体３０は、平面視で矩形状を呈する下部底板３１と、この下部底板３１の前方縁部に一体的に立設された左右方向に延びる下部ノズルブロック（下部液供給路部）３２と、下部底板３１の後方縁部に一体的に立設された前記下部ノズルブロック３２と同一長の下部排液ブロック（下部液排出路部）３３と、これら下部ノズルブロック３２および下部排液ブロック３３の上縁部間に架設された下部天板３４と、下部ノズルブロック３２の前面および下部排液ブロック３３の後面にそれぞれ固定された当該下部ノズルブロック３２および下部排液ブロック３３とそれぞれ同一長を有する前後方向一対の下部ウイング３５とを備えて構成されている。

そして、これら上下の筐体２０，３０の共通部材として左右方向一対の側板４０が採用され、これら一対の側板４０が上下で対向配置された上部筐体２０用の各部材および下部筐体３０用の各部材を挟持してボルト止めで固定されることにより上部筐体２０と下部筐体３０とからなる処理液供給装置１０が形成されるようになっている。そして、処理液供給装置１０が形成された状態で、上部筐体２０の上部底板２１と、下部筐体３０の下部天板３４との間には、基板搬送路５１に沿って搬送されつつある基板Ｂに対し所定処理液による処理を施す基板処理空間Ｖが形成されている。

この基板処理空間Ｖの上下寸法は、基板Ｂの厚み寸法より相当大きく寸法設定され（本実施形態においては略６ｍｍ）、これによって基板処理空間Ｖ内を搬送されつつある基板Ｂの表裏面に沿って上下のノズルブロック２２，３２から吐出された処理液が上下の排液ブロック２３，３３へ向けて基板Ｂと向流で流下し、この間に基板Ｂの表裏面が処理液によって処理されるようになっている。また、上部ノズルブロック２２と上部排液ブロック２３との間の距離は、下部ノズルブロック３２と下部排液ブロック３３との間の距離と等しく設定されている。

図４は、上部ノズルブロック２２および下部ノズルブロック３２の一実施形態を示す一部切り欠き斜視図であり、（イ）は、上部ノズルブロック２２を、（ロ）は、下部ノズルブロック３２をそれぞれ示している。なお、図４におけるＸおよびＹによる方向表示（Ｘは左右方向（−Ｘ：左方、＋Ｘ：右方）、Ｙは前後方向（−Ｙ：前方、＋Ｙ：後方））は、図１の場合と同様である。

まず、前記上部ノズルブロック２２は、図４の（イ）に示すように、所定の合成樹脂材料によって形成され、左右方向に長尺の直方体状を呈している。かかる上部ノズルブロック２２は、前面の中央位置にねじ孔２２１が螺設されているとともに、このねじ孔２２１の奥部は、上部ノズルブロック２２内で左右方向の略全長に亘って延びるように形成された処理液供給通路２２２に連通されている。この処理液供給通路２２２には、左右方向の全長に亘って等ピッチで穿設された上部ノズルブロック２２の下面に開口を有する複数のノズル孔２２３が接続されている。

また、前記ねじ孔２２１には、後述する処理液供給管５２２の先端側に装着された流体継手Ｃが螺着されるようになっている。従って、前記処理液供給管５２２が流体継手Ｃを介してねじ孔２２１へ接続された状態で処理液供給管５２２を介して処理液が供給されることにより、この処理液は、処理液供給通路２２２を介して各ノズル孔２２３から下方へ向けて吐出されることになる。

ついで、前記下部ノズルブロック３２は、図４の（ロ）に示すように、基本的に上部ノズルブロック２２と同様に構成されているが、ノズル孔３２３が処理液供給通路３２２から上方へ向かって分岐されている点が上部ノズルブロック２２と相違している。そして、処理液供給管５２２から流体継手Ｃおよびねじ孔３２１を介して処理液供給通路３２２へ供給された処理液は、処理液供給通路３２２から分岐された複数のノズル孔３２３から上方へ向けて吐出されるようになっている。

図５は、下部天板３４の一実施形態を示す一部切り欠き斜視図であり、図６は、図５のＤ−Ｄ線断面図である。なお、図５および図６におけるＸおよびＹによる方向表示は、図１の場合と同様（Ｘは左右方向（−Ｘ：左方、＋Ｘ：右方）、Ｙは前後方向（−Ｙ：前方、＋Ｙ：後方））である。

まず図５に示すように、下部天板３４は、平面視で矩形状を呈する若干厚めの天板本体３４１と、この天板本体３４１の上面に積層される平面形状が天板本体３４１と同一の積層板３４８とを備えて構成されている。

前記天板本体３４１には、前後方向および左右方向の双方でそれぞれ所定の等ピッチに設定された、平面視で矩形状を呈する複数の凹部３４２が凹設されているとともに、各凹部３４２にコロ（回転支持体）３４３がそれぞれ装着されている。本実施形態においては、凹部３４２は前後方向で４個、左右方向で８個の合計３２個が設けられているが、凹部３４２の設置個数については３２個であることに限定されるものではなく、処理液供給装置１０の規模や処理されるべき基板Ｂの種類、サイズ等によって適宜最適の個数が設定される。

前記積層板３４８には、前記各凹部３４２と対向した位置にそれぞれ角孔３４９が穿設され、コロ３４３が凹部３４２に装着された状態で当該コロ３４３の周面の一部が角孔３４９を通して外部に突出するようになされている。

前記コロ３４３は、図６に示すように、コロ軸３４４と、このコロ軸３４４の軸心方向の中央部に同心で一体的に外嵌された円形のコロ本体３４５とからなっている。コロ本体３４５は、厚み寸法がコロ軸３４４の長さ寸法より若干薄めに設定され、これによってコロ軸３４４はコロ本体３４５から互いに反対方向に向けて突出した状態になっている。

一方、天板本体３４１には、図６に示すように、凹部３４２の互いに対向した前後方向（図６の紙面の左右方向）に延びる各対向縁部の中央部に、上面側から前記コロ軸３４４の直径と同一寸法だけ切り込まれて形成した軸長方向一対の軸受溝３４６が凹設され、これらの軸受溝３４６にコロ軸３４４の両端部をそれぞれ嵌め込むことによってコロ３４３がコロ軸３４４回りに回転自在に凹部３４２に装着されるようになっている。前記コロ軸３４４は、軸受溝３４６に装着された状態で積層板３４８が天板本体３４１に被せられることによって抜止め状態になる。

従って、基板処理空間Ｖ内に搬入された基板Ｂは、これらのコロ３４３に支持された状態で、コロ３４３の回転に誘導されながら撓むことなく基板処理空間Ｖ内を円滑に移動することになる。

そして、凹部３４２の底部には、下方に向かって延びた液抜き孔（液抜き路）３４７が穿設され、基板処理空間Ｖを流下しつつある処理液は、その一部がこの液抜き孔３４７を介して抜き出され、これによって基板処理空間Ｖに導入された基板Ｂの裏面がコロ本体３４５の周面と摺接することにより生成したパーティクルは、この抜き出される処理液に同伴して排出されるため、パーティクルが付着したまま基板Ｂが基板処理空間Ｖから導出されることにより基板Ｂの汚染状態が維持されてしまうような不都合の発生が確実に防止される。

図７は、上部排液ブロック２３および下部排液ブロック３３の一実施形態を示す一部切り欠き斜視図であり、（イ）は、上部排液ブロック２３を、（ロ）は、下部排液ブロック３３をそれぞれ示している。なお、図７におけるＸおよびＹによる方向表示（Ｘは左右方向（−Ｘ：左方、＋Ｘ：右方）、Ｙは前後方向（−Ｙ：前方、＋Ｙ：後方））は、図１の場合と同様である。

まず、前記上部排液ブロック２３は、構造的には先の上部ノズルブロック２２と同様に構成され、図７の（イ）に示すように、所定の合成樹脂材料によって形成され、左右方向に長尺の直方体状を呈している。かかる上部排液ブロック２３は、前面の中央位置にねじ孔２３１が螺設されているとともに、このねじ孔２３１の奥部（前方）は、上部排液ブロック２３内で左右方向の略全長に亘って延びるように形成された処理液排出通路２３２に連通されている。この処理液排出通路２３２には、左右方向の全長に亘って等ピッチで穿設された上部排液ブロック２３の下面に開口を有する複数の処理液吸引孔２３３が接続されている。

また、前記ねじ孔２３１には、後述する排液管５３２の先端側に装着された流体継手Ｃが螺着されるようになっている。従って、前記排液管５３２が流体継手Ｃを介してねじ孔２３１へ接続されることにより、基板処理空間Ｖ内で基板Ｂを処理した後の処理液は、基板処理空間Ｖの下流端において複数の処理液吸引孔２３３から吸引され、処理液排出通路２３２を通って排液管５３２を介し回収されることになる。

ついで、前記下部排液ブロック３３は、図７の（ロ）に示すように、基本的に上部排液ブロック２３と同様に構成されているが、処理液吸引孔３３３が処理液排出通路３３２から上方へ向かって分岐されている点が上部排液ブロック２３と相違している。そして、処理液吸引孔３３３により吸引された基板Ｂに対して所定の処理を行った処理済みの処理液（排液）は、処理液排出通路３３２、ねじ孔３３１および流体継手Ｃを介し排液管５３２を通って回収されるようになっている。

また、上下の処理液吸引孔２３３，３３３は、上下の排液ブロック２３，３３における左端部および右端部にはそれぞれ設けられておらず、これによって上下のノズルブロック２２，３２の各ノズル孔２２３，３２３に比べて孔数が少なくされている。このようにされるのは、基板処理空間Ｖ内を搬送されつつある基板Ｂによる処理液の持ち出しで基板処理空間Ｖ内の処理液量が少なくなった場合、エアーが端の処理液吸引孔２３３，３３３を介して上下の排液ブロック２３，３３内に吸引されることがあるが、かかるエアーの吸引を防止するためである。

そして、本実施形態においては、上部排液ブロック２３は、下端面が前記上部底板２１の下面より若干（本実施形態では１ｍｍ）下方に位置するように上下寸法が設定されている。従って、基板処理空間Ｖ内を基板Ｂの表面に沿って向流で流下する処理液の一部が上部排液ブロック２３の下端部と干渉し、これによる流量の抑制で処理液が上部排液ブロック２３により効果的に吸引されることになり、処理液が基板Ｂの表面に同伴して基板処理空間Ｖから運び出される量を少なくすることができる。

因みに、下部排液ブロック３３の上端面は、下部天板３４の上面と面一に設定されている。このようにされるのは、下部排液ブロック３３の場合、特に下部排液ブロック３３の上端面を下部天板３４の上面より上方に突出させなくても、基板処理空間Ｖ内を流下した処理液は、重力によって下部排液ブロック３３の処理液排出通路３３２へ流れ込むためである。

ついで、前記上下のウイング２５，３５（図１〜図３）は、上下のノズルブロック２２，３２から基板処理空間Ｖ内に供給された処理液が基板Ｂの表裏面に沿って基板処理空間Ｖから基板搬送方向に向けて漏洩するのを防止するためのものである。かかるウイング２５，３５が採用されるのは、本実施形態においては、上下の筐体２０，３０が基本的にＰＶＣ（ポリビニルクロライド）やＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の合成樹脂材料によって形成されており、かかる合成樹脂材料は、疎水性を備えているため、水性の処理液は、基板処理空間Ｖに供給されると周りの疎水性の環境にはじかれ、これによって基板Ｂの表裏面と上下のノズルブロック２２，３２の先端面との間の隙間を通って基板搬送方向へ向けて漏洩してしまう虞があるが、かかる処理液の漏洩を防止するためである。

そして、本実施形態においては、上下のウイング２５，３５は、合成樹脂製のもの（例えばＰＴＦＥ等のフッ素樹脂製のもの）が採用されているが、本発明は、上下のウイング２５，３５が合成樹脂製であることに限定されるものではなく、ステンレススチール等の金属製のものであってもよい。

前記上部ウイング２５は、上部ノズルブロック２２の前面側に一体的に取り付けられる前方上部ウイング２５１と、上部排液ブロック２３の後面側に一体的に取付けられる後方上部ウイング２５２とからなっている。

前記前方上部ウイング２５１は、図１に示すように、左右方向に長尺の板状を呈した取付け板部（鍔部）２５３と、この取付け板部２５３の下端部から前方に向けて突設された当該取付け板部２５３と同一長のウイング本体（水平延部）２５４とを備えて構成されている。前記取付け板部２５３は、上部ノズルブロック２２の前面側に図略のシール部材を介して固定するためのものである。

かかる前方上部ウイング２５１は、取付け板部２５３およびウイング本体２５４が互いに直交するように結合された部分の角部が、図３の円内に示すように、左右方向（図３の紙面に直交する方向）の全長に亘って側面視で鈎状に切り欠かれることによって形成した段差部２５５を有している。段差部２５５の上面は水平面とされているとともに、前方の面は垂直面とされている。

前記後方上部ウイング２５２は、基本的に前方上部ウイング２５１と同様に構成され、図１および図３に示すように、左右方向に長尺の板状を呈した取付け板部２５３と、この取付け板部２５３の下端部から後方に向けて突設された当該取付け板部２５３と同一長のウイング本体２５４とを備えて構成されているが、前方上部ウイング２５１に形成されているような段差部２５５は設けられていない。

前記下部ウイング３５は、下部ノズルブロック３２の前面側に一体的に取り付けられる前方下部ウイング３５１と、下部排液ブロック３３の後面側に一体的に取付けられる後方下部ウイング３５２とからなっている。

前記前方下部ウイング３５１は、図３の円内に示すように、側面視で前記前方上部ウイング２５１と線対称に形成されている。かかる前方下部ウイング３５１は、前方上部ウイング２５１の取付け板部２５３と同様の取付け板部（鍔部）３５３と、この取付け板部３５３の上端部から前方に向けて突設された当該取付け板部３５３と同一長のウイング本体（水平延部）３５４とを備えて構成されている。この前方下部ウイング３５１にも、前方上部ウイング２５１の段差部２５５と同様の段差部３５５が設けられている。

前記後方下部ウイング３５２は、基本的に前方下部ウイング３５１と同様に構成され、図１に示すように、左右方向に長尺の板状を呈した取付け板部３５３と、この取付け板部３５３の上端部から後方に向けて突設された当該取付け板部３５３と同一長のウイング本体３５４とを備えて構成されているが、前方下部ウイング３５１に形成されているような段差部３５５は設けられていない。

そして、前記前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１は、これらのウイング本体２５４，３５４間の隙間寸法が基板処理空間Ｖの上下寸法より小さく、かつ、基板Ｂが接触することなく通過し得る寸法になるように設置位置が設定されている。このようにされるのは、上下の筐体２０，３０がいずれも疎水性である合成樹脂材料によって形成され、これによって上下のノズルブロック２２，３２から吐出された処理液が合成樹脂材料によってはじかれて基板処理空間Ｖから基板搬送方向の下流側に向けて漏洩するのを防止するためである。

すなわち、前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１にそれぞれ段差部２５５，３５５を設けることで、上下のノズルブロック２２，３２から吐出された処理液は、上下の段差部２５５，３５５の垂直壁に阻止されるため、処理液が基板処理空間Ｖから基板搬送方向の下流側へ向けて漏洩することが有効に防止されることになる。

本実施形態においては、上下のウイング２５，３５のウイング本体２５４，３５４間の隙間寸法は、略４ｍｍに設定されているが、本発明は、前記隙間が４ｍｍであることに限定されるものではなく、基板Ｂの種類やサイズ、さらには処理液による処理条件等によって最適の隙間寸法が適宜設定される。

なお、本実施形態においては、本発明に係る上下のウイングにおける対向面間の距離が上部底板２１および下部天板３４の対向面間の距離より短くなる部位が、前方上部ウイング２５１のウイング本体２５４の下面および前方下部ウイング３５１のウイング本体３５４の上面に相当する。

前記側板４０は、図１および図２に示すように、上下の筐体２０，３０の左右の側面で共用され、これら上下の筐体２０，３０を所定の離間状態で互いに結合する役割を担っている。

かかる側板４０は、上部筐体２０を構成する上部ウイング２５を除いた各部材および下部筐体３０を構成する下部ウイング３５を除いた各部材が所定の間隔で対向配置された状態で上下の各部材に対応した矩形状を呈する側板本体４１と、この側板本体４１の前後の縁部からそれぞれ突設された上下の前方ウイング２５，３５および上下の後方ウイング２５，３５の端面視の形状に沿う前後一対の突設部４２とからなっている。そして、上下の筐体２０，３０を構成する各部材が所定の離間状態で上下に対向配置された状態でこれらの左右の側面に側板４０が図略のシール部材を介してそれぞれボルト止めされることにより、図２に示すように、処理液供給装置１０が完成する。

本実施形態においては、処理液供給装置１０は、前後寸法が略９０ｍｍに設定されているとともに、左右寸法が略４００ｍｍに設定され、これによって左右寸法が長尺の大型の基板Ｂの処理に対応し得るようになっている。なお、処理液供給装置１０の寸法は、前後寸法が略９０ｍｍ、左右寸法が略４００ｍｍに設定されることに限定されるものではなく、基板の種類やサイズ、さらには処理条件等に応じて適宜最適の寸法が設定される。因みに、図１および図２においては、紙面の都合上処理液供給装置１０の左右方向の寸法を実際より若干短めに示している。

また、本実施形態においては、側板４０に限らず処理液供給装置１０を構成する各部材間の接合については、シール部材を介したボルト止めで行われるようになされているが、本発明は、各部材間の接合をボルト止めで行うことに限定されるものではなく、所定の接着剤を介した接着処理によって接合してもよい。

以下、このような構成の処理液供給装置１０が適用された基板処理装置について図８を基に説明する。図８は、処理液供給装置１０を用いた基板処理装置の一実施形態を示す側面視の説明図である。図８に示すように、基板処理装置５０は、本発明に係る処理液供給装置１０と、この処理液供給装置１０を貫通するように配設された水平に延びる基板搬送路５１と、処理液供給装置１０へ処理液を供給する処理液供給系統５２と、処理液供給装置１０で基板Ｂに対し所定の処理を施した後の処理液（処理済液）を回収する処理液回収系統５３とを備えた基本構成を有している。

前記基板搬送路５１は、本実施形態においては、基板搬送方向に沿って並設された複数の搬送ローラ５１１によって形成され、図略の駆動手段の駆動による各搬送ローラ５１１の軸心回りの回転によって搬送ローラ５１１上に載置された基板Ｂを搬送するようになっている。

そして、処理液供給装置１０は、かかる基板搬送路５１によって搬送される基板Ｂの水平方向に延びた中心線が上下の筐体２０，３０間に形成された基板処理空間Ｖの上下方向の中央に位置するように高さレベルが設定された状態で、基板搬送路５１が基板処理空間Ｖを貫通するように設置されている。従って、搬送ローラ５１１の駆動で基板搬送路５１に沿って搬送されてきた基板Ｂは、処理液供給装置１０の基板処理空間Ｖ内に導入され、基板処理空間Ｖ内を移動しつつ上下のノズルブロック２２，３２から向流で供給された処理液により表裏面に所定の処理が施されることになる。

前記処理液供給系統５２は、処理液を貯留する処理液貯留槽５２１と、この処理液貯留槽５２１から上下のノズルブロック２２，３２へ向けて配管された処理液供給管５２２と、この処理液供給管５２２に設けられた処理液供給ポンプ５２３とを備えて構成されている。処理液供給管５２２は下流側が２つに分岐され、一方が上部ノズルブロック２２に接続されているとともに、他方が下部ノズルブロック３２に接続されている。従って、処理液供給ポンプ５２３の駆動で処理液貯留槽５２１から導出された処理液は、処理液供給管５２２を通って上下のノズルブロック２２，３２へ供給されることになる。

前記処理液回収系統５３は、基板Ｂを処理した後の処理液や処理中に基板処理空間Ｖから漏洩した処理液等を回収して貯留する処理液回収槽５３１と、上下の排液ブロック２３，３３にそれぞれ接続され、合流された上で下流端が処理液回収槽５３１に接続される処理済み処理液排液用の排液管５３２と、この排液管５３２に設けられた排液ポンプ５３３と、前記天板本体３４１（図５）に複数設けられた液抜き孔３４７にそれぞれ接続された上で集合された液抜き管（共通路）５３４と、下部筐体３０の下方位置に設けられて処理液供給装置１０の基板処理空間Ｖから漏洩した処理液を受ける液受けパン５３５とを備えて構成されている。

前記液抜き管５３４は、その下流端が処理液回収槽５３１に接続され、これによって基板処理空間Ｖから抜かれた処理液は自重で処理液回収槽５３１へ回収されるようになっている。かかる液抜き管５３４には液抜きバルブ５３６が設けられ、この液抜きバルブ５３６の開度を変更することによって液抜き量を調節し得るようになっている。また、液受けパン５３５は漏斗状に形成され、処理液供給装置１０における基板搬送方向の上流端開口および下流端開口から漏洩した処理液を受けるようになっている。液受けパン５３５に受けられ底部に集められた漏洩処理液は、処理液回収槽５３１へ回収されるようになっている。

かかる構成の基板処理装置５０によれば、処理液供給ポンプ５２３の駆動で処理液供給管５２２を介して上下のノズルブロック２２，３２へ供給された処理液は、それぞれのノズル孔２２３，３２３（図４）を介して基板処理空間Ｖ内に供給される。この基板処理空間Ｖ内において供給された処理液は、基板処理空間Ｖ内を満たした後、排液ポンプ５３３の駆動による吸引力で上下の排液ブロック２３，３３のそれぞれの処理液吸引孔２３３，３３３を介して排液管５３２へ吸引され、これによって基板処理空間Ｖ内で基板搬送方向と逆方向に向かう処理液の流れが形成された状態になっている。

この状態で基板Ｂが搬送ローラ５１１の駆動回転により基板搬送路５１に沿って処理液供給装置１０の基板処理空間Ｖ内に搬入されると、当該基板Ｂは、基板処理空間Ｖ内をコロ３４３に支持されながら前進して向流で処理液と接触し、これによって基板Ｂの表裏面が処理液によって処理されることになる。

そして、上下のノズルブロック２２，３２から基板処理空間Ｖ内に導入された処理液は、上下のノズルブロック２２，３２に付設された前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１の各ウイング本体２５４，３５４間の隙間寸法が基板処理空間Ｖの上下寸法より小さく設定されているため、処理液の基板搬送方向下流側に向かう漏洩が有効に防止される。特に、基板Ｂが前方上部ウイング２５１と前方下部ウイング３５１との間を通過するときは、これらと基板の表裏面との間の隙間寸法が非常に小さくなっているため、処理液の基板Ｂによる同伴持ち出しを少なくすることができる。

また、基板Ｂの表面側を伝わって流下した処理液は、上部底板２１から下方に突出した上部排液ブロック２３の下端部に衝突した後、上部排液ブロック２３の下端面と基板Ｂとの細い隙間を通って処理液吸引孔２３３に吸引されるため、上部排液ブロック２３側からの処理液の漏洩が有効に抑えられる。

また、基板Ｂが基板処理空間Ｖ内へ搬入される前に基板処理空間Ｖ内を液密にするのに疎水性の環境にはじかれ、これによって処理液が基板搬送方向へ漏洩してしまい液密生成を困難にする。

しかしながら、前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１の各ウイング本体２５４，３５４間の隙間寸法が基板処理空間Ｖの上下寸法より小さく設定されているため、処理液の基板搬送方向下流側へ向かう漏洩が防止され、吸引排出側への処理液の流れを促進して液密が効率よく生成される。

以上詳述したように、本発明に係る処理液供給装置１０は、通過する基板の上面に対向する上部筐体２０の上部底板２１と、この上部底板２１の基板Ｂ搬送方向の下流端に設けられ上部底板２１の下面側に処理液を供給する上部ノズルブロック２２と、上部底板２１の基板搬送方向の上流端に設けられ供給された処理液を上部底板２１の下面側から吸引排出する上部排液ブロック２３とからなる上部筐体２０が設けられているとともに、上部底板２１と対向配置され通過する基板Ｂの下面に対向する下部天板３４と、下部天板３４の基板搬送方向の下流端に設けられ下部天板３４の上面側に処理液を供給する下部ノズルブロック３２と、下部天板３４の基板搬送方向の上流端に設けられ供給された処理液を下部天板３４の上面側から吸引排出する下部排液ブロック３３とからなる下部筐体３０が上部筐体２０の下部に対向配置されてものを前提とし、上部および下部ノズルブロック２２，３２の各外面には、基板搬送方向に向けてそれぞれ突設され、かつ、基板Ｂの通過を許容する上部ウイング２５および下部ウイング３５が設けられ、上下のウイング２５，３５は、それらの対向面間の距離が上部底板２１および下部天板３４の対向面間の距離より短くなるように設置位置が設定されている。

従って、基板搬送方向の上流側から上部底板２１と下部天板３４との間に搬入された基板Ｂは、その上面側が下流端の上部ノズルブロック２２から供給された処理液によって処理が施されるとともに、その下面側が下流端の下部ノズルブロック３２から供給された処理液によって処理され、表裏面が処理された状態で処理液供給装置１０から搬出される。

一方、上部ノズルブロック２２から供給された処理液は、基板搬送方向の下流側から基板搬送方向の上流側に向けて流下しつつ基板Ｂの上面に対して処理を施した後、上部排液ブロック２３によって吸引排出されるとともに、下部ノズルブロック３２から供給された処理液は、基板搬送方向下流側から上流側に向けて流下しつつ基板Ｂの下面に対して処理を施した後、基板搬送方向の上流側に設けられた下部排液ブロック３３によって吸引排出される。

このように、基板Ｂは、処理液供給装置１０に基板搬送方向の上流側から搬入され同下流側に向けて搬送されることにより、同下流側から供給され同上流側に向けて流下する処理液との向流接触によってその表裏面が処理されるため、従来のように基板Ｂに対して処理液を散布する方式に比較し、確実な処理を確保しつつ処理液の量を少なくすることができる。

そして、上下のノズルブロック２２，３２の各外面には、基板搬送方向に向けてそれぞれ突設され、かつ、基板Ｂの通過を許容する前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１がそれぞれ設けられ、各ウイング２５１，３５１は、それらの対向面間の距離が上部底板２１および下部天板３４の対向面間の距離より短くなるように設置位置が設定されているため、上下のノズルブロック２２，３２から基板Ｂに向けて供給された処理液は、これらの上下のウイング２５１，３５１に阻まれて表面張力が増大することにより液密性が向上し、これによって基板Ｂに対する処理効率を向上させることができるとともに、基板Ｂに同伴して処理液供給装置１０から漏洩する量を抑えることが可能になり、処理コストの低減化に貢献することができる。

また、上部排液ブロック２３は、その下面が上部底板２１の下面より下位レベルになるように設置位置が設定されているため、基板Ｂの上面を基板搬送方向の上流側に向けて流下する処理液は、上部排液ブロック２３の下端部に衝突し、これによって基板処理空間Ｖ外に即座に排出されてしまうような不都合が防止され、上部排液ブロック２３に確実に吸引される。

このように、上部排液ブロック２３の下面が上部底板２１の下面より下位レベルになるように設定することにより、極めて簡単な構成でありながら、処理液が基板処理空間Ｖにおける基板搬送方向の上流側から外部に漏洩することを有効に抑えることができるとともに、処理液の基板処理空間Ｖ内での滞留時間を長くすることが可能になり、基板Ｂに対する処理液による処理効率を向上させることができる。

本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。

（１）上記の実施形態においては、基板処理空間Ｖ内を基板Ｂの上面に沿って基板搬送方向の上流側に向けて流下した処理液が、上部底板２１より下方に向けて突出した上部排液ブロック２３の下端部に衝突するようになされているが、本発明は、上部排液ブロック２３の下端面を上部底板２１より下位レベルに設定することに限定されるものではなく、後方上部ウイング２５２のウイング本体２５４の下面の高さレベルを上部底板２１の下面の高さレベルより下げるようにしてもよい。

（２）上記の実施形態においては、前方上部ウイング２５１および前方下部ウイング３５１にそれぞれ段差部２５５，３５５が設けられているが、本発明は、上下のウイング２５１，３５１に段差部２５５，３５５を設けることに限定されるものではなく、特に設けなくてもよい。この場合、ウイング本体２５４，３５４を基板処理空間Ｖ内に侵入させるように上部ウイング２５および下部ウイング３５の設置位置を設定すれば、段差部２５５，３５５がなくても取付け板部２５３，３５３の後面によって処理液の漏洩を防止することができる。

すなわち、基板処理空間Ｖの基板搬送方向下流端に形成される段差部については、実質的に上記の実施形態の段差部２５５，３５５と同一の作用を果たすものであればこれらの段差部２５５，３５５と類似の各種の構造を採用することができる。

（３）上記の実施形態において、基板処理空間Ｖ内を流通する処理液に対し高周波を印加するようにしてもよい。こうすることで基板処理空間Ｖ内を流通する処理液が高い周期で振動するため、基板Ｂに対する処理効果を向上させることができる。

（４）図９は、下部天板３４に装着されるコロ３４３′の他の実施形態を示す断面図である。図９に示すコロ３４３′の取付け構造は基本的には図６と略同様である。すなわち、天板本体３４１の上面側にはコロ３４３′を装填する凹部３４２が形成されており、この凹部３４２の左右方向の両側壁には、コロ３４３′を回動可能に軸支するコロ軸３４４′を水平支持する軸受部３４２ａが形成されると共に、前記両側壁の上端から軸受部３４２ａまでコロ軸３４４′を抜き差しするための挿入ガイド溝が形成されている。凹部３４２の底部３４２ｂは略水平面とされ、その中央には下方に延びる小径の液抜き孔３４７が穿設されている。

コロ３４３′は外周の幅寸法が所要の短寸法とされており、特にその中央は左右方向に紡錘形状（凸状）に形成されている。この紡錘形状によって基板Ｂとの接触面積が減少する分、基板の接触ダメージを低減することが可能となる。この紡錘形状は図６に示すコロ３４３にも同様に適用可能である。

そして、前記天板本体３４１の肉厚内には軸受部３４２ａと外部（天板本体３４１の側面あるいは下面側）とを連通する液孔３４１ａが形成されている。また、コロ軸３４４′の軸内には同心状の液孔３４４ａが長手方向中間まで穿設され、かつコロ軸３４４′の長手方向中間位置では径方向に中心を通る貫通液孔３４４ｂが穿設されている。従って、液孔３４４ａと貫通液孔３４４ｂとは連通され、さらに天板本体３４１の液孔３４１ａと回転軸の液孔３４４ａとが連通される結果、液孔３４１ａと貫通液孔３４４ｂとが連通される。そして、コロ３４３′の内周壁面とコロ軸３４４′の外周面との間には隙間が形成されるようにコロ３４３′の内径寸法が設定され、処理液がこの隙間を流通し得るようになされているとともに、液孔３４１ａの外部開口側は図略の供給ポンプを介して洗浄液タンクに連設されており、この供給ポンプを駆動させることで、洗浄液をコロ３４３′の内周壁面に噴射供給可能にしている。

この構成によれば、図６の場合と同様、処理液供給装置１０内に搬入されてきた基板Ｂはその下面側がコロ３４３′で支持され、下方に撓んで天板本体３４１と接触することがなくなる。また、コロ３４３′は基板Ｂの搬送力によって従動し、基板Ｂの移送をスムーズに受け持つ。コロ３４３′のコロ軸３４４′との間での摩擦回転によりパーティクル等が発生しても、このパーティクルは液抜き孔３４７を介して吸引されて、液抜き管５３４（図８）を経て洗浄液と共に処理液回収槽５３１に回収されるので、天板本体３４１の上面に回り込んで洗浄中の洗浄液に混入し、洗浄効果を低下させたり、基板Ｂの裏面を傷めたりすることはなくなる。また、コロ３４３′の内周壁面に洗浄液を噴射供給しているので、コロ軸３４４′との間での摩擦回転によりパーティクル等が発生したとしても、このパーティクルをより効果的に洗い落とすことができる。また、基板処理が終了した後に、処理液の付着しているコロ３４３′の内周側壁を洗浄することも可能となり、処理液（処理液が洗浄水ではなく、薬液を使用する態様の場合には特に）などの付着、乾燥による結晶等の付着が効果的に防止でき、コロ３４３′の円滑回転を長期に亘って確保することができる。

本発明に係る処理液供給装置の一実施形態を示す分解斜視図である。 図１に示す処理液供給装置の組み立て斜視図である。 図２のＡ−Ａ線断面図である。 上部ノズルブロックおよび下部ノズルブロックの一実施形態を示す一部切り欠き斜視図であり、（イ）は、上部ノズルブロックを、（ロ）は、下部ノズルブロックをそれぞれ示している。 下部天板の一実施形態を示す一部切り欠き斜視図である。 図５のＤ−Ｄ線断面図である。 上部排液ブロックおよび下部排液ブロックの一実施形態を示す一部切り欠き斜視図であり、（イ）は、上部排液ブロックを、（ロ）は、下部排液ブロックをそれぞれ示している。 本発明に係る処理液供給装置が適用された基板処理装置の一実施形態を示す側面視の説明図である。 下部天板に装着されるコロの他の実施形態を示す断面図である。

１０ 処理液供給装置 ２０ 上部筐体（上部処理部）
２１ 上部底板 ２２ 上部ノズルブロック（上部液供給路部）
２２１ ねじ孔
２２２ 処理液供給通路 ２２３ ノズル孔
２３ 上部排液ブロック（上部液排出路部）
２３１ ねじ孔 ２３２ 処理液排出通路
２３３ 処理液吸引孔 ２４ 上部天板
２５ 上部ウイング ２５１ 前方上部ウイング
２５２ 後方上部ウイング ２５３ 取付け板部（鍔部）
２５４ ウイング本体（水平延部）
２５５ 段差部 ３０ 下部筐体（下部処理部）
３１ 下部底板 ３２ 下部ノズルブロック（下部液供給路部）
３２１ ねじ孔 ３２２ 処理液供給通路
３２３ ノズル孔 ３３ 下部排液ブロック（下部液排出路部）
３３１ ねじ孔 ３３２ 処理液排出通路
３３３ 処理液吸引孔 ３４ 下部天板
３４１ 天板本体 ３４１ａ 液孔
３４２ 凹部 ３４２ａ 軸受部
３４２ｂ 底部 ３４３，３４３′ コロ（回転支持体）
３４４，３４４′ コロ軸 ３４４ａ 液孔
３４４ｂ 貫通液孔 ３４５ コロ本体
３４６ 軸受溝 ３４７ 液抜き孔（液抜き路）
３４８ 積層板 ３４９ 角孔
３５ 下部ウイング ３５１ 前方下部ウイング
３５２ 後方下部ウイング ３５３ 取付け板部（鍔部）
３５４ ウイング本体（水平延部）
３５５ 段差部 ４０ 側板
５０ 基板処理装置 ５１ 基板搬送路
５１１ 搬送ローラ ５２ 処理液供給系統
５２１ 処理液貯留槽 ５２２ 処理液供給管
５２３ 処理液供給ポンプ ５３ 処理液回収系統
５３１ 処理液回収槽 ５３２ 排液管
５３３ 排液ポンプ ５３４ 液抜き管（共通路）
５３５ 液受けパン ５３６ 液抜きバルブ
Ｂ 基板 Ｃ 流体継手
Ｖ 基板処理空間

Claims (1)

1. 通過する基板の上面に対向する上部底板、前記上部底板の基板搬送方向の下流端に設けられ、前記上部底板の下面側に処理液を供給する上部液供給路部、および上流端に設けられ、前記供給された処理液を前記上部底板の下面側から吸引排出する上部液排出路部とを備えた上部処理部と、前記上部処理部に対向配置され、通過する基板の下面に対向する下部天板、前記下部天板の基板搬送方向の下流端に設けられ、前記下部天板の上面側に処理液を供給する下部液供給路部、および上流端に設けられ、前記供給された処理液を前記下部天板の上面側から吸引排出する下部液排出路部とを備えた下部処理部とを備えた処理液供給装置において、
   前記上部液排出路部は、下面に向かい開通した処理液を吸引する吸引孔を有し、
   前記吸引孔の下面は、前記上部底板の下面より下方に突出していることを特徴とする処理液供給装置。

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