TWI275423B - Supplying apparatus for treatment solution - Google Patents

Description

Ϊ275423 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關使用於對以液晶面板、其他顯示用 • ⑺卸板為 首的、用於各種用途的玻璃基板等的單張式基板進行清 洗、蝕刻、顯影、剝離等的濕式處理的節省液體型的處: 液供給裝置的改良。 【先前技術】 I 以往，公知有如專利文獻丨記載的通稱為處理液回收 型的處理液（清洗液）供給裝置。該處理液供給裝置將呈 箱形的上部筐體和下部筐體相對向配置，在這些上下框體 間形成基板處理路徑，從而使該基板通過處理路徑。而且， 從上下筐體的基板搬送方向下游側向基板處理路徑供給處 理液，同時從上下筐體的基板搬送方向上游側排 ‘ 處理供給後的處理液。 根據這種結構的處理液供給裝置，由於在基板通過上 下筐體間的基板處理路徑期間利用向基板處理路徑供給的 必要並且充刀的1的處理液，來對基板實施規定的處理， 所以與向搬送中的基板的表面和背面喷射處理液的方式相 I 的量’因此不僅能夠力求降低運轉成 本，還能夠使處理液供給裝置小型化，對降低設備成本也 做出貢獻。 專利文獻1: JP特開2003-53283號公報。 然而’在專利文獻1記载的處理液供給裝置中，存在

2014-7680-PF 1275423 :下_:在上下筐體的寬度尺彳（與基板搬送方向垂直 2向的尺寸）與長度尺寸（基板搬送方向的尺寸）相比 你°長，並且，在使用疏水性材料（例如合成樹脂材料） 乍：構成釐體的材料的情況下等，導入到上下复體間的基 “理路徑的處理液，從上下筐體的處理液供給側的端部 以及處理液排出側的端部洩漏到外部。 【發明内容】 本發明是赛於這種問題而提出的，其目的在於提供一 处理液供給裝置，該裝置以處理液回收型的裝置為物 :即使是上下值體用疏水性的材料形成、並且基板寬方 向較大的裝置，也能夠有效地防 董體間茂漏的情況。 在基板處理中處理液從 本發明提供一種處理液供給裝置’包括：上部處理部， 匕括：上部底板，其與通過的基板的上表面相對向；上部 2體供料徑部，、其設置在上述上部底板的基板搬送方向 、下游端’對上述上部底板的下表面側供給處理液；以及 =液體排出路徑部，其設置在上游端，將上述供給的處 立攻從上述上部底板的下表面側吸引排出；以及下部處理 π ’與上述上部處理部相對向配置，並包括··下部頂板， =與通過的基板的下表面相對向；下部液體供給路徑部， ^置在上述下部頂板的基板搬送方向的下游端，對上述 立下部頂板的上表面側供給處理液；以及下部液體排出路徑 和其投置在上游端，將上述供給的處理液從上述下部頂

2014-7680-PF 6 1275423 板的上表面側吸引排出，其特徵在於： 部液體供給路徑部的各外表面，相對向 心及下 搬送方向突出的翼；上述各 、* °又77別向基板 面的距離比上述上A卩底、7 —部分上包括相對向 離短的部位。 卩難的相對向面間的距

上被從基板搬送方向的上游端搬入到 的上部底板與下部處理部的下部頂板之間的基 ^、、上表面側通過從基板搬送方向的下游 :給路徑部供給到上部處理部的處理液來實施處理，： /、下表面側通過從下游端的下部液體供給路徑部供給到下 部處理部的處理液央净：A老 果只％處理，在表面和背面都被處理了 的狀態下被從處理液供給裝置搬出。 、A山另方面，從上部液體供給路徑部供給的處理液從下 7端向上游端與基板逆流接觸並流下的同時，在上部處理 部對基板的上表面實施了處理後，由設置在上流端的上部 液體排出路徑部吸引排出；同時，從下部液體供給路徑部 Μ的處理液從下游端向上游端流下的同時在下部處理部 對基板的下表面實施了處理後，由設置在上游端的下部液 體排出路徑部吸引排出。 k樣’基板從上游端被搬入處理液供給裝置並向下游 女而搬运’從而通過與從下游端供給並向上游端流下的處理 液逆W接觸’來對其表面和背面進行處理，所以與以往的 對基板散佈處理液的方式相比，能夠確保可靠的處理的同 時，減少處理液的量。

2014-7680-PF 7 U75423 句且’由於在上部以 面，执署古^ 卩以及下部液體供給路徑部的各外表 口又有向基板搬送方向分別*山％嬰认 板通過的翼，各翼 H置的、並且允許基 以及下m 匕們的相對向面間的距離比上部底板 久卜邵頂板的相料A工 置， ° 3的距離短的方式設定設置位 被這此翼二而下液體供給路徑部向基板供給的處理液， 由此能夠提士 夠提㊅液密閉性， 而從户理:r Γ 土反的*理效率’同時能夠抑制隨著基板 而從處理液供給裴置洩漏出的量。 本發明提供的處理液供孤 y_ μ 置的基礎上甘杜 置’在上述處理液供給裝 ，，、特徵在於：上述翼包括：鍔部，其固定在 述上相及下部液體供給路徑部的各外表面，·水平延伸 4 ’其從該鍔部的端部水 理面相對向，廿 伸’與搬送中的基板的被處 11 、’且包括階梯部，該階梯部通過切掉上述鍔 、水平延伸部的結合位置上的外表面側的角部而形成。 別固：：這樣的結構…下-對翼’在通過將其鍔部分 立疋在上部以A下部&體供给路徑部，從π各水平延伸 Ρ向卜方水平犬出的狀態下，安裝在處理液供給裝置上。 Μ ’ ^上下_向的—對翼t ’通過切掉各鍔部與各水 f。卩的結合位置上的外表面側的角部而分別形成階梯 部A’t攸而用該階梯部能夠緩和要隨著基板被#出的處理液 的悲勢，由Jt能夠更為有效地防止隨著基板的處理液的茂 漏。 本發明提供的處理液供給裝置，在上述處理液供給裝 置的基礎上’其特徵在於··上述上下的翼被設定為上下對

2014-7680-PF 8 Ϊ275423 稱的形狀。 根據這樣的結構，能夠由相同形狀的一種翼來應對上 下液體供給部，從而為減低製造成本做出貢獻。^ 本發明提供一種處理液供給裝置，包括：上部處理部， 包括：上部底板，其與通過的基板的上表面相對向；上部 液體供給路徑部，其設置在上述上部底板的基板搬送方向 的下游端，對上述上部底板的下表面侧供給處理液；以及 上部液體排出路徑部，其設置在上游端，將上述供給的處 理液從上述上部底板的下表面側吸引排出；以及下部處理 部，與上述上部處理部相對向配置’並包括：下部頂板， 其與通過的基板的下表面相對向；下部液體供給路徑部， 其設置在上述下部頂板的基板搬送方向的下游端，對上述 了部頂：的上表面側供給處理液；以及下部液體排出路徑 邙，其叹置在上游端，將上述供給的處理液從上述下部頂 板的上表面側吸引排出，其特徵在於：上述上部液體排出 路徑部包括向下表面開通的、吸引處理液的吸引孔，上述 吸引孔的下表面相比於上述上部底板的下表面而向下方突 出。 根據這樣的結構，在對於用處理液進行的基板的處 理三包括與上述發明同樣的作用的基礎上，上部液體排出 路2邛由於吸引孔的下表面比上部底板的下表面更向下 方突出（即，以排出路徑部的下表面處於上部底板的下表 面的下方的方式設定設置位置），所以在基板的上表面側 形成的上部處理部從下游端向上游端流下的處理液，撞擊

2014-7680-PF 9 1275423 表面處於上部底板的下表面的下方的方式設定設置 非出路徑部’由此能夠防止被排出到處理液供給裝 :樣的問題’能夠可靠地被上部液體排出路徑部吸引。 、樣，通過使吸引孔的下表面比上部底板的下表面更 二：突出1而雖然是極為簡單的結構，但能夠有效地 抑制處理液從處理液供給裝置的上流亀到外部。

根據本發明，由於在上部以及下部液體供給路徑部的 各外表面，設置有向基板搬送方向分別突出設置的、並且 :午基板通過的翼’各翼以它們的相對向面間的距離比上 底板以及下部頂板的相對向面間的距離短的方式設定設 置位置丄所以從上、下液體供給路徑部向基板供給的處理 =會被這些翼阻擋而增大表面張力，從而能夠提高液密閉 :，由此能夠提高對基板的處理效率，同時能夠抑制隨著 土板而從處理液供給裝置茂漏出的量’為減低處理成本做 出貢獻。 另^卜即使在基板還沒有通過的初始的液密閉生成 中也月b夠抑制戌漏量、從而促進處理液流向吸引排出侧。 根據本發明，通過切掉上下相對向的-對翼的各鍔部 與：水平延伸部的結合位置上的外表面側的角部而分別形 成弟邛：從而用該階梯部能夠緩和要隨著基板被排出的 夜的心勢，由此能夠更為有效地防止處理液隨著基板

.根據本發明，由於上述上下翼被設定為上下對稱的形 狀所以此夠由相同形狀的—種翼來應對上、下液體供^ 2014-7680-PF 1275423 口p，從而為減低製造成本做出貢獻。 根據本發明，通過使吸引孔 表面更向下方突出，從而雖缺是：面比上部底板的下 有效地抑制處理液從處理液供私 一月“勺 部。 σ衷置的上流端洩漏到外 【實施方式】 本發明的處理液供給裝置如 傅风·设置在以水平姿 悲搬送基板的搬送路徑的中途， ^ , ^ α 野搬运中的基板從上下筐 體向基板的表面和背面逆流供給處 蜒理液，從而實施規定的 處理’並可以通過上下筐體央 口 、卜匡體不回收處理後的處理液，即， 是對處理液回收型的裝置進行改良的裝置。 圖1是表示本發明的處理液供认 ^，從仏給裝置的一個實施形態 的为解立體圖，圖2是表示組裝立妒R ^ 〇 衣I餸圖。另外，圖3是圖 2二的A-A線剖視圖。此外，在圖3中的圓内，放大表示了 前方上部| 251以及前方下部翼35卜順便說明一下，這 些圖都m胃的原理圖’其為了容易理解本發明的處理液 供給裝置，而除去設計事項的部分，在原理上表示該處理 液供給襞置。另外’在圖i〜圖3中，將χ γ方向稱為左 右方向，將Y-Y方向稱為前後方向，特別地將_χ方向稱為 左方，將+Χ方向稱為右方，將_γ方向稱為前方，將+γ方 向稱為後方。 而且’在這些圖中，相對於從後方向前方搬送基板Β (在本實施形態中是玻璃基板），而從前方向後方對基板

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B供給處理液，因此使基板β在處理液供給裝置10内與處 理液逆流接觸來實施規定的處理。 如圖1〜圖3所示，處理液供給裝置1〇包括這樣的基 本結構··相對於並列設置有複數搬送輥511(參照圖8)的t 水平地沿著前後方向延伸的基板搬送路徑5丨，包括配設在 上部的上部筐體（上部處理部）2〇、和以與該上部筐體別 相對向的狀態而相對向配設在上部筐體2〇的下部的下部 筐體（下部處理部）3 〇。 上述上部筐體20由以下部分構成，包括：上部底板 2卜其俯視呈矩形形狀；上部㈣模組（上㈣體供給路 技部）22 ’其—體地豎立設置在該上部底板21的前方邊緣 部，並向左右方向延伸；上部排液模組（上部液體排出路 徑部）23’其一體地登立設置在上部底板21的後方邊緣 部，並與上述上部噴嘴模組22同樣長；上部頂板24，里 架設在這些上部喷嘴模組22以及上部排液模組Μ的上邊 緣部之間；前後方向上的一對上部翼25，其分別固定在上 部嘴嘴模組22的前表面以及上部排液模組23的後表面， 並分別與該上料嘴模組22以及上㈣液· Μ包括相 同的長度。 上述下部望體30由以下部分構成，包括：下部底板 3卜其俯視呈矩形狀；τ部噴嘴模組（下部液體供給路徑 部）32’其-體地暨立設置在該下部底板3ι的前方邊緣 部，並向左右方向延伸；下部排液模址（下部液體排出路 徑部）33’其-體地g立設置在下部底板31㈣方邊緣

2014-7680-PF 12 Ϊ275423 部，並與上述下部噴嘴模組32 .^ ώ问樣長；下部頂板34，其 木没在這些下部喷嘴模組32 給加 Λ及下部排液模組33的上邊 、、、。卩之間；前後方向上的_ _ 卸+此 5丁下口Ρ翼35，其分別固定在下 口P f鳴模組32的前表面以及下立 W Λ及下部排液模組33的後表面， 为別與該下部喷嘴模詛Μ u τ a 、、 下4排液模組3 3包括相同 的長度。 而且，採用左右方向上的—對側板4 G作為這些上下筐 體20、30的共用構件，這一對 ^ 對側板40夾持著以上下的方 式相對向配置的上部筐體2 〇用沾女 用的各構件以及下部筐體30 用的各構件，並用螺栓擰緊固定，從而形成由上部望體別 和下部筐體30構成的處理液供給裝置1〇。而且，在形成 了處理液供給裝置10的妝能 .τ ^ ^ < 1 1U的狀恶下，在上部筐體2〇的上部底 板21與下部筐體3 〇的下部頂杯^ 』广口丨丁貝板34之間，形成對在沿著基 板搬送路徑51被搬送的基板β眚 土板β貫加規疋處理液的處理的基 板處理空間V。 該基板處理空間V的上下尺寸被設定為比基板Β的厚 度尺寸大很多的尺寸（在本實施形態中大概為㈣，因 此’攸上下的喷嘴模組22、32喷出的處理液沿著在基板處 理空，V内被搬送的基板6的表面和背面，與基㈣逆流 而向著上下的排液模組23、33流下，在該期間由處理液對 基板β的表面和背面進行處理。另外，將上部㈣模組22 和上部排液模組23之間的距離，設定為與下部喷嘴模組 32和下部排液模組33之間的距離相等。 、 圖4是表示上部喷嘴模組22以及下部噴嘴模組32的

2014-7680-PF 13 1275423 個實施形態的局部剖開立體圖。圖4a表示上部喷嘴模电 :圖4B表示下部噴嘴模組32。此外，圖*中的X以及γ 矣方向表示U表示左右方向（_χ:左方；+χ:右方） ㊁示前後方向(-γ:前方;+Υ:後方”與圖1的情況相 百先’如圖4Α所示’上述上部嘴嘴模組22由規 :R:樹脂材料形成，呈左右方向較長的長方體。這樣的上 =嘴模組22,在前表面的中央位置螺設有螺紋孔221， ^時該螺紋孔221的内部連通到以在上部喷嘴模組22内沿 :右了向的大致全長延伸的方式形成的處理液供給通路 δ亥處理液供給通路2 2 2 i車技装+上丄 連接者在左右方向的全長以等 4巨貝穿设置的、在上部喷嘴模組 複數喷孔223。丨糊、，且22的下表面包括開口的 液供II卜’在上述螺紋孔221中螺接有安裝在後述的處理 …，口 e 522的前端側的流體連接器c。因此，在 =液供給管522通過流體連接器c連接到螺紋 的= :二通過處理液供給管-供給處理液，從而該處= ^处理液供給通路222而從各喷孔223向下方嘴出。 與上二：：所示，上述T部噴嘴模組32基本上 、… 同樣構成，但是在喷孔323從4$@# 給通路322向上方分岔這一點上與上部喷嘴模組；里液供 :而，從處理液供給管522通過流體連接器c以及螺不:孔 而向處理液供給通路322供給的處理液，由從卢 供給通路3心岔的複數喷孔323向上方喷出由從處理液 2014-7680-pp 14 1275423 圖5是表示下部頂板34的一個實施形態的局部剖 體圖圖6疋圖5的D — D線剖視圖。此外，圖5以及圖6 中的x以及¥的方向表示與圖1的情況相目（X表示：右 方向（X ·左方；+x ··右方），Y表示前後方 a 方；+Y:後方））。 γ •别 百先，如圖5所示，下部頂板34由以下部分構成，包 括·俯視呈矩形形狀的厚一些的頂板主體341丨和層疊在 。亥頂板主體341的上表面上的、俯視形狀與頂板主體34^ 相同的層疊板348。 在上述頂板主體341上，凹進設置有在前後方向以及 左右方向雙方分別以規定的等間距設定的、俯視呈矩形形 狀的複數凹部342，同時在各凹部342分別安裝有滾輪（旋 轉支撐體）343。在本實施形態中，凹部342在前後方向設 置有4個，在左右方向設置有8個，合計設置32個，但= 部如的設置個數並不僅限於32個，而是要根據處理液供 、巧表置1 0的規模和應處理的基板B的種類、尺寸等來適當 設定最合適的個數。 在上述層疊板348上，在與上述各凹部342相對向的 位置刀別貝穿設置了方孔349，在滾輪343安裝在凹部3“ 的狀L下，使該滾輪343的圓周面的一部分通過方孔 而突出到外部。 如圖6所示，上述滚輪343由滚輪軸344、和同心且 體地外耿在該滾輪軸344的軸心方向的中央部的圓形的 滚輪主體345構成。滚輪主體345的厚度尺寸設^為比滾

2014-7680-PF 15 Ϊ275423 輪軸344的長度尺寸薄一些，由此滾輪軸344呈從滾輪主 體3 4 5向相互相反的方向突出的狀態。 另一方面，在頂板主體341上，如圖6所示，在凹部 342的相互相對向的、沿前後方向（圖6紙面的左右方向） 延伸的各相對向邊緣部的中央部，凹進設置有軸長方向的 一對軸承槽3 4 6，該軸承槽是從上表面側切入與上述滚輪 軸344直徑相同的尺寸而形成的，通過向這些轴承槽以6 中分別嵌入滾輪軸344的兩端部，使滾輪343可圍繞滾輪 • 軸344旋轉自由地安裝在凹部342中。上述滚輪軸344在 安裝在軸承槽346的狀態下，由於層疊板348覆蓋住頂板 主體341，從而處於防脫狀態。 因此，搬入到基板處理空間V内的基板B在由這些滾 輪343支撐的狀態下，由滾輪343的旋轉引導，同時沒有 彎曲地在基板處理空間v内流暢的移動。

而且’在凹部342的底部’ I穿設置了向下方延伸的 除液孔（排液路徑）347,在基板處理空間7流下的處理液， 其-部分通過該除液孔347而排出，因此，通過導入到美 板處理空間V内的基板B的背面與滾_阳的圓周： 滑動接觸而生成的顆粒，隨同該排出的處理液而排出 以能夠可靠地防止發生這樣的問 叫V A f， 丨田於攸基板處理空 間V中導出附著了顆粒的基板 狀態。 而保持者基板B的污染 圖7是表示上部排液模組23以及下部排液 個實施形態的局部剖開立體圖， 、、、的 口圖7A表不上部排液模組

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3 7中的X以及γ ;+X :右方），γ 與圖1的情況相 圖7B表示下部排液模組33。此外，圖 向表示（X表示左右方向（—X:左方； 鈾後方向（-Y :前方；+γ :後方））」 首先，上述上部排液模組23在結構上與先前的上部噴 嘴模組22同樣地構成，如圖7A所示，由規定的合成樹脂 会才料形成，呈左右方向較長的長方體。這樣的上部排液模 組23在前表面的中央位置螺設有螺紋孔231，同時該螺紋 孔231的内部（前方）連通到以在上部排液模組23内沿左 右方向的大致全長延伸的方式形成的處理液排出通路 232。该處理液排出通路232連接到在左右方向的全長以等 間距貝牙設置的、在上部排液模組23的下表面包括開口的 複數處理液吸引孔233。 另外’在上述螺紋孔231螺接有被安裝在後述的排液 官532的前端側的流體連接器C。因此，上述排液管532 通過流體連接器C而連接到螺紋孔231，從而在基板處理 空間V内對基板B進行了處理之後的處理液在基板處理空 間V的下游端被複數處理液吸引孔233吸引，通過處理液 排出通路232之後經由排液管532而被回收。 接下來’如圖7B所示，上述下部排液模組33基本上 與上部排液模組23同樣構成，但是在處理液吸引孔333從 處理液排出通路332向上方分岔這一點上與上部排液模組 23不同。而且’由處理液吸引孔333吸引的、對基板B進 行了規疋的處理的、完成了處理的處理液（排液），經由

2014-7680-PF 17 1275423 μ 處理液排出通路332、螺紋孔331以及流體連接器C而通 過排液管532被回收。 另外’上、下處理液吸引孔233、333沒有分別設置在 上、下排液模組2 3、3 3中的左端部以及右端部，因此與上、 下喷嘴模組22、32的各喷嘴2 23、323相比，孔數較少。 這疋因為在基板處理空間V内被搬送的基板B將處理液帶 出而導致基板處理空間V内的處理液量減少時，空氣通過 端部的處理液吸引孔233、333而被吸引到上、下排液模組 23、33内’而上述這樣的設置是為了防止這樣的空氣的吸 引。 而且’在本實施形態中，設定上部排液模組23的上下 尺寸而使其下端面位於比上述上部底板21的下表面更往 下一些（在本實施形態中為1_)的下方。因此，在基板 處理二間V内沿著基板B的表面逆流流下的處理液的一部 刀/、上邛排液模組23的下端部相接觸，因由此導致的流量 的抑制而使處理液被上部排液模組23更有效地吸引，從而 月b夠減少處理液隨著基板β的表面而從基板處理空間v被 運出的量。 而且，下部排液模組的上端面與下部頂板的上 表面設定在同一平面上。這樣設置的原因在於，在下部排 液模組33的情況下，即使不特別使下部排液模組33的上 端面比下部頂板34的上表面更向上突出，也能夠使在基板 處理工間V内流下的處理液在重力作用下流入下部排液模 組3 3的處理液排出通路3 3 2。

2014-7680-PF 18 1275423 於防止：來，上述上、下翼25、35(參照圖1〜圖3)用 、攸上下噴嘴模組22、32供給到基板處理空間丫内 °考基板B的表面和背面從基板處理空間v向基板 3〇1方向^漏的情況。在本實施形態中，上、下望體20、 土本上是由Pvc (聚氯乙烯）或pTFE (聚四 合成樹脂材料構成的，由於這些合成樹脂材料包括疏水 性，水性的處理液當被供給到基板處理空間v時，會被周

圍^水性的環境排彳，由此，有可能通過基板B的表面 和月面與上下噴嘴模組22、32的前端面之間的空隙而向基 板搬送方向洩漏，採用這樣的翼25、35就是為了防止這樣 的處理液的洩漏。 35採用了 但本發明 而且，在本實施形態中，雖然上、下翼25、 合成樹脂製品（例如PTFE等的氟類樹脂製品）， 並不限疋上下翼25、35為合成樹脂製品，也可以是不銹鋼 等的金屬製品。 上述上部翼25由一體地安裝在上部喷嘴模組22的前 表面側的前方上部翼251、與一體地安裝在上部排液模組 2 3的後表面側的後方上部翼2 5 2構成。 如圖1所示，上述前方上部翼251由以下部分構成， 包括：呈左右方向較長的板狀的裝配板部（鍔部）253 ;從 該裝配板部2 5 3的下端部向前方突出設置的、與該裝配板 部253相同長的翼主體（水平延伸部）254。上述裝配板部 2 5 3用於通過省略圖示的密封構件而固定在上部噴嘴模組 2 2的前表面側。 2014-7680-PF 19 1275423 所述的如方上部翼2 51包括階梯部2 5 5，該階梯部2 5 5 如圖3的圓内所示，通過裝配板部253以及翼主體254以 相互垂直的方式結合的部分的角部，在左右方向（與圖3 的紙面垂直的方向）的全長，側面看被切成鉤狀而形成。 使階梯部255的上表面為水平面，同時使前方的面為垂直 面。 上述後方上部翼252基本上與前方上部翼251同樣構 成，如圖1以及圖3所示，由以下部分構成，包括：呈左 右方向較長的板狀的裝配板部253 ;從該裝配板部253的 下端部向後方突出設置的、與該裝配板部253相同長的翼 主體2 5 4 ’但是沒有設定像形成于前方上部翼2 51那樣的 階梯部255。 上述下部翼35由一體地安裝在下部喷嘴模組32的前 表面側的别方下部翼3 5丨、與一體地安裝在下部排液模組 33的後表面側的後方下部翼352構成。 如圖3的圓内所示，上述前方下部翼35丨側視與上述 刚方上部翼251軸對稱地形成。這樣的前方下部翼351由 以下部分構成，包括：與前方上部翼251的裝配板部253 相同的裝配板部（鍔部）353 ;從該裝配板部353的上端部 向則方突出設置的、與該裝配板部353相同長的翼主體（水 平延伸部）354。在該前方下部翼351也設置有與前方上部 翼2 51的階梯部2 5 5相同的階梯部3 5 5。

上述後方下部翼352基本上與前方下部翼351同樣構 成，如圖1所示，由以下部分構成，包括：呈左右方向較 2014-7680-PF 20 Ϊ275423 :的：狀的裝配板部353;從該裝配板部⑽的上端部向 後=犬出設置的、與該裝配板部353相同長的翼主體糾， 但是沒有設定像形成于前方下部翼351那樣的階梯部咖。 而且，上述刖方上部翼251以及前方下部翼35丨 這樣設定設置位置··使這此翼主體2 、 、 I二異王體Z 5 4、3 5 4間的間隙尺寸 為比基板處理空間V的上下尺寸小且基板β不接觸就可以 «的尺寸。這樣設定是為了防止如下這樣的情況··上下 筐體20、30都是由疏水性的合成樹脂材料形成，因此從 上、下喷嘴模組22、32喷出的處理液會被合成樹脂材料排 斥，而從基板處理空間V向基板搬送方向的下游側_。 即，通過在前方上部X 251以及前方下„ 351分別 設置有階梯部255、355,從上、下噴嘴模組22、Μ嘴出 的處理液會被上、下階梯部255、355的垂直壁阻擋，所以 能夠有效地防止處理液從基板處理空間v向基板搬送方向 的下游側洩漏。 ° ^ 在本實施形態中，上、下翼25、35的翼主體25“354 間的間隙尺寸設定為約4mm，但本發明並不限定上述間隙 為4mm，而是根據基板B的種類、大小、還有處理液的處 理條件等適當設定最合適的間隙尺寸。 < 此外，在本實施形態中，本發明的上、下翼的相對向 面間的距離比上部底板21以及下部頂板34的相對向面間 的距離短的部位，相當於前方上部翼251的翼主體254的 下表面以及前方下部翼351的翼主體354的上表面。 如圖1以及圖2所示，上述側板4 〇起到如下這樣的 2014-7680-PF 21 1275423 作用/在上、下筐冑20、30左右的側面被共用，使這些上、 下筐體20、30以規定的相離狀態互相結合。 這樣的側板40由以下部分構成：側板主體4卜兑在 除去構成上部筐體20的上部翼m卜的各構件以錯去 ^成下部筐體30的下部翼35以外的各構件以規定的間隔 ^對向配置的狀態下，呈對應於上、下各構件的矩形形狀. 别後-對突㈣置冑42，其分別從該側板主體41的前後 的邊緣部突出設置’並按照上、下前方翼25、35以及上、 下後方翼25、35的端面的形狀形成。而且，如圖2所示， 在構成上、下筐體20、30的各構件以規定的相離狀態上下 相對向配置的狀態下’側板4〇通過省略圖示的密封構件分 別用螺釘固定在這些構件的左右側面上，^完成處理液 供給裝置1 〇。 在本實施形態中，處理液供給裝置10，其前後尺寸設 定為約90随，同時將左右尺寸設定為約4〇〇mm，因此能夠又 =左右尺寸長的大型基板β的處理。此外，處理液供給 4置10的尺寸並不僅限定於設定前後尺寸為約9〇咖、左 右尺寸為、約400職，而是可以根據基板的種類和大小、還 有處理條件等適當設定最合適的尺寸。順便說明一下，在 圖1以及圖2中，由於紙面的關係而將處理液供給裝置 的左右方向的尺寸表示得比實際短一些。 另外，在本實施形態中，並不限於側才反4〇，對於構成 處㈣供給裝置1G的各構件間的接合，經由密封構件用螺 釘固疋來進行，但本發明並不僅限於用螺钉固定的方式來

2014-7680-PF 22 Ϊ275423 對各構件間進行接合，也可以通過經由規定的枯合劑的枯 合處理來進行接合。 以下基於圖8 ’針對這樣構成的處理液供給裝置i 〇 所適用的基板處理裝置進行說明。圖8是表示使用了處理 ^仏、、、α装置1 0的基板處理裝置的一個實施形態的側視的 〃月圖如圖8所不，基板處理裝置5〇包括這樣的基本結 構’即，包括：本發明有關的處理液供給裝置1〇 ;基板搬 送路徑5卜其以貫通該處理液供給裝置1〇的方式配設並 水平地延伸；處理液供給系統52，其向處理液供給裝置ι〇 供給處理液；處理液回收系統53,其回收在處理液供給裝 置10對基板Β實施了規定處理之後的處理液（完成處理 液體）。 上述基板搬送路徑51在本實施形態中，由沿著基板搬 送方:並列設置的複數搬送輥511形成，通過省略圖示的 驅動單元的驅動而使各搬送輥511圍繞轴心旋轉，從而對 扁载在搬送輥511上的基板β進行搬送。 而且，處理液供給裝置1〇如下這樣進行設置，設定了 馬度基準而使得通過所述的基板搬送路徑51來搬送的基 板Β的、在水平方向上延伸的中心線，位於在上、下值體 20、30間形成的基板處理空間ν的上下方向的令央，在此 狀態下基板搬送路徑51貫通基板處理空間y。因此，在搬 送輕5U的驅動下而沿著基板搬送路徑51被搬送的基板β 導入處理液供給裝置10的基板處理空間^内，在基板 处理空間v内移動的同時’由從上、下喷嘴模組、犯逆

2〇l4-7680-PF 23 1275423 流供給的處理液對其表面和背面實施規定的處理。 上述處理液供給系統52如下這樣構成，即包括：處理 液貝T留槽521，其貯留處理液·處 愿理/夜供給管522，其從該 =液貯留請向上、下嘴嘴模組22、32而設理 =給泵523，其設在該處理液供給管522上。處理液供 二吕522在下游側分為兩股，-方連接到上部喷嘴模组 .同時另—方連接到下部喷嘴模組32。因此，在處理液 供給泵523的驅動下從處理液貯留# 521被導出的處理 液’通過處理液供給管522向上、下喷嘴模組…犯供給。 上述處理液回收系統53如下這樣構成，即包括：處理 液回收槽53卜其對處理基板B後的處理液和在處理中從 基板處理空間V茂漏的處理液等進行回收並貯留；處理後 的處理液排液用的排液管532，其分別與上、下排液模組 23、、33連接，合流之後其下游端連接到處理液回收槽531 ; 排液泵533，其設在該排液管532 ± ;除液管（通用路徑） 534其在分別連接到在上述頂板主體so (參照圖5)上 設置的複數除液孔347之後，匯合在一起；液體接收盆 535,其設置在下部筐體3〇的下方位置，接收從處理液供 給裝置10 #基板處理空間[攻漏的處理液。 上述除液官534’其下游端連接到處理液回收槽531， 由此攸基板處理空間V排出的處理液會由於自身重力而被 回收到處理液回收槽531 ^在該除液管534上設置有除液 閥5 3 6可以通過改變該除液閥5 3 6的開度來調節除液量。 另外/夜體接收盆5 3 5形成為漏斗狀，從而可以接收從處

2014-7680-PF 24 1275423 理液供給裝置絲板搬送方向的上游端開口以及下游 端開口、;$漏的處理液。液體接收纟535所接收到的、囊= 在底部的洩漏處理液被回收到處理液回收槽531。 果^ 根據這種結構的基板處理裝置5〇,在處理液供給 523的驅動下通過處理液供給管522 仏 "

模組22、32的處理液，通過各自的喷孔：二 圖4) *供給到基板處理空μ ν β。在該基板處理空間v 内供給的處理液，在注滿基板處理空間ν内之後，利;由 排液泵533的驅動而產生的吸引力，通過上、下排液模組 23、33各自的處理液吸引孔233、333而被吸引到排液= 532’由此成為在基板處理空間ν内形成了向著與基板搬送 方向相反的方向的處理液的流路的狀態。 當在此狀態下基板Β通過搬送輥511的驅動旋轉而沿 著基板搬送路徑51被搬送到處理液供給裝置丨〇的基板處 理空間V内時，該基板Β在基板處理空間ν内被滾^ 3二 支撐著前進，並逆流與處理液接觸’由此，由處理液對基 板Β的表面和背面進行處理。 而且，從上、下喷嘴模組22、32導入到基板處理空間 v内的處理液，由於在上、下喷嘴模組22、32上附設的前 方上部翼251以及前方下部翼351的各翼主體254、354間 的間隙尺寸被設定為比基板處理空間ν的上下尺寸小，所 以能夠有效地防止處理液向基板搬送方向下游侧洩漏。特 別疋在基板Β通過前方上部翼251與前方下部翼351之間 時，由於這些翼與基板的表面和背面之間的間隙尺寸非常 2014-7680-PF 25 1275423 小，所以能夠減少處理液隨著基板β流出。 另外在基板β的表面流動並流下的處理液，在撞擊 到從上部底板21向下方突出的上部排液模組23的下端部 之後，通過上部排液模組23的下端表面與基板β之間的细 小間隙而被處理液吸引孔233所吸引，所以能夠有效地抑 制處理液從上部排液模組2 3側洩漏。 另外，在基板Β被搬入基板處理空間ν内之前，雖然 要使基板處理空間V内液密閉但被疏水性的環境排斥，因、 此處理液向基板搬送方向泡漏，使液密閉的生成變得困難。 然而’由於刖方上部冑251以及前方下部| 351的各 翼主體254、354間的間隙尺寸設定得比基板處理空間7的 上下尺寸小，所以能夠防止處理液向基板搬送方向下游側 玫漏’從而促進處理液流向吸引排出#卜使液密閉高效地 生成。

如以上詳細敍述，本發明的處理液供給裝置設有上 部筐體20’同時與上部筐體2〇的下部相對向配置有下部 體3。，其中’上述上部筐體2〇由以下部分構成：上部 筐體20的上部底板21，其與通過的基板的上表面相對向； 上部噴嘴模組22,其設置在該上部底板21的基板Β搬送 方向的下游端，對上部底板21的下表面側供給處理液；上 部排液模、組23,其設置在上部底板21的基板搬送方向的 上游端’將供給的處理液從上部底板2ι的下表面側吸引排 出。下部筐體30由以下構成：下部頂板i盥上部底 板2"目對向配置’與通過的基板Β的下表面相對向；下部

2014-7680-PF 26 Ϊ275423 Λ 噴嘴模組32，其設置在下部頂板34的基板搬送方向的下 游鈿，對下部頂板34的上表面側供給處理液；下部排液模 組33，其設置在下部頂板34的基板搬送方向的上游端， 將供給的處理液從下部頂板34的上表面吸引排出。以此為 前提，在上部以及下部喷嘴模組22、32的各外表面，設置 有向基板搬送方向分別突出設置、並且允許基板Β通過的 上部翼25以及下部翼35，上、下翼25、35以它們相對向 面間的距離比上部底板21以及下部頂板34的相對向面間 •的距離短的方式來設定設置位置。 因此’被從基板搬送方向的上游側搬入到上部底板21 /、下邛頂板34之間的基板Β，其上表面側通過從下游端的 上。卩喷鳴模組22供給的處理液來實施處理，同時其下表面 側通過從下游端的下部喷嘴模組32供給的處理液來實施 處理，在表面和背面都被處理了的狀態下從處理液供給裝 置10搬出。 另一方面，從上部喷嘴模組22供給的處理液從基板搬 送方向的下私側向基板搬送方向的上游側流下，同時對基 板Β的上表面實施處理，之後由上部排液模組2 3吸引排 出，同柃，從下部喷嘴模組32供給的處理液從基板搬送方 向的下游側向上游側流下，同時對基板β的下表面實施處 理之後由设置在基板搬送方向的上游側的下部排液模組 3 3吸引排出。

這樣’基板Β通過從基板搬送方向的上游侧搬入處理 液供給裴置10，向其下游側搬送，從而通過與從該下游側 2014-7680-PF 27 1275423 供給而向該上游側流下的處理液的逆流接觸，來對其表面 和背面進行處理，~以與以往的對基板B散佈處理液的方 式相比，能夠確保可靠的處理的同時減少處理液的量。 而且，由於在上、下噴嘴模組22、32的各外表面，分 別設置有向基板搬送方向分別突出設置的、並且允許基2 B通過的前方上部翼251以及前方下部翼351，各翼251、 351以它們相對向面間的距離比上部底板21以及下部頂板 34的相對向面間的距離短的方式設定設置位置，所以從 上、下喷嘴模組22、32向基板B供給的處理液，會被這些 上、下的翼251、351阻擋而增大表面張力，從而能夠提高 液山閉〖生，由此旎夠提咼對基板B的處理效率，同時能夠 抑制Ik著基板B而從處理液供給裝置丨〇洩漏出的量，能夠 對減低處理成本做出貢獻。 另外，上部排液模組23由於以其下表面比上部底板 21的下表面還低的方式設定設置位置，所以能夠防止以下 的不妥，即·在基板β的上表面向基板搬送方向的上游側 机下的處理液撞擊到上部排液模組23的下端部，由此立即 被排出到基板處理空間ν外，能夠被上部排液模組Μ可靠 地吸引。 這樣，通過將上部排液模組23的下表面設定得比上部 底板21的下表面低，雖然是極為簡單的結構，但能夠有效 地抑制處理液從基板處理空間ν中的基板搬送方向的上游 側洩漏到外部，同時能夠延長處理液在基板處理空間V内 的滯遠時間，能夠提高處理液對基板Β的處理效率。

2014-7680-PF 28 1275423 本發明並不僅限於上述的實施形態，還包含以下的内 容。 (1)在上述實施形態中，雖然在基板處理空間v内沿 著基板B的上表面向基板搬送方向的上游側流下的處理 液，撞擊到比上部底板21更向下方突出的上部排液模組 23的下端部，但本發明並不僅限定於將上部排液模組23 的下端面設定得低於上部底板21，也可以使後方上部翼

252的翼主體254的下表面的高度降低到比上部底板21的 下表面的高度低。 (2 )在上述貫施形態中，雖然在前方上部翼2 51以及 前方下部| 351上分別設置有階梯部255、355，但本發明 並不僅限定於在上下的| 251、351上設置階梯部奶、 355,也可以不特別設置。此時，只要以使翼主體254、354 侵入基板處理空間V内的方式設定上部翼25以及下部翼 35的設置位置’即使沒有階梯部255、355也能夠通過褒 配板部253、353的後表面來防止處理液㈣漏。 、即，對於在基板處理空間v的基板搬送方向下游端形 成的弟彳/、要實負上發揮與上述實施形態的階梯部 255、355相同的作用即可，可以採用與這些階梯部255、 355類似的各種結構。 ⑺在上述實施形態中，可以對在基板處理空間 流通的處理㈣加高頻。通料樣做可錢在基板處理* 間V内流通的處理液以較高的週期振動，： 基板B的處理效果。 j致间對

2014-7680-PF 29 1275423 (4)圖9是表示安裝在下部頂板34上的滾輪343, :其他實施形態的剖視圖。目9所示的滾輪343，的裝配 、’口構基本上與圖6大致相同。即，在頂板主體341的上表 面側形成有填裝滾輪343’的凹部342，在該凹部342的卢 右方向的兩側壁形成有水平支撐滾輪軸344,的軸承^ 342a,該滾輪軸344，可旋轉地軸支承滚輪343，，同時形 成插入引導槽，該插入引導槽用於將滾輪車由3“，從上述 兩側J的上知抽出插入到軸承部3 4 2 a。凹部3 4 2的底部 342b大致呈水平面，在其中央貫穿設置有向下方延伸的小 徑的除液孔347。 滾輪343’外周的寬尺寸被做成需要的短尺寸，特別 疋其中央在左右方向上形成紡錘形狀（凸狀）。通過該紡 錘形狀能夠減少與基板B的接觸面積的程度，從而能夠減 低基板的接觸損傷。該紡錘形狀同樣也可以適用於圖6所 示的滾輪3 4 3。 而且，在上述頂板主體341的厚壁内，形成有使軸承 部342a與外部（頂板主體341的側面或下表面側）連通的 液孔341a。另外，在滾輪軸344，的軸内，同心狀的液孔 344a貫穿設置到縱向中間，並且在滾輪軸344，的縱向中 間位置上貝穿設置了在徑向通過中心的貫通液孔。由 此’液孔344a與貝通液孔344b相連通，進而頂板主體341 的液孔3 41 a與旋轉轴的液孔3 4 4 a相連通的結果，使液孔 341a與貫通液孔344b相連通。而且，設定滾輪343，的内 徑尺寸’使得在滾輪343’的内周壁面與滾輪軸344，的外 2014-7680-PF 30 Ϊ275423 周面之間形成間隙，從而處理液能夠在該間隙中流通，5 時液孔341a的外部開口側通過省略圖示的供給泵而連: 設置於清洗液槽，通過驅動該供給泵，能夠對滾輪343, 的内周壁面噴射供給清洗液。 根據該結構，與圖6的情況相同，搬入到處理液供給 裝置10内的基板B,其下表面侧由滾輪343，支撐，從而 不會因向下方彎曲而與頂板主體341接觸。另外，滾輪

343基於基板β的搬送力而從動，流暢地承擔基㈣的移 送。即使由於與滾輪343, @滾輪軸344，之間的摩擦旋轉 而產生顆粒等，該顆粒也會被除液孔347吸引，通過除液 吕534 (參照圖8)而與清洗液一起回收到處理液回收槽， 所以/又延到頂板主冑341的上表面而混入到清洗中的清洗 液，導致降低清洗效果或者損傷基板Β的背面的情況不會 毛生。另外，因為向滾輪343，的内周壁面喷射供給清洗 液，所以即使由於與滾輪軸344，之間的摩擦旋轉而產生 了顆粒等’也能夠更為有效的洗掉該顆粒。另夕卜，在基板 處理結束後’也可以對附著了處理液的滾輪343，的内周 土面進行/月洗’從而能夠有效的防止處理液（特別是處理 液並不是清洗水，而使用藥液的方式的情況）等的附著、 由乾燥帶來的結晶等的附著，從而能夠長期確保滾輪343， 流暢旋轉。 【圖式簡單說明】 圖1是纟示本發明的處王里液供給裝置的一個實施形態

2014-7680-PF 31 1275423 的分解立體圖。 二2,圖1所示的處理液供給裝置 圖3是圖2的Η線剖視圖。 裝立體 圖4县主- ，i 不上邛喷嘴模組以及下部嘖嘴 施形態的局部^ n @ I嘴杈組的一個實 勹# d開立體圖，圖4A表示上 4B表示下部噴嘴模組。 P喷為杈組，圖 圖。S 5疋表不下部頂板的-個實施形態的局部剖開立體

疋圖5的D-D線剖視圖 圖7疋表示上部排液模組以及 施形態的局部~ ☆雜$ 卩排液模組的一個實

。丨4開立體圖，圖7A矣- A 7β表干下# 不上σΜ非液模組，圖 Μ表不下部排液模組。 圖8 理裝置的 圖9 的剖視圖 :表不使用了本發明的處理液供給裝置的基板處 固實知形態的側視的說明圖。 是表示安裝在下部頂板上的滾輪的其他實施形態

【主要元件符號說明】 1 0〜處理液供給裝置； 20〜上部筐體（上部處理部）·， 21〜上部底板； 22〜上部喷嘴模組（上部液體供給路徑部）； 2 21〜螺紋孔； 222〜處理液供給通路；

2〇l4-7680-PF 32 1275423 223〜喷孔； 23〜上部排液模組（上部液體排出路徑部）； 2 31〜螺紋孔； 232〜處理液排出通路； 233〜處理液吸引孔； 24〜上部頂板； 25〜上部翼； 251〜前方上部翼； # 252〜後方上部翼； 253〜裝配板部（鍔部）； 254〜翼主體（水平延伸部）； 255〜階梯部； 3 0〜下部筐體； 3卜下部底板； 32〜下部喷嘴模組（下部液體供給路徑部）； 321〜螺紋孔； ® 322〜處理液供給通路； 323〜喷孔； 33〜下部排液模組（下部液體排出路徑部）； 3 31〜螺紋孔； 332〜處理液排出通路； 333〜處理液吸引孔； 34〜下部頂板； 34卜頂板主體； 33

2014-7680-PF 1275423 341a〜液孔； 3 4 2〜凹部； 342a〜軸承部； 343、 343’〜滾輪（旋轉支撐體）； 344、 344’〜滾輪軸；344a〜液孔； 344b〜貫通液孔； 345〜滾輪主體； 3 4 6〜轴承槽； # 347〜除液孔（排液路徑）； 348〜層疊板； 349〜方孔； 35〜下部翼； 35：1〜前方下部翼； 352〜後方下部翼； 353〜裝配板部（鍔部）； 354〜翼主體（水平延伸部）； 春 355〜階梯部； 4 0〜側板； 50〜基板處理裝置； 51〜基板搬送路徑； 511〜搬送輥； 52〜處理液供給系統； 521〜處理液貯留槽； 522〜處理液供給管； 34

2014-7680-PF 1275423 523〜處理液供給泵； 5 3〜處理液回收系統； 5 31〜處理液回收槽； 532〜排液管； 5 3 3〜排液泵； 534〜除液管（通用路徑）； 5 3 5〜液體接收盆； 5 3 6〜除液閥； B〜基板； C〜流體連接器； V〜基板處理空間。 35

2014-7680-PF

Claims (1)

1275423 卞、甲請專利範園： 1 ·種處理液供給裝置，包括·· 上部處理部，包挺· 表面相對.邛底板，其與通過的基板的上 對向，上部液體供給路 板的基板搬送方向的下、、〆#丨八叹置在上述上部底 供給處理液.以子對上述上部底板的下表面側 將上述供仏 液體排出路徑部，其設置在上游端， w上述供給的處理 ^ 出；以及 ^ 底板的下表面側吸引排 卩處理"卩，與上述上部處理部相對向配置，並包括· 下部頂板，其與通過的基板的τ表面相心· 匕括· 於肺# “ ㈣下表面相對向，下部液體供 山 /、a又置在上述下部頂板的基板搬送方向的下游 知，對上述下邱丁百此μ ^ 士 辨“山的上表面側供給處理液，·以及下部液 ,、+、 其5又置在上游端，將上述供給的處理液從 述下部頂板的上表面側吸引排出， 其特徵在於： 在上述上部以及下部液體供給路徑部的各外表面，相 對向設置有分別向基板搬送方向突出的翼； 上述各翼至少在-部分上包括相對向面的距離比上述 上部底板以及下部頂板的相對向面間的距離短的部位。 2.如申請專利範圍第1項所述的處理液供給裝置，其 中，上述翼包括··鳄部，其固定在上述上部以及；部液體 供給路徑部的各外表面；水平延伸部，其從該鍔部的端部 水平延伸，與搬送中的基板的被處理面相對向，並且包括 階梯部’該階梯部通過切掉上述鍔部與水平延伸部的結人 2014-7680-PF 36 1275423 位置上的外表面側的角部而形成。 3 ·如申睛專利範圍第1或 置，苴特矜/认 1」項所述的處理液供給裝 ;在於:上述上下的翼被設定為上下對稱的形狀。 • 種處理液供給裝置，包括·· 夺面=處理部’包括：上部底板，其與通過的基板的上 板的其目 上部液體供給路徑部，其設置在上述上部底 供心理反，方向的下游端’對上述上部底板的下表面側 :處理液；以及上部液體排出路徑部，其設置在上游端， ^上述供給的處理液從上述上部底板的下表面側吸引排 出，以及 下部處理部，與上述上部處理部相對向配置，並包括： :部頂板，其與通過的基板的下表面相對向；下部液體供 ’其設置在上述下部頂板的基板搬送方向的下游 端’對上述下部頂板的上表面側供給處理液；以及下部液 體排出路徑部’其設置在上游端，將上述供給的處理液從 上述下部頂板的上表面側吸引排出， 其特徵在於： 上述上部液體排出路徑部包括向下表面開通的、吸引 處理液的吸引孔； 上述吸引孔的下表面相比於上述上部底板的下表面而 向下方突出。 2014-7680-PF 37