JP2008096595A - プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法 - Google Patents

プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008096595A
JP2008096595A JP2006276890A JP2006276890A JP2008096595A JP 2008096595 A JP2008096595 A JP 2008096595A JP 2006276890 A JP2006276890 A JP 2006276890A JP 2006276890 A JP2006276890 A JP 2006276890A JP 2008096595 A JP2008096595 A JP 2008096595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chemical liquid
chemical
circuit board
printed circuit
scum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006276890A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4825101B2 (ja
Inventor
Manabu Fujisawa
学 藤澤
Seiji Hashiguchi
誠二 橋口
Takaaki Matsuura
隆明 松浦
Ryokichi Matsumoto
亮吉 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP2006276890A priority Critical patent/JP4825101B2/ja
Publication of JP2008096595A publication Critical patent/JP2008096595A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4825101B2 publication Critical patent/JP4825101B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

【課題】 本発明は、プリント基板の製造中に薬液中に発生するスカムなどを効果的に除去することができる、プリント基板製造装置を提供するものである。
【解決手段】 かゝる本発明は、管理槽100の薬液を使用部位に供給すると共に、現像チャンバー部などでの使用済みの薬液を管理槽100に戻す薬液循環型のプリント基板製造装置において、管理槽100が、オーバーフロー式の薬液貯留部110と、薬液を戻すための連通管120と、薬液を一部オーバーフローさせるための漏洩口130と、マイクロバブルを発生させることにより薬液中のスカムを液面上に浮遊させる泡発生ノズル140と、浮遊されたスカムを漏洩口側に誘導させる泡押出スプレー150とからなるプリント基板製造装置にあり、泡発生ノズル140によるマイクロバブルの発生と、泡押出スプレー150によるマイクロバブルの押し出しにより、効果的にスカムを除去することができる。
【選択図】 図2

Description

本発明は、プリント基板の製造中に薬液中に発生するスカムなどを効果的に除去することができる、プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法に関するものである。
プリント基板の絶縁にはカバーレイ(CL)が用いられている。このカバーレイでは不可能なファインピッチ部への絶縁にドライフィルムソルダーレジストを用いる場合がある。これは回路基板が形成された後のプリント基板の表面(片面や両面)を、実装部品が載る部分や製品用の端子などが設置される部分を除いて、レジスト材料(感光性の絶縁材料)により絶縁するために使用される。
例えば、レジスト材料としてUV光の照射により硬化する材料を用いた場合、後からUV光の照射されていない部分(マスクされた非露光部分)を、アルカリ性の薬液(現像液:例えばNa2 CO3 液)により溶かして取り除くことにより行われる。
このようなプリント基板製造において、UV光を照射する工程を露光工程といい、マスクされた非露光部分のレジスト材料を除去する工程を現像工程という。
この現像工程では、この現像を現像槽で行う一方、現像後の残存薬液などを水洗槽で水洗いしている。現像槽では、コンベアなどの自動搬送機構により搬送されてきた、プリント基板の表面(片面や両面)に現像液をスプレーなどで吹き付けることにより、非露光部分のレジスト材料を溶かして除去している。この現像槽部分には、現像液を噴出させるスプレー機構を備えた現像チャンバー部やプリント基板の保持機構などの他に、現像液を循環させて再利用するため、現像チャンバー部から得られる噴出済みの現像液を回収して、一旦貯留するための管理槽(貯留タンク)が備えられている。
この管理槽では、循環される現像液に対して、常時新液を補給して、スプレー噴出での消費分を補充する一方、一部オーバーフローさせることにより、循環現像液の表面側の液を廃棄させて、現像液の鮮度を保っている。
ところが、実際の運用では、現像液の循環回数が増えてくると、種々の原因によりレジスト材料の樹脂成分が凝集したり、析出したりして、不要な物質、所謂スカムが発生するようになってくる。スカムはでき始めの最初にあっては軽く、液表面に浮いたり、液中に浮遊したり、特に液中に泡(気泡)が存在するとこの泡などに付着し易い。この液中の泡は、現像液が複雑な循環経路系を通る間に自然に発生するもので、完全に除去することは困難とされている。このような泡の豊富な状態下で、この泡へのスカム付着が進み、泡表面にスカムの塊として成長してくると、この塊状のスカムはそのまま槽内に沈んだり、槽壁面に付着したり、現像液の循環経路系の管や通路、機器などに付着するようになる。
このような状況になると、液表面に浮いているスカムにあっては、上記オーバーフロー方式によって除去できるものの、上記塊状となったスカムについては、オーバーフロー方式のみでは除去が困難となる。そして、遂には、この塊状のスカムは、スプレー機構から噴出されてプリント基板側に達し、基板表面に付着することになる。一度基板側にスカムが付着すると、水洗いを通っても容易に取り除くことは難しく、スカムが付着したままの製品となる。即ち、不良品発生の原因となる。また、スカムが一旦槽壁面や循環経路系の管や通路、機器などに付着すると、その清掃が極めて困難となる。
このため、従来から、スカム除去の対策として、例えば破砕用のブレードを設けた循環ポンプやフイルタなどを組み込むことにより、スカムを除去する製造装置系が提案されているが(特許文献1)、この場合、装置系が複雑で、設備コストや作業制御などの面に問題があり、不十分ものであった。
特開2000−221693号公報
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、比較的簡単な構成によりスカムを効果的に除去するようにしたプリント基板製造装置及びプリント基板製造方法を提供するものである。
請求項1記載の本発明は、管理槽の薬液を使用部位に供給すると共に、前記使用部位での使用済みの薬液を前記管理槽に戻す薬液循環型のプリント基板製造装置において、
前記管理槽が、オーバーフロー式の薬液貯留部と、当該薬液貯留部に前記使用部位からの薬液を戻すための連通管と、前記薬液貯留部から表面側の薬液を一部オーバーフローさせるための漏洩口と、前記薬液貯留部の薬液中に設置されてマイクロバブルを発生させることにより薬液中のスカムを液面上に浮遊させる泡発生ノズルと、前記薬液貯留部の薬液の液面近傍に設置されて前記浮遊されたスカムを前記漏洩口側に誘導させる泡押出スプレーとからなることを特徴とするプリント基板製造装置にある。
請求項2記載の本発明は、前記薬液貯留部の前記連通管側寄りに前記泡発生ノズルを設置する一方、前記漏洩口側寄りに前記泡押出スプレーを設置させることを特徴とする請求項1記載のプリント基板製造装置にある。
請求項3記載の本発明は、前記薬液貯留部の連通管側寄りに設置された泡発生ノズルと前記漏洩口側寄りに設置された前記泡押出スプレーとを直線方向に配列させることを特徴とする請求項2記載のプリント基板製造装置にある。
請求項4記載の本発明は、前記薬液貯留部の連通管側から漏洩口側に至ると共に、その底面を開放させた倒樋型の泡誘導カバーを設けることを特徴とする請求項1、2又は3記載のプリント基板製造装置にある。
請求項5記載の本発明は、前記泡誘導カバーの薬液貯留部の連通管側と漏洩口側との間に、少なくともその上面をほぼ液面と同一高さとした隔壁板を設けると共に、当該隔壁板と前記薬液貯留部の連通管側の間に前記泡発生ノズルを設置することを特徴とする請求項4記載のプリント基板製造装置にある。
請求項6記載の本発明は、管理槽の薬液を使用部位に供給すると共に、前記使用部位での使用済みの薬液を前記管理槽に戻す薬液循環型のプリント基板製造方法において、
前記管理槽のオーバーフロー式の薬液貯留部に、前記使用部位からの薬液を戻す一方、前記薬液貯留部の表面側の薬液を、当該薬液貯留部の漏洩口から一部オーバーフローさせ、かつ、前記薬液貯留部の薬液中にマイクロバブルを発生させて薬液中のスカムを液面上に浮遊させると共に、前記薬液貯留部の薬液上に泡押出流を発生させて前記浮遊されたスカムを前記漏洩口側に誘導させることを特徴とするプリント基板製造方法にある。
本発明のプリント基板製造装置及びその製造方法によると、管理槽に貯留されて循環される薬液(現像液)に対して、泡発生ノズルにより積極的にマイクロバブル(泡)を発生させて、この泡に薬液中のスカムを付着させて、泡と共にスカムを浮上させる。
次に、このスカムの付着した泡を、泡押出スプレーにより、オーバーフロー式の漏洩口側に誘導させて廃棄させる。これにより、薬液表面側に浮いているスカムは勿論のこと、薬液中のスカムにあっても、効果的に除去することができる。
特に本発明において、泡発生ノズルを、薬液貯留部の連通管側に設置し、泡押出スプレーを、漏洩口側に設置して、これらを直線方向に配列させることにより、スカムを最短距離で効果的に除去することができる。
また、薬液貯留部の連通管側から漏洩口側に至ると共に、その底面を開放させた倒樋型(倒立させた逆樋型)の泡誘導カバーを設けることにより、スカムの流路(廃棄通路)をカバー内に狭く規制して、スカムを効果的に除去することができる。
また、泡誘導カバーの薬液貯留部の連通管側と漏洩口側との間に、少なくともその上面をほぼ液面と同一高さとした隔壁板を設けると共に、この隔壁板と薬液貯留部の連通管側の間に泡発生ノズルを設置することにより、泡の浮上範囲を狭く規制して、スカムを効果的に除去することができる。
図1は本発明のプリント基板製造装置における管理槽の一例を示し、図2はそのI−I線の縦断面を示したものである。図中、100は薬液(現像液:例えばNa2 CO3 液)を使用部位(現像液を噴出させるスプレー機構を備えた現像チャンバー部など)に供給すると共に、使用部位での使用済みの薬液を戻して再利用する薬液循環型のプリント基板製造装置における管理槽である。
この管理槽100は、オーバーフロー式の薬液貯留部110と、薬液貯留部110に現像液を噴出させるスプレー機構などの使用部位からの薬液を戻すための連通管120と、薬液貯留部110から表面側の薬液を一部オーバーフローさせるための漏洩口130と、薬液貯留部110の薬液中に設置されてマイクロバブルを発生させることにより薬液中のスカムを液面上に浮遊(浮上)させる泡発生ノズル140と、薬液貯留部110の薬液の液面近傍に設置されて浮遊されたスカムを漏洩口側に誘導させる泡押出スプレー150と、薬液貯留部110の連通管側から漏洩口側に至ると共に、その底面を開放させた倒樋型の泡誘導カバー160と、泡誘導カバー160の薬液貯留部110の連通管側と漏洩口側との間に設けられ、少なくともその上面をほぼ液面と同一高さとした隔壁板170と、漏洩口側の外方を囲う飛散防止カバー180からなる。
管理槽100における槽材料や材質は特に問わないが、金属板、プラスチック材、セッラミック材、又は、これらの複合材などを適宜使用することができる。薬液と接触する部分にあっては、耐薬品性の材料や材質のものを選ぶものとする。
上記泡発生ノズル140は、外部のコンプレッサ(図示省略)などからの圧搾空気(他の気体も可)によって、薬液中にマイクロバブル(泡の大きさ:直径=30〜100μm程度が好ましい)を多数発生させるものである。この設置箇所は、薬液貯留部110の連通管側寄りの位置とすることが望ましい。理由は、これにより連通管130から戻ってくる薬液に対して、より近い位置で迅速に泡を混在させることができるからである。この泡に薬液中のスカムが付着するため、スカムが広範に拡散する前に効果的に捕捉されることになる。言い換えれば、一種の泡洗浄が効果的に行われることになる。
上記泡押出スプレー150は、外部のコンプレッサ(図示省略)などからの圧搾空気(他の気体も可)の吹き付けや、内蔵フィンの回転による周辺空気の吹き付けを行うものとして構成するとよい。さらに、小型ポンプなどにより薬液自体の噴霧して吹き付ける構成とすることも可能である。この設置箇所は、薬液貯留部110の漏洩口側寄りの位置とすることが望ましい。理由は、これにより液面上のスカムが泡などと共に、効果的にオーバーフロー式の漏洩口130側に押し出されて廃棄されるからである。
また、上記泡発生ノズル140と泡押出スプレー150の配列は、好ましくは図1に示すように、薬液貯留部110の連通管側から漏洩口側に掛けての直線方向(直線上)とよい。これにより、スカムの廃棄が槽中での最短距離で行われるからである。つまり、効率的な廃棄が得られることになる。
上記泡誘導カバー160は、このスカムの廃棄にあたって、スカムが薬液貯留部110の広範な範囲に広がらないよう、スカムの廃棄流路を狭く規制するためのものである。
この泡誘導カバー160の倒立状の左右の両側壁部161、161は、その途中まで薬液中に浸漬(挿入)させる一方、その底面部162と薬液面上には、適宜高さのスペースSを設けてある。つまり、この泡誘導カバー160により、薬液貯留部110の連通管側から漏洩口側に掛けて、カバー幅に規制された狭い形のスカムの廃棄流路としてある。これにより、スカムを広範に拡散させることなく、効果的に除去することが可能となる。
上記隔壁板170は、泡誘導カバー160の薬液貯留部110の連通管側と漏洩口側との間に設けた仕切り板である。これを設けた場合、泡発生ノズル140は、この板と連通管側との間に設置するものとする。これにより、泡の拡散や浮上範囲が狭く規制されるため、結果として、スカムを効果的に除去することができる。
なお、この隔壁板170は、スカム廃棄のオーバーフロー式の障害とならないように、少なくともその上面をほぼ液面と同一高さ(少々液面より低くすることも可)としてある。また、泡発生ノズル140の周りの包囲を、より完全に囲う場合には、図2に示すように、泡誘導カバー160の左右の両側壁部161、161(一方図示省略)の下端面と当接させたり、又は下端側と重ね合わせたりする、補助隔壁板171、171(図2中一方は図示省略)を設けることもできる。さらに、これらの補助隔壁板171、171や隔壁板170の底面側にあっては、図2に示すように、薬液貯留部110の底面から少々浮かして構成する。これにより、薬液の薬液貯留部110内の自由な移動か確保される。
このように構成されたプリント基板製造装置では、上述したように、スプレー機構を備えた現像チャンバー部で使用された薬液は、連通管120を通じてオーバーフロー式の薬液貯留部110に戻される(供給される)。この供給位置は、薬液貯留部110の上記泡誘導カバー160、隔壁板170、補助隔壁板171、171に囲まれた部分となる。従って、薬液中のスカムが必要以上に広範な範囲に拡散されることはない。
この囲まれた部分内の液中には、泡発生ノズル140が設置されているため、薬液の循環流動に合わせて、泡発生ノズル140からマイクバブルを発生させる。発生した多数のマイクバブルには、薬液中のスカムが付着すると同時に、順次液上面側に浮上する。バブルの発生数にもよるが、多数のバブル浮上により勢いのあるバブル流が形成され、液表面が少々盛り上がる形となって、スカムも迅速に浮上される。従って、従来のように、スカムが塊状に成長することもない。
一方、泡発生ノズル140の駆動と同時に、泡押出スプレー150も駆動させるため、泡押出スプレー150の前方側の薬液の一部は、スカム付着の泡と一緒にオーバーフロー式の漏洩口130側に押し出されて、この漏洩口130から廃棄される。
この泡押出スプレー150による廃棄流路も、泡誘導カバー160の左右の両側壁部161、161の幅に規制されるため、スカムが泡や一部の薬液と共に効果的に除去される。また、泡押出スプレー150による薬液の押出作用は、泡発生ノズル140側の薬液貯留部110から見ると、吸引作用として働くことになる。この吸引作用と泡発生ノズル140によるバブル浮上の勢いのある盛り上り作用が相まって(相乗効果により)、泡発生ノズル140側のスカム付着の泡は、スムーズに泡押出スプレー150側に流れることになる。つまり、極めて効果的なスカムの廃棄が行われることになる。
なお、本発明の薬液中の除去対象は、スカムであるが、このスカムには、レジスト材料の樹脂成分である所謂スカムの他に、次のものも含めるものとする。つまり、薬液中には循環過程で塵埃、微小粒子などの種々の不要物質が混入する恐れがあるため、これらの物質で薬液表面に浮くもの、泡に付着するものも、広く含めるものとする。
また、薬液貯留部110には、図示しないが、オーバーフロー式の漏洩口130から廃棄される分や現像チャンバー部での消費分(使用量)に対応した新液を補給する機構と、現像チャンバー部側にポンプなどで循環される機構を設けてある。
本発明に係るプリント基板製造装置における管理槽の蓋を外した状態の一例を示した斜視図である。 図1のI−I線の縦断端面図である。
符号の説明
100・・・管理槽、110・・・薬液貯留部、120・・・連通管、130・・・漏洩口、140・・・泡発生ノズル、150・・・泡押出スプレー、160・・・泡誘導カバー、170・・・隔壁板、171・・・補助隔壁板

Claims (6)

  1. 管理槽の薬液を使用部位に供給すると共に、前記使用部位での使用済みの薬液を前記管理槽に戻す薬液循環型のプリント基板製造装置において、
    前記管理槽が、オーバーフロー式の薬液貯留部と、当該薬液貯留部に前記使用部位からの薬液を戻すための連通管と、前記薬液貯留部から表面側の薬液を一部オーバーフローさせるための漏洩口と、前記薬液貯留部の薬液中に設置されてマイクロバブルを発生させることにより薬液中のスカムを液面上に浮遊させる泡発生ノズルと、前記薬液貯留部の薬液の液面近傍に設置されて前記浮遊されたスカムを前記漏洩口側に誘導させる泡押出スプレーとからなることを特徴とするプリント基板製造装置。
  2. 前記薬液貯留部の前記連通管側寄りに前記泡発生ノズルを設置する一方、前記漏洩口側寄りに前記泡押出スプレーを設置させることを特徴とする請求項1記載のプリント基板製造装置。
  3. 前記薬液貯留部の連通管側寄りに設置された泡発生ノズルと前記漏洩口側寄りに設置された前記泡押出スプレーとを直線方向に配列させることを特徴とする請求項2記載のプリント基板製造装置。
  4. 前記薬液貯留部の連通管側から漏洩口側に至ると共に、その底面を開放させた倒樋型の泡誘導カバーを設けることを特徴とする請求項1、2又は3記載のプリント基板製造装置。
  5. 前記泡誘導カバーの薬液貯留部の連通管側と漏洩口側との間に、少なくともその上面をほぼ液面と同一高さとした隔壁板を設けると共に、当該隔壁板と前記薬液貯留部の連通管側の間に前記泡発生ノズルを設置することを特徴とする請求項4記載のプリント基板製造装置。
  6. 管理槽の薬液を使用部位に供給すると共に、前記使用部位での使用済みの薬液を前記管理槽に戻す薬液循環型のプリント基板製造方法において、
    前記管理槽のオーバーフロー式の薬液貯留部に、前記使用部位からの薬液を戻す一方、前記薬液貯留部の表面側の薬液を、当該薬液貯留部の漏洩口から一部オーバーフローさせ、かつ、前記薬液貯留部の薬液中にマイクロバブルを発生させて薬液中のスカムを液面上に浮遊させると共に、前記薬液貯留部の薬液上に泡押出流を発生させて前記浮遊されたスカムを前記漏洩口側に誘導させることを特徴とするプリント基板製造方法。
JP2006276890A 2006-10-10 2006-10-10 プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法 Active JP4825101B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006276890A JP4825101B2 (ja) 2006-10-10 2006-10-10 プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006276890A JP4825101B2 (ja) 2006-10-10 2006-10-10 プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008096595A true JP2008096595A (ja) 2008-04-24
JP4825101B2 JP4825101B2 (ja) 2011-11-30

Family

ID=39379524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006276890A Active JP4825101B2 (ja) 2006-10-10 2006-10-10 プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4825101B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107422616A (zh) * 2017-09-27 2017-12-01 深圳市华星光电技术有限公司 显影液承载装置及显影设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63162088A (ja) * 1986-12-24 1988-07-05 Nikko Eng Kk 廃水の浮上・濾過・濃縮装置
JPH11104651A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Toray Ind Inc 感光性樹脂含有廃水の浄化方法、印刷版の製造方法および印刷版現像装置
JP2006251278A (ja) * 2005-03-10 2006-09-21 Toray Ind Inc 現像液清澄装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63162088A (ja) * 1986-12-24 1988-07-05 Nikko Eng Kk 廃水の浮上・濾過・濃縮装置
JPH11104651A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Toray Ind Inc 感光性樹脂含有廃水の浄化方法、印刷版の製造方法および印刷版現像装置
JP2006251278A (ja) * 2005-03-10 2006-09-21 Toray Ind Inc 現像液清澄装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107422616A (zh) * 2017-09-27 2017-12-01 深圳市华星光电技术有限公司 显影液承载装置及显影设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP4825101B2 (ja) 2011-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107206436B (zh) 清洗装置
EP2539085B1 (en) Microbubble cleaning system for a large product such as a vehicle
JP2007301529A (ja) 洗浄装置
JPWO2012043201A1 (ja) ソルダーレジストパターンの形成方法
JP2007090344A (ja) 中空部品の洗浄方法及び洗浄アセンブリならびにタービンブレードの整備方法
KR101205821B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP4825101B2 (ja) プリント基板製造装置及びプリント基板製造方法
TWI509682B (zh) Substrate processing apparatus and processing method
TWI400131B (zh) 基板處理裝置
KR20130004980U (ko) 레지스트층의 박막화 처리 장치
US6059919A (en) Film-stripping process
US7553457B2 (en) Chemical processing apparatus for manufacturing circuit substrates
JP4481865B2 (ja) 現像機におけるスカム除去方法およびその装置
JP2010222654A (ja) 銅系素材の酸洗方法
JP6438246B2 (ja) 塗布装置
US20220117092A1 (en) Continuous etching system
KR101124552B1 (ko) 기판도금장치
JP2008108997A (ja) 洗浄装置
JP5515366B2 (ja) 基板の水平搬送処理装置
KR101717261B1 (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
KR100854981B1 (ko) 인쇄회로기판 제조공정상의 습식공정 처리장치
KR102501358B1 (ko) 스컴 제거와 자체 세정이 가능한 약액탈취기
JP2007319824A (ja) 基板の処理装置及び処理方法
JP2021074691A (ja) 排ガス処理装置
JP3137488U (ja) 垂直分流式の薄板材を化学処理する装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090529

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110906

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110909

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4825101

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250