JPH04281452A - 感光材料処理装置 - Google Patents
感光材料処理装置Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
(以下、単に感光材料または感材という)を処理する感
光材料処理装置に関する。
着、水洗等の工程で処理され、カラー感光材料は、露光
後、発色現像、脱銀、水洗、安定化等の工程により処理
される。黒白現像には黒白現像液、定着には定着液、発
色現像には発色(カラー)現像液、脱銀処理には漂白液
、漂白定着液、定着液、水洗には水道水またはイオン交
換水、安定化処理には安定液がそれぞれ使用される。 各処理液は通常30〜40℃に温度調節され、感光材料
はこれらの処理液中に浸漬され処理される。このような
処理は、通常、自動現像機等の処理装置によって行なわ
れている。
減が要望されてきており、各処理液にて処理液の使用量
を減少させることが望まれている。一方、ミニラボとよ
ばれる小規模用処理システムの開発により、感光材料は
写真店等の店頭でも処理されるようになってきているた
め、装置の小型化が望まれている。
幅の通路で連結された複数の処理室を有し、感光材料を
各処理室内に順次通過させ、各処理室内の処理液と接触
させて処理する感光材料処理装置を提案している(特願
平1−25132号、同1−27034号、同1−90
422号、同1−248950号、同2−54641号
、同2−155667号、特願平2−223766号等
)。これらのものでは、装置を小型にすることができ、
処理効率が向上することから処理液の使用量を少なくす
ることができるという効果を得ている。
処理室が狭幅の通路で連結されているので、各処理室間
で処理液同士の混合が少なく、処理液の供給方向に従い
、各処理室内の処理液の液組成または濃度に勾配が形成
され、これが維持されるからである。さらに、本発明者
らは、前記各処理室間の液組成や、濃度の勾配を確実に
して、処理効率をより一層向上するために、処理室間の
液流を遮断するブレードを通路内に設けたものを提案し
ている(特願平2−155667号)。ブレードの材質
としては、軟質樹脂等の弾性材料が用いられる。
室を、ラックを処理槽内へ収納することにより形成する
方式のものがある。この形式のものでは、各処理室を区
画するラックの構成部材と、処理槽内壁との間にシール
部材等が介挿され、ラックの収納によって各処理室間の
処理液の流通ができる限り阻止できるように構成される
。このような構成は、ブレードの装着と相まって、処理
室の液密性を向上させ、各処理室間の液組成や、濃度の
勾配をより確実にして、処理効率をさらに一層向上する
ためには好ましい。
幅の通路は、通路内の間隔が狭いため、液密性を向上さ
せる為にラックと処理槽の密着圧を高くすると、前記狭
幅通路が押し潰されてブレードの接触圧が高くなり、感
光材料の搬送抵抗が高くなるといった欠点があった。こ
のため、搬送されてくる感光材料のジャミング事故が発
生しやすく、搬送系の故障が起き、さらには、搬送時間
が狂って処理ムラが発生するなどの問題が生じていた。
課題を解決し、処理室間の液流通のシール性を維持しつ
つ、ブレードの接触圧を安定させ、感光材料の良好な搬
送性を確保した感光材料処理装置を提供することにある
。
(1)〜(3)の本発明によって達成される。
在に収納されて、上下方向に連設された複数の処理室を
形成する区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理
室間を連結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前
記狭幅通路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、
前記通路内における処理液の流通を実質的に遮断するブ
レードを設けた感光材料処理装置であって、前記処理槽
の内壁には、前記区画部材の連設する処理室の間で上下
方向に液密に密着する段部を形成し、該段部の密着部分
において上下に隣接する処理室間の液流通が遮断される
ことを特徴とする感光材料処理装置。
在に収納されて、上下方向に連設された複数の処理室を
形成する区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理
室間を連結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前
記狭幅通路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、
前記通路内における処理液の流通を実質的に遮断するブ
レードを設けた感光材料処理装置であって、連設する処
理室間において、区画部材と処理槽の間には低接触圧で
液遮断性の良いシール手段が介設されていることを特徴
とする感光材料処理装置。
結する狭幅通路とを有し、前記各処理室と狭幅通路内に
処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前記通路内におけ
る処理液の流通を実質的に遮断するブレードを設けた感
光材料処理装置において、内部に前記狭幅通路を有する
区画部材と、外側から前記区画部材に液密に取り付けら
れて前記処理室を画成する外部材とを有し、前記外部材
が連設する処理室間の液流通を遮断することを特徴とす
る感光材料処理装置。
の処理室が形成され、該処理室は狭幅の通路で順次連結
されているので、各処理室間において、処理液の供給方
向に従い、処理液の液組成勾配(濃度勾配)が維持され
、よって感材の処理効率が向上する。この際、通路にブ
レード、好ましくは対向する少なくとも一対のブレード
を設置しているので、各処理室での処理液の液組成勾配
は飛躍的にかつ長期間に亘って維持されることになる。 すなわち、感材の通過時には、ブレードが感材両面に接
触し、感材に付着した液を拭い取る効果(以下、スクイ
ズ効果という)を生じ、感材による前の処理室から後の
処理室への液の持ち込み量が少なくなる。また、感材の
通過時には、液流通は感材側端に生じるブレード間の微
小間隙(感材厚さ程度)を介して行われる。そして、感
材の非通過時には、対向するブレード同士が密着するの
で、通路の液流通はほとんどない。
理槽の内壁に形成されている段部において液密に密着し
ている。このように、区画部材と処理槽との間の上下処
理室間の液流遮断は、上下方向に密着することによって
なされるため、区画部材と処理槽との接触圧によって狭
幅の通路が歪むことがなく、狭幅通路内のブレードの接
触圧が高まることもない。
必要としないシール手段を、区画部材と処理槽の間に設
けることによっても同様の目的が達成される。
それぞれの処理室毎に液密に取り付けられる外部材によ
り画成しても同様の効果が得られ、かつ、各処理室毎の
メンテナンスを別個に行なうことが可能となるといった
利点があり、メンテナンス効率が上昇する。
に示す好適実施例に基づいて詳細に説明する。図1は、
本発明の感光材料処理装置を水洗処理装置に適用した場
合の第1の構成例を示す断面側面図、図2は、図1中の
II−II線での断面図、図3は、図1中のIII −
III 線での断面図である。これらの図に示すように
、本発明の感光材料処理装置1は、所定の容積を有する
縦長の処理槽2を有する。この処理槽2内には、区画部
材3が着脱自在に装填される。この区画部材3は、側板
31、32を有し、これらの側板間には数個のブロック
状の部材(以下、ブロック体という)4が設置されてい
る。
チレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキサイド(
PPO)、ABS樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂等のプラスチック、アルミナ等
のセラミックスまたはステンレス、チタン、ハステロイ
等の各種金属等の硬質材料で構成されている。特に、成
形性に優れ、軽量で、十分な強度を有するという点から
、ポリプロピレン、PPO、ABS樹脂等のプラスチッ
クスで構成されているのが好ましい。
材となっているが、中空部材(例えばブロー成形により
製造される)として構成してもよい。
Sを水洗処理するための空間である5つの処理室6A、
6B、6C、6Dおよび6Eが形成される。
が満たされている。
容積は100〜2000ml程度とすればよい。
6Bと6C、6Cと6Dおよび6Dと6Eとの間には、
両処理室を連結する狭幅の通路71、72、73および
74が形成されている。
それぞれ感光材料Sを搬入および搬出するための同様の
通路75および76が形成されている。これらの通路7
1〜76の幅(有効スリット幅)は、感光材料Sの厚さ
の5〜40倍程度の0.5〜5mm程度とするのが好ま
しい。
料Sは支障なく搬送される。
路の長さは10〜200mm、好ましくは20〜60m
m程度とするのがよい。
、一対のブレード15が設置されている。
非通過時にその先端部同士が密着するように支持部材9
に固着されており、図4に示されるように、支持部材9
はブロック体4に着脱自在に取り付けられる。
その内部には、長手方向に向けて貫通するスリット部9
0が形成されている。ブレード15は、図5に示される
ように、該スリット部90の対向面90a、90bに各
々取り付けられている。
、側部材94a、94bとから構成されている。ブレー
ド15を各取り付けた取付部材91a、91bを、ブレ
ード15を対向せしめて配置し、取付部材91a、91
bの端部に前記側部材94a、94bを固定して、支持
部材9が組み立てられる。そして、取付部材91a、9
1bの間に前記スリット部90が形成され、該スリット
部90には感光材料Sが通過する。
94bは、例えばダブルインジェクション射出成形やイ
ンサート成形により、ブレード15やシール部材96と
一体的に成形してよく、別個に形成したのち組合せても
よい。なお、支持部材9の材質はブロック体4の材質と
同様であってよい。また、ブレード15とシール部材9
6の材質は、水洗水に悪影響を及ぼさないものであれば
よく、例えば天然ゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴ
ム、ブチルゴム、フッ素ゴム、イソプレンゴム、ブタジ
エンゴム、スチレンブタジエンゴム、エチレンプロピレ
ンゴム、シリコンゴム等の各種ゴム、軟質ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー樹脂
、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等の軟質樹脂等の弾性材
料が挙げられ、また、ラバロン、サーモラン、エラスト
ラン、ハイトレル、サンプレーンなどのエラストマーを
用いることもできる。
種々の構造が可能である。このように、支持部材9内の
スリット部90にブレードを取り付けて一体化すると、
ブレード交換はきわめて容易となり、ブレード対の位置
あわせ等も必要としなくなるなどの利点が生じる。
料Sの通過時には、感光材料Sの進入によって先端部が
押し広げられるような構成となっている。
拡大図が示されている。
の支持部材9に取り付けられる基部と先端に向かって厚
さが漸減する先端部を有するものから構成され、2枚の
組み合わせで用いられる。また、ブレード15は、基部
から先端部へ向けてその厚さがほぼ同一のものであって
もよい。
平均傾斜角度は一般に10〜70°程度とするのがよく
、特に20〜45°程度とするのが好ましい。
長さは、通路の有効スリット幅(w)以上の長さとすれ
ばよいが、一般にはこの2〜20倍の10〜50mmと
するのが好ましく、特に好ましくは3〜10倍の15〜
25mmとするのがよい。
15における感材の非通過時でのブレード15の先端部
同士の重なり部分の長さは、1〜10mm程度、特に2
〜5mm程度とするのがよい。
レード15の長さの1/100以上あるいは0.5mm
以上とすればよく、特に、1〜1.5mmとすればよい
。
1〜0.1kg/cm2程度、特に0.005〜0.0
2kg/cm2程度とするのが好ましい。
材料Sの非通過時におけるブレード15の先端部同士の
密着性が確保され、水洗水Wの流通を有効に遮断するこ
とができる。また、感光材料Sの通過時の水洗水Wの流
通もごくわずかなものとなる。
、ブレードの弾性力により与えられているが、ブレード
15の先端部内に磁性材料を配合し(例えば、ゴム磁石
のようなもの)、先端部同士が磁力により吸引されるよ
うにして密着力を与え、または高めることも可能である
。
ても、乳剤面のキズ付き等の悪影響はほとんど生じない
が、これが無視できない場合、または、摺動抵抗の減少
を図る場合には、ブレード15の内側面に平滑化処理を
施し、または内側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤
をコーティングする等の表面処理を施すことで対応すれ
ばよい。
支持部材9内に1対づつ設置されているが、1つの支持
部材9に対し、2対以上のブレード15を設置してもよ
い。この場合には、ブレード15による遮蔽効果やスク
イズ効果がより大きくなる。
らず、1片のブレード15として設けてもよい。この場
合には、感材の乳剤層がブレード15と接触するように
感光材料Sを搬送するのが好ましい。
5に代わる他の構成の通路遮蔽手段を設けてもよい。ブ
レードに代わる遮蔽手段としては、図6に示されるもの
が挙げられる。支持部材9のスリット部90内には、剛
体からなる一対の揺動部材150が対向面90a、90
bに位置する支点151で、それぞれ軸支されている。 そして、揺動部材150の間にはスプリング等の付勢部
材153が介設され、前記揺動部材150の先端を突き
合わせて閉じ方向へ付勢している。該揺動部材150の
突き合わされる先端には軟質部材152が被覆され、該
被覆部材152の接触により液遮断性が発揮される。な
お、揺動部材150および軟質部材152はスリット部
90内の全幅に渡って設けられている。また、揺動部材
150の支持端部には、対向面90a、90bの間にシ
ール材154が充填され液流通を実質的に遮断している
。このような構成とすると、通路を構成するスリットが
潰れても、接触圧が高くなるといった欠点は解消される
。
の取付構造について説明する。図1および図4に示され
るように、各処理室6A〜6E間に配置されているブロ
ック体4内に、前記支持部材9を嵌入する収容部41が
形成されている。収容部41は、図に示されるように、
区画部材3の外側に向けて形成され、上下面には通路7
1が臨んでいる。ここに支持部材9が嵌入されると、支
持部材9のスリット部90が通路71に対応する位置で
固定される。また、この際、支持部材9の側面に設けら
れているシール部材96は、前記収容部41の内壁およ
び処理槽2の側壁と接触して、処理室6Aと処理室6B
間の水洗水Wの流れを遮断する。
画部材3を処理槽2内へ挿入することにより、処理槽2
の側壁と区画部材3との間で位置決めされて固定される
。
材3を処理槽2より取り出すだけで、容易に支持部材9
の(ブレード15の)交換ができる構造となっている。
持部材9が嵌入係止される結果、ブロック体4にも設け
られた通路71と、支持部材9のスリット部90が連通
するような構造となっているが、この他、ブロック体4
に支持部材9が取り付けられたとき、支持部材9の長手
方向の一方あるいは両方の面が処理室6A〜6Eの内壁
として機能するように構成してもよい。
部材9は、ブレード15が劣化したのち、支持部材9ご
と新しいものと交換すればよいので、オペレータ等の操
作はきわめて容易となるが、場合によっては、既に述べ
たように、ブレード15を取りかえて再使用してもよい
。
、6B、6Dおよび6Eの中央部付近には、それぞれ1
対の搬送ローラ8が設置され、処理室6Cには、3対の
搬送ローラ8が設置されている。また、通路75の感光
材料入口付近および通路76の感光材料出口付近にも、
それぞれ1対の搬送ローラ8が設置されている。
1にて側板31、32に軸支されており、ローラ対の双
方が駆動回転し、ローラ間に感光材料Sを挟持して感光
材料Sを搬送するようになっている。
うに、図中垂直方向に延在する主軸82の所定箇所に固
定されたベベルギア83と、各搬送ローラ8の回転軸8
1の一端部に固定されたベベルギア84とが噛合し、モ
ータ等の駆動源(図示せず)の作動で主軸82を所定方
向に回転することにより、ローラ対のうちの一方の搬送
ローラ8が回転するようになっている。そして、各搬送
ローラ8の回転軸81の他端部には、ギア85が固定さ
れ、このギア85の噛合により、ローラ対の一方のロー
ラ8の回転が他方のローラ8に伝達されるようになって
いる。
洗水Wに対する耐薬品性を有するものであるのが好まし
く、例えば、ネオプレン、EPTゴム等の各種ゴム、サ
ンプレーン、サーモラン、ハイトレル等のエラストマー
、硬質塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、A
BS樹脂、PPO、ナイロン、ポリアセタール(POM
)、フェノール樹脂、ポリフェニレンスルフィド(PP
S)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテル
エーテルケトン(PEEK)、テフロン等の各種樹脂、
アルミナ等のセラミックス、ステンレス、チタン、ハス
テロイ等の耐食性を有する金属類、またはこれらを組み
合わせたものを挙げることができる。
送ローラ8と通路71〜74との間には、感光材料Sを
案内するためのガイド10aが設置されている。
で構成され、感光材料Sが通過しうる間隔を隔てて対面
設置されている。
円弧状に湾曲し、この湾曲部に沿って感光材料Sの方向
を転換する反転ガイド10bが設置されている。
えば成型プラスチックや金属の板で構成されている。ま
た、ガイド10a、10bにはガイドを貫通する開口(
図示せず)がほぼ均一に形成されているのが好ましい。 これにより水洗水Wの流通が可能となり、処理室内での
液の循環が促進されるため、水洗効率が向上する。
送ローラ8およびその駆動系により感光材料Sの搬送手
段が構成される。
Sの搬送性に支障をきたさない限り、搬送経路に沿って
部分的に設けてもよく、また、設置しなくてもよい。
端が通路76へ連通する給液路11がブロック体4を貫
通して形成されている。また、処理室6Aの上方には、
一端が開放し、他端が通路75へ連通する排液路12が
ブロック体4を貫通して形成されている。
処理槽内面に開放する給液管13および排液管14が設
置されている。そして、区画部材3を処理槽2に装填し
た状態で給液路11と給液管13、排液路12と排液管
14がそれぞれ接続される。給液管13は、水洗水Wを
供給(補充)するためのものであり、排液管14は、オ
ーバーフロー等により処理後の疲労した水洗水Wのオー
バーフロー液OFを排出するためのものである。
る板状の仕切部材17が設置されている。図7に示すよ
うに、この仕切部材17は、図中左側の斜線で示す第1
領域18と図中右側の交差斜線で示す第2領域19とを
仕切り、両領域における水洗水Wの流通を遮断するため
のものである。
する処理室6Aを含む領域であり、図示の例では2番目
に通過する処理室6Bをも含んでいる。
する処理室6Eを含む領域であり、図示の例では最後か
ら2番目に通過する処理6Dをも含んでいる。
171、172は、テーパ(図中下方へ向って幅が漸減
する)が形成され、一方、これに対応する処理槽2の両
側壁の21、22も同角度のテーパ状となっている。こ
れにより、区画部材3を処理槽2内へ挿入した際、図3
に示されるように、仕切部材17の端部171、172
が処理槽2の側壁21、22の内面に係合し、第1領域
18と第2領域19とを区画する。このとき、係合部分
は、区画部材3の自重により密着し、水洗水Wの流通を
実質的に阻止する。なお、この係合部となる端部171
、172には、弾性材料からなるシール部材が設置され
ており、水洗水Wの遮断性が高められている。仕切部材
17の端部171、172および処理槽2の側壁21、
22のテーパ角度は特に限定されないが、好ましくは、
鉛直方向に対し、1〜10°程度とされる。
ロック体4と同様のものが使用可能であり、また仕切部
材17と各ブロック体4や側板31、32とは別部材を
接合したものであっても一体的に形成されたものであっ
てもよい。
、区画部材3の高さ方向の所定位置には、側板31、3
2および仕切部材17とそれぞれ直交する隔壁20が設
置されている。前記主軸82は、この隔壁20を貫通し
、支持されている。
ある高さ位置またはその近傍とするのが好ましい。
間および側板32と側壁22との間における縦方向の水
洗水Wの流通を阻止する。なお、隔壁20が処理槽2の
側壁21、22等と接触する端部には、仕切部材17と
同様にシール部材が設置され、水洗水Wの遮断性が高め
られている。仕切部材17と隔壁20の成形方法は支持
部材9と同様であってよく、シール部材と一体成形し、
あるいは別個に形成したのち、シール部材を端面に埋設
してもよい。さらに、隔壁20の主軸82貫通部にも、
隔壁20との間にシール部材が介挿され、該貫通部にお
ける水洗水Wの流通が阻止されている。
に述べたように側壁21、22は所定の角度でテーパー
となっており、処理槽2の内において側壁21、22の
間には、処理容積の平断面が上方へ向けて広幅となるよ
うに段部23、24、25が形成され、各段部23、2
4、25の下側には、区画部材3とともに各処理室を画
成する内壁面231、241、251が形成されている
。
示すように、支持部材9を保持しているブロック体4の
下側には段部33、34、35が設けられ、該ブロック
体4の底面外端部が外側に張り出すように構成されてい
る。該段部33、34、35は各側板31、32に設け
られた隔壁20の下側面と連続した平面を形成している
。
ると、前記区画部材3の段部33、34、35が、前記
各段部23、24、25の上にそれぞれ載置される。
35の間にはシール部材26が介挿され、上下方向に密
着した区画部材3と処理槽2は各段部において液密に接
触し固定される。このような、各段部の接触によって、
上下に隣接する処理室の液流通は阻止され、各処理室間
の濃度勾配が確実に保たれることとなる。
のシール圧が、上下方向に向けられているため、狭幅の
通路を歪める方向に圧力が加わることがなく、ブレード
15の接触圧が高まることもない。
2の構成例について説明する。この構成例では、区画部
材3と処理槽2との間における、処理室6A〜6E間の
液流通の遮断は、処理室6A〜6Eの間で区画部材3側
に取り付けられたシール手段36によってなされる。本
構成例のシール手段36は通路71〜74に設けられて
いるブレードと同様の構成であって、構成材料も同様の
ものとしてよい。図9に示されているように、区画部材
3に取り付けられた前記シール手段36は、支持部材9
の下側のブロック体4から左右の隔壁20に渡って連続
的に取り付けられている。
様に側壁21、22は所定の角度でテーパーとなってお
り、図8に示されているように、側面視では垂直な矩形
状となっている。
すると、区画部材3は、前記シール手段36の先端を処
理槽2内の内壁に接触させながら下降し、処理槽2内に
収容される。
6と処理槽2との接触角度は、30〜70°程度でよい
。また、シール手段36の処理槽内壁との接触圧は、そ
の反力によって前記狭幅通路が湾曲し、ブレード15の
接触圧が増大しない程度の圧力であって、かつ十分なシ
ール効果が発揮できるものであることが望ましい。具体
的には、0.1〜6kg/cm2 程度でよく、より好
ましくは0.3〜2kg/cm2程度であるとよい。こ
の程度であればブレード15の接触圧の上昇は生じない
からである。
ブレード15を支持する支持部材9の下側に位置するた
め、例え接触圧が大きすぎて通路の湾曲が生じても支持
部材9とは別個に変形するため、ブレード15の接触圧
が高まることはない。従って、本構成例においては、シ
ール手段36として、低接触圧で十分なシール効果が発
揮できるブレードを用いているが、本構成例のような前
記位置にシール手段が設けられていれば、高い接触圧を
要するシール手段であってもブレード15の接触圧の上
昇を防止することはできる。また、上記シール手段36
は、処理槽2の内壁側に設けてあっても同様の効果を得
ることは可能である。
は、上記第1の構成例と同様である。
れている、第3の構成例について説明する。本構成例に
おいては、区画部材3の各処理室6A〜6Eを構成する
部分には外部材5を外側からそれぞれ別個に固定し、各
処理室6A〜6Eを画成する構造となっている。本構成
例では、区画部材3側に、底板37と、前記構成例にお
ける処理槽2の側壁21、22に相当する側壁材212
、222が、既に固定されている。外部材5は、ボルト
または他の固着手段によって、着脱自在に区画部材3に
固定される。そして、外部材5の区画部材3側の面には
、外部材5の外端辺に沿ってシール部材51が埋設され
ており、区画部材3への装着時には、外部への液漏れを
防止する。シール部材51の材質は、既に述べたシール
部材96と同様のものであってよい。このように、各外
部材5を別個に取り付ける構造とすれば、各処理室6A
〜6E間の液流通は狭幅通路を介して行なわれるものに
限られ、他の部分の液漏れによる液流通はなくなる。 また、シール性が維持される程度に締め付ければよく、
支持部材9の変形による狭幅通路の湾曲や、その湾曲に
よるブレード接触圧の上昇も少ない。なお、外部材5の
固定手段は、図13に示されるように、区画部材3側の
側壁材212、222の端部にフランジ状の係合部21
3、223を設け、外部材5の前記係合部213、22
3に対向する端辺には、外側から着脱自在に前記係合部
213、223と係合する係合手段52を回動自在に設
けた構造としてもよい。このような構造とすることによ
って、外部材5の着脱を極めて容易かつ迅速にすること
ができる。例えば、処理室内でジャミングが生じた場合
には、詰った処理室の外部材5のみを取り外して感材を
取り除くことができ、さらにこの際、他の処理室の処理
液を取り除くことなく、かつその処理液濃度を維持した
まま、事故処理ができるといった利点がある。
動作について説明する。
液口13から水洗水Wが供給され、処理室6A〜6Eお
よび狭幅の通路71〜74には水洗水Wが満たされる。
光材料Sが通ると、ブレード15の間に隙間ができ、水
洗水Wを補充すれば少量の液流通が生ずる。
って生じたブレード15の隙間によって規定される。そ
して、この補充時には、排液管14から補充量とほぼ同
量のオーバーフロー液OFが排出される。
に、処理室6A、6B、6C、6D、6Eの順に搬送さ
れる。従って、水洗水Wの流れ方向は、感光材料Sの搬
送方向と逆方向(カウンターフロー)である。これによ
っても水洗効率は向上する。そして、処理が終了し、感
光材料Sが処理室6Eの上方の通路76外へ搬出される
と、これと同時に水洗水Wの補充は停止される。
剤の前浴からの持ち込み等に起因する各処理室6A〜6
Eにおける水洗水Wの汚れの度合は、ブレード15のス
クイズ効果により、前の処理室から後の処理室への持ち
込みが極めて少なくなることから、またブレード15の
液の遮断性が極めて大きいことから、さらには上記のよ
うにカウンターフローで水洗水Wが供給されることから
、処理室6Aで大きく、処理室6B、6C、6D、6E
と次第に小さくなり、そして、このような各処理室6A
〜6Eにおける液組成勾配は極めて良好に維持される。
を大幅に減少することができる。ブレード15の作用に
よる処理室の濃度勾配やスクイズ効果によって、補充量
は、従来に比べて30〜80%程度の補充量に低減でき
る。このような、少ない補充量としても水洗不良などに
よるステインの発生は全くない。
)には、ブレード15によって隣接処理室間での水洗水
Wの流通が遮断され、水洗水Wの混合はほとんど生じる
ことはない。この結果、処理を長期にわたり休止し、そ
の後再開するような場合においても、直ちに効率のよい
水洗処理を行なうことができる。
制御は、公知の制御方式および手段を用いて行なえばよ
い。
洗処理装置に適用した例を挙げて説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、種々の処理に適用する
ことができる。
有する処理(例えば、安定、定着、調整、反転等)につ
いては前記水洗処理装置と同様の構成とすればよい。
なる2種以上の処理液をそれぞれ異なる処理室から供給
して処理することも可能である。本発明の感光材料処理
装置は、上記の他、現像処理や、漂白、定着、漂白定着
の単独処理等、種々の処理に適用することができ、この
とき、液の給排液管等を適宜選択することにより処理液
の流れを変えて使用することができる。
着液のような感材中のハロゲン化銀等と反応する化合物
を含む処理液では、前記水洗水と異なり、処理液の流れ
は、感光材料Sの搬送方向と同方向(パラレルフロー)
となるようにするのが処理効率の向上にとって好ましい
。なお、定着機能を有する処理液については、前述した
ように、感材中の不要物質の洗い出し効果もあるため、
処理液の流れを感光材料Sの搬送方向と逆方向(カウン
ターフロー)としてもよい。
白現像液、発色現像液、漂白液、定着液、漂白定着液、
停止液、調整液、反転液等の種々の処理液は、公知のい
ずれのものであってもよく、これら処理液の詳細につい
ては、日本写真学会編「写真工学の基礎」コロナ社刊(
昭和54年)P299「第4章現像処理」等の記載を参
照することができる。
対象とされる感光材料の種類は特に限定されず、カラー
および黒白感光材料のいずれであってもよい。例えば、
カラーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラーポジ
フィルム、カラー印画紙、カラー反転印画紙、製版用写
真感光材料、X線写真感光材料、黒白ネガフィルム、黒
白印画紙、マイクロ用感光材料等が挙げられる。
動現像機、携帯型ネガ現像機、湿式の複写機、プリンタ
ープロセッサー、ビデオプリンタープロセッサー、写真
プリント作成コインマシーン、検版用カラーペーパー処
理機等の各種感光材料処理装置に適用することができる
。
が、本発明は、これらに限定されるものではない。
処理室間に処理液の液組成勾配が形成され、しかも、こ
の液組成勾配が維持され、かつ、常時補充液の必要な液
流通を確保できるといった利点があり、各処理室間の液
流通を遮断しつつ、ブレードの接触圧を適正なものに保
つことができる。その結果、ブレードの接触圧等の上昇
によるジャミング事故や、処理ムラなどの発生を防止す
ることができる。
す断面側面図である。
る。
図である。
ある。
断面図である。
よび第2領域を示す模式図である。
す断面側面図である。
段の取付構造を示す区画部材の部分斜視図である。
示す断面側面図である。
画部材の部分斜視図である。
画部材の部分斜視図である。
処理槽21、22
側壁 212、222 側壁材 213、223 係合部 23、24、25段部 26 シール部材3
区画部材31、32 側
板 33、34、35段部 36 シール手段37
底板 4 ブロック体41
収容部 5 外部材51
シール部材52
係合手段6A〜6E 処理室 71〜76 通路 8 搬送ローラ81
回転軸 82 主軸 83、84 ベベルギア 85 ギア 9 支持部材90
スリット部91a、91b 取付部
材 94a、94b 側部材 95 突出部 96 シール部材10a
ガイド 10b 反転ガイド11
給液路 12 排液路 13 給液管 14 排液管 15 ブレード17
仕切部材171、172 端部 18 第1領域19
第2領域20
隔壁
Claims (3)
- 【請求項1】 処理槽と、該処理槽内に着脱自在に収
納されて、上下方向に連設された複数の処理室を形成す
る区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理室間を
連結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前記狭幅
通路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前記通
路内における処理液の流通を実質的に遮断するブレード
を設けた感光材料処理装置であって、前記処理槽の内壁
には、前記区画部材の連設する処理室の間で上下方向に
液密に密着する段部を形成し、該段部の密着部分におい
て上下に隣接する処理室間の液流通が遮断されることを
特徴とする感光材料処理装置。 - 【請求項2】 処理槽と、該処理槽内に着脱自在に収
納されて、上下方向に連設された複数の処理室を形成す
る区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理室間を
連結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前記狭幅
通路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前記通
路内における処理液の流通を実質的に遮断するブレード
を設けた感光材料処理装置であって、連設する処理室間
において、区画部材と処理槽の間には低接触圧で液遮断
性の良いシール手段が介設されていることを特徴とする
感光材料処理装置。 - 【請求項3】 複数の処理室と、該処理室を連結する
狭幅通路とを有し、前記各処理室と狭幅通路内に処理液
を満たし、前記狭幅通路内に、前記通路内における処理
液の流通を実質的に遮断するブレードを設けた感光材料
処理装置において、内部に前記狭幅通路を有する区画部
材と、外側から前記区画部材に液密に取り付けられて前
記処理室を画成する外部材とを有し、前記外部材が連設
する処理室間の液流通を遮断することを特徴とする感光
材料処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6906291A JP2696762B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6906291A JP2696762B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 感光材料処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04281452A true JPH04281452A (ja) | 1992-10-07 |
JP2696762B2 JP2696762B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=13391710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6906291A Expired - Fee Related JP2696762B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2696762B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6702485B2 (en) | 2001-05-16 | 2004-03-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus and pleated cartridge filter |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6906291A patent/JP2696762B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6702485B2 (en) | 2001-05-16 | 2004-03-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus and pleated cartridge filter |
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---|---|
JP2696762B2 (ja) | 1998-01-14 |
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