JP2002160943A - 非晶質材料の加工方法及びガラス基板 - Google Patents

非晶質材料の加工方法及びガラス基板

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 均一な突起高さを有する表面凸部を非晶質材
料の所望位置に形成することができるようにした。 【解決手段】 無機ガラス１の表面にダイヤモンド製の
圧子２を所定の加圧力で押し当てて高密度化された圧縮
層４を形成し、次いで前記無機ガラス１をフッ酸を含有
する酸性エッチング液に浸漬して第１のエッチング処理
を行い、さらにｐＨ１１以上の水酸化カリウム水溶液等
のアルカリ性エッチング液に前記無機ガラス１を浸漬し
て変質層７を除去する第２のエッチング処理を行い、無
機ガラス１の表面に微小凸部５を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は無機ガラス材料等の
非晶質材料の加工方法、及び該非晶質材料を使用したガ
ラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】非晶質材料としてのガラスは、高い硬度
と均質な物性を有し、安価で経済性に優れていることか
ら、従来から多岐にわたる分野で使用されている。
【０００３】すなわち、表面に微小な突起が形成された
ガラス基板は、液晶表示素子では前記突起が所謂セルギ
ャップのギャップ長を決定する役割を果たし、セルギャ
ップ調整用のガラスビーズを使用することなく、所望の
セルギャップを有する液晶表示素子を製造することがで
きる。
【０００４】また、この種の微小な突起や微小な凹凸が
表面に形成されたガラス基板は、光ディスクや光磁気デ
ィスクでも前記微小な凹凸が信号読取に重要な役割を果
たし、また、規則正しく配列された突起を有する光回折
格子を製造する上でもガラス基板は重要な部品となって
いる。
【０００５】そして、この種のガラス基板は、ハードデ
ィスクドライブ（ＨＤＤ）の磁気ディスク用基板にも広
く使用されている。
【０００６】ところで、ＨＤＤでは、一般に、ディスク
が静止しているときは磁気ヘッドがディスク表面に接触
し、ＨＤＤが起動すると磁気ヘッドをディスクから僅か
に浮かせた状態でディスクを高速回転させるＣＳＳ（Co
ntact Start Stop）方式と呼称される駆動方式が採用さ
れている。
【０００７】そして、ＨＤＤをＣＳＳ方式で駆動させる
場合、起動時から磁気ヘッドを浮かせる際に、磁気ヘッ
ドがディスクに固着したり或いは起動・停止時の摩擦を
低減させるために、テクスチャと呼称される微小凹凸を
ガラス基板の表面に形成することが一般に行われてい
る。すなわち、ガラスは脆性材料であり塑性材料に比べ
ると形状加工が著しく困難ではあるが、ディスク基板と
しての有用性から、従来より、ガラス基板の表面に微小
凹凸を形成する様々な方法が開発され、実用化されてい
る。
【０００８】例えば、特開昭６４−４２０２５号公報に
は、フッ素を含む薬液、又はフッ化水素ガスを使用して
エッチング処理を行い、これによりガラス基板上に微小
凹凸を形成した技術が開示されている（第１の従来技
術）。
【０００９】また、特開平７−２９６３８０号公報に
は、ガラス基板を結晶化処理し、その表面を鏡面研磨し
た後、フッ酸に硫酸又はフッ化アンモニウムを加えたエ
ッチング液により処理し、ガラス基板表面に微細な凹凸
を形成した技術が開示されている（第２の従来技術）。
【００１０】さらに、特開平８−２４９６５４号公報に
は、超微粒子を単分散化した状態で基板に塗布し、次い
でドライエッチングにより表面保護層をエッチングした
後、超微粒子を除去して基板の表面に微細な凹凸を形成
した技術が開示されている（第３の従来技術）。
【００１１】また、特開平７−１８２６５５号公報や特
開平９−１９４２２９号公報には、所定エネルギのレー
ザをガラス基板の表面に照射してレーザ照射部位を隆起
させ、これによりガラス基板の表面に突起部を形成した
技術が開示されている（第４の従来技術）。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
１の従来技術では、所定の化学組成を有するガラスに対
し、フッ素を含む薬液、又はフッ化水素ガスを使用して
エッチング処理を行っているのみであるため、形成され
る表面凹凸は突起高さも不規則な粗面となり、均一な突
起高さを有するテクスチャを得ることは困難であるとい
う問題点があった。
【００１３】また、上記第２の従来技術は、ガラス基板
を結晶化処理して結晶化層と非晶質層とを形成し、結晶
層と非結晶層とでエッチング速度が異なることを利用し
てガラス基板上に表面凹凸を形成したものであり、した
がって通常の均質なガラス材には適用することができな
いという問題点があった。
【００１４】さらに、上記第３の従来技術では、基板上
に超微粒子を被着し、ドライエッチングを行った後、超
微粒子を除去しているので、通常の金属性マスクでマス
キングしてエッチング処理を施す場合と異なり、微小な
表面凹凸を形成することは可能と考えられるが、ドライ
エッチングはエッチング速度が遅く、このためコストの
高騰化を招き、大量生産には不向きであるという問題点
があった。
【００１５】また、上記第４の従来技術は、ガラス基板
の表面にレーザを照射しているため、特定波長のレーザ
光に対し大きな吸光係数を持つガラス材に加工対象が限
定されるという問題点があった。また、該第４の従来技
術では、形成される凸部の突起高さはレーザ光の出力に
極めて敏感であるため、所望の突起高さを有する均一な
凸部を得ることは困難であるという問題点があった。
【００１６】このように第１乃至第４の従来技術では、
未だ均一な突起高さを有する微小凹凸、特に微小凸部を
工業的に大量生産することができないという問題点があ
った。しかも、近年、ＨＤＤの分野においては、ディス
クのより一層の高密度化が要請されてきており、ディス
クの高密度化に伴ってガラス基板の表面凹凸の突起高さ
を極力低くし且つ該突起高さの均一性が要求されてきて
いる。
【００１７】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
のであって、均一な突起高さを有する表面凸部を非晶質
材料の所望位置に形成することができる非晶質材料の加
工方法及び該非晶質材料を使用した磁気ディスク用基板
を提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、均一な突
起高さを有する微小凸部を非晶質材料の所望位置に形成
すべく、鋭意研究した結果、無機ガラス等の非晶質材料
は常温においても高圧力で加圧することにより塑性流動
を起こして高密度化し、高密度化された圧縮層と該圧縮
層以外の非圧縮層とでは異なる化学的特性を有するとい
う知見を得た。
【００１９】そして、さらに本発明者等が研究を進めた
ところ、前記圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除去
能力の異なる処理液を使用して前記非晶質材料の表層面
の除去処理を行うことにより、前記圧縮層を凸形状に加
工することができるという知見を得た。
【００２０】本発明はこれらの知見に基づきなされたも
のであって、本発明に係る非晶質材料の加工方法は、非
晶質材料の表面に対し部分的に所定の加圧力を負荷して
高密度化された圧縮層を形成し、次いで該圧縮層と該圧
縮層以外の非圧縮層とで除去能力の異なる処理剤を使用
して前記非晶質材料の表層面を除去し、前記圧縮層を凸
形状に加工することを特徴とし、また、前記非晶質材料
は、具体的には無機ガラスであることを特徴とし、さら
に前記処理剤は、前記圧縮層と前記非圧縮層とでエッチ
ング速度の異なるエッチング液であることを特徴として
いる。
【００２１】また、エッチング液としては、無機ガラス
に対して大きなエッチング作用を呈することのできる酸
を含有した酸性溶液、特にフッ酸を含有した酸性エッチ
ング液を使用するのが好ましい。
【００２２】ところで、酸性エッチング液でエッチング
処理を行うと、無機ガラスを構成する成分の一部が酸性
エッチング液に溶出し、非圧縮層の表面に変質層が形成
される。そして、本発明者等の研究結果により、該変質
層はアルカリ性エッチング液でエッチング処理を行うこ
とにより除去することができるということが判明した。
【００２３】そこで、本発明の非晶質材料の加工方法
は、前記酸性エッチング液で第１のエッチング処理を行
った後、アルカリ性エッチング液で第２のエッチング処
理を行うことを特徴としている。
【００２４】このように第１のエッチング処理を行った
後、アルカリ性エッチング液で第２のエッチング処理を
行うことにより、前記変質層を除去することができるの
で、ガラス表面とガラス内部とで同質に保つことがで
き、また、表面凸部の突起高さが高くなるので、高い突
起高さが必要とされる用途に好適した非晶質材料を得る
ことができる。
【００２５】また、非晶質材料である無機ガラスはケイ
素酸化物を主成分とするものであるが、該無機ガラスに
アルミニウム酸化物が含有されている場合は、アルミニ
ウム酸化物が酸性溶液に溶出し易いため、酸性エッチン
グ液によりエッチング処理が促進される。しかも、アル
ミニウム酸化物は酸以外の薬品に対しては耐蝕性に優れ
ている。したがって、高密度化された圧縮層は緻密化さ
れたケイ素酸化物がその他の成分の溶出を妨げる一方、
非圧縮層ではアルミニウム酸化物が酸性エッチング液に
より選択的にエッチングされ、その結果無機ガラス表面
には微小凸部が容易に形成される。
【００２６】したがって、前記非晶質材料が、少なくと
もケイ素酸化物と、アルミニウム酸化物とを含有してい
るのが好ましい。
【００２７】また、アルカリ土類金属酸化物はキレート
剤を含有したアルカリ性溶液に溶出し易く、また、耐水
性に優れている。したがって、非晶質材料中にアルカリ
土類金属酸化物が含まれている場合は、キレート剤を含
有したアルカリ性エッチング液によりアルカリ土類金属
酸化物が選択的にエッチングされ、アルカリ性エッチン
グ液によるエッチング処理のみでもガラス表面に微小凸
部を形成することが可能となる。
【００２８】そこで、本発明は、前記エッチング液は、
キレート剤を含有したアルカリ性溶液であることを特徴
とし、また前記非晶質材料は、少なくともケイ素酸化物
と、アルカリ土類金属酸化物から成る群から選択された
少なくとも１種以上の酸化物とを含有することを特徴と
するのも好ましい。
【００２９】また、非晶質材料の表面に圧縮層を形成す
るためには、非晶質材料の硬度よりも大きな硬度を有す
る部材で前記非晶質材料を押圧する必要がある。
【００３０】そこで、本発明は、前記圧縮層は、前記非
晶質材料の硬度よりも大きな硬度を有する圧子を押圧し
て形成することを特徴とし、或いは前記圧子を非晶質材
料の表面に押し当てた状態で前記表面上を相対移動さ
せ、前記圧縮層を形成することを特徴としている。
【００３１】また、非晶質材料の表面に前記圧縮層を形
成するためには、前記圧子をプローブに用いると微細な
加工を施すことができる。
【００３２】特に、前記プローブが、走査型プローブ顕
微鏡のプローブである場合、微細な加工を確実に行うこ
とができる。
【００３３】また、その他の表面凸部を形成する方法と
しては、非晶質材料の硬度よりも大きな硬度を有する微
粒子を前記非晶質材料の表面に衝突させて一度に多量の
表面凸部を形成するのも好ましい。
【００３４】前記微粒子は、非晶質材料の表面損傷を避
ける観点から、スラリ状であることを特徴としている。
【００３５】また、圧縮層は圧子を押し当てて形成され
ているため、通常、圧子の底面形状に対応した窪み部が
圧縮層の頭頂部に形成される。したがって、圧縮層を形
成した後、表面層の除去処理を行う前に、必要に応じて
表面処理を行い、窪み部を除去するようにしてもよい。
【００３６】すなわち、前記圧縮層を形成した後、該圧
縮層に表面処理を施し、その後、前記処理剤を使用して
前記表層面を除去するのも好ましい。
【００３７】また、前記表面処理は、非晶質材料の表面
損傷を避ける観点からは、前記非晶質材料の硬度と同等
以下の硬度を有する遊離砥粒、例えばコロイダルシリカ
で研磨するのが好ましい。
【００３８】また、本発明に係るガラス基板は、非晶質
材料が多成分系無機ガラスで構成されると共に、上記非
晶質材料の加工方法により凸部が形成されていることを
特徴としている。
【００３９】上記加工方法により得られた非晶質材料
は、突起高さが高く均一で微細な凸部を多数且つ任意の
パターンで、例えば同心円状に分布させることが可能で
あるので、ガラス基板を磁気ディスク用基板に使用し、
ＣＳＳ方式で駆動したときでも、起動時に磁気ヘッドが
基板に固着するのを防止することができ、さらに走行中
における磁気ヘッドと基板との間隙変動や磁気ヘッドと
基板との衝突による読取エラーを防止することができ、
ノイズ特性に優れた磁気ディスク基板を得ることができ
る。
【００４０】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳説する。
【００４１】図１は本発明に係る非晶質材料の加工方法
の一実施の形態（第１の実施の形態）を示す製造工程の
説明図である。
【００４２】図１（ａ）において、１は非晶質材料とし
ての無機ガラス１であって、本実施の形態では、酸性溶
液及びアルカリ性溶液に対するエッチング性や磁気ディ
スク用基板として使用した場合の特性を考慮し、その組
成範囲が、ＳｉＯ2：５５mol％〜７２mol％、Ａｌ
2Ｏ3：１mol％〜１２．５mol％、アルカリ土類金属酸化
物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ）：総計で２mo
l％〜１６mol％、Ｌｉ2Ｏ：５mol％〜２０mol％、Ｎａ2
Ｏ：１２mol％以下とされている。
【００４３】以下、その限定理由について述べる。
【００４４】ＳｉＯ2は無機ガラスを構成する主要成分
であり、含有率が５５mol％未満になるとガラスの耐久
性が悪化する一方、７２mol％を超えると粘度が上がり
過ぎて溶融が困難になる。そこで、本実施の形態ではＳ
ｉＯ2の含有率を５５mol％〜７２mol％に設定した。
【００４５】Ａｌ2Ｏ3はガラスの耐久性を向上させる成
分であり、また酸性エッチング液に対して溶出し易い成
分である。しかしながら、その含有率が１mol％未満で
は所期の作用効果を奏することができず、一方その含有
率が１２.５mol％を超えると粘度が上がり過ぎて耐失透
性が低下し、溶融が困難になる。そこで、本実施の形態
ではＡｌ2Ｏ3の含有率を１mol％〜１２．５mol％に設定
した。
【００４６】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ等はア
ルカリ土類金属酸化物であるが、斯かるアルカリ土類金
属酸化物は無機ガラスの溶融性を高める他、キレート剤
を含有したアルカリ性溶液に対して溶出し易く、したが
って該アルカリ性エッチング液に対してエッチング処理
を促進する。しかしながら、その含有率が２mol％以下
では所期の作用効果を奏することができず、一方、その
含有率が１６mol％を超えるとガラスの液相温度が上昇
し、耐失透性が悪化する。そこで、本実施の形態ではア
ルカリ土類金属酸化物であるＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及
びＢａＯの含有率を総計で２mol％〜１６mol％に設定し
た。
【００４７】Ｌｉ2Ｏはガラス溶融時の溶融性を高める
成分であるが、その含有率が５mol％未満の場合は、粘
度が上がって溶融が困難になり、一方、その含有率が２
０mol％を超えると化学的耐久性が悪化する。そこで、
本実施の形態ではＬｉ2Ｏの含有率を５mol％〜２０mol
％に設定した。
【００４８】Ｎａ2Ｏもガラス溶融時の溶融性を高める
成分であるが、その含有率が１２mol％を超えると化学
的耐久性が悪化する。このため、本実施の形態ではＮａ
2Ｏの含有率を１２mol％以下に設定した。
【００４９】尚、これらＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ等のアルカリ
金属酸化物を無機ガラス１中に含有させることにより、
イオン交換による化学強化が可能となる。
【００５０】さらに、上記無機ガラス１は、本発明が要
求している諸特性を損なわない範囲でＦｅ2Ｏ3、Ｍｎ
Ｏ、ＮｉＯ、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯなどの着色剤等を適宜含
有させることができる。
【００５１】以上のような、磁気ディスク用基板として
の組成を有する無機ガラス１の他にも、例えば、Ａｌ2
Ｏ3に加えてＢ2Ｏ3を含む無機ガラスや、無アルカリガ
ラス、光学用途向けに屈折率を制御するための成分を有
する無機ガラスに対しても、本発明は有効である。
【００５２】次いで、図１（ａ）の矢印Ａに示すよう
に、圧子２を無機ガラス１の表面に押し当て、図１
（ｂ）に示すように無機ガラス１の表面に窪み部３を有
する圧縮層４を形成する。この処理を繰り返し実行して
複数の所望の位置の各々に圧縮層４を形成する。
【００５３】圧子２は無機ガラス１の硬度よりも大きな
硬度を有する必要があり、ダイヤモンド製や超硬合金製
の材料を使用することができる。また、圧子２の形状と
しては錐形形状が好ましく、錐形の底面形状としては所
望の突起形状に応じて四角錐形状等の任意の形状を使用
することができるが、クラックの発生を防止する観点か
らは、球面等の圧縮力の分布が均一で稜線を有さない形
状が好ましい。
【００５４】また、圧子２として、プローブを用いるこ
とができる。前記プローブとして、例えば走査型プロー
ブ顕微鏡（ＳＰＭ）用のプローブも用いることができ
る。ＳＰＭを用いることにより、μｍオーダの微小な領
域に圧縮層４のパターンを任意の位置に制御性良く形成
することが可能である。このときプローブで無機ガラス
１の表面を掃引することにより、圧縮層４は点状だけで
なく、線状や面状に形成することができる。また、用い
ることができるプローブの材質や形状は特に限定されな
い。
【００５５】さらに、圧子２を無機ガラス１に押し当て
る際の加圧力は、本実施の形態では例えば、ダイヤモン
ド製の圧子２の場合、荷重０．３ＧＰａ〜４ＧＰａに設
定されている。すなわち、荷重が０．３ＧＰａ未満の場
合は無機ガラス１の表面に圧縮層４を形成することがで
きず、一方、荷重が４ＧＰａを超えるとクラック等の破
壊が生じる虞がある。そこで、本実施の形態では圧子２
により無機ガラス１に負荷される荷重を、大概０．３Ｇ
Ｐａ〜４ＧＰａに設定した。
【００５６】次に、圧縮層４が形成された無機ガラス１
を酸性エッチング液に浸漬して第１のエッチング処理を
行って無機ガラス１の表層面を除去し、これにより図１
（ｃ）に示すように、圧縮層４部分に微小凸部５が形成
され、さらに、圧縮層４以外の非圧縮層６からはＳｉＯ
2以外の成分が溶出して変質層７を形成する。
【００５７】すなわち、無機ガラス１の組成中には耐酸
性が強い成分と耐酸性が弱い成分とがある。具体的に
は、ＳｉＯ2は耐酸性が強く、Ａｌ2Ｏ3、アルカリ金属
酸化物（Ｌｉ2Ｏ及びＮａ2Ｏ）、アルカリ土類金属酸化
物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ等）は酸に浸蝕
され易いという特質を有する。
【００５８】したがって、高密度化された圧縮層４は緻
密化したＳｉＯ2がその他の成分の溶出を妨げるため酸
性エッチング液によってエッチングされ難い一方で、非
圧縮層６はＳｉＯ2成分以外の成分は酸性エッチング液
によって選択的にエッチングする。そして、これにより
非圧縮層６ではエッチングが促進され、圧縮層４は微小
凸部５となって残存する。
【００５９】さらに、上述したように非圧縮層６はＳｉ
Ｏ2成分以外の成分を酸性エッチング液は選択的にエッ
チングするが、その結果、ＳｉＯ2以外の成分が溶出
し、非圧縮層６の表面には多孔質な変質層７が形成され
る。
【００６０】尚、酸性エッチング液としては、硫酸、硝
酸、塩酸、フルオロ酢酸等の水溶液を使用することがで
きるが、所望のエッチング処理を迅速に行なうためには
強酸の水溶液であることが望ましく、特に濃度が０．０
０５vol％以上のフッ酸を含有した水溶液はエッチング
作用に優れ、最も好ましい。
【００６１】次いで、アルカリ性エッチング液に浸漬し
て第２のエッチング処理を行い、図１（ｄ）に示すよう
に、変質層７を除去する。すなわち、変質層７は化学的
に不安定な多孔質部分であり、無機ガラス１の表面から
ＳｉＯ2以外の成分が溶出した部分であるため、斯かる
変質層７を除去することにより、ガラス表面をガラス内
部と同様、化学的に安定した構造にする。
【００６２】尚、アルカリ性エッチング液としては、例
えばｐＨ１１以上の水酸化カリウム水溶液や、市販のア
ルカリ洗浄液の希釈液を使用することができる。
【００６３】また、アルカリ土類金属酸化物は、キレー
ト剤を含有したアルカリ性溶液に溶出し易く、斯かる観
点からキレート剤を含有したアルカリ性エッチング液で
第２のエッチング処理を行うのも好ましい。
【００６４】ここで、キレート剤としては、ＥＤＴＡ
（エチレンジアミン四酢酸）、ＮＴＡ（ニトリロ三酢
酸）等のアミノカルボン酸、シュウ酸等の多価カルボン
酸、ＳＴＰＰ（トリポリリン酸ナトリウム）等のリン酸
塩を使用することができる。
【００６５】このように本第１の実施の形態によれば、
圧縮層４を形成し、圧縮層４と非圧縮層６とでエッチン
グ性の相違を利用して圧縮層４を形成した部分に微小凸
部５を形成しているので、突起高さが均一な微小凸部５
を任意のパターンで無機ガラス１表面に形成することが
できる。
【００６６】図２は本発明の第２の実施の形態を示す製
造工程の説明図であって、本第２の実施の形態では、図
２（ａ）に示すように、無機ガラス１の表面に球形の圧
子８を押し当て、次いで矢印Ｂ方向に掃引し、圧子８の
移動軌跡に沿って線状の圧縮層９を形成する。この処理
を繰り返し実行して複数の所望の位置の各々に圧縮層９
を形成する。
【００６７】次いで、第１の実施の形態と同様、酸性エ
ッチング液、好ましくはフッ酸水溶液に浸漬して第１の
エッチング処理を施して表層面を除去し、これにより、
図２（ｂ）に示すように、線状の微小凸部１０及び変質
層１１が形成される。
【００６８】次いで、アルカリ性エッチング液で変質層
１１を除去し、図２（ｃ）に示すように、線状の微小凸
部１０が形成された無機ガラス１が製造される。
【００６９】このように圧子８を掃引して圧縮層９を形
成することによっても、第１の実施の形態と同様、突起
高さが均一な微小凸部１０を任意のパターンで無機ガラ
ス１表面に形成することができる。
【００７０】また、圧縮層４を形成する他の方法として
は、例えば、無機ガラス１よりも大きい硬度を有する微
粒子を無機ガラス１の表面に衝突させ、無機ガラス１の
表面に多数の圧縮層４を一度に形成することができる。
微粒子を衝突させる方法としては、例えば、空気を媒体
として微粒子を無機ガラス１に吹き付けるエアブラスト
法、水等の液体を媒体としてスラリ状にした微粒子を無
機ガラス１に吹き付けるウエットブラスト法等が挙げら
れる。特に後者は、液体を媒体としているので、個々の
微粒子を凝集させずに無機ガラス１の表面に衝突させる
ことができ、また噴射スピードを制御しやすいので、過
圧による傷やクラックの発生がほとんど無く、無機ガラ
ス１の表面に均一に圧縮層４を形成することが可能であ
るので、圧縮層４の形成方法としてより好ましい。
【００７１】さらに、圧縮層４を形成する際には、図１
（ｂ）に示すように、窪み部３が形成されるため、該窪
み部３を残存させた状態でエッチング処理した場合は、
微小凸部５の形状は、図１（ｄ）に示すように、略Ｖ字
状、又はカルデラ状になる場合がある。したがって無機
ガラス１の用途によっては表面処理を行って窪み部３を
除去した後、エッチング処理を施すようにしてもよい。
【００７２】ここで、表面処理としては、無機ガラス１
に傷等が付かないようにする必要があり、したがって無
機ガラス１の硬度と同等又はそれ以下の硬度を有する遊
離砥粒を使用して研磨処理するのが好ましく、また、遊
離砥粒は球形であるのが好ましく、例えばコロイダルシ
リカを使用することができる。
【００７３】さらに、上述したようにアルカリ土類金属
はキレート剤を含有したアルカリ性溶液に対して溶出し
易いため、アルカリ土類金属を含有した化合物、すなわ
ち、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ等は前記アルカ
リ性エッチング液に対して選択的にエッチングされ、し
たがって、突起高さが小さくてもよい場合は、アルカリ
性溶液によるエッチングのみでも可能、即ち、酸性エッ
チング溶液を使用したエッチングを省略することも可能
である。
【００７４】また、上記非晶質材料を磁気ディスク用基
板として使用する場合は、アルカリ性エッチング液によ
る第２のエッチング処理の後、化学強化処理を行ってガ
ラス基板の表面圧縮応力を高めるのが好ましい。すなわ
ち、例えば、温度３６０℃〜３８０℃下、所定の容量比
に調合された硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの溶融塩
に０．５時間〜４時間浸漬し、無機ガラス中のアルカリ
イオンをより大きなイオン半径を有するアルカリイオン
にイオン交換して表面圧縮応力を高め、これにより磁気
ディスクを高速回転させても破損するのを防止すること
ができる。
【００７５】そして、上記加工方法により得られた非晶
質材料は、突起高さが均一で微細な凸部を多数且つ任意
のパターンで、例えば同心円状に分布させることが可能
であるので、上記非晶質材料を磁気ディスク用基板とし
て使用した場合、ＣＳＳ方式で駆動したときでも起動時
に磁気ヘッドが基板に固着するのを防止することがで
き、さらに走行中における磁気ヘッドと基板との間隙変
動や磁気ヘッドと基板との衝突による読取エラーを防止
することができ、ノイズ特性に優れた磁気ディスク基板
を得ることができる。
【００７６】
【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。
【００７７】表１は本実施例で使用した無機ガラス１の
組成一覧であり、本発明者等は表１に示す組成１〜組成
８のいずれかの無機ガラス１を使用して、以下のような
試験片（実施例１〜１３及び比較例１，２）を作製し、
表面凸部の状態（底面直径及び突起高さ）を観察した。
【００７８】
【表１】
【００７９】〔実施例１〕組成１の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、温度４６０℃で２時間保持し、研磨による歪
みを除去した。次いで無機ガラス１の表面に頂角１３６
°の四角錐形状に形成されたダイヤモンドからなる圧子
２を荷重５ｇ（３ＧＰａ）で１５秒間押し当て、これに
より２５箇所の窪み部３を有する圧縮層４を形成した。
そしてこの後、遊離砥粒としてのコロイダルシリカが混
入したスラリを使用して２００ｎｍ研磨し、前記窪み部
３を除去した。次に、窪み部３が除去された無機ガラス
１を濃度０．０２５vol％のフッ酸水溶液に浸漬して、
エッチングし、その後ｐＨ１２のアルカリ性エッチング
液に浸漬して変質層７を除去し、実施例１の試験片を作
製した。
【００８０】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には微
小凸部５が形成され、その形状は、底面が一辺４μｍの
略正方形の山形形状であった。また、突起高さは１２０
ｎｍ±５ｎｍであり、突起高さのバラツキの小さい、均
一な微小凸部５が形成された。
【００８１】〔実施例２〕組成１の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、無機ガラス１の表面に頂角１３６°の四角錐
形状に形成されたダイヤモンドからなる圧子２を荷重１
０ｇ（１．５ＧＰａ）で１５秒間押し当て、これにより
窪み部３を有する圧縮層４を形成した。次に、圧縮層４
が形成された無機ガラス１を濃度０．１５vol％のフッ
酸水溶液に浸漬して、エッチングし、その後ｐＨ１２の
アルカリ性エッチング液に浸漬して変質層７を除去し、
実施例２の試験片を作製した。
【００８２】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には微
小凸部５が形成されたが、実施例１と異なり、圧縮層４
形成後に表面処理を行っていないので窪み部３が残存
し、その形状は、底面が一辺８μｍの略正方形のカルデ
ラ形状であった。また、フッ酸水溶液の濃度が実施例１
よりも濃く、このため非圧縮層６でのエッチングが促進
され、その結果、外輪山部分の突起高さは７００ｎｍで
あった。
【００８３】〔実施例３〕組成１の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、温度４６０℃で２時間保持し、研磨による歪
みを除去した。次いで無機ガラス１の表面に頂角１３６
°の四角錐形状に形成されたダイヤモンドからなる圧子
２を荷重１ｇ（０．６ＧＰａ）で１５秒間押し当て、こ
れにより窪み部３を有する圧縮層４を形成した。そして
この後コロイダルシリカが混入したスラリを使用して１
００ｎｍ研磨し、前記窪み部３を除去した。次に、窪み
部３が除去された無機ガラス１を濃度１vol％の硫酸水
溶液に浸漬して、エッチングし、その後ｐＨ１２のアル
カリ性エッチング液に浸漬して変質層７を除去し、実施
例３の試験片を作製した。
【００８４】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には微
小凸部５が形成され、その形状は、底面が一辺４μｍの
略正方形の山形形状であった。また、酸性エッチング液
として硫酸水溶液を使用しているので、フッ酸水溶液に
比べるとエッチング作用が小さく、突起高さは７ｎｍと
低かった。
【００８５】〔実施例４〕組成２の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、先端が曲率半径５μｍの球面形状とされた超
硬合金製の圧子２を荷重１ｇ（０．６ＧＰａ）で１５秒
間、無機ガラス１の表面に押し当て、これにより窪み部
３を有する圧縮層４を形成した。次に、該無機ガラス１
を濃度０．０２５vol％のフッ酸水溶液に浸漬して、エ
ッチングし、その後ｐＨ１２のアルカリ性エッチング液
に浸漬して変質層７を除去し、実施例４の試験片を作製
した。
【００８６】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には微
小凸部５が形成され、その形状は、底面が直径６μｍの
略円形とされたカルデラ形状となった。また、実施例１
（組成１）に比べてＡｌ2Ｏ3の含有量が小さく、このた
め非圧縮層６でのエッチングが促進されず、外輪山部分
の突起高さは２５ｎｍであった。
【００８７】〔実施例５〕組成３の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、温度４６０℃で２時間保持し、研磨による歪
みを除去した。次いで無機ガラス１の表面に頂角１３６
°の四角錐形状に形成されたダイヤモンドからなる圧子
２を荷重１ｇ（０．６ＧＰａ）で１５秒間押し当て、こ
れにより窪み部３を有する圧縮層４を形成した。そして
この後コロイダルシリカが混入したスラリを使用して２
００ｎｍ研磨し、前記窪み部３を除去した。次に、１vo
l％の水酸化カリウム水溶液及び０．２vol％のＥＤＴＡ
を含有したアルカリ性エッチング液に浸漬して、エッチ
ングし、実施例５の試験片を作製した。
【００８８】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には微
小凸部５が形成され、その形状は、底面が一辺４μｍの
略正方形の山形形状であった。また、酸性溶液によるエ
ッチングを行わずにアルカリ性溶液のみでエッチング処
理を行ったため、突起高さは実施例１に比べて低く、１
２ｎｍであった。
【００８９】〔実施例６〕組成１の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、温度４６０℃で２時間保持し、研磨による歪
みを除去した。次いで稜角１１０°、直径７ｍｍの超硬
合金製のローラを荷重２５ｇ、速度０．１ｍ／secで無
機ガラス１上を掃引し、線状の圧縮層４を形成した。そ
してこの後コロイダルシリカが混入したスラリを使用し
て３００ｎｍ研磨し、窪み部３を除去した。次に、窪み
部３が除去された無機ガラス１を濃度０．０２５vol％
のフッ酸水溶液に浸漬して、エッチングし、その後ｐＨ
１２のアルカリ性エッチング液に浸漬して変質層１１を
除去し、実施例６の試験片を作製した。
【００９０】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には頂
部が平坦な線状の微小凸部１０が形成され、その形状
は、幅が１０μｍ、突起高さが１２０ｎｍであった。
【００９１】〔実施例７〕組成１の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、９．８×１０4Ｐａ（１ｋｇ／ｃｍ2）の圧搾
空気を使用して粒径２０μｍのジルコニア粒子を２０秒
間吹き付け、これにより窪み部３を有する多数の圧縮層
４を形成した。そしてこの後コロイダルシリカが混入し
たスラリを使用して２００ｎｍ研磨し、前記窪み部３を
除去した。次に、窪み部３が除去された無機ガラス１を
濃度０．０２５vol％のフッ酸水溶液に浸漬して、エッ
チングし、その後ｐＨ１２のアルカリ性エッチング液に
浸漬して変質層７を除去し、実施例７の試験片を作製し
た。
【００９２】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には１
０μｍ2当り５０個の微小凸部５が形成され、その形状
は、底面が直径４μｍの略円形の山形形状であって、突
起高さは１００ｎｍ±１０ｎｍであった。
【００９３】〔実施例８〕粒径５μｍのアルミナ研磨剤
を１７vol％含んだスラリを、０．０５ＭＰａの圧搾空
気で９０×２．０ｍｍのノズルから霧状に吹き出しなが
ら、ノズルを２５ｍｍ／secの速さで、組成１の無機ガ
ラス１表面を走査して吹き付け、これにより窪み部３を
有する多数の圧縮層４を形成した。その後セリュウム粉
を混入したスラリを使用して６０ｎｍ研磨し、前記窪み
部３を除去した。次に、窪み部３が除去された無機ガラ
ス１を濃度０．１０vol％のフッ酸水溶液に浸漬してエ
ッチングし、その後ｐＨ１２のアルカリ性エッチング液
に浸漬して変質層７を除去し、実施例８の試験片を作製
した。
【００９４】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭで観
察したところ、試験片の表面には１０μｍ2当たり８４
個の微小凸部５が形成され、その形状は、底面が直径５
７０ｎｍの略円形の山形形状であり、突起高さは１３０
±５ｎｍであった。またこの方法では、ウエットブラス
ト法で圧縮層４を形成させたため、クラックを発生させ
ずに高さがよくそろった突起を形成することができた。
【００９５】〔実施例９〕組成１の無機ガラス１を使用
し、バネ定数４６Ｎ／ｍで先端の曲率半径が１０ｎｍの
球面形状であるダイヤモンドコートシリコン単結晶製Ｓ
ＰＭ用プローブを、無機ガラス１表面に押し当て直線状
に掃引し、これにより窪み部を有する圧縮層９を形成し
た。次に、該無機ガラス１を濃度０．１０vol％のフッ
酸水溶液に浸漬してエッチングし、その後ｐＨ１２のア
ルカリ性エッチング液に浸漬して変質層１１を除去し、
実施例９の試験片を作製した。
【００９６】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭで観
察したところ、試験片の表面には幅１μｍ、高さ１００
±５ｎｍの尾根状の突起が、プローブを掃引した跡に沿
って精度よく形成されていることが判った。
【００９７】〔実施例１０〕組成５の無機ガラス１表面
に実施例８と同様の処理を行い、実施例１０の試験片を
作製した。
【００９８】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭで観
察したところ、試験片の表面には１０μｍ2当たり４９
個の微小凸部５が形成され、その形状は、底面が直径４
６０ｎｍの略円形の山形形状であった。その突起高さは
１２０±５ｎｍであり、突起高さのばらつきの小さい均
一な微小凸部５が形成された。このように、Ａｌ2Ｏ3の
他にＢ2Ｏ3を含む組成の無機ガラス１においても、表面
に微小凸部５を形成することができた。
【００９９】〔実施例１１〕組成６の無機ガラス１表面
に実施例８と同様の処理を行い、実施例１１の試験片を
作製した。
【０１００】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭで観
察したところ、試験片の表面には１０μｍ2当たり１１
個の微小凸部５が形成され、その形状は、底面が直径３
３０ｎｍの略円形の山形形状であった。その突起高さは
１００±５ｎｍであり、突起高さのばらつきの小さい均
一な微小凸部５が形成された。このように実施例１０と
同様に、Ａｌ2Ｏ3の他にＢ2Ｏ3を含む組成の無機ガラス
１においても、表面に微小凸部５を形成することができ
た。
【０１０１】〔実施例１２〕組成７の無機ガラス１表面
に実施例４と同様の処理を行い、窪み部３を有する圧縮
層４を形成した。次に、窪み部３が除去された無機ガラ
ス１を濃度０．１０vol％のフッ酸水溶液に浸漬してエ
ッチングし、その後ｐＨ１２のアルカリ性エッチング液
に浸漬して変質層７を除去し、実施例１２の試験片を作
製した。
【０１０２】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭで観
察したところ、試験片の表面には微小凸部５が形成さ
れ、その形状は、底面が５μｍの略円形とされたカルデ
ラ状であった。その外輪山部分の突起高さは０．８μｍ
であった。
【０１０３】〔実施例１３〕組成８の無機ガラス１表面
に実施例４と同様の処理を行い、窪み部３を有する圧縮
層４を形成した。次に、窪み部３が除去された無機ガラ
ス１を濃度０．１０vol％のフッ酸水溶液に浸漬してエ
ッチングし、その後ｐＨ１２のアルカリ性エッチング液
に浸漬して変質層７を除去し、実施例１３の試験片を作
製した。
【０１０４】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭで観
察したところ、試験片の表面には微小凸部５が形成さ
れ、その形状は、底面が１０μｍの略円形とされたカル
デラ状であった。その外輪山部分の突起高さは１．３μ
ｍであった。
【０１０５】〔比較例１〕組成４の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、該無機ガラス１を、温度３８０℃下、硝酸カ
リウムと硝酸ナトリウムとが容量比で６：４に調合され
た溶融塩に１時間浸漬し、化学強化処理を行って圧縮層
４を形成し、次いで、波長２６６ｎｍ、出力１０ｍＷ、
パルス幅５ｎsecのレーザ光を無機ガラス１に照射し、
比較例１の試験片を作製した。
【０１０６】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面が隆起
して多数の微小凸部５が形成され、その形状は、底面が
直径５μｍの略円形の山形形状であって、突起高さは３
０ｎｍ±１５ｎｍであった。すなわち、比較例１は微小
凸部５の突起高さが３０ｎｍ±１５ｎｍであり、そのバ
ラツキ度合が実施例１及び実施例７に比べると大きいこ
とが判った。
【０１０７】〔比較例２〕組成１の無機ガラス１を使用
し、該無機ガラス１の表面の平滑性を向上させるべく研
磨した後、温度４６０℃で２時間保持し、研磨による歪
みを除去した。次いで無機ガラス１の表面に頂角１３６
°の四角錐形状に形成されたダイヤモンドからなる圧子
２を荷重５００ｇ（４．２ＧＰａ）で１５秒間押し当
て、これにより窪み部３を有する圧縮層４を形成した。
そしてこの後コロイダルシリカが混入したスラリを使用
して５００ｎｍ研磨し、前記窪み部３を除去した。次
に、窪み部３が除去された無機ガラス１を濃度０．１５
vol％のフッ酸水溶液に浸漬してエッチングし、その後
ｐＨ１２のアルカリ性エッチング液に浸漬して変質層７
を除去し、比較例２の試験片を作製した。
【０１０８】そして、該試験片の表面形状をＡＦＭ（原
子間力顕微鏡）で観察したところ、試験片の表面には微
小凸部５が形成され、その形状は、底面が一辺４０μｍ
の略正方形のカルデラ形状であって、外輪山部の突起高
さは７００ｎｍで頂部に平坦領域を有し、また微小凸部
５の周囲にクラックが発生した。
【０１０９】すなわち、比較例２では、４．２ＧＰａと
いう大きな荷重を無機ガラスに負荷して圧縮層４を形成
しているため、微小凸部５の周囲にクラックが発生し
た。
【０１１０】
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る非晶質
材料の加工方法によれば、非晶質材料の表面に対し部分
的に所定の加圧力を負荷して高密度化された圧縮層を形
成し、次いで該圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除
去能力の異なる処理剤を使用して前記非晶質材料の表層
面を除去し、前記圧縮層を凸形状に加工しているので、
突起高さの均一な微小凸部を任意のパターンで形成する
ことができる。
【０１１１】また、前記エッチング液として酸を含有し
た酸性溶液、特にフッ酸を含有した酸性エッチング液を
使用することにより非圧縮層のエッチング処理を効率良
く促進することができる。
【０１１２】また、前記酸性エッチング液で第１のエッ
チング処理を行った後、アルカリ性エッチング液で第２
のエッチング処理を行うので、第１のエッチング処理後
に非圧縮層の表面に形成される変質層がアルカリ性溶液
で除去され、ガラス表面をガラス内部と同質にすること
ができる。
【０１１３】また、前記非晶質材料が、少なくともケイ
素酸化物と、アルミニウム酸化物とを含有することによ
り、高密度化された圧縮層では緻密化したケイ素酸化物
がその他の成分の溶出を妨げ、一方非圧縮層では耐酸性
の低いアルミニウムが優先的にエッチングされ、その結
果、所望の微小凸部を迅速且つ容易に形成することがで
きる。
【０１１４】また、アルカリ土類金属酸化物は、キレー
ト剤を含有したアルカリ性溶液に対して溶出し易いた
め、非晶質材料が少なくともケイ素酸化物と、アルカリ
土類金属酸化物から選択された少なくとも１種以上の酸
化物とを含有し、且つキレート剤を含有したアルカリ性
エッチング液を使用した場合は、アルカリ性エッチング
液によりエッチングが促進され、したがってアルカリ性
エッチング液のみのエッチング作用でも非晶質材料の表
面に微小凹凸を形成することが可能となる。
【０１１５】また、圧縮層９を前記非晶質材料の硬度よ
りも大きな硬度を有する圧子８を押圧して形成すること
により、又は前記圧子８を非晶質材料の表面に押し当て
た状態で移動させて前記圧縮層９を形成することによ
り、所望の圧縮層９を任意の位置に容易に得ることがで
きる。
【０１１６】また、前記圧子８をプローブとすることに
より、微細な加工を施すことができる。
【０１１７】特に、前記プローブを、走査型プローブ顕
微鏡等のプローブとすることにより、確実に微細な加工
を施すことができる。
【０１１８】また、前記圧縮層４を、非晶質材料の硬度
よりも大きな硬度を有する微粒子を前記非晶質材料の表
面に衝突させて形成することにより、一度に多数の圧縮
層４を得ることができる。
【０１１９】更に、前記微粒子をスラリとすることによ
り、非晶質材料の表面損傷を避けることができる。
【０１２０】前記圧縮層を形成した後、該圧縮層に表面
処理を施し、その後、前記処理剤を使用して表層面を除
去することにより、圧子により形成された窪み部が残存
することなく、微小凸部を形成することができる。
【０１２１】また、前記表面処理は、前記非晶質材料の
硬度と同等以下の硬度を有する遊離砥粒、例えばコロイ
ダルシリカで研磨することにより、圧子の押圧により形
成された窪み部を容易に除去することができる。
【０１２２】そして、本発明に係るガラス基板は、非晶
質材料が多成分系無機ガラス１で構成されると共に、上
記加工方法により凸部が形成されることにより、該ガラ
ス基板を磁気ディスク用基板に使用し、ＣＳＳ方式で駆
動したときでも起動時に磁気ヘッドが基板に固着するの
を効果的に防止することができ、さらに磁気ヘッドと基
板と間の間隙変動や磁気ヘッドと基板との間の衝突によ
る読取エラーを防止することができ、ノイズ特性に優れ
た磁気ディスク基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る非晶質材料の加工方法の第１の実
施の形態を示す製造工程の説明図である。
【図２】本発明に係る非晶質材料の加工方法の第２の実
施の形態を示す製造工程の説明図である。
【符号の説明】
１ 無機ガラス（非晶質材料） ２ 圧子 ４ 圧縮層 ６ 非圧縮層 ７ 変質層 ８ 圧子 ９ 圧縮層 １１ 変質層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 靖弘 大阪府大阪市中央区北浜４丁目７番28号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 猪又 宏之 大阪府大阪市中央区北浜４丁目７番28号 日本板硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4G059 AA08 AC01 BB04 BB12 BB14 4G062 AA01 BB01 CC10 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DC02 DD01 DE01 DE02 DE03 DF01 EA03 EA04 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FK02 FK03 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH08 HH09 HH10 HH11 HH12 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN40

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 非晶質材料の表面に対し部分的に所定の
    加圧力を負荷して高密度化された圧縮層を形成し、次い
    で該圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除去能力の異
    なる処理剤を使用して前記非晶質材料の表層面を除去
    し、前記圧縮層を凸形状に加工することを特徴とする非
    晶質材料の加工方法。
  2. 【請求項２】 前記処理剤は、前記圧縮層と前記非圧縮
    層とでエッチング速度の異なるエッチング液であること
    を特徴とする請求項１記載の非晶質材料の加工方法。
  3. 【請求項３】 前記エッチング液は、酸を含有した酸性
    溶液であることを特徴とする請求項２記載の非晶質材料
    の加工方法。
  4. 【請求項４】 前記酸性溶液は、フッ酸を含有している
    ことを特徴とする請求項３記載の非晶質材料の加工方
    法。
  5. 【請求項５】 前記酸性溶液で第１のエッチング処理を
    行った後、アルカリ性溶液で第２のエッチング処理を行
    うことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の非晶
    質材料の加工方法。
  6. 【請求項６】 前記アルカリ性溶液は、キレート剤を含
    有していることを特徴とする請求項５記載の非晶質材料
    の加工方法。
  7. 【請求項７】 前記エッチング液は、キレート剤を含有
    したアルカリ性溶液であることを特徴とする請求項２記
    載の非晶質材料の加工方法。
  8. 【請求項８】 前記非晶質材料は、無機ガラスであるこ
    とを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載
    の非晶質材料の加工方法。
  9. 【請求項９】 前記無機ガラスは、少なくともケイ素酸
    化物と、アルミニウム酸化物とを含有していることを特
    徴とする請求項８記載の非晶質材料の加工方法。
  10. 【請求項１０】 前記無機ガラスは、少なくともケイ素
    酸化物と、アルカリ土類金属酸化物から選択された少な
    くとも１種以上の酸化物とを含有していることを特徴と
    する請求項８記載の非晶質材料の加工方法。
  11. 【請求項１１】 前記圧縮層は、前記非晶質材料の硬度
    よりも大きな硬度を有する圧子を押圧して形成すること
    を特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載
    の非晶質材料の加工方法。
  12. 【請求項１２】 前記圧子を非晶質材料の表面に押し当
    てた状態で前記表面上を相対移動させ、前記圧縮層を形
    成することを特徴とする請求項１１記載の非晶質材料の
    加工方法。
  13. 【請求項１３】 前記圧子は、プローブから成ることを
    特徴とする請求項１１又は請求項１２記載の非晶質材料
    の加工方法。
  14. 【請求項１４】 前記プローブは、走査型プローブ顕微
    鏡のプローブから成ることを特徴とする請求項１３記載
    の非晶質材料の加工方法。
  15. 【請求項１５】 前記圧縮層は、前記非晶質材料の硬度
    よりも大きな硬度を有する微粒子を前記非晶質材料の表
    面に衝突させて形成することを特徴とする請求項１乃至
    請求項１０のいずれかに記載の非晶質材料の加工方法。
  16. 【請求項１６】 前記微粒子は、スラリ状であることを
    特徴とする請求項１５記載の非晶質材料の加工方法。
  17. 【請求項１７】 前記圧縮層を形成した後、該圧縮層に
    表面処理を施し、その後、前記処理剤を使用して前記表
    層面を除去することを特徴とする請求項１乃至請求項１
    ６のいずれかに記載の非晶質材料の加工方法。
  18. 【請求項１８】 前記表面処理は、前記非晶質材料の硬
    度と同等以下の硬度を有する遊離砥粒で研磨することを
    特徴とする請求項１７記載の非晶質材料の加工方法。
  19. 【請求項１９】 前記遊離砥粒は、コロイダルシリカで
    あることを特徴とする請求項１８記載の非晶質材料の加
    工方法。
  20. 【請求項２０】 非晶質材料が多成分系無機ガラスで構
    成されると共に、請求項１乃至請求項１９のいずれかに
    記載の非晶質材料の加工方法により凸部が形成されてい
    ることを特徴とするガラス基板。
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