JPS6391843A - 光デイスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、表面に光ビームトラッキング用のプリグルー
ブが形成されている光ディスク基板に関するものである
。

（従来の技術） 高密度記録媒体の１つとして知られている光ディスクは
、光ビームを用いて情報の記録や読み出し等が行なわれ
るものであり、例えば情報の読み出しのみが可能な再生
専用型や、記録も可能な追記型や、さらに消去も可能な
消去・再書き込み型（例えば光磁気ディスクと称されて
いるもの）等が提案されている。

かかる光ディスクは、一般に、基板と、該基板上に設け
られた反射層、下地層あるいは記録層等の薄膜とを備え
て成り、この光ディスクの記録トラック上に光ビームを
走らせることによって情報を記録したりまたは記録され
ている情報を読み出したりあるいは消去するものである
。

上述のように、光ディスクにおいては、記録。

読み出しあるいは消去を行なう際に予め光ディスク上に
設定された記録トラック上に正確に光ビームを導き、走
らせることが必要であり、その様な光ビームのトラッキ
ング制御方法としては種々のものが知られているが、そ
の中の１つにプリグルーブ方式というものが存在する。

プリグルーブ方式とは、基板の表面（上記薄膜が設けら
れる方の面）に予め記録トラックに沿った螺線状の溝を
形成しておき、この溝によって光ビームのトラッキング
を行なう方式である。

（発明が解決しようとする問題点） ところで、前記の様に、光ディスクは基板とその基板上
に形成される薄膜とで構成され、もしこの基板と薄膜と
の密着性が充分でないと薄膜の剥離やクラック等が生じ
る恐れがある。

この様な薄膜の剥離やクラック等について検討してみる
と、上記の如きプリグルーブ方式の光ディスクにおいて
は、プリグルーブが形成されている領域の基板と７ｉｓ
膜との密着性はかなり良好であり、１ｌｉＩ膜の剥離や
クラック等は生じにくいが、プリグルーブが形成されて
いない基板上の領域、即ち基板の最外周領域と最内周領
域とは密着性が比較的低く、薄膜の剥離やクラック等が
生じやすいことが判明した。

本発明の目的は、上記事情に鑑み、プリグルーブが形成
された光ディスク基板であって、略全面にわたって薄膜
との密着性が良好である光ディスク基板を提供すること
にある。

（問題点を解決するための手段） 前記のような問題点を解決するために、本発明による光
ディスク基板は、プリグルーブが形成されている光ディ
スク基板表面のプリグルーブ非形成領域に面荒し処理を
施したことを特徴とするものである。

（発明の効果） 本発明による光ディスク基板は、プリグルーブ非形成領
域に面荒し処理が施されているので、この面荒し処理に
よって基板の最外周や最内周部に存在するプリグルーブ
非形成領域における基板とｉ［との密着性が向上する。

そして、このようにプリグルーブ非形成領域における薄
膜の密着性が向上することにより、従来のような密着不
良による薄膜剥離等の外観不良やクラックの発生を防止
することができ、光ディスクの品質向上を図ることがで
きる。

（実　施　例） 以下、本発明の実施例について詳細に説明する。

第１図は本発明に係る光ディスク基板の一実施例を示す
平面図である。光ディスク基板は一般にガラスあるいは
ＰＣ，ＰＭＭＡ等の透明プラスチックによって厚さ約１
１１Ｎ程度に形成される。図示の実施例に係る光ディス
ク基板１は透明プラスチック製であって、中央にセンタ
孔２を有する内径１５ａｌｌ、外径１３０Ｍの円盤状に
形成されている。また、この基板１の表面には、光ビー
ムトラッキング用のプリグルーブ３がラセン状又は同心
円状に形成されているプリグルーブ形成領域４と、この
プリグルーブ形成領域４の外側と内側、即ち基板１の最
外周部分と最内周部分とに位置するプリグルーブが形成
されていないプリグルーブ非形成領域５とが存在する。

そして、このプリグルーブ非形成領域５には面荒し処理
が施され、基板表面に多数の微細な凹凸が形成されてい
る。上記プリグルーブ形成領域４は記録領域に、プリグ
ルーブ非形成領域５は非記録領域に対応する。

上記面荒し処理はプリグルーブ非形成領域５の全域にわ
たって施しても良いが、必ずしも全域に施す必要はない
。本実施例においては、１５〜４５＃Ｒφの内周側非形
成領域５のうち１７〜４４Ｍφの範囲、１２０〜１３０
ｍφの外周側非形成領域５のうち１２３〜１２８履φの
範囲に面荒し処理が施されている。

面荒し処理は基板表面に適当な大きさの微細凹凸が多数
形成されるものであればどの様な方法によって行なって
も良い。なお、上記微細凹凸の高さは０．０５〜５μ程
度のものが適当である。

プリグルーブ非形成領域５への面荒し処理による微細凹
凸の形成方法の１つとして、射出成形用スタンバ自体に
微細凹凸を形成しておき、これを基板形成の際該基板に
転写する方法を挙げることができる。スタンバへの微細
凹凸の形成は、例えばマスターガラス基板に面荒し処理
を施して微細凹凸を形成しておき、このマスターガラス
基板の微細凹凸をスタンバに転写することにより行なえ
ば良い。即ら、マスターガラス基板のうちプリグルーブ
非形成領域対応部分にマット処理等の面荒し処理を施し
、これを用いてスタンパを形成すると該スタンバに上記
面荒し処理による微細凹凸が転写され、このスタンパを
用いて射出成形によりプラスチック樹脂製の光ディスク
基板を作れば、該基板にも上記微細凹凸が転写形成され
る。

上記マスターガラス基板のプリグルーブ非形成領域対応
部分への面荒し処理としては砂等の研磨材を用い、加圧
空気による砂吹付けや砂掛は磨きあるいは粒度のあらい
砥石による研磨等によりガラス表面に傷をつける物理的
方法の他、フッ化水素によるエツチングを利用する化学
的方法等を用いることができる。

また、前記プリグルーブ非形成領域５への面荒し処理に
よる微細凹凸の形成方法の他の例として、プラスチック
類の光ディスク基板そのものに直接面荒し処理を施す方
法を挙げることもできる。この方法は、例えば真空槽中
において、薄膜形成前の工程で、プリグルーブ形成領域
をマスキングして、プリグルーブ非形成領域にプラズマ
エツチング等の手法を施すことにより、前述したような
微′細凹凸を形成することによって実施することができ
る。

この様にしてプリグルーブ形成領域にはプリグルーブが
、プリグルーブ非形成領域には面荒し処理による微細凹
凸が形成された光ディスク基板の表面上に、反射層、下
地層、記録層あるいは保護層等の薄膜をスパッタリング
や蒸着等により必要に応じて積層することにより光ディ
スクが形成される。

前述した本実施例による光ディスク基板上に薄膜を形成
して成る光ディスクと、従来の光ディスク基板上に薄膜
を形成して成る光ディスクとを用いて加速試験を行い、
基板のプリグルーブ非形成領域上に形成された薄膜の基
板への密着性をクラックの発生度により調べたところ、
従来の光ディスク基板を使用して作成した光ディスクは
温１度６０℃Ｘ湿度９０％×１００時間でクラックが生
じ、本実施例による光ディスク基板を使用した光ディス
クにおいては同様の条件下においてもクラックは生じな
かった。すなわら、本実施例による光ディスク基板はプ
リグルーブ非形成領域においても薄膜との密着性に大変
優れているものである。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明による光ディスク基板の一実施例を示す平
面図である。 １・・・光ディスク基板　　３・・・プリグルーブ４・
・・プリグルーブ形成領域

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面に光ビームトラッキング用のプリグルーブが形成さ
   れている光ディスク基板であつて、上記プリグルーブが
   形成されている基板表面のプリグルーブ非形成領域に面
   荒し処理が施されていることを特徴とする光ディスク基
   板。