JPH0743777Y2 - 光磁気デイスク - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、光磁気ディスク、特に、ひび、われが生じ
ず、長期間の使用に耐え得る光磁気ディスクに関するも
のである。

〔従来の技術〕

レーザー光を使用して情報の記録、再生及び消去を行な
う光磁気ディスクは、高密度の情報の記録が可能であ
り、かつ情報の消去や追加記録ができるので、各方面に
広く使用されている。この種の光磁気ディスクの光磁気
記録媒体としては、Tb-Fe系、Tb-Fe-Co系、Gd-Tb-Fe系
のものとなどが使用されているが、いずれのものも酸化
などの耐食性の面で充分ではない。

このために光磁気記録媒体層を保護する手段を講じた各
種の光磁気ディスクが提案されている。即ち、これらの
光磁気ディスクは、光磁気記録媒体を酸素や水分から保
護するために、ポリカーボネート，アクリル，エポキ
シ，ポリメチルペンテンなどのプラスチック基板上に、
光磁気記録媒体の両面あるいは片面に酸素や水分を透過
させないSiO,SiO₂，Al₂O₃などの透明誘電体層を形成し
たものを積層した構造のものである。

〔考案が解決しようとする問題点〕 しかしながら、これらの光磁気ディスクは、プラスチッ
ク基板と誘電体層または光磁気記録媒体層との密着性が
非常に悪く、プラスチック基板と誘電体または光磁気記
録媒体との間の熱膨張係数の差からひび、われが生じ易
く、ドロップアウトの主な原因となっている。

このような問題点に対し、密着性を向上させるために、
製膜条件、誘電体材質を検討することは行なわれている
が、まだ満足するものは得られていない。加えて、C/N
比を増大させるために、金属膜、誘電体膜および光磁気
記録媒体膜を多層化する提案がなされているが、この多
層化は前記ひび、われの問題点をかえって拡大する傾向
さえ有している。

以上の事情に鑑み、本考案の目的は、ドロップアウトの
主な原因であるひび、われが生じず、長期間の使用に耐
え得る光磁気ディスクを提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案者は、上記目的を達成すべく種々検討した結果、
従来の光磁気ディスクに生じるひび、われはまず、製膜
部分のうち信号記録部分以外から発生し、そのひび、わ
れが信号記録部分であるプリグルーブ部に伝播していく
現象に注目し、光磁気ディスクに使用されているプラス
チック基板の面の形状がひび、われに重大に影響してい
ることを見出し、本考案に到達した。

即ち、本考案は、プラスチック基板上に形成された光磁
気記録媒体層に光ビームを照射して情報の書き込みおよ
び読み出しを行なう光磁気ディスクにおいて、前記プラ
スチック基板の製膜部分が、信号記録部分であるプリグ
ルーブ部と十点平均粗さで表わされる表面粗さが0.04〜
１μｍである信号記録部分でない梨地面部とからある光
磁気ディスクである。

〔作用〕

本考案の光磁気ディスクは、プラスチック基板上に、光
磁気記録媒体の両面あるいは片面に透明誘電体層を形成
したものを積層した構造のものであるが、このプラスチ
ック基板の上記積層側の面の製造部分が、従来のように
第２図に示すようではなく、第１図に示す一実施例のよ
うになっている。

即ち、第２図は従来の光磁気ディスクに用いられていた
プラスチック基板の模式的な平面図である。ここで、円
１はこの基板の外形、円１′は製造された光磁気ディス
クを情報の記録、再生、消去装置に取付けるための孔の
外形を示す。また、円２および２′で囲まれた部分が信
号記録部分であるプリグルーブ部であり、円３および
３′で囲まれた部分が製膜部分である。円１および２で
囲まれた部分並びに円１′および２′で囲まれた部分
は、基板が通常スタンパーを型として射出成形法により
製造されるので、鏡面を呈している。

これに対して第１図は本考案の光磁気ディスクに用いら
れるプラスチック基板の模式的は平面図である。ここ
で、円２および３で囲まれた部分並びに円２′および
３′で囲まれた部分である。信号記録部分でない部分
は、十点平均粗さで表わされる表面粗さが0.04〜１μｍ
である梨地面部である。この表面粗さが0.04μｍ未満で
は製造された光磁気ディスクにひび、われが生じ易い。
また、１μｍを超えても、ひび、われを防止する作用が
特に増大しない。表面粗さが0.04〜１μｍにするには、
（１）基板を成形する際に使用するスタンパーに前以っ
て上記表面粗さが得られるように加工を施しておく、
（２）所要部分以外はマスキングを施した後、アルゴン
のようなイオンにより逆スパッタリングを行なったり、
ガラスビーズ、カーボランダム、アランダムなどの研摩
剤を吹き付けたりするなどの方法を適宜採用することが
できる。

この他の構造は第２図と同様であるが、円１および３で
囲まれた部分並びに円１′および３′で囲まれた部分
は、従来のように鏡面でも適宜の表面粗さを有する粗面
部でもいずれでもよい。

〔実施例〕

以下、この考案の光磁気ディスクを、その実施例と従来
例により更に詳細に説明する。

実施例 直径130mm、厚さ1.2mmの透明ポリカーボネートを、第１
図と同様の構造にして基板とした。但し、円１と3,円３
と2,円２と２′，円２′と３′および円３′と１′との
間の間隔は夫々3mm,3mm,45mm,3mm,3.5mmである。

まず、この基板の円３と２とで囲まれた部分および円
２′と３′とで囲まれた部分をいずれもエメリー研研摩
＃1500で研摩しいわゆる梨地面とした。これらの部分の
十点平均粗さで表わされる表面粗さは、夫々0.11μm,0.
18μｍであった。

こうして準備した基板上に高周波スパッタリング法によ
り第１層の透明誘電体Ta₂O₅層を膜厚800Åに形成し、こ
のTa₂O₅層上に第２層の光磁気記録媒体Tb_0.21Fe_0.55Co
_0.24層を膜厚1000Åに形成し、更にこのTb_0.21Fe_0.55Co
_0.24層上に第３層の保護膜SiO₂を膜厚1000Åに形成し
た。

このようにして製作された光磁気ディスクに対して、記
録周波数2MHz（RBW 30kHz）、レーザーパワー4mWで記録
を行ない、再生レーザーパワー1mWで再生を行なった。

記録直後に再生した場合のC/N比（初期C/N）を第１表に
示す。また、上記の光磁気ディスクを相対湿度93％の雰
囲気中に置き、このディスクに第３図に示すような温度
変化パターンを１サイクルとするヒートサイクルを与え
た後に再生した場合のC/N比（経時C/N）も第１表に示
す。この試験で製膜面の目視観察も初期および各サイク
ルで行なったが、いずれのサイクルにおいても初期と全
く同様で何らの変化も見られなかった。

従来例 透明ポリカーボネート基板を第２図と同様の構造にし、
円１と２とで囲まれた部分および円２′と１′とで囲ま
れた部分をいずれも十点平均粗さで表わされる表面粗さ
が0.01μｍの鏡面を呈したままとした以外は、実施例と
同様に行なった。結果を第１表に示す。目視観察では、
10サイクル後において既にひびが生じていた。

〔考案の効果〕

以上から明らかなように、本考案によると、プラスチッ
ク基板の製膜部分の表面形状を一部変えるという簡潔な
手段によって、ひび、われが生じない長期耐久性のある
光磁気ディスクを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本考案の光磁気ディスクに使用されるプラス
チック基板の実施例の構造を示す模式的な平面図、第２
図は従来の構造を示す第１図と同様の図、第３図は製作
した光磁気ディスクの耐久性を試験するためのヒートサ
イクルのパターンである。 １……基板の外形、１′……基板中心部の孔の外形、２
……プリグルーブ部の外形、２′……プリグルーブ部の
内形、３……製膜部の外形、３′……製膜部の内形。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−252547（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−153625（ＪＰ，Ｕ)

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】プラスチック基板上に形成された光磁気記
   録媒体層に光ビームを照射して情報の書き込みおよび読
   み出しを行なう光磁気ディスクにおいて、前記プラスチ
   ック基板の製膜部分が、信号記録部分であるプリグルー
   プ部と十点平均粗さで表わされる表面粗さが0.04〜１μ
   ｍである信号記録部分でない梨地面部とからなる光磁気
   ディスク。