JPS63269349A - 光磁気記録用媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光学的記録媒体における光磁気記録用媒体に
関するものである。

（従来の技術） 従来、このような分野の技術としては、特開昭５２−３
１７０３号公報、及び特開昭５２−１０９１９３号公報
に記載されるものがあった。以下、その構成を図を用い
て説明する。

第２図は従来の光磁気記録用媒体の一構成例を示す概略
断面図である。

この光磁気記録用媒体は、ガラス、ポリメチルメタアク
リレート、ポリカーボネート、エポキシ等からなる光透
過性の基板１を有し、その基板１上に光磁気記録層２を
形成した構造をしている。

光磁気記録層２は、希土類−遷移金属系合金の非晶質膜
（以下、ＲＥ−用膜という）で構成されている。

ここで、ＲＥ−ＴＭ膜は、具体的にはＲＥとしてガドリ
ニウムＧｄ、テルビウム丁ｂ１ジスプロシウムＤｙ１ネ
オジムＮｄ等、鉗として鉄ＦｅまたはコバルトＧｏを主
成分としている。このＲＥ−ＴＨＩＩＩはその膜面に対
して垂直な磁化をもつ、いわゆる垂直磁化膜である。

このようなＲＥ−ＴＨＩＩｌを用いた光磁気記録用媒体
は、１μｍφ程度に絞られたレーザビームを基板１を通
して照射すると共に、外部磁界を用いた熱磁気書込み方
式によって１０８ビット／−というきわめて高密度な記
録が可能で、しかも原理的には無限回に近い消去及び再
書込みが可能という非常に優れた特長を有している。

この種の光磁気記録用媒体では、光磁気記録層２の両面
に、酸化シリコンＳｉＯ等からなる誘電体膜を設けて光
磁気記録層２を保護すると共にカー効果エンハンスメン
トの機能を持たせたり、さらには光磁気記録層２の上側
を保護するためにカバー基板を設ける等、種々の改良が
試みられている。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上記構成の光磁気記録用媒体では、次の
ような問題点がおった。

従来における光磁気記録用媒体の基板１としては、ガラ
ス基板、ポリメチルメタアクリレート（以下、Ｐ）ＩＨ
Ａという）基板、ポリカーボネート（以下、ＰＣという
）基板、エポキシ基板等が提案されている。これらの各
基板にはすべて一長一短がある。すなわち、トラック状
の案内溝であるプリグループ付の基板を考えたとき、ガ
ラス基板及びエポキシ基板は生産性が悪く、コスト高と
なる。

その反面、このガラス基板及びエポキシ基板は、光学特
性、基板の安定性、及び媒体腐食に対する影響性の点に
おいて優れている。また、ｐＨＨＡｌ板及びＰＣ基板は
、射出成形等によって大量生産できる。ところが、ＰＣ
基板は光学特性が悪く、またＰＨＨＡ基板は光学特性に
優れるものの、吸水性が高く、それによってその基板の
変形や腐食に対する悪影響を受ける。このように、基板
１として技術的に満足のいくものがなく、特性面が犠牲
となっていた。

本発明は前記従来技術が持っていた問題点として、基板
による特性劣化の点について解決した光磁気記録用媒体
を提供するものでおる。

（問題点を解決するための手段） 本発明は前記問題点を解決するために、アドレス等のデ
ータを記憶させるための凹部であるプリビットと、光学
ヘッドに対するトラック状の案内溝であるプリグループ
とが形成された光磁気記録用媒体において、この光磁気
記録用媒体を、光学特性が良くかつプリビット及びプリ
グループが形成された基板と、この基板上に形成された
第１の誘電体膜と、この第１の誘電体膜上に形成され希
土類−遷移金属系合金の非晶質膜からなる光磁気記録層
と、この光磁気記録層上に形成された第２の誘電体膜と
、この第２の誘電体膜上に接着層を介して接着された耐
変形性のカバー基板とで、構成したものである。

（作　用） 本発明によれば、以上のように光磁気記録用媒体を構成
したので、基板はプリビット及びプリグループの形成し
やすい材料で形成し、それに対する吸湿性等の保護のた
めに光磁気記録層をその両面から第１．第２の誘電体膜
で被覆すると共に、その第１の誘電体膜上に耐変形性の
カバー基板を接着する。これにより、高性能、高耐久性
、及び低コスト化が図れる。従って前記問題点を除去で
きるのである。

（実施例） 第１図は本発明の実施例を示す片面記録型の光磁気記録
用媒体の概略断面図でおる。

この光磁気記録用媒体は、一方の面にプリビット及びプ
リグループが形成された基板１０を有し、その基板１０
の他方の面には第１の誘電体膜１１、ＲＥ−用膜からな
る光磁気記録層１２、第２の誘電体膜１３、接着層１４
、及びカバー基板１５が、順次積層状態に形成されてい
る。

基板１０は、射出成形等により大量生産、かつ低コスト
化が可能で、しかも複屈折が小さく、光学特性が良いと
という条件を満足するものとして、種々の樹脂板等が採
用でき、第１図では例えばＰＭ）ＩＡ基板で構成してい
る。第１．第２の誘電体膜１１、１３は、カー効果エン
ハンスメントの働きと、光磁気記録層１２の吸湿による
腐食等からその光磁気記録層１２を保護する働きとを有
するものでおり、種々の材料で形成できるが、第１図で
は例えば侵れた保護性能を有するＡ、１２３ｉＮ膜を用
い、そのうち第１の誘電体膜１１が膜厚８０ｎｍ程度、
第２の誘電体膜１３が膜厚１５０ｎｍ程度に形成されて
いる。光磁気記録層１２を構成するＲＥ−ＴＭ膜は、例
えばＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金で作られており、その
うちＩ？ＥはＧｄ、　Ｔｂ、　Ｑｙ、　Ｎｄ等の希土類
元素、ＭはＦｅ１Ｃ。

及び希土類元素以外のＣｒ、　Ｔｉ等の元素である。第
１図の光磁気記録層１２は、例えば膜厚が１００ｎｍ程
度の耐食性に優れたＴｂＦｅＣｏＴ　ｉ膜で形成されて
いる。

第２の誘電体１１３上に接着層１４を介して接着される
カバー基板１５は、光磁気記録層１２等を機械的及び化
学的に保護するためのものであり、片面記録型のために
光学特性の良否を問わず、しかもプリビットやプリグル
ープも形成する必要がないが、熱的及び経時的にそりや
、変形の少ないものが望ましい。このような条件を満足
するカバー基板１５としては、ガラス基板、Ａ、ｌ！等
の金属基板、セラミック基板、吸湿等によるそりや変形
の少ないエポキシ塞板やＰＣ基板等、種々の基板が採用
でき、第１図ではガラス基板を採用している。

以上のように構成される光磁気記録用媒体の製造方法と
しては、例えば高周波マグネトロンスパッタ装置を用い
、予めプリビット及びプリグループを形成したＰＭ）Ｉ
Ａ製の基板１０の上に、膜厚ａｏｎｍ程度のＡｊＳｉＮ
膜からなる第１の誘電体膜１１を被着し、さらにその上
に膜厚ｔ００ｎｍ程度のＴｂＦｅＣｏＴｉ膜からなる光
磁気記録層１２、及び膜厚１５０ｒｏｎ程度のＡ、ｆ！
　ＳｉＮ膜からなる第２の誘電体膜１３を被着する。

この時の基板１０の温度は５０℃以下に抑えられた。

その後、第２の誘電体膜１３上に接着層１４を形成して
ガラス製のカバー基板１５を接着すれば、製造が終る。

このようにして製造された光磁気記録用媒体を用いて、
次の表１で示されるような光磁気記録ディスクＮｏ、　
１を作り、その特性を検討した。ここで、比較のために
、次表のような光磁気記録ディスクＮ０８２〜Ｎｏ、　
４を作り、それらの特性も検討した。

表１の光磁気記録ディスクＮｏ、　１〜Ｎ０１４を評価
するために、ディスク回転数９０Ｏｒｐｍ、周波数１）
１１１７、基板１０を通して光磁気記録層１２へ照射す
るレーザビームの出カフｍＷ以下（このパワーはディス
ク上の値であり、そのレーザ波長は８３０ｎｍ　）の条
件でデータの記録を行った後、ディスク半径ｒ＝４０ｍ
ｍでのデータ読出し時の再生のキャリア対雑音比（以下
、Ｃ／Ｎという）測定した。その結果を次の表２に示す
。

表２に示すように、ＰＣ基板を用いたディスクＮｏ、　
２では、そのＰＣの複屈折のためにＣ／Ｎ値が小さい。

これに対して、Ｐ朋ＡＭ板を用いたディスクＮｏ、１．
　Ｎｏ、３とガラス基板を用いたディスクＮｏ、　４と
は、優れたＣ／Ｎ値を示す。

次に、ディスクＮｏ、　１〜Ｎｏ、　４を室温で８５％
Ｒｔ＋の高湿雰囲気中に２４時間曝し、その外観上の変
化を観察した。その観察結果を次の表３に示す。

表３に示すように、基板１０とカバー基板１５とにＰＨ
ＨＡを用いたディスクＮ０１３では、ＰＨＨＡ基板の吸
湿変形によってそりが発生したが、他のディスクＮｏ、
１．　Ｎｏ、２．　Ｎｏ、４は変化がなかった。

以上の検討結果をまとめると、次のようになる。

本実施例のディスクＮｏ、　１では、Ｐ朋Ａ基板１０を
用いているので、そのＰＨＭＡＷ板１０で吸湿をおこす
が、ガラス製のカバー基板１５によって強固に接着され
ているため、吸湿による変形を生じない。これに対して
、比較例のディスクＮＯ，２はＣ／Ｎ特性が悪く、ざら
にディスクＮｏ、　３は耐久特性が悪い。ディスクＮｏ
、　４は、ディスクＮｏ、　１と同様にＣ／Ｎ特性及び
耐久性が良いが、ガラス基板にプリビット及びプリグル
ープを形成することを考えると、量産性が低く、コスト
が大幅に増大すると考えられる。従って、本実施例のデ
ィスクＮ０１１では、高性能、高耐久性、及び低コスト
化という利点を有している。なあ、本実施例の光磁気記
録用媒体において、腐食に関しては、光磁気記録層１２
を例えば高耐食性の丁ｂＦｅＣｏＴｉｌｌで形成すると
共に、その光磁気記録層１２を例えば優れた保護機能を
有するｐ、ｎ　ｓｒＮ膜からなる誘電体膜１１．１３で
被覆しているので、何ら心配はない。

本発明は図示の実施例に限定されず、例えば誘電体ｗＡ
１１．１３と光磁気記録層１２どの間に金属膜等の保護
膜を追加する等、第１図の断面構造を他の構造に変形し
たり、あるいはこの発明を両面記録型の光磁気記録用媒
体に適用する等、種々の変形が可能である。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明によれば、基板とし
てプリビット及びプリグループの形成しやすい材料で形
成し、ざらに、光磁気記録層をその両面から第１．第２
の誘電体膜で保護すると共に、その第２の誘電体膜上に
耐変形性のカバー基板を接着したので、高性能及び高耐
久性の光磁気記録用媒体を低コストで実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図、第２図は従来の光磁気記録用媒体の概略断面図
である。 １０・・・・・・基板、１１．１３・・・・・・誘電体
膜、１２・・・・・・光磁気記録層、１４・・・・・・
接着層、１５・・・・・・カバー基板。 出願人代理人　　柿　　本　　恭　　酸第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光学特性が良くかつプリビット及びプリグループが形成
   された基板と、 この基板上に形成された第１の誘電体膜と、この第１の
   誘電体膜上に形成され希土類−遷移金属系合金の非晶質
   膜からなる光磁気記録層と、この光磁気記録層上に形成
   された第２の誘電体膜と、 この第２の誘電体膜上に接着層を介して接着された耐変
   形性のカバー基板とを、 備えたことを特徴とする光磁気記録用媒体。