JPS5965949A - 光学的記録要素 - Google Patents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光メモリに適した光学的記録要素に係わり、更
に詳しくは保守安全性及び酸化防止効果のすぐれた光学
的記録要素に関する。
に詳しくは保守安全性及び酸化防止効果のすぐれた光学
的記録要素に関する。
今日、レーザ光源や光学装置の技術的進歩に伴ない光メ
モリ分野が注目されているが、これまでの光メモリ分野
で使用されている記録モードとしては、一般に記録層に
レーザを照射してピットを形成するヒート・モード方式
が知られている。この様なモードを用いた方式の１つと
して磁性薄膜からなる記録層を用いた熱磁気記録要素が
知られている。この様な記録要素は、例えばＭｎＢ１な
どの磁性多結晶薄膜からなる記録層に外部磁界を作用さ
せて、レーザビームノスポット照射を行なうことにより
、照射部の温度上昇でギューリ一点を超える加熱がなさ
れると、照Ｉ；ｌ；１部で磁化の反転が生じる。こうし
て形ビ とができる。
モリ分野が注目されているが、これまでの光メモリ分野
で使用されている記録モードとしては、一般に記録層に
レーザを照射してピットを形成するヒート・モード方式
が知られている。この様なモードを用いた方式の１つと
して磁性薄膜からなる記録層を用いた熱磁気記録要素が
知られている。この様な記録要素は、例えばＭｎＢ１な
どの磁性多結晶薄膜からなる記録層に外部磁界を作用さ
せて、レーザビームノスポット照射を行なうことにより
、照射部の温度上昇でギューリ一点を超える加熱がなさ
れると、照Ｉ；ｌ；１部で磁化の反転が生じる。こうし
て形ビ とができる。
しかし、前述のＭｎＢ５．０他にＭｎ０ｕＥｉやＴｂＦ
ｅＯｓなどの結晶性薄膜を記録層として用いることが知
られているが、これらの記録層はキューリー力 点が高かったりあるいは磁気カー効果が小さいなどの欠
点を有していることがら、最近ではＦθ。
ｅＯｓなどの結晶性薄膜を記録層として用いることが知
られているが、これらの記録層はキューリー力 点が高かったりあるいは磁気カー効果が小さいなどの欠
点を有していることがら、最近ではＦθ。
Ｏｏ、Ｎｊなどの遷移金属とＴｂ 、 Ｄｙ 、 Ｇｄ
、 Ｈｏなの ど通土類全組とをスパッタリングにより共蒸着した非晶
質薄膜が提案されている。これらは、例えば特開ＩＩＱ
５１−６３４９２号、同５１−６３４９３号、同５２
−３１７０３号公報などに開示されている。特に、Ｆ’
ｅ Ｔｂ Ｇｄの３元系薄膜は、磁気的に均一な組成、
適当なキューリ一温度および比較的大きな磁気光学効果
など熱磁気記録要素として優れた特性を有していること
が判明している。
、 Ｈｏなの ど通土類全組とをスパッタリングにより共蒸着した非晶
質薄膜が提案されている。これらは、例えば特開ＩＩＱ
５１−６３４９２号、同５１−６３４９３号、同５２
−３１７０３号公報などに開示されている。特に、Ｆ’
ｅ Ｔｂ Ｇｄの３元系薄膜は、磁気的に均一な組成、
適当なキューリ一温度および比較的大きな磁気光学効果
など熱磁気記録要素として優れた特性を有していること
が判明している。
また前記の如き磁気光学効果を利用した光学的記録要素
の他にも・テルル・酸化テルル・テとして用い、該記録
層の屈折率、反射率変化或いは杉状蛮化等によって記録
された情報を、光学的に読み出す光学的記録要素が知ら
れている。
の他にも・テルル・酸化テルル・テとして用い、該記録
層の屈折率、反射率変化或いは杉状蛮化等によって記録
された情報を、光学的に読み出す光学的記録要素が知ら
れている。
前述のような従来の光学的記録要素の構成例を第１図の
略断面図に示す。第１図において、ガラス、樹脂等から
成る基板ｌｌ上に、蒸着或いはスパッタリング等の方法
で、前述のような光磁気材料或いはその他の光学的記録
材料から成る記録層１２を形成し、更にその上面に有機
高分子等から成る保護層１３を形成することによって光
学的記録要素を構成する。ここで基板１１は、上記の如
く、光学的立場から面精度の良好な薄いガラス或いはプ
ラスチック等より形成されている。しかし、この為、従
来の光学的記Ｉｆ＋！、要素においては、衝撃に弱いと
いう欠点があった。特に円盤状の光学的記録要素を回転
さく＋ 、記録、再生を行なう装置においては、回転中
にディスクが破損した場合、破片が飛散し装置ｆｔから
プ１にび出して、使用者を傷つける可能性があった。
略断面図に示す。第１図において、ガラス、樹脂等から
成る基板ｌｌ上に、蒸着或いはスパッタリング等の方法
で、前述のような光磁気材料或いはその他の光学的記録
材料から成る記録層１２を形成し、更にその上面に有機
高分子等から成る保護層１３を形成することによって光
学的記録要素を構成する。ここで基板１１は、上記の如
く、光学的立場から面精度の良好な薄いガラス或いはプ
ラスチック等より形成されている。しかし、この為、従
来の光学的記Ｉｆ＋！、要素においては、衝撃に弱いと
いう欠点があった。特に円盤状の光学的記録要素を回転
さく＋ 、記録、再生を行なう装置においては、回転中
にディスクが破損した場合、破片が飛散し装置ｆｔから
プ１にび出して、使用者を傷つける可能性があった。
また、前述の光学的記録要素において、記録と
層１２火Ｊビ成する光学的記録材料は酢化によって特性
が変化してしまう恐れがある。これに対し、有機高分子
等から成る保護層］−３は、主に記録層の表面をキズ等
から保護する為のもので、このような酸化の防止には十
分な効果が得られない。従って、従来の光学的記録要素
では、特に高温、高湿の環境下において、記録層が酸化
し、長期に亘って安定した記録−再生特性を維持できな
くなる欠点を有している。
が変化してしまう恐れがある。これに対し、有機高分子
等から成る保護層］−３は、主に記録層の表面をキズ等
から保護する為のもので、このような酸化の防止には十
分な効果が得られない。従って、従来の光学的記録要素
では、特に高温、高湿の環境下において、記録層が酸化
し、長期に亘って安定した記録−再生特性を維持できな
くなる欠点を有している。
本発明は、上記事実に鑑み、安全性に優れ且つ長期に亘
って安定した特性を有する光学的記録要素を提供するこ
とを目的とする。
って安定した特性を有する光学的記録要素を提供するこ
とを目的とする。
本発明は、基板上に光学的記録層と補助層とを積層して
成る光学的記録要素において、前記補助層の少なくとも
一部を、接着層と該接着層によって接着された金属板と
することによって上記目的を達するものである。
成る光学的記録要素において、前記補助層の少なくとも
一部を、接着層と該接着層によって接着された金属板と
することによって上記目的を達するものである。
本発明の光学的記録要素の構成例を略断面図として第２
図の（ａ、） 、 （ｂ）および（Ｑ）に示す。構成例
（ａ）においては、ガラス或いはプラスチック等から成
る基板２１ａ上に１！’ｅＴｂＧｄ等の光磁気材料或い
は酸化テルル等その他の光学的記録材料を蒸着等の方法
により、記録層２２ａとして製膜したものである。次い
で、接着層２３ａを設け、最終工程に金属板２４ａを接
着する。ここで接着層２３ａは、記録層の酸化防止及び
金属板との密着を目的としたものであり、例えば硬化型
接着剤、ホットメルト接着剤、粘着剤等から成る。また
金属板２４ａは、それ自体が十分な破壊強度を有する板
であり、特に延性の高い物質が望ましい。このような物
質として、例えばに！、、リン青銅、Ｆｅ等が挙げられ
る。
図の（ａ、） 、 （ｂ）および（Ｑ）に示す。構成例
（ａ）においては、ガラス或いはプラスチック等から成
る基板２１ａ上に１！’ｅＴｂＧｄ等の光磁気材料或い
は酸化テルル等その他の光学的記録材料を蒸着等の方法
により、記録層２２ａとして製膜したものである。次い
で、接着層２３ａを設け、最終工程に金属板２４ａを接
着する。ここで接着層２３ａは、記録層の酸化防止及び
金属板との密着を目的としたものであり、例えば硬化型
接着剤、ホットメルト接着剤、粘着剤等から成る。また
金属板２４ａは、それ自体が十分な破壊強度を有する板
であり、特に延性の高い物質が望ましい。このような物
質として、例えばに！、、リン青銅、Ｆｅ等が挙げられ
る。
又、本発明の光学的記録要素は、使用する記が再生装置
Ｑに合せて、その他の補助層を設けたり、画面に記録層
をわり着した構成に於いても、金属板の接着による金属
保み層を適用する事が出来る。例えは、第２図の略断面
図構成例（ｂ）および（ｃ）は、別の態様を示すもので
、（ｂ）に於ては、基板２１ｂの上に補助層として断熱
層２５ｂおよび反射防止層２６１）をｌ１ｌ（４次相層
し、次いで構成（ａ）と同様に記録層２２ｂ１接着層２
３ｂと接着された金属板２４ｂを設けた記録要素とする
ことができる。
Ｑに合せて、その他の補助層を設けたり、画面に記録層
をわり着した構成に於いても、金属板の接着による金属
保み層を適用する事が出来る。例えは、第２図の略断面
図構成例（ｂ）および（ｃ）は、別の態様を示すもので
、（ｂ）に於ては、基板２１ｂの上に補助層として断熱
層２５ｂおよび反射防止層２６１）をｌ１ｌ（４次相層
し、次いで構成（ａ）と同様に記録層２２ｂ１接着層２
３ｂと接着された金属板２４ｂを設けた記録要素とする
ことができる。
補助）Ｐｆは、前述した以外にもインデックスマークや
、トラッキングマークを書き込んだ層などを設けてもよ
い。又、構成例（ｃ）は、両面に記録層を有する記録要
素であり、記録層２２ｃが形成された基板２１ｃが２枚
、金属板２４０を挾んで接着層２３ａによって重ね合わ
されて成る。
、トラッキングマークを書き込んだ層などを設けてもよ
い。又、構成例（ｃ）は、両面に記録層を有する記録要
素であり、記録層２２ｃが形成された基板２１ｃが２枚
、金属板２４０を挾んで接着層２３ａによって重ね合わ
されて成る。
これらの構成例（、） 、 （ｂ）および（０）は、何
れも接着された金属板を有しており、そのために安全性
及び記録層の耐腐蝕性は後述する実施例に示す如く著＼
しく改善された。
れも接着された金属板を有しており、そのために安全性
及び記録層の耐腐蝕性は後述する実施例に示す如く著＼
しく改善された。
本発明の記録要素の各層構成の膜厚及び板厚は、目的に
応じて任意選択する事が出来るが、金属板は十分な強度
並びに平面性を得る為に、例えばＡｌ板ではα３闘以上
であることが望ましい。また接着層も１０μ〜α１龍程
度が望ましい。
応じて任意選択する事が出来るが、金属板は十分な強度
並びに平面性を得る為に、例えばＡｌ板ではα３闘以上
であることが望ましい。また接着層も１０μ〜α１龍程
度が望ましい。
以下、本発明を実施例に従って説明する。
実施例１
以下の工程により光学的記録要素を作製した。
直径１２０１ＦＩＸ厚２鰭の円板状の平滑なガラス基板
を超音波洗浄器で清浄し、この片面にスピ〜ナー塗布機
により、硬化型シリコーン樹脂（東し・シリコーン株式
会社製；５Ｒ−２４１０レジン）を乾燥膜厚Ｌ２μｍと
なるように塗工した。乾燥条件は、１５０°Ｃの温度で
２時間であった。シリコーン樹脂は、磁気記録層にビー
ム照射されて発生する熱の散逸を防止するために設けた
。
を超音波洗浄器で清浄し、この片面にスピ〜ナー塗布機
により、硬化型シリコーン樹脂（東し・シリコーン株式
会社製；５Ｒ−２４１０レジン）を乾燥膜厚Ｌ２μｍと
なるように塗工した。乾燥条件は、１５０°Ｃの温度で
２時間であった。シリコーン樹脂は、磁気記録層にビー
ム照射されて発生する熱の散逸を防止するために設けた
。
次に、上記シリコーン樹脂層の表面に記録層としてＦｅ
１２ Ｇｄｘｔ Ｔｂ１２の組成をもつ非晶質薄／Ｉ％
ｔｒスパッタリング装置で、膜厚０．２μｍ ニＩｇ
成した。更に、前記シリコーン樹脂と同様のものをコ、
２μｍの厚さに塗工し、乾燥後、粘着剤（住友３Ｍ礼製
；スコッヂ４６７）を塗工し、０５間厚のＡｌ板をｔ＆
ｆｉ′ｆ シて光学的記録要素を作製した。
１２ Ｇｄｘｔ Ｔｂ１２の組成をもつ非晶質薄／Ｉ％
ｔｒスパッタリング装置で、膜厚０．２μｍ ニＩｇ
成した。更に、前記シリコーン樹脂と同様のものをコ、
２μｍの厚さに塗工し、乾燥後、粘着剤（住友３Ｍ礼製
；スコッヂ４６７）を塗工し、０５間厚のＡｌ板をｔ＆
ｆｉ′ｆ シて光学的記録要素を作製した。
この光学的記録要素に、ガラス面側より光学ヘッドを用
いで、ビット記録および読み出しを行なった。記録用光
学ヘッドは、出カフｍＷの半導体レーザ（８２０ｎｍ）
を光源とし、記録層表面に１２μφの微小スポットとし
て照射される構成となっており、さらに記録層の面に垂
直方向の磁界を印加出来る様にｒ＋ｉ磁石を配している
。円板状の光学的記録要素を［ｉＪ転駆動し、記録層を
一様に磁化し、次いで、レーザをパルス発振して５’
ＭＢ２でピット記録を行なった。
いで、ビット記録および読み出しを行なった。記録用光
学ヘッドは、出カフｍＷの半導体レーザ（８２０ｎｍ）
を光源とし、記録層表面に１２μφの微小スポットとし
て照射される構成となっており、さらに記録層の面に垂
直方向の磁界を印加出来る様にｒ＋ｉ磁石を配している
。円板状の光学的記録要素を［ｉＪ転駆動し、記録層を
一様に磁化し、次いで、レーザをパルス発振して５’
ＭＢ２でピット記録を行なった。
読み出し再生は、４ｍＷの半導体レーザを光源とし、記
録時と同様にして、記録層を照射し、反射光を偏光子を
介してディテクターで検出して行なった。再生信号の波
形は、十分なＳ ／ Ｎ品質である事が確認された。
録時と同様にして、記録層を照射し、反射光を偏光子を
介してディテクターで検出して行なった。再生信号の波
形は、十分なＳ ／ Ｎ品質である事が確認された。
又、この光学的記録要素を光学ヘッドに対して固定し、
同−箇所ガツト記録、消去を繰り返し行なった。消去は
、外部磁場を与えながら、記録時と同様のレーザ照射で
行なった。口の結果、１０７回の繰り返し使用後もＳ
／ Ｈ比の変化はなかった。
同−箇所ガツト記録、消去を繰り返し行なった。消去は
、外部磁場を与えながら、記録時と同様のレーザ照射で
行なった。口の結果、１０７回の繰り返し使用後もＳ
／ Ｈ比の変化はなかった。
実施例２
実施例１と同様にして、ガラス板のがわりに直径１ 、
ｚ ｏ ｓｒｓ Ｘ 厚さ２ ＋ｕのポリメチルメタア
クリレート基板を１１Ｊいて記録要素を作成した。この
記録要素は、実施例１と同様のテストを行なったところ
、優れた記録−再生特性を有していることが判明した。
ｚ ｏ ｓｒｓ Ｘ 厚さ２ ＋ｕのポリメチルメタア
クリレート基板を１１Ｊいて記録要素を作成した。この
記録要素は、実施例１と同様のテストを行なったところ
、優れた記録−再生特性を有していることが判明した。
実施例３
実施例１と２で作成した記録要素の耐腐蝕性に対する試
験を行なった。腐蝕試験は、４０’０の温Ｌ（および９
５％ＲＨの温度の環境を有するとともに１００ ｐｐｍ
のオゾン偏境下に６０日間放Ｉｆｆ（して行なった。Ｎ
Ｉｆの有無は、光学顕微鏡で記録層−表面を観察して
判定した。
験を行なった。腐蝕試験は、４０’０の温Ｌ（および９
５％ＲＨの温度の環境を有するとともに１００ ｐｐｍ
のオゾン偏境下に６０日間放Ｉｆｆ（して行なった。Ｎ
Ｉｆの有無は、光学顕微鏡で記録層−表面を観察して
判定した。
また、腐蝕試験の比較サンプルとして、次のものを用い
た。
た。
比較例１ 実施例ユの記録要素から、接着層および金属
板を除いた構造の記録要素。
板を除いた構造の記録要素。
比較例２ 実施例１の記録要素に於て、接Ｍ層及び金属
板に代えて、ポリメチルメ タクリレートを１０μｍの膜厚に塗 工した有機保設層を用いた構造の記 録要素。
板に代えて、ポリメチルメ タクリレートを１０μｍの膜厚に塗 工した有機保設層を用いた構造の記 録要素。
腐蝕試験の結果を第１表に示す。表は各サンプルのそれ
ぞれの環境下での腐蝕開始日数を示すものである。
ぞれの環境下での腐蝕開始日数を示すものである。
ｍ１表
実施例４
実施例１ど２で作成した記録要素の破損実験を行なった
。比較サンプルとして実施例３と同様の比較例を用いた
。実験は円盤状の記録要素（以下、ディスクとＩ１１！
ぶ）を２００ Ｏｒ、ｐ、ｍ、で回転させ、該ディスク
面に５ ｋｇ ／ ｒｎ♂の集中荷重を瞬間的に与えて
行なった。その結果、比較例１及び２ではディスクは全
て粉々に砕け、装置内に数μｍのガラス粉から１０ ｍ
ｍ角程度の破片になって飛散した。また装置のすき間か
らもガラス粉が飛び出し、使４目者がケガをする恐れが
あることも判明した。これに対し、本発明の実施例１及
び２に於いて、ディスクは荷重の加わった部位で金属板
が変形しガラス或いはポリメチルメタアクリレート基板
にヒビが人っていたが、接ｈ Ｊｅｔがある為、金！福
板の剥１４１Ｆ及び破片の飛散ははとんとなかった。
。比較サンプルとして実施例３と同様の比較例を用いた
。実験は円盤状の記録要素（以下、ディスクとＩ１１！
ぶ）を２００ Ｏｒ、ｐ、ｍ、で回転させ、該ディスク
面に５ ｋｇ ／ ｒｎ♂の集中荷重を瞬間的に与えて
行なった。その結果、比較例１及び２ではディスクは全
て粉々に砕け、装置内に数μｍのガラス粉から１０ ｍ
ｍ角程度の破片になって飛散した。また装置のすき間か
らもガラス粉が飛び出し、使４目者がケガをする恐れが
あることも判明した。これに対し、本発明の実施例１及
び２に於いて、ディスクは荷重の加わった部位で金属板
が変形しガラス或いはポリメチルメタアクリレート基板
にヒビが人っていたが、接ｈ Ｊｅｔがある為、金！福
板の剥１４１Ｆ及び破片の飛散ははとんとなかった。
尚、実施例においては、磁気光学効果を用いた光学的記
録要素の例を示したが、前述の如く本発明Ｇ１このよう
な磁気的記録に限らず、ｈ１目’Ｂ率変化、反則率変化
或いは形状変化等を利用した他の光学的記録要素にも適
用できる。
録要素の例を示したが、前述の如く本発明Ｇ１このよう
な磁気的記録に限らず、ｈ１目’Ｂ率変化、反則率変化
或いは形状変化等を利用した他の光学的記録要素にも適
用できる。
以上説明したように、本発明ＧＪ従来の光学的記録要素
において、 １）記録要素の破Ｊ１１の際、破片の飛散を防ぎ、安全
性を高める ２）記ζ≠層の酸化を防ぎ、長期間、記録−再生時・性
を安定に糾持する 等の効果を有するものである。
において、 １）記録要素の破Ｊ１１の際、破片の飛散を防ぎ、安全
性を高める ２）記ζ≠層の酸化を防ぎ、長期間、記録−再生時・性
を安定に糾持する 等の効果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の光学的記録要素の構成例を示す略断面図
、第２図（ａ）、第２図（１，）および第２図（、）は
夫々、本発明の光学的記録要素の構成例を示す略断面図
である。 １１ 、２１ ａ 、 ２ ｌ ｂ 、 ２１ ｃ−−
−−−ｍ−基板１２ 、２２ ａ 、 ２２ ｂ 、
２２ ｃ −−−−−−−−記録層１３−−、−一保霞
層 ２３ａ、２３ハ、２３ｃｍ−一一一接着層 ２
４ａ、２４ｂ 、２４ｃ−−一−−−金わ１板 ２５
ｂ−−一、断熱層２６１）−−−−一−−反射防止層
。 出願人 キャノン株式会社
、第２図（ａ）、第２図（１，）および第２図（、）は
夫々、本発明の光学的記録要素の構成例を示す略断面図
である。 １１ 、２１ ａ 、 ２ ｌ ｂ 、 ２１ ｃ−−
−−−ｍ−基板１２ 、２２ ａ 、 ２２ ｂ 、
２２ ｃ −−−−−−−−記録層１３−−、−一保霞
層 ２３ａ、２３ハ、２３ｃｍ−一一一接着層 ２
４ａ、２４ｂ 、２４ｃ−−一−−−金わ１板 ２５
ｂ−−一、断熱層２６１）−−−−一−−反射防止層
。 出願人 キャノン株式会社
Claims (1)
- （１）基板上に光学的記録層と補助層とを積層して成る
光学的記録要素において、前記補助層の少なくとも一部
が、接着層と該接着層によって接着された金属板である
ことを特徴とする光学的記録要素。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57175851A JPS5965949A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 光学的記録要素 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57175851A JPS5965949A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 光学的記録要素 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5965949A true JPS5965949A (ja) | 1984-04-14 |
Family
ID=16003307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57175851A Pending JPS5965949A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 光学的記録要素 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5965949A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61107554A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-26 | Olympus Optical Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61123033A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 保護膜構造体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5766538A (en) * | 1980-10-08 | 1982-04-22 | Toshiba Corp | Information storage medium |
-
1982
- 1982-10-05 JP JP57175851A patent/JPS5965949A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5766538A (en) * | 1980-10-08 | 1982-04-22 | Toshiba Corp | Information storage medium |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61107554A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-26 | Olympus Optical Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61123033A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 保護膜構造体 |
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