JPS6278752A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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Publication number
JPS6278752A
JPS6278752A JP21769885A JP21769885A JPS6278752A JP S6278752 A JPS6278752 A JP S6278752A JP 21769885 A JP21769885 A JP 21769885A JP 21769885 A JP21769885 A JP 21769885A JP S6278752 A JPS6278752 A JP S6278752A
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JP
Japan
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layer
magneto
recording medium
recording layer
underlayer
Prior art date
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Pending
Application number
JP21769885A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Katsuta
伸一 勝田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Home Electronics Ltd
NEC Corp
Original Assignee
NEC Home Electronics Ltd
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Home Electronics Ltd, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Home Electronics Ltd
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Publication of JPS6278752A publication Critical patent/JPS6278752A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光磁気記録媒体に関する。
従来の技術 光磁気記録媒体は、書き換えのできる高密度・大容量メ
モリ用記録媒体として注目されており、そのための種々
の記録媒体が提案されている。
この光磁気記録媒体への情報の書き込みは、媒体に磁界
を印加しっつレーザ光を照射して行うキュリ一点書き込
みによって行われる。そして、情報の読み取りは、磁気
カー効果を利用して行われる。
以上の如く情報の記碌−再生を行う光磁気記録媒体は、
透明基板上にスパッタリングまたは電子ビーム蒸着によ
ってGd0o ・TbFe −GdTbFe等の非晶質
磁性材料からなる記録層を形成して概略構成されている
。光磁気記録媒体の透明基板としては、ガラス材を用い
ることが好ましいが、トラッキング用グループ(溝)付
基板を、量産するにはプラスチック基板が良いとされて
いる。
しかしながら、プラスチック材は、ガラス材に比べると
耐熱性に劣り、熱変形が生じ易い等の理由および内部ガ
ス・低分子成分の流出等が伴うため、基板に直接記録層
を設けることは難かしい。
そのため、プラスチック基板と記録層との間に光透過性
を有する下地層が設けられている。
この下地層を設けた光磁気記録媒体は、下地層を屈折率
の高い材料を用いて形成すれば見かけ上の磁気光学回転
角(カー回転角)を高めることができ、C/N比を向上
させることが知られている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、この下地層の成、嘆け、下地層を形成す
る材質によって、成膜後時間の経過につれ、はがれが生
じる。下地層のはがれは、記録層の有無にかかわらず生
ずるもので、良好な記録層の成膜が困難となる。とれで
は、光磁気記録媒体としての実用化が不可能となってし
まう。
また、光磁気記録媒体は、レーザ光の照射によって記録
を行うので、下地層として屈折率の高い材料を用いるこ
とが好ましい。しかし、下地層の屈折率が高すぎると、
レーザ光の波長における媒体の反射率が10チ以下にな
ることがある。媒体の反射率が10%以下になると、フ
ォーカスおよびトラッキングのエラー信号の検出が不能
となり、サーボをかけることができなくなってしまう。
そこで、下地層としては、I)、屈折率・反射率が適当
である% 11)、光透過性が良い、111)、基板上
に設けた際クラック・はがれ等が生じ難くい、等の特徴
を有する材料を選択することが好ましい。
本発明は、以上の点に鑑みなされたもので、適当な材料
で下地層を形成し、はがれを生じさせないようにして良
好な記録層の成膜を可能とした光磁気記録媒体を提供す
ることを目的としている。
問題点を解決するための手段 以上の目的を達成するために、本発明は、透明基板上に
磁気光学効果を有する材料からなる記録層を設けた光磁
気記録媒体であって、前記記録層のレーザ光照射側の一
方面に光透過性を有し適当な反射率・屈折率を有する材
料からなる下地層を設けたことを特徴としている。
作用 以上の本発明による光磁気記録媒体は、下地層として適
当な材料、例えば屈折率が適度であり、20〜23チ程
度の反射率を有し、かつはがれの生じにくいAl2O.
を用いている。それで、クラック・はがれ等が生じ難し
く、良好な記録層の成膜が行われる。また、磁気カー効
果による磁気光学回転角(カー回転角)の増大が図かれ
る構造となる。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は、本発明に係る光磁気記録媒体の断面構造を示
すもので、lOは透明基板、11は下地層、12は記録
層、13は保護層を示している。
なお、光磁気記録媒体は、円盤状のディスクとして形成
されるもので、記録を行う記録部は、ディスク円周方向
にトラック溝として形成される。
このディスク構造の図示および詳細な説明は省略する。
光磁気記録媒体は、分子量10.000−20.000
程度の低グレードのポリカーボネート基板からなる透明
基板10よに、下地層11.  記録層12.保護層1
3の順にスパッタリング法により薄膜層を成膜して形成
されている。
下地層11は、A4 as (アルミナ)からなる。
この場合、下地層11の膜厚dけ、下地層11を形成す
る材料の屈折率nと、記録会再生に用いるレーザ光の波
長λとにより、 の関係に設定される。
そこで、下地層11としてはAtt Os (アルミナ
)を用い、レーザ光として半導体レーザを用いる場合、
Al2O.の屈折率はn=1.62、半導体レーザの波
長はλ=780〜53on、mであるので、m=0のと
き、上記関係式よりd=約1200〜1280Aに調整
して成膜する。また、この下地層11の膜厚け、d=約
1200〜1280Aの奇数倍となるように調整して成
膜しても良い。
そして、この下地層11の上にTbFeCoアモルファ
ス合金等の磁気光学効果を有する非晶質磁性材料からな
る記録層12が約100OAの膜厚で成膜されている。
さらに、記録層12の上に、ALt 03・Si2N4
・ZnS−TiO2等の保護層13が成膜されている。
以上の如く、下地層11を1403を用いて形成した本
実施例によれば、以下に説明するように良好な光磁気記
録媒体が得られた。
第2図は、下地層11としてAt203を用いた本実施
例構造の光磁気記録媒体と、他の2種類の材料(S i
 O2・5I3N4)を下地層とした媒体との成膜後火
気中に放置した後、その表面状態を顕微鏡視察しだ結果
を示している。
第2図(a)ばAzzogを下地層とした本実施例によ
る媒体、第2図(b)は下地層にs i at  を用
いた媒体、第2図(C)は下地層にSi、N4を用いた
媒体である。
第2図(b) 、 (C)に示すように、下地層として
5j02 、 S13 N4を用いたものは、成膜後ク
ラック・はがれが生じた。
これに比べて、下地層11としてAl2O3を用いたも
のは、第2図(a)に示すように、クラック吻はがれ等
が全く生じず、良好な記録層を成膜することができた。
また、Al2Osで下地層11を形成した光磁気記録媒
体は、半導体レーザ波長780〜830nm付近で20
〜23チ程度の適当な反射率を有している。
以上のように、適当な反射率を有しているので、フォー
カスおよびトラッキングのサーボ不能となる心配が無く
なる。また、多重層によるカー効果エンハンスメントに
より、磁気光学回転角(カー回転角)の増大を図ること
ができる。それによって媒体のカー回転角θに1反射率
R、レーザ光の光量Iとして、 S/NCX、/T’:了 ・θに の関係式から、S/N比を向上させることができる。
本実施例の下地層11としてAl2O.を用いた媒体に
おいて、レーザ光波長780nm、ディスクの回転数1
80Or、p、m、レーザ光の記録パワー7mWで、5
0dB以上(f :  IMH2,BW:30KHz)
の高いC/N 比が得られた。そして、最終的な再生信
号のS/N比も3〜5dB程度向上した。
また、ノイズレベルも低く、光磁気記録媒体として良好
な結果が得られ、耐候性も大幅に向上させることができ
た。
発明の詳細 な説明したとおり、本発明の光磁気記録84によれば、
クランク・はがれ等の生じ難くい良好な光磁気記録媒体
を構成でき、記録・再生における性能の向上を図ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る光磁気記録媒体の断面構造を示す
断面図、第2図(a) (b) (c)は媒体の表面状
態を示す顕微鏡写真で、(a)は本発明の実施例による
At203を下地層とした拡大写真、 (b)、(c)
は下地層として5ift 、 Si、N、を用い拡大写
真で本発明と比・較する写真、第3図はその媒体のレー
ザ光の反射を示す断面図である。 10・・・・・・透明基板、 11・・・・・・下地層、 12・・・・・・記録層、 13・・・・・・保護層。 第  1  図 第  3  図 (a) CC) $21!1

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、透明基板上に磁気光学効果を有する材料からな
    る記録層を設けた光磁気記録媒体であつて、前記記録層
    のレーザ光照射側の一方面に光透過性を有し適当な屈折
    率を有する材料からなる下地層を設けたことを特徴とす
    る光磁気記録媒体。
  2. (2)、下地層の層厚dが、この下地層を形成する材料
    の屈折率nと記録・再生に用いるレーザ光の波長λに対
    してd=λ(2m+1)/4n(mは0を含む自然数)
    なる関係に設定して調整されてなる特許請求の範囲第(
    1)項記載の光磁気記録媒体。
  3. (3)、下地層がAl_2O_3(アルミナ)からなる
    特許請求の範囲第(1)項または第(2)項のいずれか
    に記載の光磁気記録媒体。
JP21769885A 1985-09-30 1985-09-30 光磁気記録媒体 Pending JPS6278752A (ja)

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JPS6278752A true JPS6278752A (ja) 1987-04-11

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5269643A (en) * 1991-03-22 1993-12-14 Danippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Method and apparatus for transferring wafers from wafer carrier to wafer conveyor apparatus in carrierless wafer surface treatment apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5269643A (en) * 1991-03-22 1993-12-14 Danippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Method and apparatus for transferring wafers from wafer carrier to wafer conveyor apparatus in carrierless wafer surface treatment apparatus

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