JP2000251335A - 光情報記録媒体製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体製造方法Info
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- JP2000251335A JP2000251335A JP11046307A JP4630799A JP2000251335A JP 2000251335 A JP2000251335 A JP 2000251335A JP 11046307 A JP11046307 A JP 11046307A JP 4630799 A JP4630799 A JP 4630799A JP 2000251335 A JP2000251335 A JP 2000251335A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】２Ｐ法を用いた光情報記録媒体において、スタ
ンパを剥離する際に、紫外線硬化樹脂層及び透明基板に
欠陥が発生する確率を低くする。 【解決手段】スタンパのピット列または案内溝が転写さ
れた面上に紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線硬化樹脂に
基板を密着させ、基板側から紫外線を照射し紫外線硬化
樹脂を硬化度が７０％以上８０％以下である状態に硬化
させ、硬化した紫外線硬化樹脂とスタンパとを剥離し、
スタンパから剥離した紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し
紫外線硬化樹脂を完全硬化させる。
ンパを剥離する際に、紫外線硬化樹脂層及び透明基板に
欠陥が発生する確率を低くする。 【解決手段】スタンパのピット列または案内溝が転写さ
れた面上に紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線硬化樹脂に
基板を密着させ、基板側から紫外線を照射し紫外線硬化
樹脂を硬化度が７０％以上８０％以下である状態に硬化
させ、硬化した紫外線硬化樹脂とスタンパとを剥離し、
スタンパから剥離した紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し
紫外線硬化樹脂を完全硬化させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の光
情報記録媒体の製造方法に関し、特に、基板上に紫外線
硬化樹脂を塗布し、当該紫外線硬化樹脂にスタンパに形
成された微細パターンを転写する２Ｐ（Photo Polymeri
zation）成形法を用いた光情報記録媒体の製造方法に関
する。
情報記録媒体の製造方法に関し、特に、基板上に紫外線
硬化樹脂を塗布し、当該紫外線硬化樹脂にスタンパに形
成された微細パターンを転写する２Ｐ（Photo Polymeri
zation）成形法を用いた光情報記録媒体の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、紫外線硬化樹脂を基板上に塗
布し、スタンパのピット列や案内溝等の微細パターンを
有する面を紫外線硬化樹脂に密着させ、紫外線を照射す
ることにより紫外線硬化樹脂を硬化させてスタンパに形
成された微細パターンを紫外線硬化樹脂に転写する２Ｐ
成形法が知られている。
布し、スタンパのピット列や案内溝等の微細パターンを
有する面を紫外線硬化樹脂に密着させ、紫外線を照射す
ることにより紫外線硬化樹脂を硬化させてスタンパに形
成された微細パターンを紫外線硬化樹脂に転写する２Ｐ
成形法が知られている。
【０００３】図６は、従来の２Ｐ成形法を用いた光情報
記録媒体の製造工程の一部を説明する図である。図中、
６０１は透明基板、６０２は紫外線硬化樹脂層、６０３
はスタンパ、６０４は紫外線照射装置、６０５は紫外線
である。厚さが１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂、ア
クリル樹脂、ガラス等からなる透明基板６０１上に、ス
ピンコート法等により、紫外線硬化樹脂を塗布し、膜厚
が約５０μｍである紫外線硬化樹脂層６０２を形成する
（図６（ａ））。
記録媒体の製造工程の一部を説明する図である。図中、
６０１は透明基板、６０２は紫外線硬化樹脂層、６０３
はスタンパ、６０４は紫外線照射装置、６０５は紫外線
である。厚さが１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂、ア
クリル樹脂、ガラス等からなる透明基板６０１上に、ス
ピンコート法等により、紫外線硬化樹脂を塗布し、膜厚
が約５０μｍである紫外線硬化樹脂層６０２を形成する
（図６（ａ））。
【０００４】ニッケル製のスタンパ６０３のピット列ま
たは案内溝等の微細パターンが形成されている情報記録
面を紫外線硬化樹脂層６０２の表面に密着させる（図６
（ｂ））。次に、紫外線硬化樹脂層６０２が完全硬化状
態（紫外線硬化樹脂の硬化度が９９％以上である状態）
となるまで、透明基板６０１側から紫外線照射装置６０
４により紫外線６０５を照射する（図６（ｃ））。
たは案内溝等の微細パターンが形成されている情報記録
面を紫外線硬化樹脂層６０２の表面に密着させる（図６
（ｂ））。次に、紫外線硬化樹脂層６０２が完全硬化状
態（紫外線硬化樹脂の硬化度が９９％以上である状態）
となるまで、透明基板６０１側から紫外線照射装置６０
４により紫外線６０５を照射する（図６（ｃ））。
【０００５】紫外線硬化樹脂層６０２が硬化し完全硬化
状態となったら、紫外線の照射を停止し、スタンパ６０
３を紫外線硬化樹脂層６０２から剥離する（図６
（ｄ））。以上、図６（ａ）〜（ｄ）の工程によって、
透明基板６０１上に形成した紫外線硬化樹脂層６０２の
表面に、スタンパ６０３の情報記録面に記録されたピッ
ト列を転写することができる。
状態となったら、紫外線の照射を停止し、スタンパ６０
３を紫外線硬化樹脂層６０２から剥離する（図６
（ｄ））。以上、図６（ａ）〜（ｄ）の工程によって、
透明基板６０１上に形成した紫外線硬化樹脂層６０２の
表面に、スタンパ６０３の情報記録面に記録されたピッ
ト列を転写することができる。
【０００６】ピット列が転写された紫外線硬化樹脂層６
０２の表面は、アルミニウム、金等の金属またはシリコ
ン窒化物等の誘電体等からなる反射膜で覆われ、当該反
射膜の表面に保護層等を形成することにより光ディスク
を作製することができる。
０２の表面は、アルミニウム、金等の金属またはシリコ
ン窒化物等の誘電体等からなる反射膜で覆われ、当該反
射膜の表面に保護層等を形成することにより光ディスク
を作製することができる。
【０００７】ＣＤ（Compact Disc）は、厚さ１．２ｍｍ
の透明基板に１．６ｍｍのトラックピッチで最短ピット
長が約０．９μｍのピット列が形成されている。また、
ＣＤの記録密度を約７倍以上に高めたＤＶＤ（Digital
Versatile Disc）は、厚さ０．６ｍｍの透明基板に０．
７４μｍのトラックピッチで最短ピット長が約０．４μ
ｍのピット列が形成されている。
の透明基板に１．６ｍｍのトラックピッチで最短ピット
長が約０．９μｍのピット列が形成されている。また、
ＣＤの記録密度を約７倍以上に高めたＤＶＤ（Digital
Versatile Disc）は、厚さ０．６ｍｍの透明基板に０．
７４μｍのトラックピッチで最短ピット長が約０．４μ
ｍのピット列が形成されている。
【０００８】ＤＶＤの透明基板を上述したような２Ｐ成
形法により作製することができる。また、ＤＶＤには片
面に２層の情報面を有するタイプのものがある。このタ
イプのＤＶＤでは、射出成形法により透明基板に形成さ
れた第１層目の情報面を覆って形成された反射膜上に第
２層目の情報面を２Ｐ成形法により形成することができ
る。
形法により作製することができる。また、ＤＶＤには片
面に２層の情報面を有するタイプのものがある。このタ
イプのＤＶＤでは、射出成形法により透明基板に形成さ
れた第１層目の情報面を覆って形成された反射膜上に第
２層目の情報面を２Ｐ成形法により形成することができ
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ＤＶＤ用のスタンパに
はＣＤ用のスタンパに形成されているピットの数に対し
て約５倍の数のピットが形成されており、さらに、再生
信号のノイズを減少させるためにピットの側面の傾斜を
ＣＤのピットの側面の傾斜よりも垂直に近い状態として
いるため、ＣＤ用のスタンパを用いた場合よりもＤＶＤ
用のスタンパを用いた場合の方が、完全硬化状態である
紫外線硬化樹脂との密着力が大きい。
はＣＤ用のスタンパに形成されているピットの数に対し
て約５倍の数のピットが形成されており、さらに、再生
信号のノイズを減少させるためにピットの側面の傾斜を
ＣＤのピットの側面の傾斜よりも垂直に近い状態として
いるため、ＣＤ用のスタンパを用いた場合よりもＤＶＤ
用のスタンパを用いた場合の方が、完全硬化状態である
紫外線硬化樹脂との密着力が大きい。
【００１０】したがって、ＤＶＤ用のスタンパを、完全
硬化状態の紫外線硬化樹脂から剥離することが困難とな
り、剥離の際に、紫外線硬化樹脂にひび割れを生じさせ
たり、０．６ｍｍと薄い厚さである下地の透明基板に反
りを発生させたりしてしまうという課題がある。
硬化状態の紫外線硬化樹脂から剥離することが困難とな
り、剥離の際に、紫外線硬化樹脂にひび割れを生じさせ
たり、０．６ｍｍと薄い厚さである下地の透明基板に反
りを発生させたりしてしまうという課題がある。
【００１１】また、２層の情報面を有するタイプのＤＶ
Ｄを製造する場合においては、スタンパを完全硬化状態
の紫外線硬化樹脂から剥離する際に、紫外線硬化樹脂と
下地の反射層との界面に剥離が生じてしまうという課題
がある。
Ｄを製造する場合においては、スタンパを完全硬化状態
の紫外線硬化樹脂から剥離する際に、紫外線硬化樹脂と
下地の反射層との界面に剥離が生じてしまうという課題
がある。
【００１２】本発明は、２Ｐ法を用いた光情報記録媒体
の製造方法において、スタンパを剥離する際に、紫外線
硬化樹脂層、反射膜及び透明基板に欠陥が発生する確率
を低くすることができ、高い歩留率で光情報記録媒体を
製造することができる光情報記録媒体製造方法を提供す
ることを目的とする。
の製造方法において、スタンパを剥離する際に、紫外線
硬化樹脂層、反射膜及び透明基板に欠陥が発生する確率
を低くすることができ、高い歩留率で光情報記録媒体を
製造することができる光情報記録媒体製造方法を提供す
ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願の請求項１記載の発明は、ピット列または案内
溝が記録されたマスタ原盤を作製するマスタ原盤作製工
程と、前記マスタ原盤に記録された前記ピット列または
案内溝を転写したスタンパを作製するスタンパ作製工程
と、前記スタンパに転写された前記ピット列または案内
溝を転写した透明基板を作製する透明基板作製工程とを
備える光情報記録媒体製造方法において、前記透明基板
作製工程は、前記スタンパの前記ピット列または案内溝
が転写された面上に紫外線硬化樹脂を塗布する塗布工程
と、前記紫外線硬化樹脂に基板を密着させる密着工程
と、前記基板側から紫外線を照射し前記紫外線硬化樹脂
を硬化度が７０％以上８０％以下である状態に硬化させ
る第１硬化工程と、前記第１硬化工程により硬化された
前記紫外線硬化樹脂と前記スタンパとを剥離する剥離工
程と、前記剥離工程により前記スタンパから剥離された
前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し前記紫外線硬化樹
脂を完全硬化状態に硬化させる第２の硬化工程とを備え
ることを特徴とする。
に、本願の請求項１記載の発明は、ピット列または案内
溝が記録されたマスタ原盤を作製するマスタ原盤作製工
程と、前記マスタ原盤に記録された前記ピット列または
案内溝を転写したスタンパを作製するスタンパ作製工程
と、前記スタンパに転写された前記ピット列または案内
溝を転写した透明基板を作製する透明基板作製工程とを
備える光情報記録媒体製造方法において、前記透明基板
作製工程は、前記スタンパの前記ピット列または案内溝
が転写された面上に紫外線硬化樹脂を塗布する塗布工程
と、前記紫外線硬化樹脂に基板を密着させる密着工程
と、前記基板側から紫外線を照射し前記紫外線硬化樹脂
を硬化度が７０％以上８０％以下である状態に硬化させ
る第１硬化工程と、前記第１硬化工程により硬化された
前記紫外線硬化樹脂と前記スタンパとを剥離する剥離工
程と、前記剥離工程により前記スタンパから剥離された
前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し前記紫外線硬化樹
脂を完全硬化状態に硬化させる第２の硬化工程とを備え
ることを特徴とする。
【００１４】本願の請求項２記載の発明は、ピット列ま
たは案内溝が記録されたマスタ原盤を作製するマスタ原
盤作製工程と、前記マスタ原盤に記録された前記ピット
列または案内溝を転写したスタンパを作製するスタンパ
作製工程と、前記スタンパに転写された前記ピット列ま
たは案内溝を転写した透明基板を作製する透明基板作製
工程とを備える光情報記録媒体製造方法において、前記
透明基板作製工程は、基板上に紫外線硬化樹脂を塗布す
る塗布工程と、前記紫外線硬化樹脂に前記スタンパの前
記ピット列または案内溝が転写された面を密着させる密
着工程と、前記基板側から紫外線を照射し前記紫外線硬
化樹脂を硬化度が７０％以上８０％以下である状態に硬
化させる第１硬化工程と、前記第１硬化工程により硬化
された前記紫外線硬化樹脂と前記スタンパとを剥離する
剥離工程と、前記剥離工程により前記スタンパから剥離
された前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し前記紫外線
硬化樹脂を完全硬化状態に硬化させる第２の硬化工程と
を備えることを特徴とする。
たは案内溝が記録されたマスタ原盤を作製するマスタ原
盤作製工程と、前記マスタ原盤に記録された前記ピット
列または案内溝を転写したスタンパを作製するスタンパ
作製工程と、前記スタンパに転写された前記ピット列ま
たは案内溝を転写した透明基板を作製する透明基板作製
工程とを備える光情報記録媒体製造方法において、前記
透明基板作製工程は、基板上に紫外線硬化樹脂を塗布す
る塗布工程と、前記紫外線硬化樹脂に前記スタンパの前
記ピット列または案内溝が転写された面を密着させる密
着工程と、前記基板側から紫外線を照射し前記紫外線硬
化樹脂を硬化度が７０％以上８０％以下である状態に硬
化させる第１硬化工程と、前記第１硬化工程により硬化
された前記紫外線硬化樹脂と前記スタンパとを剥離する
剥離工程と、前記剥離工程により前記スタンパから剥離
された前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し前記紫外線
硬化樹脂を完全硬化状態に硬化させる第２の硬化工程と
を備えることを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の光情報記録媒体
製造方法の一実施例を説明する図である。本実施例で
は、ＤＶＤを製造する場合を例に上げて説明する。図１
に示すように、本実施例の光情報記録媒体製造方法はマ
スタ原盤作製工程（ａ）と、スタンパ作製工程（ｂ）
と、透明基板作製工程（ｃ）と、成膜貼合工程（ｄ）と
からなる。
製造方法の一実施例を説明する図である。本実施例で
は、ＤＶＤを製造する場合を例に上げて説明する。図１
に示すように、本実施例の光情報記録媒体製造方法はマ
スタ原盤作製工程（ａ）と、スタンパ作製工程（ｂ）
と、透明基板作製工程（ｃ）と、成膜貼合工程（ｄ）と
からなる。
【００１６】本実施例の光情報記録媒体製造方法では、
マスタ原盤作製工程（ａ）、スタンパ作製工程（ｂ）及
び成膜貼合工程（ｄ）は、従来のＤＶＤを製造する場合
におけるそれぞれの工程と同様であるが、透明基板作製
工程（ｃ）は、従来のＤＶＤを製造する場合における透
明基板作製工程とは異なっている。以下、工程順に各工
程について説明する。
マスタ原盤作製工程（ａ）、スタンパ作製工程（ｂ）及
び成膜貼合工程（ｄ）は、従来のＤＶＤを製造する場合
におけるそれぞれの工程と同様であるが、透明基板作製
工程（ｃ）は、従来のＤＶＤを製造する場合における透
明基板作製工程とは異なっている。以下、工程順に各工
程について説明する。
【００１７】図２は、本発明の光情報記録媒体製造方法
の一実施例におけるマスタ原盤作製工程を説明するため
の図である。マスタ原盤作製工程（ａ）は、次に示す６
つの工程からなっている。ガラス原盤研磨工程（ａ−
１）では、厚さ６ｍｍ、直径２００ｍｍのガラス原盤を
研磨する。プライマ層形成工程（ａ−２）では、ガラス
原盤と後述するフォトレジスト層との密着力を高めるた
めにガラス原盤表面にプライマをスピンコート法により
塗布し、プライマ層を形成する。
の一実施例におけるマスタ原盤作製工程を説明するため
の図である。マスタ原盤作製工程（ａ）は、次に示す６
つの工程からなっている。ガラス原盤研磨工程（ａ−
１）では、厚さ６ｍｍ、直径２００ｍｍのガラス原盤を
研磨する。プライマ層形成工程（ａ−２）では、ガラス
原盤と後述するフォトレジスト層との密着力を高めるた
めにガラス原盤表面にプライマをスピンコート法により
塗布し、プライマ層を形成する。
【００１８】フォトレジスト層形成工程（ａ−３）で
は、プライマ層上にフォトレジストをスピンコート法に
より塗布し、フォトレジスト層を１２０ｎｍの膜厚にな
るように形成する。プリベーク工程（ａ−４）では、フ
ォトレジスト層に含まれる溶剤を揮発させるために、フ
ォトレジスト層が形成されたガラス原盤をオーブンの中
に設置し、７０℃で５分間乾燥する。
は、プライマ層上にフォトレジストをスピンコート法に
より塗布し、フォトレジスト層を１２０ｎｍの膜厚にな
るように形成する。プリベーク工程（ａ−４）では、フ
ォトレジスト層に含まれる溶剤を揮発させるために、フ
ォトレジスト層が形成されたガラス原盤をオーブンの中
に設置し、７０℃で５分間乾燥する。
【００１９】カッティング工程（ａ−５）では、ガラス
原盤をカッティングマシンに設置し、フォトレジスト層
の直径４０ｍｍ〜直径１１７ｍｍの領域にレーザ光を照
射し、ピット列または案内溝を記録する。現像工程（ａ
−６）では、ピット列または案内溝が記録されたフォト
レジスト層に現像液を塗布し、レーザ光が照射された部
分のフォトレジスト層を除去する。洗浄工程（ａ−７）
では、現像液が塗布されたフォトレジスト層を純水によ
り洗浄する。ポストベーク工程（ａ−８）では、フォト
レジスト層を洗浄した純水を除去するために、洗浄した
ガラス原盤をオーブンの中に設置し、７０℃で５分間乾
燥する。
原盤をカッティングマシンに設置し、フォトレジスト層
の直径４０ｍｍ〜直径１１７ｍｍの領域にレーザ光を照
射し、ピット列または案内溝を記録する。現像工程（ａ
−６）では、ピット列または案内溝が記録されたフォト
レジスト層に現像液を塗布し、レーザ光が照射された部
分のフォトレジスト層を除去する。洗浄工程（ａ−７）
では、現像液が塗布されたフォトレジスト層を純水によ
り洗浄する。ポストベーク工程（ａ−８）では、フォト
レジスト層を洗浄した純水を除去するために、洗浄した
ガラス原盤をオーブンの中に設置し、７０℃で５分間乾
燥する。
【００２０】以上に示したマスタ原盤作製工程（ａ）に
よって、ピット列または案内溝がフォトレジスト層上に
凹凸として形成されたマスタ原盤を得ることができる。
よって、ピット列または案内溝がフォトレジスト層上に
凹凸として形成されたマスタ原盤を得ることができる。
【００２１】図３は、本発明の光情報記録媒体製造方法
の一実施例におけるスタンパ作製工程を説明するための
図である。スタンパ作製工程（ｂ）は、以下に示す４つ
の工程からなっている。導電膜形成工程（ｂ−１）で
は、マスタ原盤作製工程（ａ）によってピット列または
案内溝がフォトレジスト層上に凹凸として形成されたマ
スタ原盤をスパッタリング装置に取付け、フォトレジス
ト層表面に膜厚５０ｎｍのニッケル、クロム等の導電膜
を形成する。
の一実施例におけるスタンパ作製工程を説明するための
図である。スタンパ作製工程（ｂ）は、以下に示す４つ
の工程からなっている。導電膜形成工程（ｂ−１）で
は、マスタ原盤作製工程（ａ）によってピット列または
案内溝がフォトレジスト層上に凹凸として形成されたマ
スタ原盤をスパッタリング装置に取付け、フォトレジス
ト層表面に膜厚５０ｎｍのニッケル、クロム等の導電膜
を形成する。
【００２２】電鋳工程（ｂ−２）では、導電膜を形成し
たマスタ原盤を電鋳装置の陰極に取付け、導電膜表面に
ニッケル電鋳物を堆積させ、厚さ０．３ｍｍのニッケル
電鋳板を作製する。電鋳板剥離工程（ｂ−３）では、ニ
ッケル電鋳板をガラス原盤から剥離する。スタンパ仕上
工程（ｂ−４）では、剥離したニッケル電鋳板の裏面を
研磨し、所望の形状（本実施例では外径１２０ｍｍの円
盤状）に加工する。
たマスタ原盤を電鋳装置の陰極に取付け、導電膜表面に
ニッケル電鋳物を堆積させ、厚さ０．３ｍｍのニッケル
電鋳板を作製する。電鋳板剥離工程（ｂ−３）では、ニ
ッケル電鋳板をガラス原盤から剥離する。スタンパ仕上
工程（ｂ−４）では、剥離したニッケル電鋳板の裏面を
研磨し、所望の形状（本実施例では外径１２０ｍｍの円
盤状）に加工する。
【００２３】以上に示したスタンパ作製工程（ｂ）によ
って、片面にマスタ原盤から転写されたピット列または
案内溝を有するスタンパを得ることができる。
って、片面にマスタ原盤から転写されたピット列または
案内溝を有するスタンパを得ることができる。
【００２４】図４は、本発明の光情報記録媒体製造方法
の一実施例における透明基板作製工程を説明する図であ
る。透明基板作製工程（ｃ）は、以下に示す５つの工程
からなっている。紫外線硬化樹脂形成工程（ｃ−１）で
は、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの
ポリカーボネート樹脂からなる透明基板３０１の片面に
紫外線硬化樹脂（日本化薬社製 ＭＰＺ−２４１１）を
塗布し、紫外線硬化樹脂層３０２を形成する。
の一実施例における透明基板作製工程を説明する図であ
る。透明基板作製工程（ｃ）は、以下に示す５つの工程
からなっている。紫外線硬化樹脂形成工程（ｃ−１）で
は、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの
ポリカーボネート樹脂からなる透明基板３０１の片面に
紫外線硬化樹脂（日本化薬社製 ＭＰＺ−２４１１）を
塗布し、紫外線硬化樹脂層３０２を形成する。
【００２５】スタンパ密着工程（ｃ−２）では、スタン
パ作製工程（ｂ）によって得られたスタンパ３０３を、
透明基板３０１上に形成された紫外線硬化樹脂層３０２
に密着させる。このとき、紫外線硬化樹脂層３０２の厚
さが約４０μｍとなるようにスタンパ３０３に圧力を加
える。
パ作製工程（ｂ）によって得られたスタンパ３０３を、
透明基板３０１上に形成された紫外線硬化樹脂層３０２
に密着させる。このとき、紫外線硬化樹脂層３０２の厚
さが約４０μｍとなるようにスタンパ３０３に圧力を加
える。
【００２６】第１硬化工程（ｃ−３）では、透明基板３
０１との距離が１０ｃｍの位置から紫外線３０５が照射
されるように、紫外線硬化樹脂層３０２にスタンパ３０
３を密着した透明基板３０１を紫外線照射装置３０４に
配置し、窒素雰囲気中において、１０００ｍＪ／ｃｍ2
のエネルギーで紫外線を照射する。
０１との距離が１０ｃｍの位置から紫外線３０５が照射
されるように、紫外線硬化樹脂層３０２にスタンパ３０
３を密着した透明基板３０１を紫外線照射装置３０４に
配置し、窒素雰囲気中において、１０００ｍＪ／ｃｍ2
のエネルギーで紫外線を照射する。
【００２７】このとき、紫外線硬化樹脂層３０２の硬化
度が７０％以上８０％以下の範囲となるよう照射時間を
調整する。本実施例では、照射時間を３分以上、４分以
下とした場合、紫外線硬化樹脂層３０２は、硬化度が７
０％以上８０％以下の範囲である状態となった。
度が７０％以上８０％以下の範囲となるよう照射時間を
調整する。本実施例では、照射時間を３分以上、４分以
下とした場合、紫外線硬化樹脂層３０２は、硬化度が７
０％以上８０％以下の範囲である状態となった。
【００２８】紫外線硬化樹脂層３０２の硬化度が７０％
未満であると、後述するスタンパ剥離工程においてスタ
ンパを剥離する際に、紫外線硬化樹脂層３０２がスタン
パ３０３から完全に剥離されず、一部の紫外線硬化樹脂
がスタンパに付着してしまう確率が７０％以上であっ
た。
未満であると、後述するスタンパ剥離工程においてスタ
ンパを剥離する際に、紫外線硬化樹脂層３０２がスタン
パ３０３から完全に剥離されず、一部の紫外線硬化樹脂
がスタンパに付着してしまう確率が７０％以上であっ
た。
【００２９】紫外線硬化樹脂層３０２の硬化度が８０％
を超えると、紫外線硬化樹脂層３０２とスタンパ３０３
との密着力が強くなりすぎ、剥離の際に、紫外線硬化樹
脂層３０２にひび割れを生じさせたり、透明基板３０１
に反りを発生させる確率が７０％以上であった。
を超えると、紫外線硬化樹脂層３０２とスタンパ３０３
との密着力が強くなりすぎ、剥離の際に、紫外線硬化樹
脂層３０２にひび割れを生じさせたり、透明基板３０１
に反りを発生させる確率が７０％以上であった。
【００３０】第１硬化工程（ｃ−３）において、紫外線
硬化樹脂層３０２の硬化度が７０％以上８０％以下の範
囲となるように硬化させた後、スタンパ剥離工程（ｃ−
４）では、スタンパ３０３を紫外線硬化樹脂層３０２か
ら剥離する。紫外線硬化樹脂層３０２の硬化度を７０％
以上８０％以下の範囲となるようにした場合は、スタン
パ剥離工程（ｃ−４）においてスタンパを剥離する際
に、紫外線硬化樹脂層３０２や透明基板３０１に欠陥が
発生する確率が５％以下であった。
硬化樹脂層３０２の硬化度が７０％以上８０％以下の範
囲となるように硬化させた後、スタンパ剥離工程（ｃ−
４）では、スタンパ３０３を紫外線硬化樹脂層３０２か
ら剥離する。紫外線硬化樹脂層３０２の硬化度を７０％
以上８０％以下の範囲となるようにした場合は、スタン
パ剥離工程（ｃ−４）においてスタンパを剥離する際
に、紫外線硬化樹脂層３０２や透明基板３０１に欠陥が
発生する確率が５％以下であった。
【００３１】第２硬化工程（ｃ−５）では、紫外線硬化
樹脂層３０２にスタンパ３０３を密着した透明基板３０
１を紫外線照射装置３０４に再度配置し、第１硬化工程
（ｃ−３）と同じ条件で、さらに２分間紫外線３０５を
照射し、紫外線硬化樹脂層３０２を完全硬化状態（本実
施例では、紫外線硬化樹脂の硬化度が９９％以上である
状態）に硬化させた。
樹脂層３０２にスタンパ３０３を密着した透明基板３０
１を紫外線照射装置３０４に再度配置し、第１硬化工程
（ｃ−３）と同じ条件で、さらに２分間紫外線３０５を
照射し、紫外線硬化樹脂層３０２を完全硬化状態（本実
施例では、紫外線硬化樹脂の硬化度が９９％以上である
状態）に硬化させた。
【００３２】図５は、本発明の光情報記録媒体製造方法
の一実施例における成膜貼合工程を説明する図である。
成膜貼合工程（ｄ）は、以下に示す３つの工程からなっ
ている。
の一実施例における成膜貼合工程を説明する図である。
成膜貼合工程（ｄ）は、以下に示す３つの工程からなっ
ている。
【００３３】反射膜形成工程（ｄ−１）では、透明基板
作製工程（ｃ）において得られた透明基板を、スパッタ
リング装置に設置し、透明基板のピット列または案内溝
が形成された面上に、アルミニウム、金等の金属または
窒化シリコン等の誘電体等からなる反射膜を、スパッタ
リング法により約６０〜１００ｎｍの膜厚に形成する。
作製工程（ｃ）において得られた透明基板を、スパッタ
リング装置に設置し、透明基板のピット列または案内溝
が形成された面上に、アルミニウム、金等の金属または
窒化シリコン等の誘電体等からなる反射膜を、スパッタ
リング法により約６０〜１００ｎｍの膜厚に形成する。
【００３４】保護膜形成工程（ｄ−２）では、反射膜形
成工程（ｄ−２）において反射膜が形成された透明基板
をスピンコータに設置し、スピンコート法により反射膜
上に紫外線硬化樹脂を約１０〜３０μｍの膜厚となるよ
うに塗布し、紫外線を照射することにより紫外線硬化樹
脂を完全硬化状態に硬化させて保護膜を形成する。
成工程（ｄ−２）において反射膜が形成された透明基板
をスピンコータに設置し、スピンコート法により反射膜
上に紫外線硬化樹脂を約１０〜３０μｍの膜厚となるよ
うに塗布し、紫外線を照射することにより紫外線硬化樹
脂を完全硬化状態に硬化させて保護膜を形成する。
【００３５】貼り合わせ工程（ｄ−３）では、保護膜形
成工程（ｄ−２）において保護膜が形成された透明基板
と、ピット列または案内溝を有しないダミー基板とを接
着剤を介して貼り合わせる。また、貼り合わせ工程（ｄ
−３）では、ダミー基板とではなく、上述したマスタ原
盤作製工程（ａ）〜成膜貼合工程（ｄ）の保護膜形成工
程（ｄ−２）によって得られた、ピット列または案内溝
を有し、反射膜、保護膜が形成された２枚の透明基板を
貼り合わせても良い。
成工程（ｄ−２）において保護膜が形成された透明基板
と、ピット列または案内溝を有しないダミー基板とを接
着剤を介して貼り合わせる。また、貼り合わせ工程（ｄ
−３）では、ダミー基板とではなく、上述したマスタ原
盤作製工程（ａ）〜成膜貼合工程（ｄ）の保護膜形成工
程（ｄ−２）によって得られた、ピット列または案内溝
を有し、反射膜、保護膜が形成された２枚の透明基板を
貼り合わせても良い。
【００３６】以上に示した工程によって得られた光情報
記録媒体に対して検査用再生装置により再生信号特性を
検査したところ、本実施例の透明基板作製工程（ｃ）に
おいて紫外線硬化樹脂３０２または透明基板３０１に欠
陥が発生しなかった光情報記録媒体の全数がＤＶＤ規格
値を満足した。
記録媒体に対して検査用再生装置により再生信号特性を
検査したところ、本実施例の透明基板作製工程（ｃ）に
おいて紫外線硬化樹脂３０２または透明基板３０１に欠
陥が発生しなかった光情報記録媒体の全数がＤＶＤ規格
値を満足した。
【００３７】以上のように、本発明の光情報記録媒体製
造方法によれば、透明基板作製工程（ｃ）において紫外
線硬化樹脂層３０２や透明基板３０１に欠陥が発生する
確率を低くすることができる。したがって、高い歩留率
で光情報記録媒体を製造することができる。
造方法によれば、透明基板作製工程（ｃ）において紫外
線硬化樹脂層３０２や透明基板３０１に欠陥が発生する
確率を低くすることができる。したがって、高い歩留率
で光情報記録媒体を製造することができる。
【００３８】上述した実施例では、透明基板作製工程
（ｃ）の紫外線硬化樹脂層形成工程（ｃ−１）におい
て、透明基板上に紫外線硬化樹脂を塗布し、当該紫外線
硬化樹脂にスタンパを密着させるようにしたが、スタン
パのピット列または案内溝が形成された面上に紫外線硬
化樹脂を塗布し、当該紫外線硬化樹脂に透明基板を密着
させてもよい。
（ｃ）の紫外線硬化樹脂層形成工程（ｃ−１）におい
て、透明基板上に紫外線硬化樹脂を塗布し、当該紫外線
硬化樹脂にスタンパを密着させるようにしたが、スタン
パのピット列または案内溝が形成された面上に紫外線硬
化樹脂を塗布し、当該紫外線硬化樹脂に透明基板を密着
させてもよい。
【００３９】また、射出成形により形成された透明基板
のピット列または案内溝を有する面上にアルミニウム、
金等の金属または窒化シリコン等の誘電体等からなる反
射膜を形成し、当該反射膜上に、本実施例の透明基板作
製工程（ｃ）と同様の工程により、紫外線硬化樹脂層を
塗布し、スタンパに形成されたピット列または案内溝を
転写するようにした場合も、紫外線硬化樹脂層、反射膜
及び透明基板に欠陥が発生する確率は５％以下と低かっ
た。
のピット列または案内溝を有する面上にアルミニウム、
金等の金属または窒化シリコン等の誘電体等からなる反
射膜を形成し、当該反射膜上に、本実施例の透明基板作
製工程（ｃ）と同様の工程により、紫外線硬化樹脂層を
塗布し、スタンパに形成されたピット列または案内溝を
転写するようにした場合も、紫外線硬化樹脂層、反射膜
及び透明基板に欠陥が発生する確率は５％以下と低かっ
た。
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、２Ｐ法を用いた光情報
記録媒体の製造方法において、スタンパを紫外線硬化樹
脂層から剥離する際に、紫外線硬化樹脂層、反射膜及び
透明基板に欠陥が発生する確率を低くし、高い歩留率で
光情報記録媒体を製造できる光情報記録媒体製造方法を
提供することができる。
記録媒体の製造方法において、スタンパを紫外線硬化樹
脂層から剥離する際に、紫外線硬化樹脂層、反射膜及び
透明基板に欠陥が発生する確率を低くし、高い歩留率で
光情報記録媒体を製造できる光情報記録媒体製造方法を
提供することができる。
【図１】本発明の光情報記録媒体製造方法の一実施例を
説明する図。
説明する図。
【図２】本発明の光情報記録媒体製造方法の一実施例に
おけるマスタ原盤作製工程を説明するための図。
おけるマスタ原盤作製工程を説明するための図。
【図３】本発明の光情報記録媒体製造方法の一実施例に
おけるスタンパ作製工程を説明するための図。
おけるスタンパ作製工程を説明するための図。
【図４】本発明の光情報記録媒体製造方法の一実施例に
おける透明基板作製工程を説明する図。
おける透明基板作製工程を説明する図。
【図５】本発明の光情報記録媒体製造方法の一実施例に
おける成膜貼合工程を説明する図。
おける成膜貼合工程を説明する図。
【図６】従来の２Ｐ成形法を用いた光情報記録媒体の製
造工程の一部を説明する図。
造工程の一部を説明する図。
３０１ 透明基板 ３０２ 紫外線硬化樹脂 ３０３ スタンパ ３０４ 紫外線照射装置 ３０５ 紫外線 ６０１ スタンパ ６０２ 紫外線硬化樹脂層 ６０３ スタンパ ６０４ 紫外線照射装置 ６０５ 紫外線
Claims (2)
- 【請求項１】ピット列または案内溝が記録されたマスタ
原盤を作製するマスタ原盤作製工程と、 前記マスタ原盤に記録された前記ピット列または案内溝
を転写したスタンパを作製するスタンパ作製工程と、 前記スタンパに転写された前記ピット列または案内溝を
転写した透明基板を作製する透明基板作製工程とを備え
る光情報記録媒体製造方法において、 前記透明基板作製工程は、 前記スタンパの前記ピット列または案内溝が転写された
面上に紫外線硬化樹脂を塗布する塗布工程と、 前記紫外線硬化樹脂に基板を密着させる密着工程と、 前記基板側から紫外線を照射し前記紫外線硬化樹脂を硬
化度が７０％以上８０％以下である状態に硬化させる第
１硬化工程と、 前記第１硬化工程により硬化された前記紫外線硬化樹脂
と前記スタンパとを剥離する剥離工程と、 前記剥離工程により前記スタンパから剥離された前記紫
外線硬化樹脂に紫外線を照射し前記紫外線硬化樹脂を完
全硬化状態に硬化させる第２の硬化工程とを備えること
を特徴とする光情報記録媒体製造方法。 - 【請求項２】ピット列または案内溝が記録されたマスタ
原盤を作製するマスタ原盤作製工程と、 前記マスタ原盤に記録された前記ピットまたは案内溝を
転写したスタンパを作製するスタンパ作製工程と、 前記スタンパに転写された前記ピット列または案内溝を
転写した透明基板を作製する透明基板作製工程とを備え
る光情報記録媒体製造方法において、 前記透明基板作製工程は、 基板上に紫外線硬化樹脂を塗布する塗布工程と、 前記紫外線硬化樹脂に前記スタンパの前記ピット列また
は案内溝が転写された面を密着させる密着工程と、 前記基板側から紫外線を照射し前記紫外線硬化樹脂を硬
化度が７０％以上８０％以下である状態に硬化させる第
１硬化工程と、 前記第１硬化工程により硬化された前記紫外線硬化樹脂
と前記スタンパとを剥離する剥離工程と、 前記剥離工程により前記スタンパから剥離された前記紫
外線硬化樹脂に紫外線を照射し前記紫外線硬化樹脂を完
全硬化状態に硬化させる第２の硬化工程とを備えること
を特徴とする光情報記録媒体製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11046307A JP2000251335A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 光情報記録媒体製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11046307A JP2000251335A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 光情報記録媒体製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000251335A true JP2000251335A (ja) | 2000-09-14 |
Family
ID=12743546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11046307A Pending JP2000251335A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 光情報記録媒体製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000251335A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003025925A1 (fr) * | 2001-09-13 | 2003-03-27 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de support d'enregistrement optique et support d'enregistrement optique |
| WO2008041526A1 (fr) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Procédé et appareil pour la fabrication d'un support d'enregistrement optique |
| US7799404B2 (en) | 2001-10-02 | 2010-09-21 | Bridgestone Corporation | Photo-curable transfer sheet, laminate, optical information recording substrate, process for the preparation thereof, and optical information recording medium |
-
1999
- 1999-02-24 JP JP11046307A patent/JP2000251335A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003025925A1 (fr) * | 2001-09-13 | 2003-03-27 | Tdk Corporation | Procede de fabrication de support d'enregistrement optique et support d'enregistrement optique |
| US7193960B2 (en) | 2001-09-13 | 2007-03-20 | Tdk Corporation | Method of manufacturing optical recording medium and optical recording medium |
| US7799404B2 (en) | 2001-10-02 | 2010-09-21 | Bridgestone Corporation | Photo-curable transfer sheet, laminate, optical information recording substrate, process for the preparation thereof, and optical information recording medium |
| WO2008041526A1 (fr) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Procédé et appareil pour la fabrication d'un support d'enregistrement optique |
| US9196288B2 (en) | 2006-09-26 | 2015-11-24 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Process and apparatus for producing optical recording medium |
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| A521 | Written amendment |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060203 |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060207 |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070717 |