JPS58153696A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
- Publication number
- JPS58153696A JPS58153696A JP57036658A JP3665882A JPS58153696A JP S58153696 A JPS58153696 A JP S58153696A JP 57036658 A JP57036658 A JP 57036658A JP 3665882 A JP3665882 A JP 3665882A JP S58153696 A JPS58153696 A JP S58153696A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- recording
- recording medium
- laser
- absorbing layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、集光したレーザ光の熱作用によりレーザ光照
射部を融解変形および／會たは蒸発させて情報の記録を
行なう光学的記録媒体に関するものである。
射部を融解変形および／會たは蒸発させて情報の記録を
行なう光学的記録媒体に関するものである。
レーザ光の熱約効果な利用した記録は高密度かつ高速の
記録が可能なため、大容量ファイルメモリとしての利用
が検討されている。このような記録に用いる媒体として
は、ｉ・、 Ｂｌなどの金属薄膜、Ａｓ、８・、Ｔ・な
どからなるカルコゲナイドガラス薄膜、スクアリリウム
などの色素薄膜が知られている。また、記録再生光源と
しては、装置の小■、−安定、低価格化を計る見地から
、半導体レーザな用いることが検討されている０ この半導体レーザの出力は、ガスレーザと比較すると低
いので、高速で記録するためには、記録媒体はて會るだ
け高感度でかつ高コントラストであることが望重しい。
記録が可能なため、大容量ファイルメモリとしての利用
が検討されている。このような記録に用いる媒体として
は、ｉ・、 Ｂｌなどの金属薄膜、Ａｓ、８・、Ｔ・な
どからなるカルコゲナイドガラス薄膜、スクアリリウム
などの色素薄膜が知られている。また、記録再生光源と
しては、装置の小■、−安定、低価格化を計る見地から
、半導体レーザな用いることが検討されている０ この半導体レーザの出力は、ガスレーザと比較すると低
いので、高速で記録するためには、記録媒体はて會るだ
け高感度でかつ高コントラストであることが望重しい。
更に加えて、記憶容量【大きくするためには高速記録の
必要が生じてくるが、そのためには従来の記録媒体の感
度をさらに高める必要がある。更にまた、記録媒体の長
期安定性を達成するには、基板と記一層との接着性を増
加さ曽て基板から記録層がはく■しないようにする必要
がある。
必要が生じてくるが、そのためには従来の記録媒体の感
度をさらに高める必要がある。更にまた、記録媒体の長
期安定性を達成するには、基板と記一層との接着性を増
加さ曽て基板から記録層がはく■しないようにする必要
がある。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的は高感度でかつ高コントラストの光学的記録媒体
を提供することにある。
の目的は高感度でかつ高コントラストの光学的記録媒体
を提供することにある。
かかる目的を達成する゛ために、本発明では、表面をド
ライエツチングした基板を用い、その基板上にレーザ光
吸収層を配置する。
ライエツチングした基板を用い、その基板上にレーザ光
吸収層を配置する。
以下、１面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第７図は本発明記録媒体の１例を示す模式図であり、こ
こにＩは透光性を有する基板、コは基板／上に被着した
記録層としてのレーザ光畿収層である。かかる記録媒体
に対して、記録・再生用レーザ光Ｊを、基板越しに集光
可能な集光レンズ（図示せず）によａｇｉ収層１上で約
／趨径のス〆ットに絞り込む。
こにＩは透光性を有する基板、コは基板／上に被着した
記録層としてのレーザ光畿収層である。かかる記録媒体
に対して、記録・再生用レーザ光Ｊを、基板越しに集光
可能な集光レンズ（図示せず）によａｇｉ収層１上で約
／趨径のス〆ットに絞り込む。
基板ｌとしてはガラスあるいはプラスチック基板を用い
ることができるが、吸収層コで発生した熱を外部に逃が
さずに記録感度を上げるためには、。
ることができるが、吸収層コで発生した熱を外部に逃が
さずに記録感度を上げるためには、。
アクリル（ＰｌｍＡ ）ｅポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネーシなどのプラスチック
基板を用いるのが好適である。
テレフタレート、ポリカーボネーシなどのプラスチック
基板を用いるのが好適である。
レーザ光吸収層２としては、！・、ｌｌなどの金属蒸着
膜、ム暴、＠＠、Ｔ・、Ｇ・などからなるカルコゲンガ
ラス薄膜、あるいはｉ・、Ｂｌなどの金属を含有させた
プラズマ重合膜を用、１いｉることができる。
膜、ム暴、＠＠、Ｔ・、Ｇ・などからなるカルコゲンガ
ラス薄膜、あるいはｉ・、Ｂｌなどの金属を含有させた
プラズマ重合膜を用、１いｉることができる。
本発明では、基板Ｉには、吸収層−を設ける前に、基板
ｌｔＤ歇収層コを―ける傭に、あらかじめドライエツチ
ングを施しておく。このドライエツチングは、ガラス基
板の場合には、弗素系ガスあるいは礼素系ガスと酸素と
の混合ガスの為周波の低温プラズマ中に基板ｌをさらす
ことによって行なわれ、プラスチック基板の場合は酸素
あるいは酸素と不活性ガスとの混合ガスの低温プラズマ
中に基板をさらすことによって行なわれる。また、ガラ
ス基板およびプラスチック基板とも不活性ガスによって
スパッタエツチングすることによってもドライエツチン
グを行うことができる。
ｌｔＤ歇収層コを―ける傭に、あらかじめドライエツチ
ングを施しておく。このドライエツチングは、ガラス基
板の場合には、弗素系ガスあるいは礼素系ガスと酸素と
の混合ガスの為周波の低温プラズマ中に基板ｌをさらす
ことによって行なわれ、プラスチック基板の場合は酸素
あるいは酸素と不活性ガスとの混合ガスの低温プラズマ
中に基板をさらすことによって行なわれる。また、ガラ
ス基板およびプラスチック基板とも不活性ガスによって
スパッタエツチングすることによってもドライエツチン
グを行うことができる。
このようにして形成した本発明記録媒体に記録゛”レー
ザ光Ｊを照射すると、吸収層−のうちレーザリ、不明な
点も多いが、吸収層−が融解したのみでは孔は形成され
ず、この融解した部分が基板／から切り離される杉賛が
ある。従って、吸収層コと基板ｌとの界面諸態が孔形成
に影響を与え、感度に変化が生ずる。
ザ光Ｊを照射すると、吸収層−のうちレーザリ、不明な
点も多いが、吸収層−が融解したのみでは孔は形成され
ず、この融解した部分が基板／から切り離される杉賛が
ある。従って、吸収層コと基板ｌとの界面諸態が孔形成
に影響を与え、感度に変化が生ずる。
本発明においては、基板ｌの吸収層コ側表面をあらかじ
めドライエツチングしておくことにより１、基板ｌの表
面状態が変わり、光学的に検出できない程度の微細な凹
凸が基板表面に生じ、このため、吸収層−の融解部分に
働く界面応力の大き声が変化し、融解部分は周辺の融解
してない、部分に引張られ、孔の周辺に盛り上がりとし
て残留し、孔が形成されやすくなる。このように１本発
明によれば、基板ｌをあらかじめドライエツチングして
おくことにより、記録感度を向上させることがで、きる
Ｏ 第一図は本発明や他の例を示し、ここでダはプＩ−ラ、
スチ、ツタ展、プラズマ重合展、有機蒸着展など低熱伝
導率の材料からなる断熱層であ２す、この断熱層を基板
ｌと赦収層コとの間に介在させる。この断熱要事は、吸
収層−に発生した熱の基＆ｌへの流出を防ぐ作用をする
。こ、の場合トは基板ｌを比″“較的長時間ドライエツ
チングすることにより第一／図の場合より大きな凹凸を
基板表面に形成する。
めドライエツチングしておくことにより１、基板ｌの表
面状態が変わり、光学的に検出できない程度の微細な凹
凸が基板表面に生じ、このため、吸収層−の融解部分に
働く界面応力の大き声が変化し、融解部分は周辺の融解
してない、部分に引張られ、孔の周辺に盛り上がりとし
て残留し、孔が形成されやすくなる。このように１本発
明によれば、基板ｌをあらかじめドライエツチングして
おくことにより、記録感度を向上させることがで、きる
Ｏ 第一図は本発明や他の例を示し、ここでダはプＩ−ラ、
スチ、ツタ展、プラズマ重合展、有機蒸着展など低熱伝
導率の材料からなる断熱層であ２す、この断熱層を基板
ｌと赦収層コとの間に介在させる。この断熱要事は、吸
収層−に発生した熱の基＆ｌへの流出を防ぐ作用をする
。こ、の場合トは基板ｌを比″“較的長時間ドライエツ
チングすることにより第一／図の場合より大きな凹凸を
基板表面に形成する。
そして、この上に設ける断熱層亭の厚みハｉｏｏ〜コ０
０ ｎｒｍと比較的薄くする。このようにすると、基板
表面の凹凸のため、断熱要事の表面にも微細な・・・不
規則性が発生し、この不規則性により、第７図の場合と
同様に孔が形成されやすくなる。
０ ｎｒｍと比較的薄くする。このようにすると、基板
表面の凹凸のため、断熱要事の表面にも微細な・・・不
規則性が発生し、この不規則性により、第７図の場合と
同様に孔が形成されやすくなる。
以下に本発明の実施例について述べる。
（実施例／）
アクリル基板ｌに対して酸素と窒素（／：／）の混合ガ
スでプラズマエツチングを行なった。装置としては円筒
形のプラズマアッシャ装置を用い、−ス圧ン×ＩＯ−”
Ｔｏｒｒ ｅパワーｉｚｏ ｗで５分、間はどプラズ
マエツチングを行なっ声。この基板／上に吸収層コとし
てＴ・をコｏｏ Ｘ蒸着した。この記録媒・を行なった
結果を第３図に示す。記録媒体上のレーザ？マワーｊｍ
ｗ、ビーム径／、４μｍで記録を行い、０．６ｍｗのレ
ーザパワーで再生した。ｌｈＪ図において、横軸は半導
体レーザのパルス幅を表わし、縦軸は記録前および記録
後の反射光強度Ｒ０および凡の差を表わしている。図中
、曲１１ｍは基板をエツチングした本発明の場合、曲ｌ
ｌｂは基板をエツチングしない場合の特性を示す。曲Ｉ
！ａでは記録閾値が低くなるとともにレーザパルス幅の
増加に伴なう再生信号出力の増加が急峻である。従って
、・高速で記録できるとともに、再生時のレーザパワー
を高くできるため再生のコンシラストも高くすることが
できた。
スでプラズマエツチングを行なった。装置としては円筒
形のプラズマアッシャ装置を用い、−ス圧ン×ＩＯ−”
Ｔｏｒｒ ｅパワーｉｚｏ ｗで５分、間はどプラズ
マエツチングを行なっ声。この基板／上に吸収層コとし
てＴ・をコｏｏ Ｘ蒸着した。この記録媒・を行なった
結果を第３図に示す。記録媒体上のレーザ？マワーｊｍ
ｗ、ビーム径／、４μｍで記録を行い、０．６ｍｗのレ
ーザパワーで再生した。ｌｈＪ図において、横軸は半導
体レーザのパルス幅を表わし、縦軸は記録前および記録
後の反射光強度Ｒ０および凡の差を表わしている。図中
、曲１１ｍは基板をエツチングした本発明の場合、曲ｌ
ｌｂは基板をエツチングしない場合の特性を示す。曲Ｉ
！ａでは記録閾値が低くなるとともにレーザパルス幅の
増加に伴なう再生信号出力の増加が急峻である。従って
、・高速で記録できるとともに、再生時のレーザパワー
を高くできるため再生のコンシラストも高くすることが
できた。
（実施例λ）
吸収層コとして実施例１のＴ・の代わりにＡｓｔ。Ｔ・
、。
、。
を用いた。Ｔ・と比較すると、記録閾値はわずかに増え
たが、はぼ同様の記録特性が得られた０（実入例３） ガラス基板／ ［ＣＦ４ガス中でプラズマエツチング１
害した。円筒形のプラズマアッシャ装置を用い、ガス圧
／ Ｘ １０−” Ｔ＠ｒｒ 、パワーＪｏｏ ｗで１
０分間はどエツチングを行なった。この基板／にＴ・を
Ｊｏｏ ！蒸着して吸収層λを形成した。この記録媒体
を実施例１と同じ条件の下で記録と再生の実験を行った
。ｉ・記録ｌ１ｌｌ値はアクリル基板の場合と比較する
と約３倍に増加したが、エツチングした場合としない場
合とを比較すると、約半分になることがわかった。
たが、はぼ同様の記録特性が得られた０（実入例３） ガラス基板／ ［ＣＦ４ガス中でプラズマエツチング１
害した。円筒形のプラズマアッシャ装置を用い、ガス圧
／ Ｘ １０−” Ｔ＠ｒｒ 、パワーＪｏｏ ｗで１
０分間はどエツチングを行なった。この基板／にＴ・を
Ｊｏｏ ！蒸着して吸収層λを形成した。この記録媒体
を実施例１と同じ条件の下で記録と再生の実験を行った
。ｉ・記録ｌ１ｌｌ値はアクリル基板の場合と比較する
と約３倍に増加したが、エツチングした場合としない場
合とを比較すると、約半分になることがわかった。
（実施例ダ）
ガラス基板ｌに対して実施例３と同じ条件で約・０２０
０ ａｍだけ重合し、この断熱層参上にτ・をλＯＯｘ
厚に蒸着して吸収層−を形成した。この記録媒体の記録
−値は実施例／と同様の値が得られた。
０ ａｍだけ重合し、この断熱層参上にτ・をλＯＯｘ
厚に蒸着して吸収層−を形成した。この記録媒体の記録
−値は実施例／と同様の値が得られた。
（ｖ４４例ｊ）
［径１０４ ｗｍのアクリル基板ｌを用い、アルゴンガ
スによるスパッタエツチングを行なった◎このアクリル
基板ｌは≦Ｏｒ、ｐ、ｍで回転し、ガス圧ｌ×１０−”
Ｔ・ｒｒ、パワーコＯＯＷで３０分間エツチングを行
った。その基＆ｌ上に同一装置内で吸収層としてＴ・を
λｏｏＸの厚さに蒸着した。記録・再生実験は、この記
録媒体な／１００ ｒ、ｐｏｍで回転させ、記録媒体上
にレーザパワーぶｍｙ 、ビーム径／ｊＪ１ｍのレーザ
ビームで記録し、レーザパワー／ ｍｙで再生すること
により行なった。その結果、記録媒体の内周’Ｉｌｌ： （／１０■径）および外周Ｃ３００ｍ径）ともに、再生
出力信号対雑音比はｌｉ７ ｄ１ｍ以上であった。
スによるスパッタエツチングを行なった◎このアクリル
基板ｌは≦Ｏｒ、ｐ、ｍで回転し、ガス圧ｌ×１０−”
Ｔ・ｒｒ、パワーコＯＯＷで３０分間エツチングを行
った。その基＆ｌ上に同一装置内で吸収層としてＴ・を
λｏｏＸの厚さに蒸着した。記録・再生実験は、この記
録媒体な／１００ ｒ、ｐｏｍで回転させ、記録媒体上
にレーザパワーぶｍｙ 、ビーム径／ｊＪ１ｍのレーザ
ビームで記録し、レーザパワー／ ｍｙで再生すること
により行なった。その結果、記録媒体の内周’Ｉｌｌ： （／１０■径）および外周Ｃ３００ｍ径）ともに、再生
出力信号対雑音比はｌｉ７ ｄ１ｍ以上であった。
以上説明したように、本発明によれば、基板をあらかじ
めドライエツチングしておくことにより、・記録閾値が
低く、シかもレーザｌＳルス輻の増加に伴う再生信号出
力の増加が急峻な記録媒体が得られる。また、本発明に
よれば基板と記録層との接着力が増すため、記録層が基
板からはく離しにくく安定性が増加する利点もある。さ
らに、ドライエツチング処理は蒸着など記録層を作製す
る同一装置内で行なうことができるため、本発明記録媒
体の作製が容易である。従って、本発明記録媒体をＩｋ
Ｉ録ファイル装置の記録媒体として用いれば、ビデオ信
号の実時間記録などの高速記録が可能であり、信号対雑
音比の高い再生ができるという利点がある。
めドライエツチングしておくことにより、・記録閾値が
低く、シかもレーザｌＳルス輻の増加に伴う再生信号出
力の増加が急峻な記録媒体が得られる。また、本発明に
よれば基板と記録層との接着力が増すため、記録層が基
板からはく離しにくく安定性が増加する利点もある。さ
らに、ドライエツチング処理は蒸着など記録層を作製す
る同一装置内で行なうことができるため、本発明記録媒
体の作製が容易である。従って、本発明記録媒体をＩｋ
Ｉ録ファイル装置の記録媒体として用いれば、ビデオ信
号の実時間記録などの高速記録が可能であり、信号対雑
音比の高い再生ができるという利点がある。
第１図は本発明光学的記録媒体の１例を示す模式図、第
ＪｗＪは本発明記録媒体の他の７例を示す模式図、第３
図は本発明記録媒体の記録特性を示す図である。 ｌ・・・基板、 ２・・・レーザ光吸収層、
Ｊ・・・記録・再生用レーザ光、 参・・・断熱層。 第１図 ↑ 第２図
ＪｗＪは本発明記録媒体の他の７例を示す模式図、第３
図は本発明記録媒体の記録特性を示す図である。 ｌ・・・基板、 ２・・・レーザ光吸収層、
Ｊ・・・記録・再生用レーザ光、 参・・・断熱層。 第１図 ↑ 第２図
Claims (1)
- レーザ光を照射し、その照射部分を融解変形および／ま
たはｉｉ＊させることによって記録するたことを特徴と
する光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57036658A JPS58153696A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57036658A JPS58153696A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | 光学的記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58153696A true JPS58153696A (ja) | 1983-09-12 |
Family
ID=12475951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57036658A Pending JPS58153696A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58153696A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6391843A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光デイスク基板 |
| JPS6391827U (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-14 | ||
| JPH01271936A (ja) * | 1988-04-23 | 1989-10-31 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体 |
-
1982
- 1982-03-10 JP JP57036658A patent/JPS58153696A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6391843A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光デイスク基板 |
| JPS6391827U (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-14 | ||
| JPH01271936A (ja) * | 1988-04-23 | 1989-10-31 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体 |
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