JPH03248341A - 光ディスク基板 - Google Patents
光ディスク基板Info
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- JPH03248341A JPH03248341A JP2046117A JP4611790A JPH03248341A JP H03248341 A JPH03248341 A JP H03248341A JP 2046117 A JP2046117 A JP 2046117A JP 4611790 A JP4611790 A JP 4611790A JP H03248341 A JPH03248341 A JP H03248341A
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- Japan
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- substrate
- film
- optical disk
- resin film
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- Pending
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 48
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク基板、特に、読みだし専用型、追
記型または書換え型の光ディスクなどに用いられる樹脂
性の光ディスク基板に関する。
記型または書換え型の光ディスクなどに用いられる樹脂
性の光ディスク基板に関する。
従来の光ディスク基板は、樹脂基板と、この樹脂基板の
一方の面にグレーグを付して塗布され硬化された第１の
紫外線硬化樹脂膜と、前記第１の紫外線硬化樹脂膜と同
じ厚さで前記樹脂基板の他の面に平坦に塗布され硬化さ
れた第２の紫外線硬化樹脂膜とを含んで構成される。
一方の面にグレーグを付して塗布され硬化された第１の
紫外線硬化樹脂膜と、前記第１の紫外線硬化樹脂膜と同
じ厚さで前記樹脂基板の他の面に平坦に塗布され硬化さ
れた第２の紫外線硬化樹脂膜とを含んで構成される。
一般に、光ディスク基板としては、ポリカーボネイト、
アクリルおよびエポキシなどの樹脂基板またはガラス基
板が検討されている。ガラス基板は、樹脂基板にくらべ
て複屈折などの光学特性および耐候性などの面で優れて
いるが、その反面割れ易く量産性に欠は高価なためある
程度の変形に耐え量産性に優れかつ安価で軽量な樹脂基
板が重要視されている。
アクリルおよびエポキシなどの樹脂基板またはガラス基
板が検討されている。ガラス基板は、樹脂基板にくらべ
て複屈折などの光学特性および耐候性などの面で優れて
いるが、その反面割れ易く量産性に欠は高価なためある
程度の変形に耐え量産性に優れかつ安価で軽量な樹脂基
板が重要視されている。
第５図は、従来の一例を示す概略断面図である。
第５図に示す光ディスク基板は、樹脂基板１上の片面に
グルーブ４のついた紫外線硬化樹脂膜３をもう片面に平
坦な紫外線硬化樹脂膜２を同じ厚さだけ塗布して作製し
である。
グルーブ４のついた紫外線硬化樹脂膜３をもう片面に平
坦な紫外線硬化樹脂膜２を同じ厚さだけ塗布して作製し
である。
この光ディスク基板にクループのない平坦な面側からレ
ーザ光を照射し、その入射光と反射光との角度差からこ
の光ディスク基板の反り量を測定したところ、反りはほ
とんどなく平坦であった。
ーザ光を照射し、その入射光と反射光との角度差からこ
の光ディスク基板の反り量を測定したところ、反りはほ
とんどなく平坦であった。
第６図は第５図に示す従来例を用いてブルーフ面上に光
磁気用磁性膜７および保護膜５，６を形成した光磁気デ
ィスクの概略断面図である。
磁気用磁性膜７および保護膜５，６を形成した光磁気デ
ィスクの概略断面図である。
従来の光ディスク基板のグルーブ４の面側に保護膜５と
して圧縮応力をもつ窒化珪素を８００人の厚さに成膜し
、その上に光磁気記録用磁性膜７として圧縮応力をもつ
ＴｂＦｅＣｏを８００人の厚さに成膜し、最後に保護膜
６として圧縮応力をもつ窒化珪素を８００人の厚さに成
膜して光磁気ディスクを作製した。
して圧縮応力をもつ窒化珪素を８００人の厚さに成膜し
、その上に光磁気記録用磁性膜７として圧縮応力をもつ
ＴｂＦｅＣｏを８００人の厚さに成膜し、最後に保護膜
６として圧縮応力をもつ窒化珪素を８００人の厚さに成
膜して光磁気ディスクを作製した。
この光磁気ディスクにグルーブのない平坦な面側からレ
ーザ光を照射し、その入射光と反射光との角度差からこ
の基板の反り量ｄ３を測定したところ、クループ４のあ
る面側を上にして光ディスク基板の最外周のところで５
００μｍ程度（ｄ３＝５００μｍ）上に凸に反っていた
。
ーザ光を照射し、その入射光と反射光との角度差からこ
の基板の反り量ｄ３を測定したところ、クループ４のあ
る面側を上にして光ディスク基板の最外周のところで５
００μｍ程度（ｄ３＝５００μｍ）上に凸に反っていた
。
しかしながら、このような光ディスク基板は樹脂製であ
るため、カラス基板にくらべて、作製後に反りが起こり
易くまた光ディスク記録媒体として一般に用いられてい
る磁性膜および保護膜を基板上に形成した後に光磁気記
録用磁性膜および保護膜の内部応力によって、反りが発
生し、膜の内部応力は、その形成方法によって圧縮応力
をもったり引っ張り応力をもったりする。たとえば、圧
縮応力を有する磁性膜または保護膜を基板上に作製した
場合、その膜の圧縮応力によって膜の付いている面側を
上にして上に凸に反る傾向を持つ。
るため、カラス基板にくらべて、作製後に反りが起こり
易くまた光ディスク記録媒体として一般に用いられてい
る磁性膜および保護膜を基板上に形成した後に光磁気記
録用磁性膜および保護膜の内部応力によって、反りが発
生し、膜の内部応力は、その形成方法によって圧縮応力
をもったり引っ張り応力をもったりする。たとえば、圧
縮応力を有する磁性膜または保護膜を基板上に作製した
場合、その膜の圧縮応力によって膜の付いている面側を
上にして上に凸に反る傾向を持つ。
また、この光磁気ディスクの反りは、レーザ光を基板面
側から入射して反射光を検出する最反射光が反りによっ
て反射角度が変化し光量が低下することによって記録再
生信号の低下やトラッキングサーボの不良の原因となる
という欠点があった。
側から入射して反射光を検出する最反射光が反りによっ
て反射角度が変化し光量が低下することによって記録再
生信号の低下やトラッキングサーボの不良の原因となる
という欠点があった。
本発明の目的は、樹脂基板のうちで２Ｐ法（フォトポリ
マー法）を用いて作製する樹脂基板に対してグルーブ（
案内溝）を作製するための紫外線硬化樹脂膜またはその
反対側の面に塗布する紫外線硬化樹脂膜の厚さを制御す
ることによってディスクの反りを低減する光ディスクの
基板を提供することにある。
マー法）を用いて作製する樹脂基板に対してグルーブ（
案内溝）を作製するための紫外線硬化樹脂膜またはその
反対側の面に塗布する紫外線硬化樹脂膜の厚さを制御す
ることによってディスクの反りを低減する光ディスクの
基板を提供することにある。
本発明の光ディスク基板は、平坦の樹脂基板の両面に異
なる厚さの紫外線硬化樹脂膜を塗布して、両面同時また
は片面ずつ紫外線を照射して硬化させ片面にグルーブ（
案内溝）付きの紫外線硬化樹脂膜を形成しもう片面はグ
ルーブ（案内溝）のない平坦な紫外線硬化樹脂膜を形成
しこのとき紫外線を照射して紫外線硬化樹脂膜を硬化さ
せる際紫外線硬化樹脂膜の膜厚の差による収縮量の差を
利用して、あらかじめ光ディスク基板に応力をもたせは
じめから反りを有するように構成される。
なる厚さの紫外線硬化樹脂膜を塗布して、両面同時また
は片面ずつ紫外線を照射して硬化させ片面にグルーブ（
案内溝）付きの紫外線硬化樹脂膜を形成しもう片面はグ
ルーブ（案内溝）のない平坦な紫外線硬化樹脂膜を形成
しこのとき紫外線を照射して紫外線硬化樹脂膜を硬化さ
せる際紫外線硬化樹脂膜の膜厚の差による収縮量の差を
利用して、あらかじめ光ディスク基板に応力をもたせは
じめから反りを有するように構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実旅例を示す概略断面図である。
第１図に示す光ディスク基板は、エポキシ製の樹脂基板
ｌの上の片面に案内溝であるグルーブ４のついた紫外線
硬化樹脂膜３を形成して、次にもう片面に平坦な紫外線
硬化樹脂膜２を紫外線硬化樹脂膜３よりも４００μｍの
厚さでけ薄く形成して作製させる。
ｌの上の片面に案内溝であるグルーブ４のついた紫外線
硬化樹脂膜３を形成して、次にもう片面に平坦な紫外線
硬化樹脂膜２を紫外線硬化樹脂膜３よりも４００μｍの
厚さでけ薄く形成して作製させる。
この光ディスク基板にＨｅ−Ｎｅレーサを基板面側から
あてその入射光と反射光と角度差からこの基板の反り量
を測定したところ、グルーブ面側を上にして樹脂基板１
の最外周のところで２００μｍ程度（ｄ＋＝２００μｍ
）下に凸に反っていた。
あてその入射光と反射光と角度差からこの基板の反り量
を測定したところ、グルーブ面側を上にして樹脂基板１
の最外周のところで２００μｍ程度（ｄ＋＝２００μｍ
）下に凸に反っていた。
第２図は第１図に示す光ディスク基板の一使用例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
第２図に示す光磁気ディスクは第１図に示す光ティスフ
基板の上に光磁気記録用磁性膜７および保護膜５，６を
形成したグルーブ４の側に保護膜５として圧縮応力を持
つ窒化珪素を８００人の厚さに成膜し、光磁気記録用磁
性膜７として圧縮応力を持つＴｂＦｅＣｏを８００人の
厚さに成膜し、最後に保護膜６として圧縮応力を持つ窒
化珪素を８００人の厚さに成膜して作製した。
基板の上に光磁気記録用磁性膜７および保護膜５，６を
形成したグルーブ４の側に保護膜５として圧縮応力を持
つ窒化珪素を８００人の厚さに成膜し、光磁気記録用磁
性膜７として圧縮応力を持つＴｂＦｅＣｏを８００人の
厚さに成膜し、最後に保護膜６として圧縮応力を持つ窒
化珪素を８００人の厚さに成膜して作製した。
この光磁気ディスクの反り量を測定したところ、反りは
ほとんどなく平坦であった。
ほとんどなく平坦であった。
第３図は本発明の他の実施例を示す概略断面図である。
第３図に示す光ディスク基板は、エポキシ製の樹脂基板
ｌの上の片面に案内溝であるクループ４０ついた紫外線
硬化樹脂膜３を形成して、次にもう片面に平坦な紫外線
硬化樹脂膜２を紫外線硬化樹脂膜３よりも４００μｍの
厚さだけ厚く形成して作製される。
ｌの上の片面に案内溝であるクループ４０ついた紫外線
硬化樹脂膜３を形成して、次にもう片面に平坦な紫外線
硬化樹脂膜２を紫外線硬化樹脂膜３よりも４００μｍの
厚さだけ厚く形成して作製される。
この光ディスク基板にＨｅ −Ｎ ｅレーザを基板面側
からあてその入射光と反射光と角度差がらこの基板の反
り量を測定したところ、グルーブ４の側を上にして樹脂
基板１の最外周のところで２００μｍ程度（ｄ２＝２０
０μｍ）上に凸に反っていた。
からあてその入射光と反射光と角度差がらこの基板の反
り量を測定したところ、グルーブ４の側を上にして樹脂
基板１の最外周のところで２００μｍ程度（ｄ２＝２０
０μｍ）上に凸に反っていた。
第４図に示す光磁気ディスクは第３図に示す光ディスク
基板を用し・てその上に光磁気記録用磁性膜７および保
護膜５，６を形成したもので、グルーブ４の側に保護膜
５として引っ張り応力を持つ窒化珪素を８００人の厚さ
に成膜し、光磁気記録用磁性膜７として引っ張り応力を
持つＴｂＦｅＣｏを８００人の厚さに成膜し、最後に保
護膜６として引っ張り応力を持つ窒化珪素を８００人の
厚さに成膜して作製した。
基板を用し・てその上に光磁気記録用磁性膜７および保
護膜５，６を形成したもので、グルーブ４の側に保護膜
５として引っ張り応力を持つ窒化珪素を８００人の厚さ
に成膜し、光磁気記録用磁性膜７として引っ張り応力を
持つＴｂＦｅＣｏを８００人の厚さに成膜し、最後に保
護膜６として引っ張り応力を持つ窒化珪素を８００人の
厚さに成膜して作製した。
この光磁気ディスクの反り量を測定したところ、反りは
ほとんどなく平坦であった。
ほとんどなく平坦であった。
上述の実施例ではいずれも紫外線樹脂膜の形成に際し、
まず紫外線樹脂を塗布し、紫外線を照射して硬化させる
が、硬化させるために照射する紫外線は両面同時に当て
ても、片面ずつ順次にあててもよい。
まず紫外線樹脂を塗布し、紫外線を照射して硬化させる
が、硬化させるために照射する紫外線は両面同時に当て
ても、片面ずつ順次にあててもよい。
本発明の光ディスク基板は、記録膜や保護膜を成膜する
前の基板の反りを適当に制御し記録膜や保護膜を成膜し
た後の光ディスクの反りを低減することによって、記録
再生信号およびトラッキングサーボ信号用レーザ光量の
低下を引き起こすことがなく良好な記録再生信号および
トラッキングサーボ信号かえられるような光磁気ディス
クを製作できるという効果がある。
前の基板の反りを適当に制御し記録膜や保護膜を成膜し
た後の光ディスクの反りを低減することによって、記録
再生信号およびトラッキングサーボ信号用レーザ光量の
低下を引き起こすことがなく良好な記録再生信号および
トラッキングサーボ信号かえられるような光磁気ディス
クを製作できるという効果がある。
第１図は本発明の一実旅例を示す概略断面図、第２図は
第１図に示す実施例の一使用例を示す概略断面図、第３
図は他の実施例を示す概略断面図、第４図は第３図に示
す実施例の一使用例を示す概略断面図、第５図は従来の
一例を示す概略断面図、第６図は第５図に示す従来例を
用いた一使用例の概略断面図である。 １・・・・・・樹脂基板、２，３・・・・・・紫外線硬
化樹脂膜、４・・・・・・グルーブ、５，６・・団・保
護膜、７・・・・・・光磁気記録用磁性膜、 ｄ ＋、 ａ ｒ、 ｄ３・・・・・・反り量。
第１図に示す実施例の一使用例を示す概略断面図、第３
図は他の実施例を示す概略断面図、第４図は第３図に示
す実施例の一使用例を示す概略断面図、第５図は従来の
一例を示す概略断面図、第６図は第５図に示す従来例を
用いた一使用例の概略断面図である。 １・・・・・・樹脂基板、２，３・・・・・・紫外線硬
化樹脂膜、４・・・・・・グルーブ、５，６・・団・保
護膜、７・・・・・・光磁気記録用磁性膜、 ｄ ＋、 ａ ｒ、 ｄ３・・・・・・反り量。
Claims (1)
- 平坦な樹脂基板と、前記樹脂基板の一方の面にグルーブ
が付された紫外線硬化樹脂を塗布し紫外線を照射して硬
化させた第１の紫外線硬化樹脂膜と、前記樹脂基板の他
方の面に前記第１の紫外線硬化樹脂膜と異なる厚さの平
坦な紫外線硬化樹脂を塗布し紫外線を照射して硬化させ
た第２の紫外線硬化樹脂膜とを含むことを特徴とする光
ディスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046117A JPH03248341A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光ディスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046117A JPH03248341A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光ディスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03248341A true JPH03248341A (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=12738053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2046117A Pending JPH03248341A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光ディスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03248341A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7782746B2 (en) | 2006-12-15 | 2010-08-24 | Panasonic Corporation | Optical information recording medium and method for manufacturing same |
| US20120141782A1 (en) * | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Pantech Co., Ltd. | Waterproof member and method for producing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5724042A (en) * | 1980-07-18 | 1982-02-08 | Sony Corp | Optical information recording medium and its production |
| JPS58155542A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-16 | Toshiba Corp | 情報記録担体 |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2046117A patent/JPH03248341A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5724042A (en) * | 1980-07-18 | 1982-02-08 | Sony Corp | Optical information recording medium and its production |
| JPS58155542A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-16 | Toshiba Corp | 情報記録担体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7782746B2 (en) | 2006-12-15 | 2010-08-24 | Panasonic Corporation | Optical information recording medium and method for manufacturing same |
| US20120141782A1 (en) * | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Pantech Co., Ltd. | Waterproof member and method for producing the same |
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