JPS6352350A - 光磁気デイスクメモリ媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、安価で生産性の高い基板を用いた高性能な光
磁気ディスクメモリ媒体に関する。

〔従来の技術〕

従来の光磁気ディスクメモリ媒体は第２−１図及び第２
−２図に示すように構成されている。

すなわち第２−１図及び第２−２図は従来の光デイスク
媒体の断面概略図である。第２−１図において符号１は
トラック案内溝付き基板、２はトラック案内溝、３は光
磁気薄膜である。基板１はポリカーボネート樹脂（以下
、ｐ（’と略記する）、若しくはポリメチルメタクリレ
ート（以下、ＰＭＭＡと略記する）から成膜、多くは射
出成形法によシ成形される。あるいはエポキシ樹脂を用
いてセルキャスト法により形成される例もある。他の例
としてはスパッターエツチング技術により溝が形成され
たガラス基板の場合もある。第２−２図に示す構成では
、符号１〜３は第２−１図と同義であり、４はホトポリ
マーである。１はＰＭＭＡ、ＰＣ，エポキシ樹脂、ガラ
スからなる平担なディスク状基板である。この種のトラ
ック案内溝付き基板は２Ｐ法すなわち平担ディスク状基
板上に紫外線硬化性樹脂（ホトポリマー）を塗布し、溝
原版を押しつけ紫外線を照射し硬化させることにより作
製される。

以上述べた各種のトラック案内溝付き基板を、光磁気デ
ィスク媒体としての性能、生産性（コスト）の点で比較
してみる。まず射出成形によるＰＭＭＡ基板は、生産性
、複屈折の点で問題はないが、変形しやすく、吸水性が
他と比べ大きいため、光磁気薄膜を成膜した後の経時安
定性が悪い。射出成形によるＰＣ基板は複屈折が大きく
、それが原因で信号対雑音特性を低下させる。セルキャ
スト法によるエポキシ基板は生産性が悪く（１枚の作製
時間は約１日）コスト高である。２Ｐ法によるＰＣ，Ｐ
ＭＭＡ、ガラス基板は射出成形法に比べ作製時間が長く
、かつ性能は射出成形法のものと同程度である。

スパッターエツチング法により溝を形成するガラス基板
は生産性、コスト面で実用的でない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

このような状況の中で、ＰＣ基板の低複屈折化が主な課
題として改善に努力が払われているが、現状では生産性
、コスト面、特性面をすべて満足する実用的な溝基板は
ない。

本発明の目的は以上示した各基板の欠点にがんがみ、複
屈折の問題点を解決し、生産性、コスト面、性能面で優
れた実用的光磁気ディスク媒体を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明を概説すれば、本発明は光磁気ディスクメモリ媒
体に関する発明であって、トラック案内溝が形成されて
いるブフスナックディスク基板上に光磁気膜が成膜され
ているディスク媒体において、該光磁気膜上に透明接着
層、及び最上層に透明平板ディスク層を有し、該透明平
板ディスク側よシ集束レーザを照射して記録、再生、消
去を行うものであることを特徴とする。

本発明の基本構成を第１図に示す。すなわち、第１図は
本発明のメモリ媒体の基本構成を示す断面概略図である
。第１図において、符号１〜３は第２−１図と同義であ
シ、５は接着７育、６は平担ディスク基板である。この
ディスク媒体において情報を記録、再生、消去するため
の集束レーザビームは平担ディスク基板６側よシ照射す
る。したがって基板１の光学的品質は問わず、複屈折は
いかなる値であってもよい。平担ディスク基板６は光学
的に高品質であることが重要であるが、本発明に用いら
れる基板は溝を必要としないためキャスト法により作製
されるＰＣ，ＰＭＭＡを使うことができる。これらは安
価で光学的に高品質である。また、平担なガラス基板も
適用される。

本発明のメモリ媒体においては、透明接着層（第１図の
５）と透明平板ディスク（第１図の６）の間には、他の
層例えば５１０２　薄膜層を設けてもよい。

その目的は、ｐＭｕＡ基板に含有される水分の光磁気膜
への浸透を防ぐことにある。５ｉ０２膜はこの屈折案が
約１．５であシ、Ｐ　Ｍ　Ｍ　Ａ基板接着層とほぼ同じ
であるために選ばれたものであり、このほか、Ａ４０３
薄膜、硬質ガラス薄膜、フォルステライト膜（２ＭｇＣ
ｌ５ｉＯ２）　、ムライト膜（Ｓｉｎ、・Ａｔ２０３）
などに替えてもその効果は同様に得られている。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。

実施例１ 第１図の本発明の基本構成において、１は射出成形法に
よシ作成したトラック案内溝付きＰＣ基板（直径１３譚
）、３は基板１上にスパッタリング法により形成したＴ
　ｂ２５　（Ｆ　ｅｓｓＣＯｔｓ　）ｙｓ　　光磁９Ｃ
膜、５はアクリル系紫外線硬化樹脂、６は厚み１．２瓢
のＰＭＭＡから成る平担ディスク基板（直径１３閏）で
ある。本実施例のディスク媒体を製作する手順は、ＰＣ
基板１上に成膜してディスク板に紫外線硬化性樹脂接着
剤を塗布し、ＰＭＭＡ平担基板６を重ね、圧力をかけて
接着剤を均一にディスク板上にのばし、引憐き紫外線を
照射し、接着剤を硬化させることにより完成される。本
実施例のディスク媒体をトラッキング特性、信号対雑音
比特性の面から評価した。

ＰＭＭＡ平担基板６側より、レーザ光を入射した場合の
トラッキング信号はＰＣ溝付き基板１何より入射した場
合に比べ振幅が約５チ増えているほかは変わらず、トラ
ッキングサーボ特性には全くそん色なかった。一方、デ
ィスク回転数：９００ｒｐｍ、半導体レーザパワー：ｓ
、ｖｒ。

外部磁界：　５０００ｅ　の条件下でＩＭＨｚの信号を
記録し、再生した結果を、本実施例のＰＭＭＡ平担基板
６側よシレーザ光を入射した場合と、ＰＣ溝付き基板１
側より入射した場合とにつき比較した。前者、において
はＣ／Ｎ値：　５５　ｄＢ、後者においては４８　ｄＢ
を得た。両者の差は３板の光学的品質、すなわち複屈折
に起因するものであり、本実施例によυ本発明の有効性
は確認された。

実施例２ 第３図は本発明のメモリ媒体の１実施例の断面概略図で
あ夛、符号１〜３．５及び６は第１図と同義でちシ、７
はＳｉＯ□薄膜である。１は成形法によシ作成したトフ
ツク案内溝付きＰＣ基板（直径１３０）、３は前記実施
例１と同じ光磁気薄膜、５はアクリル系紫外線硬化樹脂
接着層、６は厚み１．２簡のＰ　Ｍ　Ｍ　Ａ平担ディス
ク基板（直径１５　ｃｍ　）、７は基板６の上に形成し
、次いで５で接着させた膜厚α１μｍの８１０２薄膜で
ある。本実施例を完成する工程は前記実施例１の説明に
記したと同様である。

本実施例と前記実施例１との差異はＰＭＭＡ平担基板６
と紫外線硬化樹脂との間に８１０２薄膜を設けたことで
ある。

本実施例を前記実施例１と同じ条件で記録し、再生した
結果、ＰＣ基板１よシ再生した場合Ｃ／Ｎ値として４６
　ｄＢ　、ＰＭＭＡ平担基板６側から再生した場合５４
　ｄＢを得た。

実施例３ 前記実施例１のＰ　Ｍ　Ｍ　Ａ平担基板６に替え、厚み
ｔ　２　ｍｎのガラスディスク基板を用いたディスク媒
体を作製した。前記実施例１と同じ条件で記録し、その
再生特性を調べた結果、ＰＣ基板側からはＣ／Ｎ：４６
ｄＢ、ガラスディスク基板側からは５８　ｄＢを得た。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、高い信号対雑音
比のディスク媒体を安価に得ることができる利点がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のメモリ媒体の基本構成を示す断面概略
図、第２−１図及び第２−２図は従来の光デイスク媒体
の断面概略図、第３図は本発明のメモリ媒体の１実施例
の断面概略図である。 １ニドラック案内溝付き基板、２ニドラツク案内溝、３
：光磁気薄膜、４たホトポリマー、５：接着層、６：平
担ディスク基板、 ７　：　５ｉ０２薄膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、トラック案内溝が形成されているプラスチックディ
   スク基板上に光磁気膜が成膜されているディスク媒体に
   おいて、該光磁気膜上に透明接着層、及び最上層に透明
   平板ディスク層を有し、該透明平板ディスク側より集束
   レーザを照射して記録、再生、消去を行うものであるこ
   とを特徴とする光磁気ディスクメモリ媒体。