JPH06243517A - 記録可能な光ディスクの製造方法および 記録可能な光ディスク用基板 - Google Patents
記録可能な光ディスクの製造方法および 記録可能な光ディスク用基板Info
- Publication number
- JPH06243517A JPH06243517A JP5025900A JP2590093A JPH06243517A JP H06243517 A JPH06243517 A JP H06243517A JP 5025900 A JP5025900 A JP 5025900A JP 2590093 A JP2590093 A JP 2590093A JP H06243517 A JPH06243517 A JP H06243517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical disk
- protective layer
- warp
- recording layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反りが少なく、フォーカシング性能、および
記録・再生時のトラッキング性能のよい光ディスクを提
供することを目的とする。 【構成】 基板固有の反り量と製造工程（案内溝の成
形、記録層や保護層の形成、接着剤での貼り合わせ工
程）での反り量がちょうど打ち消し合うような、記録層
及び保護層を形成する側に凸に反った基板を用いること
により、結果として反りの少ない光ディスクを製造する
ことが可能となる。
記録・再生時のトラッキング性能のよい光ディスクを提
供することを目的とする。 【構成】 基板固有の反り量と製造工程（案内溝の成
形、記録層や保護層の形成、接着剤での貼り合わせ工
程）での反り量がちょうど打ち消し合うような、記録層
及び保護層を形成する側に凸に反った基板を用いること
により、結果として反りの少ない光ディスクを製造する
ことが可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録可能な光ディス
ク、例えば相変化型光ディスク、ピットを形成するＤＲ
ＡＷ型光ディスク（ライトワンス型）、光磁気ディス
ク、ホトクロミック型光ディスク、ＰＨＢ型光ディスク
などの製造方法及びこれらの記録可能な光ディスク用基
板に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、反
りの少ない光ディスクの製造方法に関するものである。
ク、例えば相変化型光ディスク、ピットを形成するＤＲ
ＡＷ型光ディスク（ライトワンス型）、光磁気ディス
ク、ホトクロミック型光ディスク、ＰＨＢ型光ディスク
などの製造方法及びこれらの記録可能な光ディスク用基
板に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、反
りの少ない光ディスクの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高密度情報記録媒体として注目されてい
る記録可能な光ディスクは、一般に、図４に示すよう
に、基板上に記録層を形成しその上に保護層を形成する
ことで構成されている。このような光ディスク用の基板
には、トラッキングガイドのために案内溝（１２）がス
パイラル状または同心円状に形成されている。溝と溝と
の間に位置する凸部はランドと呼ばれる。より正確に
は、光ビームが入射する側からみて手前をランド、奥を
溝と呼ぶ。溝の幅は一般に０．４〜０．８μｍ、ランド
の幅は一般に０．８〜１．２μｍであり、深さ（高さ）
は８００〜１２００Å程度である。つまり、溝（案内
溝）をディスク全体からみると、それは極めて微細なパ
ターンである。この微細なパターンである案内溝を基板
の表面に１枚毎に形成することは手間がかかり、生産性
が極めて悪い。
る記録可能な光ディスクは、一般に、図４に示すよう
に、基板上に記録層を形成しその上に保護層を形成する
ことで構成されている。このような光ディスク用の基板
には、トラッキングガイドのために案内溝（１２）がス
パイラル状または同心円状に形成されている。溝と溝と
の間に位置する凸部はランドと呼ばれる。より正確に
は、光ビームが入射する側からみて手前をランド、奥を
溝と呼ぶ。溝の幅は一般に０．４〜０．８μｍ、ランド
の幅は一般に０．８〜１．２μｍであり、深さ（高さ）
は８００〜１２００Å程度である。つまり、溝（案内
溝）をディスク全体からみると、それは極めて微細なパ
ターンである。この微細なパターンである案内溝を基板
の表面に１枚毎に形成することは手間がかかり、生産性
が極めて悪い。
【０００３】そこで、基板上に案内溝を形成する方法と
して、一般に、 (a)熱可塑性樹脂の射出成形法によって基板と案内溝を
同時に成形する方法 (b)ガラス等の原板上に紫外線硬化型樹脂を用いて案内
溝を成形する方法 が用いられる。射出成形法は生産性が高いが、パターン
が微細であればあるほど成形精度の高い成形物を得るこ
とは困難である。何故ならば、熱可塑性樹脂は加熱して
も粘度の低い流動状態にならないからである。
して、一般に、 (a)熱可塑性樹脂の射出成形法によって基板と案内溝を
同時に成形する方法 (b)ガラス等の原板上に紫外線硬化型樹脂を用いて案内
溝を成形する方法 が用いられる。射出成形法は生産性が高いが、パターン
が微細であればあるほど成形精度の高い成形物を得るこ
とは困難である。何故ならば、熱可塑性樹脂は加熱して
も粘度の低い流動状態にならないからである。
【０００４】以下、成形前は比較的粘度の低い紫外線硬
化型樹脂を用いる(b)の方法について詳述する。紫外線
硬化型樹脂はＰｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒと呼ばれ、略
して２Ｐ樹脂と呼ばれ、これを用いる(b)の方法は２Ｐ
法と呼ばれる。図３には、２Ｐ法により製造された光デ
ィスク用基板の一例を示してある。 第１工程：原板と、案内溝の反転パターンが形成された
鋳型（スタンパと呼ばれる）とで２Ｐ樹脂を挟み込む。
原板（１１）としては、アクリル、エポキシ、ポリカー
ボネート等の樹脂、あるいはガラス等を用いる。 第２工程：原板を介して２Ｐ樹脂に紫外線を照射する。
２Ｐ樹脂は硬化し、スタンパのパターンが転写される。
これを樹脂成形層という。 第３工程：スタンパと２Ｐ樹脂との界面から両者を分離
する。
化型樹脂を用いる(b)の方法について詳述する。紫外線
硬化型樹脂はＰｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒと呼ばれ、略
して２Ｐ樹脂と呼ばれ、これを用いる(b)の方法は２Ｐ
法と呼ばれる。図３には、２Ｐ法により製造された光デ
ィスク用基板の一例を示してある。 第１工程：原板と、案内溝の反転パターンが形成された
鋳型（スタンパと呼ばれる）とで２Ｐ樹脂を挟み込む。
原板（１１）としては、アクリル、エポキシ、ポリカー
ボネート等の樹脂、あるいはガラス等を用いる。 第２工程：原板を介して２Ｐ樹脂に紫外線を照射する。
２Ｐ樹脂は硬化し、スタンパのパターンが転写される。
これを樹脂成形層という。 第３工程：スタンパと２Ｐ樹脂との界面から両者を分離
する。
【０００５】こうして、表面に案内溝（光ガイド用溝）
が成形された光ディスク用基板が得られる。この基板の
樹脂成形層の上に、直接に、あるいは保護層あるいは再
生信号を増強するエンハンス層またはその他の層を介し
て記録層を形成する。さらに、記録層の上に保護層やそ
の他の層が形成され、記録可能な光ディスクが完成す
る。
が成形された光ディスク用基板が得られる。この基板の
樹脂成形層の上に、直接に、あるいは保護層あるいは再
生信号を増強するエンハンス層またはその他の層を介し
て記録層を形成する。さらに、記録層の上に保護層やそ
の他の層が形成され、記録可能な光ディスクが完成す
る。
【０００６】例えば、光磁気ディスクであれば、図２に
示すように基板の樹脂成形層（１２）の上に、希土類−
遷移金属からなる記録層（１４）を、無機保護層（１
３）（１５）で挟む構造で形成する。しかしながら、こ
の無機保護層（１５）は極めて薄いため、保護層として
の強度が小さい。そこでさらに記録層（１４）を保護す
るために、樹脂からなる有機保護層（１６）を設ける。
有機保護層（１６）の材料としては、一般に紫外線硬化
型の樹脂を用いる。
示すように基板の樹脂成形層（１２）の上に、希土類−
遷移金属からなる記録層（１４）を、無機保護層（１
３）（１５）で挟む構造で形成する。しかしながら、こ
の無機保護層（１５）は極めて薄いため、保護層として
の強度が小さい。そこでさらに記録層（１４）を保護す
るために、樹脂からなる有機保護層（１６）を設ける。
有機保護層（１６）の材料としては、一般に紫外線硬化
型の樹脂を用いる。
【０００７】以上により単板型光ディスクが製造され
る。単板型光ディスクは片面記録型であるが、さらにこ
の単板型光ディスクを接着剤で２枚貼り合わせると両面
記録型の光ディスクとなる。
る。単板型光ディスクは片面記録型であるが、さらにこ
の単板型光ディスクを接着剤で２枚貼り合わせると両面
記録型の光ディスクとなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の光デ
ィスクの製造方法においては、光ディスクに反りが生じ
てしまうという問題がある。光ディスクの反りは、記録
面の高さの変動につながり、光ヘッドのフォーカスのた
めの移動量が大きくなったり、軸方向加速度が大きくな
ったりするため、過大なフォーカシング性能を要求する
ことになる。
ィスクの製造方法においては、光ディスクに反りが生じ
てしまうという問題がある。光ディスクの反りは、記録
面の高さの変動につながり、光ヘッドのフォーカスのた
めの移動量が大きくなったり、軸方向加速度が大きくな
ったりするため、過大なフォーカシング性能を要求する
ことになる。
【０００９】また、記録面の傾斜の原因にもなり、光ヘ
ッドの収差を引き起こす。さらに、案内溝も反ってしま
うことになり、記録・再生時のトラッキング性能を低下
させる。本発明は、上記問題点を解決し、反りの少ない
光ディスクの製造方法を提供することにある。
ッドの収差を引き起こす。さらに、案内溝も反ってしま
うことになり、記録・再生時のトラッキング性能を低下
させる。本発明は、上記問題点を解決し、反りの少ない
光ディスクの製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、光ディス
クの反りについて調べたところ、基板固有の反り、基板
上に樹脂成形層を形成する際の反り、無機保護層や記録
層を形成する際の反り、有機保護層を形成する硬化樹脂
の硬化時の収縮による反り、及び両面型光ディスクの場
合の接着剤の硬化時の収縮による反り等に起因し、これ
らが組み合わさって結果的に光ディスク基板に反りが生
じることがわかった。
クの反りについて調べたところ、基板固有の反り、基板
上に樹脂成形層を形成する際の反り、無機保護層や記録
層を形成する際の反り、有機保護層を形成する硬化樹脂
の硬化時の収縮による反り、及び両面型光ディスクの場
合の接着剤の硬化時の収縮による反り等に起因し、これ
らが組み合わさって結果的に光ディスク基板に反りが生
じることがわかった。
【００１１】そして、さらに研究した結果、基板固有の
反りを除いた製造工程での反りは、基板の記録層や保護
層を形成する側に凹にするような反りであることがわか
った。そこで、本発明においては、記録層や保護層を形
成する側に凸の反りを持つ基板を用いることにより、光
ディスクの製造工程での反りを打ち消し、結果的に反り
を少なくすることとした。
反りを除いた製造工程での反りは、基板の記録層や保護
層を形成する側に凹にするような反りであることがわか
った。そこで、本発明においては、記録層や保護層を形
成する側に凸の反りを持つ基板を用いることにより、光
ディスクの製造工程での反りを打ち消し、結果的に反り
を少なくすることとした。
【００１２】よって、本発明は、案内溝を有する基板上
に記録層及び保護層を形成してなる記録可能な光ディス
クの製造方法において、前記基板の凸に反った側に前記
記録層及び保護層を形成することを特徴とする記録可能
な光ディスクの製造方法を提供するものである。
に記録層及び保護層を形成してなる記録可能な光ディス
クの製造方法において、前記基板の凸に反った側に前記
記録層及び保護層を形成することを特徴とする記録可能
な光ディスクの製造方法を提供するものである。
【００１３】
【作用】本発明で用いる基板の材質は、特に限定される
ものではないが、原板への溝形成方法に関わってくる。
熱可塑性樹脂の射出成形法によるならば、アクリル、エ
ポキシ、ポリカーボネート等の樹脂を用いる。この場
合、原板と案内溝とは同時に形成される。
ものではないが、原板への溝形成方法に関わってくる。
熱可塑性樹脂の射出成形法によるならば、アクリル、エ
ポキシ、ポリカーボネート等の樹脂を用いる。この場
合、原板と案内溝とは同時に形成される。
【００１４】原板に紫外線硬化樹脂（２Ｐ樹脂）を用い
て案内溝を形成する場合は、原板は前記の樹脂製、ある
いはガラス製の円形の板を用いる。いずれの基板とも本
発明の特徴である、記録層、保護層を形成する側が凸に
反っていることが必要である。図１には、本発明で使用
する基板の一例を示してある。基板の反り量は特に限定
されないが、案内溝の成形、記録層や保護層の形成、接
着剤での貼り合わせ工程での反り量を考慮し、基板固有
の反り量と上記各製造工程での反り量がちょうど打ち消
し合うような反り量を持つ基板を選ぶことが好ましい。
て案内溝を形成する場合は、原板は前記の樹脂製、ある
いはガラス製の円形の板を用いる。いずれの基板とも本
発明の特徴である、記録層、保護層を形成する側が凸に
反っていることが必要である。図１には、本発明で使用
する基板の一例を示してある。基板の反り量は特に限定
されないが、案内溝の成形、記録層や保護層の形成、接
着剤での貼り合わせ工程での反り量を考慮し、基板固有
の反り量と上記各製造工程での反り量がちょうど打ち消
し合うような反り量を持つ基板を選ぶことが好ましい。
【００１５】本発明では、記録層、保護層を形成する側
が凸に反った基板を用いることにより、記録層（４）形
成時の基板の反り、有機保護層（６）として用いる硬化
樹脂の硬化時の収縮による反り、両面記録型ディスクの
場合は接着剤の収縮による反り等を相殺することができ
る。その結果、光ディスクの最終的な反り量を低減で
き、より反りの少ない光ディスクを製造することができ
る。
が凸に反った基板を用いることにより、記録層（４）形
成時の基板の反り、有機保護層（６）として用いる硬化
樹脂の硬化時の収縮による反り、両面記録型ディスクの
場合は接着剤の収縮による反り等を相殺することができ
る。その結果、光ディスクの最終的な反り量を低減で
き、より反りの少ない光ディスクを製造することができ
る。
【００１６】以下、実施例を示し、さらに詳しく本発明
について説明するが、本発明はこれに限られるものでは
ない。
について説明するが、本発明はこれに限られるものでは
ない。
【００１７】
【実施例】原板として、中心から外周まで軸方向の高さ
の差が１００μｍである（反り量１００μｍ）円形のガ
ラス板（１）（直径３００ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ）上
に、反りの凸面側にトラッキンググルーブ用の案内溝
（樹脂成形層）（２）を形成した。その結果、記録層側
の反り量が８０μｍ凸である図１に示す基板が完成し
た。これが、本発明で用いる基板である。
の差が１００μｍである（反り量１００μｍ）円形のガ
ラス板（１）（直径３００ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ）上
に、反りの凸面側にトラッキンググルーブ用の案内溝
（樹脂成形層）（２）を形成した。その結果、記録層側
の反り量が８０μｍ凸である図１に示す基板が完成し
た。これが、本発明で用いる基板である。
【００１８】次に、図１の基板上に無機の保護層として
ＳｉＮ膜（３）を７００Å、記録層としてＴｂＦｅＣｏ
膜（４）を５００Å、さらに無機保護層としてＳｉＮ膜
（５）を７００Åスパッタリング法により形成した。次
に、紫外線硬化型樹脂（６）をスピンコート法により５
μｍの膜厚の有機保護層を形成し、単板型光ディスクを
製造した（図２）。
ＳｉＮ膜（３）を７００Å、記録層としてＴｂＦｅＣｏ
膜（４）を５００Å、さらに無機保護層としてＳｉＮ膜
（５）を７００Åスパッタリング法により形成した。次
に、紫外線硬化型樹脂（６）をスピンコート法により５
μｍの膜厚の有機保護層を形成し、単板型光ディスクを
製造した（図２）。
【００１９】このようにして製造した光ディスクの反り
を測ったところ、記録層側の反り量は約１５μｍ凸にな
った。その結果、本実施例のディスクの反りは１５μｍ
となった。 〈比較例〉原板として、反り量が０μｍである以外は実
施例と同様の円形のガラス板（１１）に、実施例と同様
に案内溝（樹脂成形層）（１２）を形成した。その結
果、反り２０μｍ、記録層側が凹に反った基板が完成し
た（図３）。
を測ったところ、記録層側の反り量は約１５μｍ凸にな
った。その結果、本実施例のディスクの反りは１５μｍ
となった。 〈比較例〉原板として、反り量が０μｍである以外は実
施例と同様の円形のガラス板（１１）に、実施例と同様
に案内溝（樹脂成形層）（１２）を形成した。その結
果、反り２０μｍ、記録層側が凹に反った基板が完成し
た（図３）。
【００２０】さらにまた、実施例と同様に無機保護層
（１３）、記録層（１４）、無機保護層（１５）、およ
び有機保護層（１６）を形成し、単板型光ディスクを製
造した（図４）。このようにして製造した光ディスクの
反りを測ったところ、記録層側の反り量は約８５μｍ凹
になった。その結果、本比較例のディスクの反りは８５
μｍとなった。
（１３）、記録層（１４）、無機保護層（１５）、およ
び有機保護層（１６）を形成し、単板型光ディスクを製
造した（図４）。このようにして製造した光ディスクの
反りを測ったところ、記録層側の反り量は約８５μｍ凹
になった。その結果、本比較例のディスクの反りは８５
μｍとなった。
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明は、記録層や保護
層を形成する側に凸に反った基板を用いることを特徴と
している。それ故、光ディスクの製造工程での反りを基
板固有の反りによって打ち消すことができ、結果として
反りの少ない光ディスクを製造することが可能となる。
層を形成する側に凸に反った基板を用いることを特徴と
している。それ故、光ディスクの製造工程での反りを基
板固有の反りによって打ち消すことができ、結果として
反りの少ない光ディスクを製造することが可能となる。
【００２２】したがって、フォーカシング性能、および
記録・再生時のトラッキング性能のよい光ディスクを提
供することが可能となる。
記録・再生時のトラッキング性能のよい光ディスクを提
供することが可能となる。
【図１】 本発明に使用する基板の断面図である。
【図２】 本発明の基板を用いて作製した光ディスクの
断面図である。
断面図である。
【図３】 従来の、案内溝側が凸に反っていない基板の
断面図である。
断面図である。
【図４】 従来の製造方法で作製した光ディスクの断面
図である。
図である。
１，１１ 原板 ２，１２ 樹脂成形層 ３，１３ 無機保護層 ４，１４ 記録層 ５，１５ 無機保護層 ６，１６ 有機保護層
Claims (4)
- 【請求項１】案内溝を有する基板上に記録層及び保護層
を形成してなる記録可能な光ディスクの製造方法におい
て、前記基板の凸に反った側に前記記録層及び保護層を
形成することを特徴とする記録可能な光ディスクの製造
方法。 - 【請求項２】前記案内溝を有する基板は、原板と、案内
溝を成形した樹脂成形層とからなることを特徴とする請
求項１に記載の記録可能な光ディスクの製造方法。 - 【請求項３】案内溝を有する記録可能な光ディスク用基
板において、案内溝を有する側が凸に反っていることを
特徴とする記録可能な光ディスク用基板。 - 【請求項４】原板と、案内溝を成形した樹脂成形層とか
らなる請求項３に記載の記録可能な光ディスク用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5025900A JPH06243517A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 記録可能な光ディスクの製造方法および 記録可能な光ディスク用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5025900A JPH06243517A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 記録可能な光ディスクの製造方法および 記録可能な光ディスク用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06243517A true JPH06243517A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12178670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5025900A Pending JPH06243517A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 記録可能な光ディスクの製造方法および 記録可能な光ディスク用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06243517A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6496315B1 (en) | 1998-11-26 | 2002-12-17 | International Business Machines Corporation | Disk drive with off-track write prevention |
-
1993
- 1993-02-16 JP JP5025900A patent/JPH06243517A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6496315B1 (en) | 1998-11-26 | 2002-12-17 | International Business Machines Corporation | Disk drive with off-track write prevention |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| USRE43967E1 (en) | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium | |
| JPH08329523A (ja) | 光ディスク | |
| JP4258037B2 (ja) | 光記録媒体と、これを用いた光記録再生装置 | |
| JPH10283683A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2003196891A (ja) | 多層光記録媒体の製造方法および多層光記録媒体 | |
| JPH06274940A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPH06243517A (ja) | 記録可能な光ディスクの製造方法および 記録可能な光ディスク用基板 | |
| JP4266044B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH09204686A (ja) | 光デイスク及び光デイスクの製造方法 | |
| JPH04372741A (ja) | 両面タイプの２ｐ基板の製造方法 | |
| JPS63251924A (ja) | 情報記録用円板および情報記録方法 | |
| JPH0954985A (ja) | 光デイスク及び光デイスクの製造方法 | |
| JPH03141050A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3986702B2 (ja) | 光記録媒体及び光記録媒体用基板 | |
| JP2005196967A (ja) | 情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂基板の製造方法 | |
| JPH1074341A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
| JP2006318645A (ja) | 情報記録媒体 | |
| KR20000049292A (ko) | 광기록 매체 및 그 제조방법 | |
| JPS6352350A (ja) | 光磁気デイスクメモリ媒体 | |
| JPS63222346A (ja) | 光デイスクの製造方法 | |
| JP2000100005A (ja) | 光学的情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2000339768A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS6383939A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
| JP2002042376A (ja) | 光ディスク | |
| JPH08180476A (ja) | 光記録媒体の製造方法 |