JPH04121843A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH04121843A JPH04121843A JP24206790A JP24206790A JPH04121843A JP H04121843 A JPH04121843 A JP H04121843A JP 24206790 A JP24206790 A JP 24206790A JP 24206790 A JP24206790 A JP 24206790A JP H04121843 A JPH04121843 A JP H04121843A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- hub
- hubs
- optical disk
- injection molding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- FOPBMNGISYSNED-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Tb] Chemical compound [Fe].[Co].[Tb] FOPBMNGISYSNED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
マグネット・クランプ方式をとる光ディスクの製造方法
に関し、 ハブの芯だし及び接着工程を短縮することを目的とし、 合成樹脂を射出成形して得たディスク形状をした基板上
に、第1の保護層、記録層、第2の保護層と順次に積層
して光ディスク基板を作り、該基板二枚を第2の保護膜
位置で相互に接着して貼り合わせ型とした後、該基板の
中央部にハブを取り付けてなる光ディスクにおいて、前
記基板の射出成形時にハブも一体成形することを特徴と
して光ディスクの製造方法を構成する。
に関し、 ハブの芯だし及び接着工程を短縮することを目的とし、 合成樹脂を射出成形して得たディスク形状をした基板上
に、第1の保護層、記録層、第2の保護層と順次に積層
して光ディスク基板を作り、該基板二枚を第2の保護膜
位置で相互に接着して貼り合わせ型とした後、該基板の
中央部にハブを取り付けてなる光ディスクにおいて、前
記基板の射出成形時にハブも一体成形することを特徴と
して光ディスクの製造方法を構成する。
本発明はマグネット・クランプ方式をとる光ディスクの
製造方法に関する。
製造方法に関する。
光ディスクは所謂る光ディスクと光磁気ディスクとに分
類することができ、共にレーザ光を用いて高密度の情報
記録を行うことのできるメモリである。
類することができ、共にレーザ光を用いて高密度の情報
記録を行うことのできるメモリである。
そして、記録容量が大きく、基板面に非接触で記録と再
生を行うことができ、また塵埃の影響を受けに(いなど
優れた特徴をもっている。
生を行うことができ、また塵埃の影響を受けに(いなど
優れた特徴をもっている。
こ\で、光ディスクは記録媒体として低融点金属を用い
、情報の記録と再生を穴(ビット)の有無により行う読
出し専用メモリ(Read 0nly Mem。
、情報の記録と再生を穴(ビット)の有無により行う読
出し専用メモリ(Read 0nly Mem。
ry)であるのに対し、光磁気ディスクの記録媒体は基
板面に対して垂直磁化した磁性膜よりなり、レーザ照射
された磁性膜の温度上昇による磁化反転が情報の記録と
消去に用いられ、磁性膜からの反射光あるいは透過光の
偏光面の回転が磁化方向により異なるのを利用して情報
の再生、が行われている。
板面に対して垂直磁化した磁性膜よりなり、レーザ照射
された磁性膜の温度上昇による磁化反転が情報の記録と
消去に用いられ、磁性膜からの反射光あるいは透過光の
偏光面の回転が磁化方向により異なるのを利用して情報
の再生、が行われている。
光ディスクを構成するディスク基板には次のように各種
のものがある。
のものがある。
■ ポリメチルメタクリレート(略称PMMA)やポリ
カーボネート(略称PC)のような樹脂を射出成形して
案内溝(プリグループ)を備えた透明基板を形成したも
の。
カーボネート(略称PC)のような樹脂を射出成形して
案内溝(プリグループ)を備えた透明基板を形成したも
の。
■ ディスク状をしたガラス基板の上に紫外線硬化樹脂
(フォトポリマ)を塗布した後、案内溝が形成されてい
る金型を圧着し、透明基板を通じて紫外線を照射して硬
化させ、基板と一体化させて形成したの。
(フォトポリマ)を塗布した後、案内溝が形成されてい
る金型を圧着し、透明基板を通じて紫外線を照射して硬
化させ、基板と一体化させて形成したの。
こ\で、基板の平坦性や保存安定性の点では■が優れて
いるもの−、コストの面では■が圧倒的に優れており、
多(の場合に使用されている。
いるもの−、コストの面では■が圧倒的に優れており、
多(の場合に使用されている。
本発明は■の方法により形成した基板を用いてなる光デ
ィスクに関するものである。
ィスクに関するものである。
第4図は従来の構成により作られている貼り合わせ型光
ディスクの断面図である。
ディスクの断面図である。
すなわち、射出成形法により形成した基板1の上に第1
の保護層、記録層、第2の保護層と順次に積層してメモ
リ層2を作り、か−る二枚の基板を第2の保護層の面で
接着剤3を用いて接着し、貼り合わせ型の光ディスクを
形成する。
の保護層、記録層、第2の保護層と順次に積層してメモ
リ層2を作り、か−る二枚の基板を第2の保護層の面で
接着剤3を用いて接着し、貼り合わせ型の光ディスクを
形成する。
その後、基板中央の穴にマグネット・クランプ用のハブ
(■ub) 3を上下より挿入接着していた。
(■ub) 3を上下より挿入接着していた。
こ−で、ハブ3には磁性金属板が埋め込まれており、磁
気吸着により光ディスクを装置に、固定するよう構成さ
れている。
気吸着により光ディスクを装置に、固定するよう構成さ
れている。
然し、ハブ3の接着に当たっては、ハブの芯出しを行う
必要があり、この工程に時間が掛かることが問題であっ
た。
必要があり、この工程に時間が掛かることが問題であっ
た。
光ディスクは単位体積当たりの記録容量を増すためと、
機械的な安定性を高めるために貼り合わせ型が用いられ
ているが、ハブの接着に工数を要することが問題である
。
機械的な安定性を高めるために貼り合わせ型が用いられ
ているが、ハブの接着に工数を要することが問題である
。
そこで、この工数の低減が課題である。
上記の課題は合成樹脂を射出成形して得たディスク形状
をした基板上に、第1の保護層、記録層。
をした基板上に、第1の保護層、記録層。
第2の保護層と順次に積層して光ディスク基板を作り、
この基板二枚を第2の保護膜位置で相互に接着して貼り
合わせ型とした後、この基板の中央部にハブを取り付け
てなる光ディスクにおいて、基板の射出成形時にハブも
一体成形することを特徴として光ディスクの製造方法を
構成することにより解決することができる。
この基板二枚を第2の保護膜位置で相互に接着して貼り
合わせ型とした後、この基板の中央部にハブを取り付け
てなる光ディスクにおいて、基板の射出成形時にハブも
一体成形することを特徴として光ディスクの製造方法を
構成することにより解決することができる。
従来の光ディスクの製造工程において、ハブを光ディス
ク基板貼り合わせ後に接着している理由は、ハブは基板
面より2mm程度突出しており、そのためメモリ層の膜
形成に当たって作業性を損なうからである。
ク基板貼り合わせ後に接着している理由は、ハブは基板
面より2mm程度突出しており、そのためメモリ層の膜
形成に当たって作業性を損なうからである。
然し、発明者等は実験の結果、スパッタなどの基板処理
工程においても予め固定部にハブ用の溝を形成しておけ
ば、作業性を損なわないことを見出した。
工程においても予め固定部にハブ用の溝を形成しておけ
ば、作業性を損なわないことを見出した。
そこで、本発明は合成樹脂の射出成形を行うに当たって
ハブの部分も同時に一体成形し、第1図に示すようなハ
ブ3の部分が基板1と一体化してζ騎 いる光ディスク基板を用いるものである。
ハブの部分も同時に一体成形し、第1図に示すようなハ
ブ3の部分が基板1と一体化してζ騎 いる光ディスク基板を用いるものである。
こ\で、問題となるのはハブには装置に磁気吸着させる
ために磁性金属板が接着固定されていることである。
ために磁性金属板が接着固定されていることである。
そこで、本発明は、
■ ディスク基板とハブとを同じ材料を用いて一体成形
した後、ハブに設けた凹部に磁性金属板を固定する。
した後、ハブに設けた凹部に磁性金属板を固定する。
■ ハブの部分の合成樹脂には磁性粉を混入し、一方、
ディスク基板の部分は合成樹脂だけにして一体成形する
。
ディスク基板の部分は合成樹脂だけにして一体成形する
。
の何れかの方法をとるものである。
このようにすると、ハブの芯だし工程と接着工程を省略
できるので、大幅の工程短縮が可能になる。
できるので、大幅の工程短縮が可能になる。
実施例1: (同一材料を用いて一体成形した例)ポリ
カーボネー) (PC)を射出成形して第2図に示すよ
うに直径が5インチで基板の中央部に2.2閣の高さの
ハブ3を備えた基板を形成した。
カーボネー) (PC)を射出成形して第2図に示すよ
うに直径が5インチで基板の中央部に2.2閣の高さの
ハブ3を備えた基板を形成した。
次に、ハブ3の凹部に接着側を用いてステンレス製の磁
性板5を埋込み、以後、この基板をスパッタ装置に装着
し、第1の保護層としてテルビウム(Tb)と二酸化硅
素(SiO□)の固溶体を90n−の厚さに形成し、ま
た記録層としてはテルビウム・鉄・コバルト(Tb−F
e−Co)を90nmの厚さに、また第2の保護層とし
ては第1の保護層と同様にTb−5iO□よりなる固溶
体を90rvの厚さに形成してメモリ層2を形成し、エ
ポキシ系の接着側を用いて第2の保護層の位置で貼り合
わした。
性板5を埋込み、以後、この基板をスパッタ装置に装着
し、第1の保護層としてテルビウム(Tb)と二酸化硅
素(SiO□)の固溶体を90n−の厚さに形成し、ま
た記録層としてはテルビウム・鉄・コバルト(Tb−F
e−Co)を90nmの厚さに、また第2の保護層とし
ては第1の保護層と同様にTb−5iO□よりなる固溶
体を90rvの厚さに形成してメモリ層2を形成し、エ
ポキシ系の接着側を用いて第2の保護層の位置で貼り合
わした。
このようにして形成した光磁気ディスクの電気的特性、
偏心2反り9面振れなどの機械的特性および装置との吸
着性については従来のものと同じであった。
偏心2反り9面振れなどの機械的特性および装置との吸
着性については従来のものと同じであった。
実施例2:(異種材料を用いて一体成形した例)基板部
分とハブ部分と二つの材料供給口を備えた射出成形機を
用い、基板部分にはpcのみを、またハブ部分には径が
lμ−以下のステンレス粉6とpcとを1:工の重量比
に混合した材料を射出成形して第3図に示すような光デ
ィスク基板を形成した。 そして、以後は実施例1と同
様にして光磁気ディスクを形成した。
分とハブ部分と二つの材料供給口を備えた射出成形機を
用い、基板部分にはpcのみを、またハブ部分には径が
lμ−以下のステンレス粉6とpcとを1:工の重量比
に混合した材料を射出成形して第3図に示すような光デ
ィスク基板を形成した。 そして、以後は実施例1と同
様にして光磁気ディスクを形成した。
このようにして形成した光磁気ディスクの電気的特性、
偏心1反り2面振れなどの機械的特性および装置との吸
着性については従来のものと同じであった。
偏心1反り2面振れなどの機械的特性および装置との吸
着性については従来のものと同じであった。
本発明の実施によりハブの取り付は工程を短縮でき、こ
れによりコスト低減が可能となった。
れによりコスト低減が可能となった。
第1図は本発明にか\る貼り合わせ型光ディスクの断面
図、 第2図は本発明を適用した光ディスク基板の部分拡大図
、 第3図は本発明を適用した別の光ディスク基板の部分拡
大図、 第4図は貼り合わせ型光ディスクの断面図、である。 図において、 1は基板、 3はハブ、 5は磁性板、 である。 2はメモリ層、 4は光ディスク基板、 6はステンレス粉、
図、 第2図は本発明を適用した光ディスク基板の部分拡大図
、 第3図は本発明を適用した別の光ディスク基板の部分拡
大図、 第4図は貼り合わせ型光ディスクの断面図、である。 図において、 1は基板、 3はハブ、 5は磁性板、 である。 2はメモリ層、 4は光ディスク基板、 6はステンレス粉、
Claims (3)
- (1)合成樹脂を射出成形して得たディスク形状をした
基板上に、第1の保護層、記録層、第2の保護層と順次
に積層して光ディスク基板を作り、該基板二枚を第2の
保護膜位置で相互に接着して貼り合わせ型とした後、該
基板の中央部にハブを取り付けてなる光ディスクにおい
て、前記基板の射出成形時にハブも一体成形することを
特徴とする光ディスクの製造方法。 - (2)請求項1記載の光ディスクにおいて、基板とハブ
とを同一材料から形成したる後、該ハブに磁性金属板を
接着することを特徴とする光ディスクの製造方法。 - (3)請求項1記載の光ディスクにおいて、ハブの部分
を磁性粉を含む合成樹脂から形成することを特徴とする
光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24206790A JPH04121843A (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24206790A JPH04121843A (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04121843A true JPH04121843A (ja) | 1992-04-22 |
Family
ID=17083789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24206790A Pending JPH04121843A (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04121843A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5930224A (en) * | 1995-04-25 | 1999-07-27 | Olympus Optical Co., Ltd. | Information recording/reproduction apparatus |
US6285651B1 (en) * | 1997-06-03 | 2001-09-04 | Seagate Technology Llc | Optical disc for optical storage system |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP24206790A patent/JPH04121843A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5930224A (en) * | 1995-04-25 | 1999-07-27 | Olympus Optical Co., Ltd. | Information recording/reproduction apparatus |
US6285651B1 (en) * | 1997-06-03 | 2001-09-04 | Seagate Technology Llc | Optical disc for optical storage system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62129985A (ja) | マグネツトクランプ形情報記録用デイスク | |
JPH064907A (ja) | ハブ付きディスクおよびディスク基板用射出成形金型 | |
JPH04121843A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
JPH02282941A (ja) | 光ディスクおよびその製造方法 | |
JPH0477973B2 (ja) | ||
JP2507366B2 (ja) | 情報記憶媒体 | |
JP2730780B2 (ja) | 光学式情報記録円板およびその製造方法 | |
JPH03230381A (ja) | 光情報記録媒体用基板 | |
JPH0418083Y2 (ja) | ||
JPH02281487A (ja) | 情報記録媒体用基板及びその基板を用いた情報記録媒体 | |
JPS61168149A (ja) | 情報記録デイスク | |
JP2810037B2 (ja) | ディスク | |
JP3144005B2 (ja) | 光ディスク及びディスクドライブ装置 | |
JPH06215517A (ja) | 平板状情報記録担体とその製造方法 | |
WO2002089137A1 (fr) | Support d'enregistrement d'information optique et appareil d'enregistrement/reproduction d'information optique | |
JPH0416252Y2 (ja) | ||
JPS6352350A (ja) | 光磁気デイスクメモリ媒体 | |
JPH02308444A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
JPS61158052A (ja) | 両面情報担体デイスク | |
JPH056643A (ja) | 光カード | |
JPH07225970A (ja) | 光ディスクシステム | |
JPH0620303A (ja) | 光ディスク | |
JPS62231436A (ja) | 光デイスク基板 | |
JPS60173741A (ja) | 情報記録基板の製造方法 | |
JPS62167634A (ja) | 情報担体デイスク |