WO2019065100A1 - ガラス板及びその製造方法 - Google Patents

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WO2019065100A1
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etching
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optical film
glass
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亮太 間嶌
宏亮 中堀
武志 乾
悠祐 金子
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日本電気硝子株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a glass plate and a method of manufacturing the same.
  • the spectral sensitivities of solid-state imaging devices such as CCDs and CMOS used in digital still cameras and video cameras have strong sensitivities to light in the near-infrared region. It is common to use a luminosity correction member to match the characteristics.
  • a glass plate in which an optical film having an infrared shielding function is formed on the main surface of the glass plate is used as the visibility correction member.
  • the optical film which has a reflection preventing function may be formed.
  • the thickness reduction of the glass plate utilized for a solid-state image sensor etc. is advanced.
  • the glass plate is easily damaged by an impact or the like at the time of transportation.
  • breakage of the glass sheet often occurs due to the development of a crack starting from the end face of the glass sheet, and it is desired to further improve the end face strength.
  • An object of the present invention is to improve the end surface strength of a glass plate and to reduce breakage of the glass plate.
  • the present invention invented to solve the above problems is a glass plate having a pair of main surfaces on the front and back sides and an end surface connecting the ends of each of the pair of main surfaces, wherein the end surfaces have a plurality of crater-like recesses.
  • the ratio of the first concave portion having a maximum value of 0.5 ⁇ m or more of the linear distance between two points on the top outer periphery among the concave portions included in the arbitrary 30 ⁇ m square of the end face is 50% or more It is characterized by According to such a configuration, a relatively large first concave portion occupies the majority at the end face, where the maximum value of the linear distance between the two points on the top outer periphery is 0.5 ⁇ m or more.
  • the total number of concave portions included in an arbitrary range of 30 ⁇ m square of the end face is 50 or more and 300 or less.
  • the depth of the first recess may be 0.5 ⁇ m or more.
  • an optical film may be formed on at least one of the main surfaces.
  • the optical film is preferably at least one of an antireflective film, an infrared shielding film, an ultraviolet shielding film, an ultraviolet light and an infrared shielding film.
  • a glass board contains 25% or more of P 2 O 5 by mass% as composition.
  • the present invention invented to solve the above problems is a method of manufacturing a glass plate comprising a pair of main surfaces of the front and back sides and an end surface connecting the ends of each of the pair of main surfaces, at least the end surfaces of the glass plate It is characterized in that it has an etching step of contacting with an etching solution and etching, the glass plate is made of phosphate glass, the etching solution is an alkaline detergent, and the removal thickness of the end face of the glass plate by the etching solution is 1 ⁇ m or more.
  • the end face of the glass plate is removed by the etching solution, and a plurality of crater-like concave portions are formed on the end face of the glass plate.
  • the ratio of the above first recess can be made 50% or more within an arbitrary range of 30 ⁇ m ⁇ of the end face. Therefore, the crack originating from the end face of the glass sheet becomes difficult to progress, and the breakage of the glass sheet can be reduced.
  • the etching solution preferably contains an alkali salt of a chelating agent as an alkali component.
  • the method may further include a film forming step of forming an optical film on at least one of the main surfaces of the glass plate before the etching step.
  • the present invention it is possible to improve the end face strength of the glass plate and to reduce the breakage of the glass plate.
  • the glass plate 1 which concerns on 1st embodiment is equipped with the end surface 1b which ties the edge part of each main surface 1a of front-back pair of main surfaces 1a and both main surfaces 1a.
  • the glass plate 1 is formed in a square shape, but is not limited to this shape, and may be, for example, a triangle, a polygon having five or more sides, or a circle.
  • the end face 1 b is formed so as to be substantially orthogonal to the main surface 1 a on each side of the square glass plate 1.
  • the thickness of the glass plate 1 is preferably 0.4 mm or less, 0.3 mm or less, or 0.2 mm or less. More preferably, it is 0.19 mm or less, still more preferably, 0.15 mm or less, and particularly preferably 0.12 mm or less. On the other hand, the thickness of the glass plate 1 is preferably 0.05 mm or more, and more preferably 0.08 mm or more.
  • each major surface 1a of the glass plate 1 may be a 1 mm 2 or more 25000 mm 2 or less.
  • a preferred range of area of each main surface 1a is, 3 mm 2 or more 25000 mm 2 or less, more preferably 9 mm 2 or more 25000 mm 2 or less, more preferably 15 mm 2 or more 25000 mm 2 or less, particularly preferably 20 mm 2 or more 25000 mm 2 or less.
  • a plurality of crater-like concave portions R are formed on the end face 1 b of the glass plate 1 as schematically shown in FIG. 2.
  • the top outer periphery (the ridge line of the recess R, if adjacent) of the recess R has a circular or elliptical shape, for example.
  • the ratio of the first recess R1 in which the maximum value d of the linear distance between two points on the top outer periphery C is 0.5 ⁇ m or more among the recesses R included in an arbitrary range 30 ⁇ m ⁇ of the end face 1b is 50% It is above.
  • the second concave portion in which the maximum value d of the linear distance between two points on the top outer periphery C is less than 0.5 .mu.m) among the concave portions R included in the arbitrary S of 30 .mu.m square of the end face 1b.
  • the percentage of figures shown is less than 50%.
  • the maximum value d of the linear distance is the diameter when the recess R is circular, and the major diameter when the recess R is elliptical.
  • the ratio of the first recess R1 is 85% or more, and it is more preferable that it is 90% or more.
  • the total number of the recessed part R contained in arbitrary 30 micrometers ⁇ range S of an end surface ie, the sum total of 1st recessed part R1 and 2nd recessed part, is 30 or more and 300 or less.
  • the total number of the recesses R is preferably 300 or less, more preferably 150 or less.
  • the total number of the recesses R is preferably 30 or more, and more preferably 50 or more.
  • the depth h of the first recess R1 is preferably 0.5 ⁇ m or more, and more preferably 1 ⁇ m or more.
  • the depth h is the height difference between the deepest position of the first recess R1 and the highest position on the top outer periphery C of the first recess R1. By so doing, it is considered that the first recess R1 becomes sufficiently deep, and the dispersion effect of the external force is more exerted.
  • the depth h of the first recess R1 is preferably 10 ⁇ m or less, and more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the surface roughness Ra of the end face 1b of the glass plate 1 is preferably 0.1 nm to 10 nm.
  • Glass plate 1 is represented by cation% as a composition, P 5 + 5 to 50%, Al 3 + 2 to 30%, R ′ + (R ′ is at least one selected from Li, Na and K) 10 to 50% and 20 to 50% of R 2+ (R 2+ is at least one selected from Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ and Zn 2+ ), Cu 2+ 0. 2 It contains 5 to 15% and, in terms of anion%, F - 5 to 80% and O 2-20 to 95%.
  • the glass plate 1 may have a composition containing 5 to 80% of F ⁇ in terms of anion% in addition to the above composition.
  • the glass plate 1 P 5 + 40 to 50%, Al 3 + 7 to 12%, K + 15 to 25%, Mg 2+ 3 to 12%, Ca 2 + , in terms of cation% as a composition. + 3 to 6%, Ba 2+ 7 to 12%, Cu 2+ 1 to 15% and, in terms of anion%, F - 5 to 80% and O 2-20 to 95% containing phosphate Glass can be used.
  • glass plate 1 of another preferable composition P5 + 20 to 35%, Al 3+ 10 to 20%, Li + 20 to 30%, Na + 0 to 10%, Mg 2+ 1 in terms of cation%. ⁇ 8%, Ca 2+ 3-13 %, Sr 2+ 2-12 %, Ba 2+ 2-8 %, Zn 2+ 0-5%, Cu 2+ 0.5-5% and anion% display in, F - 30 ⁇ 65%, and can be used fluorophosphate glass containing O 2- 35 ⁇ 75%.
  • the glass plate 1 of another preferred composition by cationic%, P 5+ 35 ⁇ 45%, Al 3+ 8 ⁇ 12%, Li + 20 ⁇ 30%, Mg 2+ 1 ⁇ 5%, Ca 2+ 3 ⁇ 6%, Ba 2+ 4 ⁇ 8%, Cu 2+ 1 ⁇ 6% and an anion percentages, F - 10 ⁇ 20%, and, a fluorophosphate glass containing O 2- 75 ⁇ 95% It can be used.
  • the glass plate 1 having another preferable composition P 5 + 30 to 45%, Al 3 + 15 to 25%, Li + 1 to 5%, Na + 7 to 13%, K + 0. 1 ⁇ 5%, Mg 2+ 1 ⁇ 8%, Ca 2+ 3 ⁇ 13%, Ba 2+ 6 ⁇ 12%, Zn 2+ 0 ⁇ 7%, Cu 2+ 1 ⁇ 5% and an anion percentages , F - 30 ⁇ 45%, and can be used fluorophosphate glass containing O 2- 50 ⁇ 70%.
  • the glass plate 1 is phosphate system glass which is excellent in an infrared rays absorption function is shown.
  • the phosphate glass used for the glass plate 1 does not substantially contain F (fluorine).
  • substantially free of means that it may contain 0.1% or less of fluorine by mass.
  • a phosphate glass for example, one containing 25 mass% or more of P 2 O 5 can be used. Specifically, 25 to 60% of P 2 O 5, 2 to 19% of Al 2 O 3 , and RO (wherein R is at least one selected from Mg, Ca, Sr, and Ba) by mass% Use of glass substantially containing no fluorine, containing 0% to 13% ZnO, 8 to 20% K 2 O, 0 to 12% Na 2 O, and 0.3 to 20% CuO it can.
  • P 2 O 5 is a component that forms a glass skeleton.
  • the content of P 2 O 5 is preferably 25 to 60%, more preferably 30 to 55%, and still more preferably 40 to 50% by mass. If the content of P 2 O 5 is too low, vitrification may become unstable. On the other hand, when the content of P 2 O 5 is too large, the weather resistance may be easily reduced.
  • Al 2 O 3 is a component that further improves the weather resistance.
  • the content of A1 2 O 3 is in mass%, preferably 2 to 19% and more preferably from 2 to 15%, is more preferably 2.8 to 14.5%, particularly preferably 3 5 to 14.0%. If the content of Al 2 O 3 is too low, the weather resistance may not be sufficient. On the other hand, if the content of Al 2 O 3 is too large, the meltability may be lowered and the melt temperature may be increased. Note that if the melting temperature rises, Cu ions are reduced and it is easy to shift from Cu 2+ to Cu + 3 , so it may be difficult to obtain desired optical characteristics. Specifically, the light transmittance in the near ultraviolet to visible region may be reduced, or the infrared absorption characteristics may be easily reduced.
  • RO (wherein R is at least one selected from Mg, Ca, Sr, and Ba) is a component that improves the melt resistance as well as the weather resistance.
  • the content of RO is preferably 5 to 45% by mass, more preferably 7 to 40%, still more preferably 10 to 35%. If the content of RO is too low, the weather resistance and the meltability may not be sufficient. On the other hand, when the content of RO is too large, the stability of the glass is likely to be reduced, and crystals due to the RO component may be easily precipitated.
  • the preferable range of content of each component of RO is as follows.
  • MgO is a component that improves the weather resistance.
  • the content of MgO is preferably 0 to 15% by mass, more preferably 0 to 7%. When the content of MgO is too large, the stability of the glass may be easily reduced.
  • CaO like MgO, is a component that improves the weather resistance.
  • the content of CaO is preferably 0 to 15% by mass, more preferably 0 to 7%. When the content of CaO is too large, the stability of the glass may be easily reduced.
  • SrO like MgO, is a component that improves weatherability.
  • the content of SrO is preferably 0 to 12% by mass, more preferably 0 to 5%. When the content of SrO is too large, the stability of the glass may be easily reduced.
  • BaO is a component that stabilizes the glass and improves the weather resistance.
  • the content of BaO is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 2 to 27%, and still more preferably 3 to 25%. If the content of BaO is too low, the glass may not be stabilized sufficiently, or the weather resistance may not be sufficiently improved. On the other hand, when the content of BaO is too large, crystals derived from BaO may be easily precipitated during molding.
  • ZnO is a component that improves the stability and weatherability of glass.
  • the content of ZnO is preferably 0 to 13% by mass, more preferably 0 to 12%, and still more preferably 0 to 10%. If the content of ZnO is too large, the meltability may be lowered and the melt temperature may be increased, as a result, it may be difficult to obtain desired optical properties. In addition, the stability of the glass may be reduced, and crystals derived from the ZnO component may be easily precipitated.
  • RO and ZnO have the effect of improving the stabilization of the glass, and in particular when the amount of P 2 O 5 is small, it is easy to receive the effect.
  • the ratio of the content of P 2 O 5 with respect to RO is preferably 1.0 to 1.9, and more preferably 1.2 to 1.8.
  • the ratio (P 2 O 5 / RO) is too small, the liquidus temperature may be increased, and devitrification due to RO may be easily precipitated.
  • P 2 O 5 / RO is too large, the weather resistance may be easily reduced.
  • K 2 O is a component that lowers the melting temperature.
  • the content of K 2 O is preferably 8 to 20% by mass, more preferably 12.5 to 19.5%.
  • the melting temperature may be increased to make it difficult to obtain desired optical properties.
  • crystals derived from K 2 O may easily precipitate during molding, and vitrification may become unstable.
  • Na 2 O is also a component that lowers the melting temperature similarly to K 2 O.
  • the content of Na 2 O is preferably 0 to 12% by mass, more preferably 0 to 7%. If the content of Na 2 O is too high, vitrification may become unstable.
  • CuO is a component for absorbing near infrared rays.
  • the content of CuO is preferably 0.3 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15%, still more preferably 0.4 to 13%. If the content of CuO is too low, desired near infrared absorption characteristics may not be obtained. On the other hand, when the content of CuO is too large, the light transmittance in the ultraviolet to visible region may be easily reduced. In addition, vitrification may be unstable. In addition, it is preferable to adjust suitably content of CuO for obtaining a desired optical characteristic with board thickness.
  • B 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , Ta 2 O 5 , CeO 2 or Sb 2 O 3 and the like may be used within the scope of the present invention. May be contained. Specifically, the content of each of these components is preferably 0 to 3%, more preferably 0 to 2% by mass.
  • the glass plate 1 By making the glass plate 1 into the above-described composition, it is possible to achieve both higher light transmittance in the visible range and better light absorption characteristics in the infrared range.
  • the light transmittance at a wavelength of 400 nm is preferably 78% or more, more preferably 80% or more, and the light transmittance at a wavelength of 500 nm is preferably 83% or more, more preferably 85% or more .
  • the light transmittance at a wavelength of 700 nm is preferably 12% or less, more preferably 9% or less
  • the light transmittance at a wavelength of 800 nm is preferably 5% or less, more preferably 3% or less.
  • the glass plate 1 of the above composition is formed into a plate shape by a forming method such as, for example, a casting method, a roll out method, a downdraw method, a redraw method, a float method, and an overflow method.
  • a forming method such as, for example, a casting method, a roll out method, a downdraw method, a redraw method, a float method, and an overflow method.
  • the present manufacturing method includes an etching step of etching the end face 1b of the glass plate (original glass plate) 1 with an etching solution E, as shown in FIG.
  • the glass plate 1 is immersed in the etching solution E contained in the etching tank B.
  • An alkaline detergent is used as the etching solution E.
  • the glass plate 1 is a phosphate glass as described above, the alkali resistance is low compared to other glasses such as a fluorophosphate glass.
  • the alkaline detergent is not particularly limited, but, for example, a detergent containing an alkaline component such as Na, K, a surfactant such as triethanolamine, benzyl alcohol or glycol, water, an alcohol or the like can be used.
  • an alkali salt of a chelating agent such as aminopolycarboxylic acid be contained as the alkali component contained in the alkaline detergent.
  • alkali salt of aminopolycarboxylic acid include sodium salts and potassium salts such as diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid and nitrilotriacetic acid.
  • pentasodium diethylenetriaminepentaacetate tetrasodium ethylenediaminetetraacetate, hexasodium triethylenetetraminehexaacetate, trisodium nitrilotriacetate are preferably used, and in particular pentasodium diethylenetriamine pentaacetate is preferably used.
  • the etching step conditions such as etching time are adjusted so that the removal thickness t1 in the planar direction of the end face 1b of the glass plate 1 by etching is 1 ⁇ m or more.
  • the end face 1b of the glass plate 1 is sufficiently etched by the etchant E made of alkaline detergent, and the ratio of the first recess R1 tends to exceed 50% in the end face 1b after etching.
  • the removal thickness t1 is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 7 ⁇ m or more, and particularly preferably 10 ⁇ m or more.
  • the removal thickness t1 is determined, for example, by comparing the dimension of the glass plate 1 before etching and the dimension of the glass plate 1 after etching.
  • the difference between the dimension of one side of the glass plate 1 before etching (the linear distance between the opposing end faces 1b) L1 and the dimension L2 of the same side of the glass plate 1 after etching Measure ⁇ L. Since removal by etching occurs at both opposing end faces 1b, the removal thickness t1 is determined by ⁇ L / 2.
  • the manufacturing method including the etching process as described above, it is possible to manufacture the glass plate 1 in which the ratio of the first recess R1 is 50% or more within the arbitrary range 30 ⁇ m ⁇ of the end face.
  • the difference between the glass plate 1 according to the second embodiment and the glass plate 1 according to the first embodiment is that the optical film 2 is formed on both main surfaces 1 a of the glass plate 1. It is the point currently formed, respectively.
  • a glass plate 3 with an optical film one in which the optical film 2 is formed on the main surface 1 a of the glass plate 1 is referred to as a glass plate 3 with an optical film.
  • the glass plate 3 with an optical film is used, for example, as a cover glass, a visibility correction member for matching the spectral sensitivity of a solid-state imaging device to the characteristics of human visibility characteristics, or the like.
  • the optical film 2 is provided with the extruding portion 2 a which is extruded to the outside beyond the end of the main surface 1 a of the glass plate 1.
  • the protrusion 2a may not be provided.
  • the protruding portion 2 a extends outward along the main surface 1 a of the glass plate 1, and the tip of the protruding portion 2 a is separated from the end surface 1 b of the glass plate 1.
  • the protrusion 2a does not necessarily have to be parallel to the main surface 1a of the glass plate 1, and may be inclined such that the tip hangs down. Moreover, even if a part of base end part of the protrusion part 2a is contacting with the end surface 1b of the glass plate 1, it does not interfere.
  • the protruding portion 2a is formed in a frame shape so as to surround the entire periphery of the main surface 1a of the glass plate 1 (see the cross hatching portion in FIG. 7).
  • the protrusion dimension t1 in the planar direction of the protrusion 2a is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m. With such a protrusion size, the protrusion 2a is sufficiently protruded to the outside, so it is difficult for other members to directly contact the end surface 1b of the glass plate 1, and from the end surface 1b of the glass plate 1 Dust and damage can be reduced.
  • the thickness of the optical film 2 is thinner than the thickness of the glass plate 1 and is preferably 10 ⁇ m or less. More preferably, it is 7 ⁇ m or less. On the other hand, the thickness of the optical film 2 is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the optical film 2 is appropriately selected depending on the application, and for example, functional films such as an antireflective film (AR film), an infrared shielding film (IR cut film), an ultraviolet shielding film, an ultraviolet light and an infrared shielding film It can be mentioned.
  • the optical film 2 may also have the functions of both an antireflective film and an infrared shielding film.
  • a dielectric multilayer film formed by alternately laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer can be used.
  • a silicon oxide film or the like is used as the low refractive index layer.
  • a metal oxide film made of at least one selected from tantalum oxide, niobium oxide, titanium oxide, hafnium oxide, silicon nitride and zirconium oxide is used as the high refractive index layer.
  • the optical film 2 formed on one of the main surfaces 1a of the glass plate 1 and the optical film 2 formed on the other of the main surfaces 1a of the glass plate 1 may be films having the same function. It may be a membrane having different functions.
  • the configuration of the optical film-attached glass plate 3 is, for example, antireflective film / glass plate / antireflective film, antireflective film / glass plate / infrared shielding film, infrared shielding film / glass plate / infrared shielding film, Infrared shielding films / glass plates / ultraviolet and infrared shielding films etc.
  • the optical film 2 will be in the state formed in the range wider than the main surface 1a of the glass plate 1 by the protrusion part 2a. Therefore, the optical film 2 can be reliably formed on the entire surface including the vicinity of the end portion of the main surface 1 a of the glass plate 1.
  • the present manufacturing method includes a film forming process, a cutting process, and an etching process in this order.
  • a film forming process As shown in FIG. 8 and FIG. 9, so-called multiple chamfering is performed in which a plurality of glass sheet laminates 6 of product size are collected from the original glass plate laminate 5 including the large glass substrate 4. An example is shown. Of course, one glass plate laminate 6 may be collected from the original glass plate laminate 5 for the purpose of trimming and the like.
  • the production is carried out in the order of the original glass plate laminate 5 ⁇ the glass plate laminate 6 ⁇ the glass plate 3 with an optical film.
  • the optical film 2 is formed on both main surfaces 4 a of the original glass plate 4, and the original glass plate laminate 5 is manufactured.
  • the optical film 2 is formed on the entire surface of each of the main surfaces 4 a of the original glass plate 4.
  • the optical film 2 is formed by using, for example, a vacuum evaporation method or a sputtering method.
  • the original glass plate laminate 5 is cut into a grid shape to manufacture a plurality of glass plate laminates 6.
  • nine sheets of glass plate laminated body 6 are extract
  • the method of cutting the original glass plate laminate 5 is not particularly limited. For example, mechanical cutting with a blade of a dicing apparatus, breaking by cracking, laser cutting, laser cutting, etc. can be used.
  • the glass plate laminate 6 is immersed in an etching solution E accommodated in an etching tank (not shown).
  • the etching solution E reacts with the glass plate 1 but does not substantially react with the optical film 2.
  • the glass plate 1 since the optical film 2 is formed on both main surfaces 1 a of the glass plate 1 included in the glass plate laminate 6, when the glass plate laminate 6 is immersed in the etching solution E, the glass plate 1 is The end portion of only contacts the etchant E in direct contact and reacts. Therefore, only the end portion of the glass plate 1 is gradually eroded by the etching solution E, and the position of the end face 1 b of the glass plate 1 moves in the A direction. As a result, only the surface layer portion X1 (cross hatched portion in FIG. 10) of the end portion of the glass plate 1 is removed while the optical film 2 is left as it is. Therefore, as shown in FIG. 6, the glass plate 3 with an optical film in which the optical film 2 which has the protrusion part 2a in the both main surfaces 1a of the glass plate 1 is formed is manufactured.
  • the removal thickness t3 in the planar direction by etching is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m. It is preferable that the removed thickness t3 be approximately the same as the protrusion size t2 of the protrusion 2a of FIG.
  • both main surfaces 1a of the glass plate 1 are protected by the optical film 2 in the state of the glass plate laminate 6, so that the thickness of the glass plate 1 is not changed in the etching step.
  • the end face processing of the glass plate 1 can be performed.
  • the glass plate 1 according to the third embodiment relates to the glass plate 3 with an optical film as in the second embodiment, and is different from the glass plate 1 according to the second embodiment. These are points by which the end surface 1b of the glass plate 1 is chamfered.
  • the end face 1b of the glass plate 1 has a chamfered portion 1c formed of an inclined plane inclined with respect to the main surface 1a in a partial region on both main surfaces 1a side.
  • the inclination angle ⁇ of the chamfered portion 1c with respect to the main surface 1a is preferably 20 ° to 60 °.
  • the shape of the chamfered portion 1c is not particularly limited, and may be formed of, for example, a convex curved surface (a circular arc surface or an elliptical arc surface) or a complex plane in which a plurality of planes with different inclination angles are connected.
  • the entire end face 1b of the glass plate 1 may be formed into a convex curved surface, and the chamfered portion may be provided on the entire end face 1b.
  • the end surface 1b may have a portion Y (cross hatched portion in FIG. 11) located outside the protruding portion 2a of the optical film 2 .
  • the other members can easily come into direct contact with the end face 1b of the glass plate 1, but the mechanical strength of the end face 1b is further improved by the chamfered portion 1c. Damage can be reduced.
  • the protruding portion Y may not be provided.
  • the chamfered portion 2 b is also formed at the tip of the protruding portion 2 a of the optical film 2.
  • the shape of the chamfered portion 2 b is not particularly limited, but the same shape as the chamfered portion 1 c of the glass sheet 1 can be selected.
  • the chamfered portion 2 b of the optical film 2 may be omitted, and only the chamfered portion 1 c of the glass plate 1 may be provided.
  • the protrusion dimension t4 in the plane direction of the protrusion 2a is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the present manufacturing method includes a film forming process, a cutting process, a chamfering process, and an etching process in this order.
  • a cutting process doubles as the chamfering process and the chamfering is also performed in the process of cutting the original glass plate laminate 5.
  • the original glass plate laminate 5 is manufactured by the same method as in the second embodiment (see FIG. 8).
  • the cutting step is a first step of cutting the surface layer portion 5s of the original glass plate laminate 5 including the vicinity of the main surface 4a of the original glass plate 4 by the first blade P of the dicing apparatus, as shown in FIGS. And as shown in FIG. 14, the 2nd process of cutting the center part 5c of the original glass plate laminated body 5 left without cutting at a 1st process by the 2nd blade Q of a dicing apparatus is provided.
  • the first blade P is in the form of a disc rotatably held, and has a cutting edge P1 at its peripheral edge.
  • the cutting blade P1 has a pair of inclined surfaces P2 that are inclined in opposite directions to form a V-shaped convex portion.
  • the second blade Q is also in the form of a rotatably held disk, and has a cutting blade Q1 at its peripheral edge.
  • the second blade Q is thinner than the first blade P.
  • the shape of the cutting blade Q1 is not particularly limited as long as it is a shape capable of cutting the original glass sheet laminate 5 within the range of the thickness of the second blade Q. Note that cutting by laser irradiation may be used instead of the second blade Q.
  • the first step first, as shown in FIG. 12, one surface portion 5s of the original glass plate laminate 5 is cut while rotating the first blade P, and one surface portion 5s of the original glass plate laminate 5 is cut.
  • the V-shaped groove 5a corresponding to the shape of the cutting blade P1 is formed in Thereafter, as shown in FIG. 13, the original glass plate laminate 5 in which the grooves 5 a are formed is turned upside down, and the other surface layer portion 5 s of the original glass plate laminate 5 is cut while rotating the first blade P, The V-shaped groove 5a corresponding to the shape of the cutting blade P1 is also formed in the other surface layer portion 5s of the original glass plate laminate 5.
  • the second step as shown in FIG.
  • the second blade Q is connected to connect the groove bottoms of the V-shaped grooves 5 a formed in both surface layers 5 s of the original glass plate laminate 5. While rotating the central portion 5c of the original glass plate laminate 5 to cut (full cut) the original glass plate laminate 5. Thereby, the glass plate laminate 6 is manufactured from the original glass plate laminate 5, and, in the manufactured glass plate laminate 6, chamfers 1c and 2b are formed in portions corresponding to the V-shaped grooves 5a. Ru.
  • the chamfering process may be performed as another process after the cutting process is completed.
  • the chamfering process can be performed using the rotary grindstone W.
  • the rotary grindstone W is provided with a pair of conical surface-like processing surfaces W1 having inclinations opposite to each other with respect to the thickness direction of the glass plate laminate 6 manufactured in the cutting step.
  • the glass plate laminate 6 polished by the rotary grindstone W is polished to a shape following the processing surface W1 of the rotary grindstone W. That is, on the end faces of the glass plate 1 and the optical film 2, chamfers 1c and 2b are formed at positions polished by the processing surface W1.
  • the chamfering step is a first step of forming chamfered portions 1c and 2b on the end surface on one main surface 1a side of glass plate 1, and chamfered portions 1c and 2b on the end surface on the other main surface 1a side of glass plate 1.
  • the second step of forming the chamfering step is a first step of forming chamfered portions 1c and 2b on the end surface on one main surface 1a side of glass plate 1, and chamfered portions 1c and 2b on the end surface on the other main surface 1a side of glass plate 1.
  • the glass plate laminate 6 in which the chamfered portions 1 c and 2 b are formed is immersed in the etching solution E. Then, only the end of the glass plate 1 in direct contact with the etching solution E is gradually eroded, and the position of the end face 1 b of the glass plate 1 moves in the A direction. As a result, the surface layer portion X2 (cross hatched portion in the figure) of the end portion of the glass plate 1 is removed while the optical film 2 remains as it is. At this time, although the position of the end face 1 b changes, the shape of the end face 1 b is generally maintained. Therefore, the chamfered portion 1c of the glass plate 1 remains even after the etching process.
  • the chamfered portion 2b of the optical film 2 after the etching process also remains. Therefore, as shown in FIG. 11, while forming the optical film 2 which has the protrusion part 2a in both main surfaces 1a of the glass plate 1, chamfer 1c, 2b is formed in the glass plate 1 and the optical film 2 The glass plate 3 with an optical film thus manufactured is manufactured.
  • the removal thickness t5 in the planar direction by etching is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m. It is preferable that the removed thickness t5 be approximately equal to the protrusion size t4 of the protrusion 2a of FIG.
  • the glass plate 1 according to the fourth embodiment relates to the glass plate 3 with an optical film as in the second and third embodiments, and the glass according to the second and third embodiments.
  • the difference from the plate 1 is that the optical film 2 is formed only on one main surface 1 a of the glass plate 1.
  • the optical film 2 has the protrusion 2a, but the protrusion 2a may not be provided.
  • the protrusion dimension t6 in the planar direction of the protrusion 2a is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the chamfered portion is not provided in the illustrated example, a chamfered portion as described in the third embodiment may be provided.
  • the manufacturing method of the glass plate 3 with an optical film comprised in this way is equipped with the film-forming process, the cutting process, and the etching process in this order.
  • the optical film 2 is formed only on one of the main surfaces 4 a of the original glass plate 4, and the original glass plate laminate 5 is manufactured.
  • Optical film 2 is formed on the entire surface of one main surface 4 a of original glass plate 4.
  • the glass plate laminated body 6 of 1 sheet or several sheets is manufactured from the original glass plate laminated body 5 by the method similar to 2nd embodiment (refer FIG. 9). However, in the glass sheet laminate 6 to be produced, the optical film 2 is formed only on one main surface 1 a of the glass sheet 1.
  • the glass plate laminate 6 is immersed in the etching solution E. Then, the end of the glass plate 1 in direct contact with the etching solution E and the main surface 1a on the side on which the optical film 2 is not formed are gradually eroded, and the end face 1b of the glass plate 1 moves in the A direction. The main surface 1a of the glass plate 1 moves in the B direction. As a result, with the optical film 2 remaining as it is, the surface layer portion X3 (cross hatching portion in the figure) of the end of the glass plate 1 and the surface layer portion X4 (cross hatching portion in the figure) of the main surface 1a are removed Be done. Therefore, as shown in FIG. 17, the glass plate 3 with an optical film in which the optical film 2 which has the protrusion part 2a only in one main surface 1a of the glass plate 1 is manufactured.
  • the removal thickness t7 in the planar direction by etching is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m. It is preferable that the removed thickness t7 be substantially equal to the protrusion size t6 of the protrusion 2a of FIG. Further, the removal thickness t8 in the plate thickness direction by etching is preferably 1 ⁇ m to 0.1 mm, and more preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the present manufacturing method only the one main surface 1 a of the glass plate 1 is protected by the optical film 2, so the thickness of the glass plate 1 changes in the etching step. Therefore, in addition to the end surface processing of the glass plate 1, the slimming processing (thin plate formation) of the glass plate 1 can be performed.
  • a glass plate made of phosphate glass containing 25 mass% or more of P 2 O 5 is prepared, and an infrared reflection film is formed as an optical film on both main surfaces of the glass plate. Then, the glass plate in which the optical film was formed was immersed in alkaline detergent (etching liquid) containing the alkali salt of a chelating agent, and the etching process was performed.
  • the etching time was in the range where the removal thickness of the glass plate end face by etching was 1 ⁇ m or more.
  • the microscope image of the etched glass plate end surface at this time is shown in FIG.20 and FIG.21.
  • FIG. 20 shows the case where the removal thickness is small, ie, the etching time is short, and FIG.
  • sample No. 1 consisting of a glass plate having an infrared absorbing film formed on both main surfaces. 1 to No.
  • a sample No. 6 was prepared, and it was examined how the size and number of the recesses formed on the end face of the glass plate by etching changed when the amount of removal by etching was changed.
  • the glass plate is subjected to a drop test to check the breakage rate, The average depth of the recesses was also checked for 6. The results are shown in Table 1. The size and number of the recesses were measured in the range of 30 ⁇ m square of the end face of the glass plate. In the drop test, sample no. 1 to No.
  • a tray with a lid supports samples in point contact with projections provided on the tray and lid (corresponding to the placement portion and the abutment portion of the same document).
  • the storage space of each sample was divided by a rib.
  • sample Nos. 1 and 2 showing comparative examples. As in 1, when the etching was not performed and the ratio of the first glass concave portion was very small, the breakage rate of the glass plate was 100% (10 out of 10 breakages). On the other hand, sample Nos. 2 to No. As shown in 6, when the end surface of the glass plate is removed by 1 ⁇ m or more by etching and the ratio of the first concave portion becomes 50% or more, it can be confirmed that the breakage rate of the glass plate is lowered. In particular, sample nos. 4 to No. It can be confirmed that the breakage rate of the glass plate is significantly improved when the ratio of the first concave portion becomes 85% or more as in No. 6.
  • the entire glass plate is immersed in the etching solution in the etching step, it is illustrated and described, for example, by applying the etching solution to a part (for example, an end surface) of the glass plate , And only a part of the glass plate may be etched.
  • the removal thickness in the plane direction by the etching may be measured from the size of the protrusion of the protrusion of the optical film.
  • the film forming process may be performed after the cutting process (after the chamfering process when performing the chamfering process).
  • the cutting process may be omitted, and the optical film may be formed directly on the product-sized glass plate in the film forming process.
  • the optical film may be removed from the main surface of the glass plate after the etching step.
  • the laser in the cutting step, the laser may be irradiated while irradiating the laser while injecting a gas to the cutting portion of the original glass plate laminate, and the cutting portion may be laser-blown.
  • the cut end surface can be processed into a convex curved surface (for example, a circular arc surface) by adjusting the injection amount and injection direction of the gas. Therefore, chamfering can be performed simultaneously with cutting, even using such laser cutting.

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Abstract

ガラス板は、端面にクレータ状の凹部Ｒを複数有する。端面の任意の３０μｍ□の範囲Ｓ内に含まれる凹部Ｒのうち、頂部外周Ｃ上の二地点間の直線距離の最大値ｄが０．５μｍ以上となる第一凹部Ｒ１の割合が５０％以上である。

Description

ガラス板及びその製造方法
　本発明は、ガラス板及びその製造方法に関する。
　デジタルスチルカメラやビデオカメラに利用されるＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体撮像素子の分光感度は、近赤外域の光に対して強い感度を有するため、これらの固体撮像素子の分光感度を人間の視感度特性に合わせるために視感度補正部材が用いられるのが一般的である。
　視感度補正部材としては、例えば、特許文献１に開示されているように、ガラス板の主表面に赤外線遮蔽機能を有する光学膜が形成されたガラス板が利用される。また、ガラス板表面の反射を防止するために、反射防止機能を有する光学膜が形成される場合もある。
国際公開第２０１３／０７７３７５号
　ところで、固体撮像素子などに利用されるガラス板は薄板化が進められている。これに伴って、ガラス板が搬送時の衝撃などによって容易に破損するという問題がある。特に、このようなガラス板の破損は、ガラス板の端面を起点とする亀裂の進展により生じることが多く、端面強度の更なる向上が望まれている。
　本発明は、ガラス板の端面強度の向上を図り、ガラス板の破損を低減することを課題とする。
　上記の課題を解決するために創案された本発明は、表裏一対の主表面と、一対の主表面各々の端部を結ぶ端面とを備えたガラス板において、端面は、クレータ状の凹部を複数有し、端面の任意の３０μｍ□の範囲内に含まれる凹部のうち、頂部外周上の二地点間の直線距離の最大値が０．５μｍ以上となる第一凹部の割合が５０％以上であることを特徴とする。このような構成によれば、端面において、頂部外周上の二地点間の直線距離の最大値が０．５μｍ以上となる相対的に大きな第一凹部が過半数を占める。従って、ガラス板の端面に衝撃などの外力が作用した場合であっても、その力を端面に形成された相対的に大きな第一凹部によって分散できると考えられる。その結果、ガラス板の端面を起点とする亀裂が進展し難くなり、ガラス板の破損を低減することができる。
　上記の構成において、端面の任意の３０μｍ□の範囲内に含まれる凹部の総数が、５０個以上３００個以下であることが好ましい。
　上記の構成において、第一凹部の深さが０．５μｍ以上であってもよい。
　上記の構成において、少なくとも一方の主表面に光学膜が形成されていてもよい。
　この場合、光学膜が、反射防止膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜、紫外線及び赤外線遮蔽膜の少なくとも１種であることが好ましい。
　上記の構成において、ガラス板が、組成として質量％でＰ2Ｏ5を２５％以上含むことが好ましい。
　上記の課題を解決するために創案された本発明は、表裏一対の主表面と、一対の主表面各々の端部を結ぶ端面とを備えたガラス板の製造方法において、ガラス板の少なくとも端面をエッチング液と接触させてエッチングするエッチング工程を備え、ガラス板がリン酸塩系ガラスからなり、エッチング液がアルカリ洗剤であり、ガラス板の端面のエッチング液による除去厚みが１μｍ以上であることを特徴とする。このような構成によれば、ガラス板の端面がエッチング液により除去され、ガラス板の端面にクレータ状の凹部が複数形成される。そして、上記の条件でエッチング工程を行うことで、端面の任意の３０μｍ□の範囲内で、上記の第一凹部の割合を５０％以上とすることができる。従って、ガラス板の端面を起点とする亀裂が進展し難くなり、ガラス板の破損を低減することができる。
　上記の構成において、エッチング液が、アルカリ成分としてキレート剤のアルカリ塩を含むことが好ましい。
　上記の構成において、エッチング工程の前に、ガラス板の少なくとも一方の主表面に光学膜を形成する成膜工程を更に備えていてもよい。
　本発明によれば、ガラス板の端面強度の向上を図り、ガラス板の破損を低減することができる。
第一実施形態に係るガラス板を示す断面図である。 第一実施形態に係るガラス板の端面状態を模式的に示す拡大平面図である。 第一実施形態に係るガラス板の端面状態を模式的に示す拡大断面図である。 第一実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれるエッチング工程を示す断面図である。 エッチングによるガラス板端面の除去厚さの測定方法の一例を説明するための図である。 第二実施形態に係るガラス板を示す断面図である。 第二実施形態に係るガラス板を示す平面図である。 第二実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる成膜工程を示す断面図である。 第二実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる切断工程を示す平面図である。 第二実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれるエッチング工程を示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板を示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる、面取り工程を兼ねる切断工程の序盤の状態を示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる、面取り工程を兼ねる切断工程の中盤の状態を示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる、面取り工程を兼ねる切断工程の終盤の状態を示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる面取り工程の変形例を示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれるエッチング工程を示す断面図である。 第四実施形態に係るガラス板を示す断面図である。 第四実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれる成膜工程を示す断面図である。 第四実施形態に係るガラス板の製造方法に含まれるエッチング工程を示す断面図である。 実施例の顕微鏡画像である。 実施例の顕微鏡画像である。
　本発明の実施形態に係るガラス板及びその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
（第一実施形態）
　図１に示すように、第一実施形態に係るガラス板１は、表裏一対の主表面１ａと、両方の主表面１ａ各々の端部を結ぶ端面１ｂとを備えている。ガラス板１は、四角形状に形成されるが、この形状に限定されず、例えば三角形や五角形以上の多角形や円形などであってもよい。本実施形態では、端面１ｂは、四角形状のガラス板１の各辺において、主表面１ａとほぼ直交するように形成されている。
　ガラス板１の厚みは、好ましくは、０．４ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下である。より好ましくは０．１９ｍｍ以下であり、さらに好ましくは、０．１５ｍｍ以下、特に好ましくは０．１２ｍｍ以下である。一方、ガラス板１の厚みは、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０８ｍｍ以上であることがより好ましい。
　ガラス板１における各主表面１ａの面積は、１ｍｍ2以上２５０００ｍｍ2以下とすることができる。各主表面１ａの面積の好ましい範囲は、３ｍｍ2以上２５０００ｍｍ2以下、より好ましくは９ｍｍ2以上２５０００ｍｍ2以下、さらに好ましくは１５ｍｍ2以上２５０００ｍｍ2以下、特に好ましくは２０ｍｍ2以上２５０００ｍｍ2以下である。
　ガラス板１の端面１ｂには、図２に模式的に示すように、クレータ状の凹部Ｒが複数形成されている。凹部Ｒの頂部外周（凹部Ｒが隣接する場合はその稜線）Ｃは、例えば円形又は楕円形を呈する。
　端面１ｂの任意の３０μｍ□の範囲Ｓ内に含まれる凹部Ｒのうち、頂部外周Ｃ上の二地点間の直線距離の最大値ｄが０．５μｍ以上となる第一凹部Ｒ１の割合は５０％以上である。換言すれば、端面１ｂの任意の３０μｍ□の範囲Ｓ内に含まれる凹部Ｒのうち、頂部外周Ｃ上の二地点間の直線距離の最大値ｄが０．５μｍ未満となる第二凹部（不図示）の割合は５０％未満である。ここで、直線距離の最大値ｄは、凹部Ｒが円形の場合は直径、楕円形の場合は長径となる。このようにすれば、ガラス板１の端面１ｂに衝撃などの外力が作用した場合であっても、その力を端面１ｂに形成された相対的に大きな第一凹部Ｒ１によって適度に分散できると考えられる。その結果、ガラス板１の端面１ｂを起点とする亀裂が進展し難くなり、ガラス板１の破損を低減することができる。なお、相対的に小さな第二凹部は、上記の外力の分散効果はあまり期待できず、逆に破損の原因になるおそれがある。従って、第一凹部Ｒ１の割合を多くし、第二凹部の割合を少なくすることが好ましい。第一凹部Ｒ１の割合は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
　端面の任意の３０μｍ□の範囲Ｓ内に含まれる凹部Ｒの総数、すなわち、第一凹部Ｒ１と第二凹部の合計は、３０個以上３００個以下であることが好ましい。凹部Ｒの総数が少なくなるに連れ、第二凹部の数は少なくなり、第一凹部Ｒ１がより支配的になる傾向がある。従って、この点を勘案すると、凹部Ｒの総数は３００個以下であることが好ましく、１５０個以下であることがより好ましい。一方、凹部Ｒの総数を必要以上に少なくしようとすると、後述するエッチング工程における処理時間が長くなり、生産効率が悪くなる。また、凹部Ｒの総数がある程度少なくなると、凹部Ｒの総数を更に少なくしてもガラス板１の破損率が変化しなくなる場合がある。従って、これらの点を勘案すると、凹部Ｒの総数は３０個以上であることが好ましく、５０個以上であることがより好ましい。
　図３に示すように、第一凹部Ｒ１の深さｈは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。ここで、深さｈは、第一凹部Ｒ１の最も深い位置と、第一凹部Ｒ１の頂部外周Ｃ上の最も高い位置との高低差である。このようにすれば、第一凹部Ｒ１が十分深くなり、外力の分散効果がより発揮されると考えられる。なお、第一凹部Ｒ１の深さｈは、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。
　ガラス板１の端面１ｂの表面粗さＲａは、０．１ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましい。
　ガラス板１は、組成としてカチオン％表示で、Ｐ5+ ５～５０％、Ａｌ3+ ２～３０％、Ｒ’+ （Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される少なくとも１種） １０～５０％、及び、Ｒ2+ （Ｒ2+ はＭｇ2+ 、Ｃａ2+ 、Ｓｒ2+ 、Ｂａ2+ 及びＺｎ2+ から選択される少なくとも１種）２０～５０％、Ｃｕ2+ ０．５～１５％かつ、アニオン％表示で、Ｆ- ５～８０％、及び、Ｏ2- ２０～９５％を含有する。
　ガラス板１は、上記組成に加えさらに、アニオン％表示で、Ｆ- ５～８０％を含有する組成としてもよい。
　ガラス板１としては、より好ましくは、組成としてカチオン％表示で、Ｐ5+ ４０～５０％、Ａｌ3+ ７～１２％、Ｋ+ １５～２５％、Ｍｇ2+ ３～１２％、Ｃａ2+ ３～６％、Ｂａ2+ ７～１２％、Ｃｕ2+ １～１５％かつ、アニオン％表示で、Ｆ- ５～８０％、及び、Ｏ2- ２０～９５％を含有するリン酸塩ガラスを用いることができる。
　好ましい他の組成のガラス板１としては、カチオン％表示で、Ｐ5+ ２０～３５％、Ａｌ3+ １０～２０％、Ｌｉ+ ２０～３０％、Ｎａ+ ０～１０％、Ｍｇ2+ １～８％、Ｃａ2+ ３～１３％、Ｓｒ2+ ２～１２％、Ｂａ2+ ２～８％、Ｚｎ2+ ０～５％、Ｃｕ2+ ０．５～５％かつ、アニオン％表示で、Ｆ- ３０～６５％、及び、Ｏ2- ３５～７５％を含有するフツリン酸ガラスを用いることができる。
　好ましい他の組成のガラス板１としては、カチオン％表示で、Ｐ5+ ３５～４５％、Ａｌ3+ ８～１２％、Ｌｉ+ ２０～３０％、Ｍｇ2+ １～５％、Ｃａ2+ ３～６％、Ｂａ2+ ４～８％、Ｃｕ2+ １～６％かつ、アニオン％表示で、Ｆ- １０～２０％、及び、Ｏ2- ７５～９５％を含有するフツリン酸ガラスを用いることができる。
　好ましい他の組成のガラス板１としては、カチオン％表示で、Ｐ5+ ３０～４５％、Ａｌ3+ １５～２５％、Ｌｉ+ １～５％、Ｎａ+ ７～１３％、Ｋ+ ０．１～５％、Ｍｇ2+ １～８％、Ｃａ2+ ３～１３％、Ｂａ2+ ６～１２％、Ｚｎ2+ ０～７％、Ｃｕ2+ １～５％かつ、アニオン％表示で、Ｆ- ３０～４５％、及び、Ｏ2- ５０～７０％を含有するフツリン酸ガラスを用いることができる。
　以下では、ガラス板１が、赤外線吸収機能に優れるリン酸塩系ガラスである場合の例を示す。
　ガラス板１に用いられるリン酸塩系ガラスは、Ｆ（フッ素）を実質的に含んでいないことが望ましい。ここで、「実質的に含んでいない」とは、質量％で０．１％以下のフッ素を含んでいてもよいことを意味している。
　このようなリン酸塩系ガラスとしては、例えばＰ2Ｏ5を２５質量％以上含有するものを用いることができる。具体的には、質量％で、Ｐ2Ｏ5　２５～６０％、Ａｌ2Ｏ3　２～１９％、ＲＯ（ただしＲは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選択される少なくとも一種）　５～４５％、ＺｎＯ　０～１３％、Ｋ2Ｏ　８～２０％、Ｎａ2Ｏ　０～１２％、及びＣｕＯ　０．３～２０％を含有し、フッ素を実質的に含んでいない、ガラスを用いることができる。
　Ｐ2Ｏ5は、ガラス骨格を形成する成分である。Ｐ2Ｏ5の含有量は、質量％で、好ましくは２５～６０％であり、より好ましくは３０～５５％であり、さらに好ましくは４０～５０％である。Ｐ2Ｏ5の含有量が少なすぎると、ガラス化が不安定になる場合がある。一方、Ｐ2Ｏ5の含有量が多すぎると、耐候性が低下し易くなることがある。
　Ａｌ2Ｏ3は、耐候性をより一層向上させる成分である。Ａ１2Ｏ3の含有量は、質量％で、好ましくは２～１９％であり、より好ましくは２～１５％であり、更に好ましくは２．８～１４．５％であり、特に好ましくは３．５～１４．０％である。Ａｌ2Ｏ3の含有量が少なすぎると、耐候性が十分でないことがある。一方、Ａｌ2Ｏ3の含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が上昇する場合がある。なお、溶融温度が上昇すると、Ｃｕイオンが還元されてＣｕ2+からＣｕ+にシフトし易くなるため、所望の光学特性が得られ難くなる場合がある。具体的には、近紫外～可視域における光透過率が低下したり、赤外線吸収特性が低下し易くなったりすることがある。
　ＲＯ（ただしＲは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選択される少なくとも一種）は、耐候性を改善するとともに、溶融性を向上させる成分である。ＲＯの含有量は、質量％で、好ましくは５～４５％であり、より好ましくは７～４０％であり、さらに好ましくは１０～３５％である。ＲＯの含有量が少なすぎると、耐候性及び溶融性が十分でない場合がある。一方、ＲＯの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易く、ＲＯ成分起因の結晶が析出し易くなることがある。
　なお、ＲＯの各成分の含有量の好ましい範囲は以下の通りである。
　ＭｇＯは、耐候性を改善させる成分である。ＭｇＯの含有量は、質量％で、好ましくは０～１５％であり、より好ましくは０～７％である。ＭｇＯの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易くなることがある。
　ＣａＯは、ＭｇＯと同様に耐候性を改善させる成分である。ＣａＯの含有量は、質量％で、好ましくは０～１５％であり、より好ましくは０～７％である。ＣａＯの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易くなることがある。
　ＳｒＯは、ＭｇＯと同様に耐候性を改善させる成分である。ＳｒＯの含有量は、質量％で、好ましくは０～１２％であり、より好ましくは０～５％である。ＳｒＯの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易くなることがある。
　ＢａＯは、ガラスを安定化するとともに、耐候性を向上させる成分である。ＢａＯの含有量は、質量％で、好ましくは１～３０％であり、より好ましくは２～２７％であり、さらに好ましくは３～２５％である。ＢａＯの含有量が少なすぎると、十分にガラスを安定化できなかったり、十分に耐候性を向上できなかったりする場合がある。一方、ＢａＯの含有量が多すぎると、成形中にＢａＯ起因の結晶が析出し易くなることがある。
　ＺｎＯは、ガラスの安定性及び耐候性を改善させる成分である。ＺｎＯの含有量は、質量％で、好ましくは０～１３％であり、より好ましくは０～１２％であり、さらに好ましくは０～１０％である。ＺｎＯの含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が高くなり、結果として所望の光学特性が得られ難くなる場合がある。また、ガラスの安定性が低下し、ＺｎＯ成分起因の結晶が析出し易くなる場合がある。
　以上のように、ＲＯ及びＺｎＯはガラスの安定化を改善する効果があり、特にＰ2Ｏ5が少ない場合に、その効果を享受し易い。
　なお、ＲＯに対するＰ2Ｏ5の含有量の比（Ｐ2Ｏ5／ＲＯ）は、好ましくは１．０～１．９であり、より好ましくは、１．２～１．８である。比（Ｐ2Ｏ5／ＲＯ）が小さすぎると、液相温度が高くなってＲＯ起因の失透が析出し易くなる場合がある。一方、Ｐ2Ｏ5／ＲＯが大きすぎると、耐候性が低下し易くなる場合がある。
　Ｋ2Ｏは、溶融温度を低下させる成分である。Ｋ2Ｏの含有量は、質量％で、好ましくは８～２０％であり、より好ましくは１２．５～１９．５％である。Ｋ2Ｏの含有量が少なすぎると、溶融温度が高くなって所望の光学特性が得られ難くなることがある。一方、Ｋ2Ｏの含有量が多すぎると、Ｋ2Ｏ起因の結晶が成形中に析出し易くなり、ガラス化が不安定になることがある。
　Ｎａ2Ｏも、Ｋ2Ｏと同様に溶融温度を低下させる成分である。Ｎａ2Ｏの含有量は、質量％で、好ましくは０～１２％であり、より好ましくは０～７％である。Ｎａ2Ｏの含有量が多すぎると、ガラス化が不安定になることがある。
　ＣｕＯは、近赤外線を吸収するための成分である。ＣｕＯの含有量は、質量％で、好ましくは０．３～２０％であり、より好ましくは０．３～１５％であり、さらに好ましくは０．４～１３％である。ＣｕＯの含有量が少なすぎると、所望の近赤外線吸収特性が得られない場合がある。一方、ＣｕＯの含有量が多すぎると、紫外～可視域の光透過性が低下し易くなることがある。また、ガラス化が不安定になる場合がある。なお、所望の光学特性を得るためのＣｕＯの含有量は、板厚によって適宜調整することが好ましい。
　また、上記成分以外にも、Ｂ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2又はＳｂ2Ｏ3などを本発明の効果を損なわない範囲で含有させてもよい。具体的には、これらの成分の含有量は、それぞれ、質量％で、好ましくは０～３％であり、より好ましくは０～２％である。
　ガラス板１を上記組成とすることにより、可視域におけるより一層高い光透過率と赤外域におけるより一層優れた光吸収特性の両者を達成することが可能となる。具体的には、波長４００ｎｍにおける光透過率は、好ましくは７８％以上、より好ましくは８０％以上であり、波長５００ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８３％以上、より好ましくは８５％以上である。一方、波長７００ｎｍにおける光透過率は、好ましくは１２％以下、より好ましくは９％以下であり、波長８００ｎｍにおける光透過率は、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。
　上記の組成のガラス板１は、例えば、鋳込み法、ロールアウト法、ダウンドロー法、リドロー法、フロート法、オーバーフロー法などの成形方法によって板状に成形される。
　次に、第一実施形態に係るガラス板１の製造方法を説明する。
　本製造方法は、図４に示すように、ガラス板（元ガラス板）１の端面１ｂをエッチング液Ｅでエッチングするエッチング工程を備えている。
　エッチング工程では、ガラス板１をエッチング槽Ｂに収容されたエッチング液Ｅに浸漬する。
　エッチング液Ｅとしては、アルカリ洗剤が用いられる。ガラス板１が上述のようなリン酸塩系ガラスである場合、フツリン酸塩系のような他のガラスと比べて、耐アルカリ性が低いためである。アルカリ洗剤としては、特に限定されないが、例えば、Ｎａ、Ｋなどのアルカリ成分や、トリエタノールアミン、ベンジルアルコール又はグリコールなどの界面活性剤や、水又はアルコールなどを含有する洗剤を使用できる。
　アルカリ洗剤に含まれるアルカリ成分として、アミノポリカルボン酸などのキレート剤のアルカリ塩が含まれることが好ましい。アミノポリカルボン酸のアルカリ塩としては、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四酢酸、トリエチレンテトラアミン六酢酸、ニトリロ三酢酸などのナトリウム塩及びカリウム塩が挙げられる。これらの中でも、ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム、トリエチレンテトラアミン六酢酸六ナトリウム、ニトリロ三酢酸三ナトリウムが好ましく使用され、特にジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウムが好ましく使用される。
　エッチング工程では、ガラス板１の端面１ｂのエッチングによる平面方向の除去厚みｔ１が１μｍ以上となるように、エッチング時間等の条件を調整する。このようにすれば、ガラス板１の端面１ｂがアルカリ洗剤からなるエッチング液Ｅによって十分にエッチングされ、エッチング後の端面１ｂにおいて第一凹部Ｒ１の割合が５０％を超え易くなる。除去厚みｔ１は、５μｍ以上であることが好ましく、７μｍ以上であることがより好ましく、１０μｍ以上であることが特に好ましい。ここで、除去厚みｔ１は、例えば、エッチング前のガラス板１の寸法と、エッチング後のガラス板１の寸法を比較することにより求める。具体的には、図５に示すように、エッチング前のガラス板１の一辺の寸法（対向する端面１ｂ間の直線距離）Ｌ１と、エッチング後のガラス板１の同じ一辺の寸法Ｌ２との差ΔＬを測定する。対向する両方の端面１ｂでエッチングによる除去が生じるので、除去厚みｔ１はΔＬ／２で求められる。
　以上のようなエッチング工程を含む製造方法によれば、端面の任意の３０μｍ□の範囲Ｓ内で、第一凹部Ｒ１の割合が５０％以上となるガラス板１を製造することができる。
（第二実施形態）
　図６及び図７に示すように、第二実施形態に係るガラス板１が、第一実施形態に係るガラス板１と相違するところは、ガラス板１の両方の主表面１ａに光学膜２がそれぞれ形成されている点である。以下では、説明の便宜上、ガラス板１の主表面１ａに光学膜２を形成したものを光学膜付きガラス板３という。光学膜付きガラス板３は、例えば、カバーガラスや、固体撮像素子の分光感度を人間の視感度特性の特性に合わせるための視感度補正部材などに利用される。
　本実施形態では、光学膜２は、ガラス板１の主表面１ａの端部を越えて外側に食み出した食み出し部２ａを備えている。なお、食み出し部２ａは設けなくてもよい。
　食み出し部２ａは、ガラス板１の主表面１ａに沿って外側に延び、食み出し部２ａの先端部は、ガラス板１の端面１ｂから離れている。なお、食み出し部２ａは、ガラス板１の主表面１ａと必ずしも平行である必要はなく、先端が垂れ下がるなどして傾斜していてもよい。また、食み出し部２ａの基端部の一部が、ガラス板１の端面１ｂと接触していても差し支えない。
　食み出し部２ａは、ガラス板１の主表面１ａの全周囲を囲むように額縁状に形成されている（図７のクロスハッチング部を参照）。
　食み出し部２ａの平面方向の食み出し寸法ｔ１は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。このような食み出し寸法であれば、食み出し部２ａが外側に十分に突出した状態となるので、他部材がガラス板１の端面１ｂに直接接触し難く、ガラス板１の端面１ｂからの発塵や破損を低減できる。
　光学膜２の厚みは、ガラス板１の厚みよりも薄く、１０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは７μｍ以下である。一方、光学膜２の厚みは、０．１μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは０．２μｍ以上である。
　光学膜２は、用途に応じて適宜選択されるものであり、例えば、反射防止膜（ＡＲ膜）、赤外線遮蔽膜（ＩＲカット膜）、紫外線遮蔽膜、紫外線及び赤外線遮蔽膜などの機能膜が挙げられる。また、光学膜２は、反射防止膜及び赤外線遮蔽膜の両方の機能を備えるものであってもよい。このような機能を有する光学膜２には、例えば、低屈折率層と高屈折率層を交互に積層してなる誘電体多層膜を用いることができる。低屈折率層としては、酸化ケイ素膜などが用いられる。高屈折率層としては、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ハフニウム、窒化シリコン、酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも１種からなる金属酸化膜などが用いられる。なお、ガラス板１の一方の主表面１ａに形成された光学膜２と、ガラス板１の他方の主表面１ａに形成された光学膜２は、同じ機能を有する膜であってもよいし、異なる機能を有する膜であってもよい。具体的には、光学膜付きガラス板３の構成は、例えば、反射防止膜／ガラス板／反射防止膜、反射防止膜／ガラス板／赤外線遮蔽膜、赤外線遮蔽膜／ガラス板／赤外線遮蔽膜、赤外線遮蔽膜／ガラス板／紫外線及び赤外線遮蔽膜などである。
　以上のような構成を備えた光学膜付きガラス板３であれば、光学膜２が食み出し部２ａによってガラス板１の主表面１ａよりも広い範囲に形成された状態となる。従って、ガラス板１の主表面１ａの端部近傍を含む全面に光学膜２を確実に形成することができる。
　次に、第二実施形態に係る光学膜付きガラス板３の製造方法を説明する。
　本製造方法は、成膜工程と、切断工程と、エッチング工程とを、この順に備えている。本実施形態では、図８及び図９に示すように、大板の元ガラス板４を含む元ガラス板積層体５から製品サイズのガラス板積層体６を複数枚採取する、いわゆる多面取りを行う例を示す。もちろん、トリミングなどを目的として、元ガラス板積層体５からガラス板積層体６を一枚採取するようにしてもよい。なお、本製造方法では、元ガラス板積層体５→ガラス板積層体６→光学膜付きガラス板３の順に製造される。
　図８に示すように、成膜工程では、元ガラス板４の両方の主表面４ａに光学膜２を形成し、元ガラス板積層体５を製造する。光学膜２は、元ガラス板４のそれぞれの主表面４ａの全面に形成される。光学膜２は、例えば、真空蒸着法やスパッタ法などを用いて形成される。
　図９に示すように、切断工程では、例えば元ガラス板積層体５を碁盤目状に切断し、ガラス板積層体６を複数枚製造する。図示例では、一枚の元ガラス板積層体５からガラス板積層体６が９枚採取される。元ガラス板積層体５の切断方法は、特に限定されないが、例えば、ダイシング装置のブレードなどによる機械的切断、折り割り割断、レーザー割断、レーザー溶断などを使用できる。
　図１０に示すように、エッチング工程では、ガラス板積層体６をエッチング槽（不図示）に収容されたエッチング液Ｅに浸漬する。
　エッチング液Ｅは、ガラス板１とは反応するが、光学膜２とは実質的に反応しない。本実施形態では、ガラス板積層体６に含まれるガラス板１は、両方の主表面１ａに光学膜２が形成されているため、ガラス板積層体６をエッチング液Ｅに浸漬すると、ガラス板１の端部のみがエッチング液Ｅと直接接触して反応する。従って、ガラス板１の端部のみがエッチング液Ｅによって徐々に浸食され、ガラス板１の端面１ｂの位置がＡ方向に移動していく。その結果、光学膜２は元のまま残った状態で、ガラス板１の端部の表層部Ｘ１（図１０のクロスハッチング部）のみが除去される。従って、図６に示すような、ガラス板１の両方の主表面１ａに食み出し部２ａを有する光学膜２が形成された光学膜付きガラス板３が製造される。
　エッチングによる平面方向の除去厚みｔ３は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。この除去厚みｔ３は、図６の食み出し部２ａの食み出し寸法ｔ２と概ね一致することが好ましい。
　ここで、本製造方法では、ガラス板積層体６の状態でガラス板１の両方の主表面１ａが光学膜２により保護されているため、エッチング工程において、ガラス板１の厚みを変化させることなく、ガラス板１の端面加工を行うことができる。
（第三実施形態）
　図１１に示すように、第三実施形態に係るガラス板１は、第二実施形態と同様に、光学膜付きガラス板３に関するものであり、第二実施形態に係るガラス板１と相違するところは、ガラス板１の端面１ｂが面取りされている点である。
　ガラス板１の端面１ｂは、両方の主表面１ａ側の一部領域に、主表面１ａに対して傾斜した傾斜平面からなる面取り部１ｃを有している。面取り部１ｃの主表面１ａに対する傾斜角度θは、２０°～６０°であることが好ましい。なお、面取り部１ｃの形状は特に限定されるものではなく、例えば凸曲面（円弧面や楕円弧面）や傾斜角度の異なる複数の平面を連ねた複合平面などから形成されていてもよい。また、ガラス板１の端面１ｂ全体を凸曲面にするなどして、端面１ｂ全体に面取り部を設けてもよい。
　ガラス板１の端面１ｂに面取り部１ｃを形成する場合、端面１ｂが光学膜２の食み出し部２ａよりも外側に位置する部分Ｙ（図１１のクロスハッチング部）を有していてもよい。このようにすれば、他部材がガラス板１の端面１ｂに直接接触し易くなるが、面取り部１ｃによって端面１ｂの機械的強度が更に向上するため、ガラス板１の端面１ｂからの発塵や破損は低減できる。もちろん、突出する部分Ｙは設けなくてもよい。
　本実施形態では、光学膜２の食み出し部２ａの先端にも、面取り部２ｂが形成されている。面取り部２ｂの形状は、特に限定されるものではないが、ガラス板１の面取り部１ｃと同様の形状を選択できる。なお、光学膜２の面取り部２ｂは省略し、ガラス板１の面取り部１ｃのみを設けてもよい。
　食み出し部２ａの平面方向の食み出し寸法ｔ４は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。
　次に、第三実施形態に係る光学膜付きガラス板３の製造方法を説明する。
　本製造方法は、成膜工程と、切断工程と、面取り工程と、エッチング工程とを、この順に備えている。本実施形態では、切断工程が、面取り工程を兼ね、元ガラス板積層体５を切断する過程で面取りも行う例を示す。
　成膜工程では、第二実施形態と同様の方法により、元ガラス板積層体５を製造する（図８を参照）。
　切断工程は、図１２及び図１３に示すように、ダイシング装置の第一ブレードＰによって、元ガラス板４の主表面４ａ近傍を含む元ガラス板積層体５の表層部５ｓを切削する第一工程と、図１４に示すように、ダイシング装置の第二ブレードＱによって、第一工程で切削せずに残した元ガラス板積層体５の中央部５ｃを切削する第二工程とを備えている。
　図１２及び図１３に示すように、第一ブレードＰは、回転可能に保持された円盤状であり、その周縁部に切断刃Ｐ１を有する。切断刃Ｐ１は、Ｖ字状の凸部をなすように互いに逆向きに傾斜した一対の傾斜面Ｐ２を有する。
　図１４に示すように、第二ブレードＱも、回転可能に保持された円盤状であり、その周縁部に切断刃Ｑ１を有する。第二ブレードＱは、第一ブレードＰよりも薄い。切断刃Ｑ１の形状は、第二ブレードＱの厚みの範囲内で元ガラス板積層体５を切削可能な形状であれば特に限定されない。なお、第二ブレードＱの代わりに、レーザー照射による切断を用いてもよい。
　第一工程では、まず、図１２に示すように、第一ブレードＰを回転させながら元ガラス板積層体５の一方の表層部５ｓを切削し、元ガラス板積層体５の一方の表層部５ｓに切断刃Ｐ１の形状に対応したＶ字状の溝５ａを形成する。その後、図１３に示すように、溝５ａが形成された元ガラス板積層体５を表裏反転させ、第一ブレードＰを回転させながら元ガラス板積層体５の他方の表層部５ｓを切削し、元ガラス板積層体５の他方の表層部５ｓにも切断刃Ｐ１の形状に対応したＶ字状の溝５ａを形成する。次に、第二工程では、図１４に示すように、元ガラス板積層体５の両方の表層部５ｓに形成されたＶ字状の溝５ａの溝底部同士を繋ぐように、第二ブレードＱを回転させながら元ガラス板積層体５の中央部５ｃを切削し、元ガラス板積層体５を切断（フルカット）する。これにより、元ガラス板積層体５からガラス板積層体６が製造されると共に、製造されたガラス板積層体６にはＶ字状の溝５ａに対応する部分に面取り部１ｃ，２ｂが形成される。
　もちろん、面取り工程は、切断工程が終了した後に、別の工程として行ってもよい。この場合、図１５に示すように、面取り工程は、回転砥石Ｗを用いて行うことができる。詳細には、回転砥石Ｗは、切断工程で製造されたガラス板積層体６の板厚方向に対して互いに逆向きの傾斜を有する一対の円錐面状の加工面Ｗ１を備えている。回転砥石Ｗによって研磨されたガラス板積層体６は、回転砥石Ｗの加工面Ｗ１に倣った形状に研磨される。すなわち、ガラス板１及び光学膜２の端面には、加工面Ｗ１によって研磨された位置に面取り部１ｃ，２ｂが形成される。なお、面取り工程は、ガラス板１の一方の主表面１ａ側の端面に面取り部１ｃ，２ｂを形成する第一工程と、ガラス板１の他方の主表面１ａ側の端面に面取り部１ｃ，２ｂを形成する第二工程とに分割してもよい。
　図１６に示すように、エッチング工程では、面取り部１ｃ，２ｂが形成されたガラス板積層体６をエッチング液Ｅに浸漬する。そうすると、エッチング液Ｅと直接接触しているガラス板１の端部のみが徐々に浸食され、ガラス板１の端面１ｂの位置がＡ方向に移動していく。その結果、光学膜２はそのまま残った状態で、ガラス板１の端部の表層部Ｘ２（図中のクロスハッチング部）が除去される。この際、端面１ｂの位置は変化するが、端面１ｂの形状は概ね維持される。そのため、エッチング工程後もガラス板１の面取り部１ｃは残る。また、光学膜２はエッチング液Ｅと反応しないので、エッチング工程後の光学膜２の面取り部２ｂも残る。従って、図１１に示すような、ガラス板１の両方の主表面１ａに食み出し部２ａを有する光学膜２が形成されると共に、ガラス板１及び光学膜２に面取り部１ｃ，２ｂが形成された光学膜付きガラス板３が製造される。
　エッチングによる平面方向の除去厚みｔ５は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。この除去厚みｔ５は、図１１の食み出し部２ａの食み出し寸法ｔ４と概ね一致することが好ましい。
（第四実施形態）
　図１７に示すように、第四実施形態に係るガラス板１は、第二及び第三実施形態と同様に、光学膜付きガラス板３に関するものであり、第二及び第三実施形態に係るガラス板１と相違するところは、光学膜２がガラス板１の一方の主表面１ａにのみ形成されている点である。
　本実施形態では、光学膜２は食み出し部２ａを有しているが、食み出し部２ａは設けなくてもよい。食み出し部２ａの平面方向の食み出し寸法ｔ６は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。なお、図示例では、面取り部を設けていないが、第三実施形態で説明したような面取り部を設けてもよい。
　このように構成された光学膜付きガラス板３の製造方法は、成膜工程と、切断工程と、エッチング工程とを、この順に備えている。
　図１８に示すように、成膜工程では、元ガラス板４の一方の主表面４ａのみに光学膜２を形成し、元ガラス板積層体５を製造する。光学膜２は、元ガラス板４の一方の主表面４ａの全面に形成される。
　切断工程では、第二実施形態と同様の方法により、元ガラス板積層体５から一枚又は複数枚のガラス板積層体６を製造する（図９を参照）。ただし、製造されるガラス板積層体６は、ガラス板１の一方の主表面１ａにのみ光学膜２が形成されている。
　図１９に示すように、エッチング工程では、ガラス板積層体６をエッチング液Ｅに浸漬する。そうすると、エッチング液Ｅと直接接触しているガラス板１の端部および光学膜２が形成されていない側の主表面１ａが徐々に浸食され、ガラス板１の端面１ｂがＡ方向に移動すると共に、ガラス板１の主表面１ａがＢ方向に移動していく。その結果、光学膜２はそのまま残った状態で、ガラス板１の端部の表層部Ｘ３（図中のクロスハッチング部）と主表面１ａの表層部Ｘ４（図中のクロスハッチング部）とが除去される。従って、図１７に示すような、ガラス板１の一方の主表面１ａにのみ食み出し部２ａを有する光学膜２が形成された光学膜付きガラス板３が製造される。
　エッチングによる平面方向の除去厚みｔ７は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。この除去厚みｔ７は、図１７の食み出し部２ａの食み出し寸法ｔ６と概ね一致することが好ましい。また、エッチングによる板厚方向の除去厚みｔ８は、１μｍ～０．１ｍｍであることが好ましく、３μｍ～２０μｍであることがより好ましい。
　ここで、本製造方法では、ガラス板１の一方の主表面１ａのみが光学膜２により保護されているため、エッチング工程において、ガラス板１の厚みが変化する。従って、ガラス板１の端面加工に加え、ガラス板１のスリミング加工（薄板化）を行うことができる。
　ガラス板端面のエッチングによる除去量と、エッチングによりガラス板端面に形成される凹部との関係を示す。
　まず、エッチングによる除去量を変化させたときに、エッチングによりガラス板端面に形成される凹部がどのように変化するかを顕微鏡画像によって検査した。
　Ｐ2Ｏ5を２５質量％以上含むリン酸塩系ガラスからなるガラス板を用意し、そのガラス板の両方の主表面に光学膜として赤外線反射膜をそれぞれ形成する。その後、その光学膜が形成されたガラス板をキレート剤のアルカリ塩を含むアルカリ洗剤（エッチング液）に浸漬し、エッチング工程を行った。エッチング時間は、ガラス板端面のエッチングによる除去厚みが１μｍ以上となる範囲で行なった。このときのエッチングされたガラス板端面の顕微鏡画像を図２０及び図２１に示す。図２０は、除去厚みが小さい場合、すなわち、エッチング時間が短い場合であり、図２１は、除去厚みが大きい場合、すなわち、エッチング時間が長い場合である。これら図からも分かるように、除去厚みが大きくなるに連れて、相対的に大きな凹部（第一凹部）が多く形成されると共に、凹部の総数は減少することが確認できる。
　次に、両方の主表面に赤外線吸収膜が形成されたガラス板からなる試料Ｎｏ．１～Ｎｏ．６を用意し、エッチングによる除去量を変化させたときに、エッチングによりガラス板端面に形成される凹部の大きさ及び数がどのように変化するかを検査した。また、ガラス板の落下試験を行って破損率も検査すると共に、試料Ｎｏ．６については凹部の平均深さも検査した。その結果を表１に示す。凹部の大きさ及び数は、ガラス板端面の３０μｍ□の範囲内で測定した。落下試験は、試料Ｎｏ．１～Ｎｏ．６のそれぞれにつき、同じ条件で作製した１０枚の試料を蓋付きのトレイの内部に収容すると共に、その蓋付きのトレイをコンクリート床から２ｍの高さで床面と平行に保持し、その位置から床面に対して自由落下させることによって行った。破損率は、このとき蓋付きのトレイの内部で破損した試料の枚数を百分率で表したものである。蓋付きのトレイは、特開２０１６－７８８６０号公報に開示されているように、トレイ及び蓋に設けられた突起（同文献の載置部及び当接部に相当）によって試料を点接触支持すると共に、各試料の収容空間がリブで区画されているものを用いた。なお、ガラス板の主表面に赤外線吸収膜等の光学膜を形成しない場合であっても、凹部の総数、第一凹部と第二凹部の割合、破損率などが大きく変わることはない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、比較例を示す試料Ｎｏ．１のように、エッチングを行わず、ガラス第一凹部の割合が非常に少ない場合は、ガラス板の破損率が１００％（１０枚中１０枚破損）であった。これに対し、実施例を示す試料Ｎｏ．２～Ｎｏ．６のように、エッチングによりガラス板端面を１μｍ以上除去し、第一凹部の割合が５０％以上となった場合は、ガラス板の破損率が低下することが確認できる。特に、実施例を示す試料Ｎｏ．４～Ｎｏ．６のように、第一凹部の割合が８５％以上となった場合に、ガラス板の破損率が大幅に改善することが確認できる。
　なお、本発明は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
　上記実施形態では、エッチング工程において、ガラス板全体をエッチング液に浸漬した状態を図示して説明したが、例えば、ガラス板の一部（例えば端面）にエッチング液を塗布等により付着させるなどして、ガラス板の一部のみをエッチングしてもよい。
　上記実施形態において、光学膜を形成する場合、エッチングによる平面方向の除去厚みを光学膜の食み出し部の食み出し寸法から測定してもよい。
　上記実施形態では、成膜工程を切断工程の前に行う場合を説明したが、成膜工程を切断工程の後（面取り工程を行う場合は、面取り工程の後）に行ってもよい。
　上記実施形態において、切断工程を省略し、成膜工程で製品サイズのガラス板に光学膜を直接形成するようにしてもよい。
　上記実施形態において、エッチング工程の後に、ガラス板の主表面から光学膜を除去してもよい。
　上記実施形態において、切断工程で、元ガラス板積層体の切断部にガスを噴射しながらレーザーを照射し、切断部をレーザー溶断するようにしてもよい。この場合、ガスの噴射量や噴射方向を調整することで、切断された端面を凸曲面（例えば、円弧面）に加工することができる。従って、このようなレーザー溶断を用いても、切断と同時に面取りを行うことができる。
１　　　ガラス板
１ａ　　主表面
１ｂ　　端面
１ｃ　　面取り部
２　　　光学膜
２ａ　　食み出し部
２ｂ　　面取り部
３　　　光学膜付きガラス板
４　　　元ガラス板
５　　　元ガラス板積層体
６　　　ガラス板積層体
Ｒ　　　凹部
Ｒ１　　第一凹部
Ｃ　　　凹部の頂部外周
Ｅ　　　エッチング液
Ｐ　　　第一ブレード
Ｑ　　　第二ブレード
Ｗ　　　回転砥石

Claims (9)

  1. 　表裏一対の主表面と、前記一対の主表面各々の端部を結ぶ端面とを備えたガラス板において、
    　前記端面は、クレータ状の凹部を複数有し、
    　前記端面の任意の３０μｍ□の範囲内に含まれる前記凹部のうち、頂部外周上の二地点間の直線距離の最大値が０．５μｍ以上となる第一凹部の割合が５０％以上であることを特徴とするであることを特徴とするガラス板。
  2. 　前記端面の任意の３０μｍ□の範囲内に含まれる前記凹部の総数が、３０個以上３００個以下であることを特徴とする請求項１に記載のガラス板。
  3. 　前記第一凹部の深さが、０．５μｍ以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス板。
  4. 　少なくとも一方の前記主表面に光学膜が形成されていることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載のガラス板。
  5. 　前記光学膜が、反射防止膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜、紫外線及び赤外線遮蔽膜の少なくとも１種であることを特徴とする請求項４に記載のガラス板。
  6. 　前記ガラス板が、組成として質量％でＰ2Ｏ5を２５％以上含むことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載のガラス板。
  7. 　表裏一対の主表面と、前記一対の主表面各々の端部を結ぶ端面とを備えたガラス板の製造方法において、
    　前記ガラス板の少なくとも前記端面をエッチング液に接触させてエッチングするエッチング工程を備え、
    　前記ガラス板が、リン酸塩系ガラスからなり、
    　前記エッチング液が、アルカリ洗剤であり、
    　前記ガラス板の前記端面の前記エッチング液による除去厚みが、１μｍ以上であることを特徴とするガラス板の製造方法。
  8. 　前記エッチング液が、アルカリ成分としてキレート剤のアルカリ塩を含むことを特徴とする請求項７に記載のガラス板の製造方法。
  9. 　前記エッチング工程の前に、前記ガラス板の少なくとも一方の主表面に光学膜を形成する成膜工程を更に備えていることを特徴とする請求項７又は８に記載のガラス板の製造方法。
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