TWI788413B

TWI788413B - 玻璃板及其製造方法

Info

Publication number: TWI788413B
Application number: TW107132197A
Authority: TW
Inventors: 間嶌亮太; 中堀宏亮; 乾武志; 金子悠祐
Original assignee: 日商日本電氣硝子股份有限公司
Priority date: 2017-09-27
Filing date: 2018-09-13
Publication date: 2023-01-01
Also published as: KR102555595B1; JP7230816B2; CN111094203B; JPWO2019065100A1; KR20200060342A; WO2019065100A1; TW201920011A; CN111094203A

Abstract

本發明係一種玻璃板及其製造方法，其中，玻璃板係於端面，具有複數凹坑狀之凹部R。含於端面之任意30μm£之範圍S內的凹部R中，頂部外圍C上之二地點間之直線距離之最大值d為0.5μm以上之第一凹部R1之比例為50%以上。

Description

玻璃板及其製造方法

本發明係有關玻璃板及其製造方法。

利用於數位相機或攝錄放影機之CCD或CMOS等之固體攝像元件的分光感度係對於近紅外線域的光而言，具有強感度之故，一般為了將此等之固體攝像元件的分光感度配合人的視感度特性而使用視感度校正構件者。

作為視感度校正構件，例如，如專利文獻1所揭示地，利用形成具有紅外線遮蔽機能之光學膜於玻璃板之主表面的光學膜之玻璃板。另外，為了防止玻璃板表面的反射，亦有形成有具有反射防止機能之光學膜的情況。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 國際公開第2013/077375號

[發明欲解決之課題]

但利用於固體攝像元件等之玻璃板係進展著薄板化。伴隨於此，有著經由玻璃板在搬送時之衝擊等而容易產生破損的問題。特別是如此之玻璃板的破損係經由玻璃板之端面作為起點之龜裂的進展而產生之情況為多，而期望有更提升端面強度。

本發明之課題係謀求玻璃板的端面強度提升，而降低玻璃板的破損者。 [為了解決課題之手段]

為了解決上述之課題所發明之本發明係在具備：表背一對的主表面、與連結各一對主表面之端部的端面之玻璃板中，端面係具有複數凹坑狀之凹部，含於端面之任意30μm£之範圍內的凹部中，頂部外圍上之二地點間之直線距離之最大值為0.5μm以上之第一凹部之比例為50%以上者為特徵。如根據如此之構成，在端面中，頂部外圍上之二地點間之直線距離之最大值為0.5μm以上，相對為大之第一凹部則佔過半數。隨之，即使對於玻璃板的端面產生衝擊等之外力作用之情況，認為可經由形成於端面之相對為大之第一凹部而分散其力量。其結果，以玻璃板之端面為起點之龜裂則不易進展，而可降低玻璃板的破損者。

在上述之構成中，含於端面之任意30μm£之範圍內的凹部之總數為50個以上300個以下者為佳。

在上述之構成中，第一凹部之深度為0.5μm以上亦可。

在上述之構成中，於至少一方之主表面，形成光學膜亦可。

此情況，光學膜則為反射防止膜、紅外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜、紫外線及紅外線遮蔽膜之至少一種者為佳。

在上述的構成中，玻璃板就組成而言，包含質量%為25%以上之P₂ O₅ 者為佳。

為了解決上述之課題所發明之本發明係在具備：表背一對的主表面、及連結各個一對主表面之端部之端面的玻璃板之製造方法中，具備將玻璃板之至少端面，接觸蝕刻液加以蝕刻之蝕刻工程；玻璃板係由磷酸鹽系玻璃所成，蝕刻液為鹼性洗滌劑，經由玻璃板之端面之蝕刻液所除去厚度則為1μm以上者為特徵。如根據如此之構成，經由蝕刻液而除去玻璃板的端面，於玻璃板的端面，形成複數凹坑狀之凹部。並且，由上述條件進行蝕刻工程者，在端面之任意30μm£之範圍內，可將上述之第一凹部的比例作為50%以上者。隨之，以玻璃板之端面為起點之龜裂則不易進展，而可降低玻璃板的破損者。

在上述之構成中，蝕刻液係做為鹼性成分包含螯合劑之鹼性鹽者為佳。

在上述之構成中，在蝕刻工程之前，更具備於玻璃板之至少一方之主表面，形成光學膜之成膜工程亦可。 [發明效果]

如根據本發明，可謀求玻璃板的端面強度提升，而降低玻璃板的破損者。

對於有關本發明之實施形態之玻璃板及其製造方法，參照圖面同時加以說明。

(第一實施形態) 　　如圖1所示，有關第一實施形態之玻璃板1係具備：表背一對的主表面1a，和連結各雙方之主表面1a之端部的端面1b。玻璃板1係形成為四角形狀，但未限定於此形狀，而例如亦可為三角形或五角形以上之多角形或圓形等。在本實施形態中，端面1b係在四角形狀的玻璃板1之各邊，呈與主表面1a略正交地加以形成。

玻璃板1之厚度係理想為0.4mm以下、0.3mm以下、0.2mm以下。更理想為0.19mm以下，又更理想為0.15mm以下、特別理想為0.12mm以下。另一方面，玻璃板1之厚度係0.05mm以上為佳，而0.08mm以上為更佳。

在玻璃板1之各主表面1a的面積係可作為1mm² 以上25000mm² 以下者。各主表面1a之面積的理想範圍係3mm² 以上25000mm² 以下、而更理想為9mm² 以上25000mm² 以下、有更理想為15mm² 以上25000mm² 以下、特別理想為20mm² 以上25000mm² 以下。

對於玻璃板1之端面1b係如圖2模式性所示地，形成複數凹坑狀之凹部R。凹部R之頂部外圍(鄰接有凹部R之情況係其稜線)C係例如呈現圓形或橢圓形。

含於端面1b之任意30μm£之範圍S內的凹部R中，頂部外圍C上之二地點間之直線距離之最大值d為0.5μm以上之第一凹部R1之比例為50%以上。換言之，含於端面1b之任意30μm£之範圍S內的凹部R中，頂部外圍C上之二地點間之直線距離之最大值d為不足0.5μm之第二凹部(未顯示)之比例為不足50%。在此，直線距離之最大值d係凹部R為圓形之情況係直徑，橢圓形之情況係成為長徑。如根據如此作為，即使對於玻璃板1的端面1b產生衝擊等之外力作用之情況，認為可經由形成於端面1b之相對為大之第一凹部R1而適度地分散其力量。其結果，以玻璃板1之端面1B為起點之龜裂則不易進展，而可降低玻璃板1的破損者。然而，相對為小之第二凹部係無法期待上述外力之分散效果，相反有著成為破損之原因之虞。隨之，增加第一凹部R1之比例，而減少第二凹部之比例為佳。第一凹部R1之比例係85%以上者為佳，而90%以上者則更佳。

含於端面之任意30μm£之範圍S內的凹部R之總數，即，第一凹部R1與第二凹部之合計係30個以上300個以下者為佳。隨著凹部R的總數變少，第二凹部的數係變少，而第一凹部R1則由成為更支配性的傾向。隨之，當考慮此點時，凹部R之總數係300個以下者為佳，而150個以下者為更佳。另一方面，當凹部R之總數作為呈少於必要以上時，在後述之蝕刻工程中之處理時間則變長，而生產效率則變差。另外，當凹部R之總數減少為某程度時，即使將凹部R之總數作為更少，亦有玻璃板1之破損率未產生變化之情況。隨之，當考慮此點時，凹部R之總數係30個以上者為佳，而500個以上者為更佳。

如圖3所示，第一凹部R1之深度h係0.5μm以上者為佳，而1μm以上者又更佳。在此，深度h係第一凹部R1之最深深度位置，和第一凹部R1之頂部外圍C之最高位置的高低差。如作為如此，第一凹部R1則成為充分深度，而認為更發揮外力的分散效果。然而，第一凹部R1之深度h係10μm以下者為佳，而5μm以下者更佳。

玻璃板1之端面1b的表面粗度Ra係0.1nm~10nm為佳。

玻璃板1係就組成而言以陽離子%，含有P⁵⁺ 5~50%、Al³⁺ 2~30%、R’⁺ (R’係選自Li、Na及K之至少1種)10~50%、及R²⁺ (R²⁺ 係選自Mg²⁺ 、Ca²⁺ 、Sr²⁺ 、Ba²⁺ 及Zn²⁺ 之至少1種)20~50%、Cu²⁺ 0.5~15%且以陰離子%顯示、含有F^- 5~80%、及O^2- 20~95%。

玻璃板1係加上於上述組成，作為更以陰離子%顯示，含有F^- 5~80%之組成亦可。

作為玻璃板1係更理想為可使用就組成而言，以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 40~50%、Al³⁺ 7~12%、K⁺ 15~25%、Mg²⁺ 3~12%、Ca²⁺ 3~6%、Ba²⁺ 7~12%、Cu²⁺ 1~15%，且以陰離子%顯示、含有F^- 5~80%、及O^2- 20~95%之磷酸鹽玻璃者。

作為理想之其他組成的玻璃板1係可使用以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 20~35%、Al³⁺ 10~20%、Li⁺ 20~30%、Na⁺ 0~10%、Mg²⁺ 1~8%、Ca²⁺ 3~13%、Sr²⁺ 2~12%、Ba²⁺ 2~8%、Zn²⁺ 0~5%、Cu²⁺ 0.5~5%，且以陰離子%顯示、含有F^- 30~65%、及O^2- 35~75%之氟磷酸玻璃者。

作為理想之其他組成的玻璃板1係可使用，以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 35~45%、Al³⁺ 8~12%、Li⁺ 20~30%、Mg²⁺ 1~5%、Ca²⁺ 3~6%、Ba²⁺ 4~8%、Cu²⁺ 1~6%，且以陰離子%顯示、含有F^- 10~20%、及O^2- 75~95%之氟磷酸玻璃者。

作為理想之其他組成的玻璃板1係可使用以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 30~45%、Al³⁺ 15~25%、Li⁺ 1~5%、Na⁺ 7~13%、K⁺ 0.1~5%、Mg²⁺ 1~8%、Ca²⁺ 3~13%、Ba²⁺ 6~12%、Zn²⁺ 0~7%、Cu²⁺ 1~5%，且以陰離子%顯示、含有F^- 30~45%、及O^2- 50~70%之氟磷酸玻璃者。

在以下中，玻璃板1則顯示對於紅外線吸收機能優越之磷酸鹽系玻璃情況的例。

使用於玻璃板1之磷酸鹽系玻璃係實質上未含有F(氟)者為佳。在此，「實質上未含有」係指：意味以質量%含有0.1%以下的氟亦可者。

作為如此之磷酸鹽系玻璃係例如，可使用含有25質量%以上P₂ O₅ 之構成者。具體而言，可使用以質量%，含有P₂ O₅ 25~60%、Al₂ O₃ 2~19%、RO(但R選自Mg、Ca、Sr及Ba之至少一種) 5~45%、ZnO 0~13%、K₂ O 8~20%、Na₂ O 0~12%、及CuO 0.3~20%，而實質上未含有氟之玻璃者。

P₂ O₅ 係形成玻璃骨架之成分。P₂ O₅ 之含有量係以質量%，理想為25~60%、而更理想為30~55%、又更理想為40~50%。當P₂ O₅ 之含有量過少時，而有玻璃化成為不安定之情況。另一方面，P₂ O₅ 之含有量過多時，有著耐候性容易下降之情況。

Al₂ O₃ 係更一層提升耐候性的成分。Al₂ O₃ 之含有量係以質量%，理想為2~19%、更理想為2~15%、有更理想為2.8~14.5%、特別理想為3.5~14.0%。Al₂ O₃ 之含有量過少時，有著耐候性不充分之情況。另一方面，Al₂ O₃ 之含有量過多時，而有熔融性降低而熔融溫度上升之情況。然而，當熔融溫度上升時，加以還原Cu離子而成為容易自Cu²⁺ 位移至Cu⁺ 之故，而有不易得到所期望的光學特性之情況。具體而言，有著在近紫外線~可視域之光透過率降低，以及紅外線吸收特性容易下降之情況。

RO(但R選自Mg、Ca、Sr及Ba之至少一種)係改善耐候性之同時，提升熔融性之成分。RO之含有量係以質量%，理想為5~45%、而更理想為7~40%、又更理想為10~35%。當RO之含有量過少時，有著耐候性及熔融性不充分之情況。另一方面，RO之含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降，而RO成分引起之結晶容易析出之情況。

然而，RO之各成分的含有量之理想範圍係如以下。

MgO係改善耐候性的成分。MgO之含有量係以質量%，理想為0~15%、更理想為0~7%。當MgO之含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降之情況。

CaO係與MgO同樣地使耐候性改善的成分。CaO之含有量係以質量%，理想為0~15%、更理想為0~7%。當CaO之含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降之情況。

SrO係與MgO同樣地使耐候性改善的成分。SrO之含有量係以質量%，理想為0~12%、更理想為0~ 5%。當SrO含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降之情況。

BaO係安定化玻璃之同時，使耐候性提升的成分。BaO之含有量係以質量%，理想為1~30%、而更理想為2~27%、又更理想為3~25%。BaO之含有量過少時，有著無法充分安定化玻璃，以及無法充分提升耐候性之情況。另一方面，BaO之含有量過多時，在成形中有著BaO引起之結晶容易析出之情況。

ZnO係改善玻璃之安定性及耐候性的成分。ZnO之含有量係以質量%，理想為0~13%、而更理想為0~12%、又更理想為0~10%。ZnO之含有量過多時，有著熔融性下降而熔融溫度變高，以及作為結果不易得到所期望之光學特性的情況。另外，有著玻璃之安定性下降，而ZnO成分引起的結晶容易析出之情況。

如以上，RO及ZnO係有著改善玻璃之安定化的效果，特別是在P₂ O₅ 少的情況，容易享受其效果。

然而，對於RO而言之P₂ O₅ 之含有量的比(P₂ O₅ /RO)係理想為1.0~1.9、而更理想為1.2~1.8。當比(P₂ O₅ /RO)過小時，有著液相溫度變高而RO引起之失透容易析出之情況。另一方面，P₂ O₅ /RO過大時，有著耐候性容易下降之情況。

K₂ O係使熔融溫度下降之成分。K₂ O之含有量係以質量%，理想為8~20%、更理想為12.5~19.5%。當K₂ O之含有量過少時，有著熔融溫度變高而不易得到所期望的光學特性之情況。另一方面，K₂ O之含有量過多時，有著K₂ O引起的結晶則容易在成形中析出，而玻璃化則成為不安定之情況。

Na₂ O亦與K₂ O同樣地，使熔融溫度下降的成分。Na₂ O含有量係以質量%，理想為0~12%、更理想為0~7%。Na₂ O之含有量過多時，有著玻璃化成為不安定之情況。

CuO係為了吸收近紅外線的成分。CuO之含有量係以質量%，理想為0.3~20%、而更理想為0.3~15%、又更理想為0.4~13%。當CuO之含有量過少時，有著無法得到所期望之紅外線吸收特性的情況。另一方面，CuO之含有量過多時，有著紫外線~可視域之光透過性容易下降之情況。另外，有著玻璃化成為不安定之情況。然而，為了得到所期望的光學特性之CuO的含有量係經由板厚而做適宜調整者為佳。

另外，除了上述成分以外，在未損及本發明之效果的範圍而含有B₂ O₃ 、Nb₂ O₅ 、Y₂ O₃ 、La₂ O₃ 、Ta₂ O₅ 、CeO₂ 或Sb₂ O₃ 等亦可。具體而言，此等成分之含有量係各以質量%，理想為0~3%、更理想為0~2%。

經由將玻璃板1作為上述組成之時，可達成在可視域更一層之高光透過率與在紅外線域更一層優越之光吸收特性的兩者。具體而言，在波長400nm之光透過率係理想為78%以上，而更理想為80%以上，而在波長500nm之光透過率係理想為83%以上，而更理想為85%以上。另一方面，在波長700nm之光透過率係理想為12%以下，而更理想為9%以下，而在波長800nm之光透過率係理想為5%以下，而更理想為3%以下。

上述之組成的玻璃板1係例如，經由澆鑄法，滑出法，下拉伸法，重拉伸法，浮製法，溢流法等之成形方法而成形為板狀。

接著，說明有關第一實施形態之玻璃板1的製造方法。

本製造方法係如圖4所示，具備以蝕刻液E而蝕刻玻璃板(原玻璃板)1之端面1b的蝕刻工程。

在蝕刻工程中，將玻璃板1浸漬於收容於蝕刻槽B之蝕刻液E。

作為蝕刻液E係使用鹼性洗滌劑。玻璃板1則為如上述之磷酸鹽系玻璃之情況，與如氟磷酸鹽系之其他的玻璃做比較，耐鹼性為低之故。作為鹼性洗滌劑係無特別加以限定，但例如可使用Na、K等之鹼性成分，或三乙醇胺，苯甲醇或乙二醇等之界面活性劑，或含有水或醇等之洗滌劑。

作為含於鹼性洗滌劑之鹼性成分，包含有胺基聚羧酸等之螯合劑的鹼金屬鹽者為佳。作為胺基聚羧酸之鹼金屬鹽係可舉出：二乙基三胺五乙酸，乙二胺四乙酸，三乙四胺六乙酸，氮基三乙酸等之鈉鹽及鉀鹽。其中，理想使用二乙基三胺五乙酸五鈉，乙二胺四乙酸四鈉，三乙四胺六乙酸六鈉，氮基三乙酸三鈉，而特別理想使用二乙基三胺五乙酸五鈉。

在蝕刻工程中，經由玻璃板1之端面1b的蝕刻之平面方向的除去厚度t1則呈成為1μm以上地，調整蝕刻時間等之條件。如作為如此，玻璃板1之端面1b則經由鹼性洗滌劑所成之蝕刻液E而充分地加以蝕刻，在蝕刻後的端面1b中，第一凹部R1之比例則成為容易超過50%。除去厚度t1係5μm以上者為佳，而7μm以上者為更佳，10μm以上者為特別理想。在此，除去厚度t1係例如，經由比較蝕刻前的玻璃板1之尺寸，和蝕刻後之玻璃板1的尺寸而求得。具體而言，如圖5所示，測定蝕刻前之玻璃板1之一邊的尺寸(對向之端面1b間的直線距離)L1，和測定蝕刻後之玻璃板1之相同一邊的尺寸L2的差ΔL。因在對向之雙方的端面1b產生有經由蝕刻之除去之故，除去厚度t1係由ΔL/2而求得。

如根據包含如以上之蝕刻工程之製造方法，在端面之任意30μm£之範圍S內，可製造第一凹部R1之比例成為50%以上之玻璃板1者。

(第二實施形態) 　　如圖6及圖7所示，有關第二實施形態之玻璃板1則與有關第一實施形態之玻璃板1的不同處係各形成有光學膜2於玻璃板1之雙方的主表面1a的點。在以下中，說明的方便上，將形成有光學膜2於玻璃板1之主表面1a的構成稱為附有光學膜之玻璃板3。附有光學膜之玻璃板3係例如，利用於外蓋玻璃，或為了將固體攝像元件的分光感度配合於人的視感度特性之特性的視感度校正構件等。

在本實施形態中，光學膜2係具備跨越玻璃板1之主表面1a之端部，向外側溢出之溢出部2a。然而，未設置溢出部2a亦可。

溢出部2a係沿著玻璃板1之主表面1a而延伸於外側，溢出部2a之前端係自玻璃板1之端面1b離開。然而，溢出部2a係未必必須與玻璃板1之主表面1a平行，而前端作為垂下等而傾斜亦可。另外，溢出部2a之基端部的一部分則即使與玻璃板1之端面1b接觸亦未有影響。

溢出部2a係呈圍繞玻璃板1之主表面1a的全周圍地形成為框緣狀(參照圖7之交叉影線部)。

溢出部2a之平面方向的溢出尺寸t1係1μm~ 0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。如為如此之溢出尺寸，溢出部2a則因呈為充分地突出於外側之狀態之故，其他構件則不易直接接觸於玻璃板1之端面1b，可降低來自玻璃板1之端面1b之起塵或破損。

光學膜2之厚度係較玻璃板1之厚度為薄，而10μm以下者為佳。更理想係7μm以下。另一方面，光學膜2之厚度係0.1μm以上者為佳，而更理想為0.2μm以上。

光學膜2係因應用途而加以適宜選擇之構成，例如，可舉出反射防止膜(AR膜)、紅外線遮蔽膜(IR遮蔽膜)、紫外線遮蔽膜、紫外線及紅外線遮蔽膜等之機能膜。另外，光學膜2係亦可為具備反射防止膜及紅外線遮蔽膜之雙方的機能者。對於具有如此機能之光學膜2係例如，可使用交互層積低折射率層與高折射率層所成之介電體多層膜者。作為低折率層係使用氧化矽膜等。作為高折射率層係加以使用選自氧化鉭，氧化鈮，氧化鈦，氧化鉿，氮化矽，氧化鋯之至少1種所成之金屬氧化膜等。然而，形成於玻璃板1之一方的主表面1a之光學膜2，和形成於玻璃板1之另一方的主表面1a之光學膜2係亦可為具有相同機能的膜，而具有不同機能的膜亦可。具體而言，附有光學膜之玻璃板3之構成係例如，反射防止膜/玻璃板/反射防止膜、反射防止膜/玻璃板/紅外線遮蔽膜、紅外線遮蔽膜/玻璃板/紅外線遮蔽膜、紅外線遮蔽膜/玻璃板/紫外線及紅外線遮蔽膜等。

如為具備如以上構成之附有光學膜之玻璃板3，光學膜2則成為經由溢出部2a而形成於較玻璃板1之主表面1a為寬的範圍之狀態。隨之，可於包含玻璃板1之主表面1a的端部附近之全面，確實地形成光學膜2者。

接著，說明有關第二實施形態之附有光學膜之玻璃板3的製造方法。

本製造方法係依序具備成膜工程，和切斷工程，和蝕刻工程。在本實施形態中，如圖8及圖9所示，顯示自包含大板的原玻璃板4之玻璃板層積體5採取複數枚製品尺寸之玻璃板層積體6，進行所謂倒角的例。當然，以修整等為目的，作為呈自原玻璃板層積體5採取一片玻璃板層積體6亦可。然而，在本製造方法中，依原玻璃板層積體5→玻璃板層積體6→附有光學膜之玻璃板3的順序加以製造。

如圖8所示，在成膜工程中，於原玻璃板4之雙方的主表面4a，形成光學膜2，製造原玻璃板層積體5。光學膜2係形成於原玻璃板4之各主表面4a的全面。光學膜2係例如，使用真空蒸鍍法或濺鍍法等而加以形成。

如圖9所示，在切斷工程中，例如將原玻璃板層積體5切斷成棋盤格狀，製造複數片玻璃板層積體6。在圖示例中，自一片的原玻璃板層積體5，採取9片玻璃板層積體6。原玻璃板層積體5之切斷方法係無特別加以限定，但例如，可使用經由切割裝置之刀刃等之機械性切斷，折切割斷，雷射割斷，雷射熔斷等。

如圖10所示，在蝕刻工程中，將玻璃板層積體6浸漬於收容於蝕刻槽(未圖示)之蝕刻液E。

蝕刻液E係與玻璃板1反應，但實質上未與光學膜2反應。在本實施形態中，含於玻璃板層積體6之玻璃板1係於兩方的主表面1a形成有光學膜2之故，而當將玻璃板層積體6浸漬於蝕刻液E時，僅玻璃板1之端部與蝕刻液E直接接觸而進行反應。隨之，僅玻璃板1的端部，經由蝕刻液E而被徐緩地浸蝕，而玻璃板1之端面1b的位置則移動於A方向。其結果，光學膜2係以保持原來殘留之狀態，僅除去玻璃板1之端部的表層部X1(圖10之交叉影線部)。隨之，製造如圖6所示，形成具有溢出部2a之光學膜2於玻璃板1之雙方的主表面1a之附有光學膜之玻璃板3。

經由蝕刻之平面方向的除去厚度t3係1μm~ 0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。此除去厚度t3係與圖6之溢出部2a的溢出尺寸t2大約一致者為佳。

在本製造方法中，在玻璃板層積體6之狀態，經由光學膜2而加以保護玻璃板1之雙方的主表面1a之故，在蝕刻工程中，未使玻璃板1之厚度變化而可進行玻璃板1之端面加工者。

(第三實施形態) 　　如圖11所示，有關第三實施形態之玻璃板1則與第二實施形態同樣地，有關附有光學膜之玻璃板3的構成，與有關第二實施形態之玻璃板1的不同處係將玻璃板1之端面1b作為倒角的點。

玻璃板1之端面1b係於雙方的主表面1a側之一部分範圍，具有對於主表面1a而言傾斜之傾斜平面所成之倒角部1c。對於倒角部1c之主表面1a而言之傾斜角度θ係為20°~60°者為佳。然而，倒角部1c之形狀係無特別加以限定，而例如自凸曲面(圓弧面或橢圓弧面)或連結傾斜角度不同之複數的平面之複合平面等而加以形成亦可。另外，將玻璃板1之端面1b全體作為成凸曲面等，於端面1b全體設置倒角部亦可。

於玻璃板1之端面1b形成倒角部1c之情況，具有端面1b則位置於較光學膜2之溢出部2a為外側之部分Y(圖11之交叉影線部)亦可。如作為如此，其他構件則成為容易直接接觸於玻璃板1之端面1b，但經由倒角部1c而端面1b之機械性強度則更提升之故，可降低來自玻璃板1之端面1b的起塵或破損。當然，未設置突出之部分Y亦可。

在本實施形態中，對於光學膜2之溢出部2a的前端，形成有倒角部2b。倒角部2b之形狀係未特別加以限定，但可選擇與玻璃板1之倒角部1c同樣的形狀。然而，光學膜2之倒角部2b係省略，僅設置玻璃板1之倒角部1c亦可。

溢出部2a之平面方向的溢出尺寸t4係1μm~ 0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。

接著，說明有關第三實施形態之附有光學膜之玻璃板3的製造方法。

本製造方法係依序具備成膜工程，和切斷工程，和倒角工程，和蝕刻工程。在本實施形態中，切斷工程則兼具倒角工程，顯示在切斷原玻璃板層積體5之過程，進行倒角的例。

在成膜工程中，經由與第二實施形態同樣的方法，製造原玻璃板層積體5(參照圖8)。

切斷工程係具備：如圖12及圖13所示，經由切割裝置的第一刀刃P，切削包含原玻璃板4之主表面4a附近之原玻璃板層積體5的表層部5s之第一工程，和如圖14所示，經由切割裝置的第二刀刃Q，切削在第一工程未切削而殘留之原玻璃板層積體5之中央部5c的第二工程。

如圖12及圖13所示，第一刀刃P係可旋轉地加以保持之圓盤狀，於其周緣部具有切斷刃P1。切斷刃P1係呈構成V字狀的凸部地具有相互逆向傾斜之一對的傾斜面P2。

如圖14所示，第二刀刃Q亦可旋轉地加以保持之圓盤狀，於其周緣部具有切斷刃Q1。第二刀刃Q係較第一刀刃P為薄。切斷刃Q1之形狀係如為可在第二刀刃Q之厚度的範圍內切削原玻璃板層積體5之形狀，未特別加以限定。然而，取代第二刀刃Q而使用經由雷射之照射的切斷亦可。

在第一工程中，首先，如圖12所示，使第一刀刃P旋轉之同時，切削原玻璃板層積體5之一方的表層部5s，於原玻璃板層積體5之一方的表層部5s，形成因應切斷刃P1之形狀的V字狀的溝5a。之後，如圖13所示，使形成有溝5a之原玻璃板層積體5表背反轉，使第一刀刃P旋轉之同時，切削原玻璃板層積體5之另一方的表層部5s，對於原玻璃板層積體5之另一方的表層部5s，亦形成因應切斷刃P1之形狀的V字狀的溝5a。接著，在第二工程中，如圖14所示，呈連繫形成於原玻璃板層積體5之雙方的表層部5s之V字狀的溝5a的溝底部彼此地，使第二刀刃Q旋轉之同時，切削原玻璃板層積體5之中央部5c，切斷(全切割)原玻璃板層積體5。經由此，自原玻璃板層積體5加以製造玻璃板層積體6之同時，對於所製造之玻璃板層積體6係於對應於V字狀的溝5a之部分，形成有倒角部1c，2b。

當然，倒角工程係在切斷工程結束之後，作為另外的工程而進行亦可。此情況，如圖15所示，倒角工程係可使用旋轉磨石W而進行者。詳細來說，旋轉磨石W係具備對於在切斷工程所製造之玻璃板層積體6之板厚方向而言，具有相互逆方向之傾斜的一對之圓錐面狀的加工面W1。經由旋轉磨石W所研磨之玻璃板層積體6係研磨成仿照旋轉磨石W之加工面W1的形狀。即，對於玻璃板1及光學膜2之端面係形成有倒角部1c，2b於經由加工面W1所研磨之位置。然而，倒角工程係分割成於玻璃板1之一方的主表面1a側的端面形成倒角部1c，2b之第一工程，和於玻璃板1之另一方的主表面1a側的端面形成倒角部1c，2b之第二工程亦可。

如圖16所示，在蝕刻工程中，將形成有倒角部1c，2b之玻璃板層積體6浸漬於蝕刻液E。如此，僅與蝕刻液E直接接觸之玻璃板1的端部，則被徐緩地浸蝕，而玻璃板1之端面1b的位置則移動於A方向。其結果，光學膜2係以保持殘留之狀態，僅除去玻璃板1之端部的表層部X2(圖中之交叉影線部)。此時，端面1b的位置係產生變化，但大致維持端面1b之形狀。因此，蝕刻工程之後，玻璃板1之倒角部1c係亦殘留。另外，光學膜2係因未與蝕刻液E反應之故，蝕刻工程後之光學膜2的倒角部2b亦殘留。隨之，加以製造如圖11所示，於玻璃板1之雙方的主表面1a，形成具有溢出部2a之光學膜2之同時，於玻璃板1及光學膜2，形成有倒角部1c，2b之附有光學膜之玻璃板3。

經由蝕刻之平面方向的除去厚度t5係1μm~ 0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。此除去厚度t5係與圖11之溢出部2a的溢出尺寸t4大約一致者為佳。

(第四實施形態) 　　如圖17所示，有關第四實施形態之玻璃板1則與第二及第三實施形態同樣地，有關附有光學膜之玻璃板3的構成，與有關第二及第三實施形態之玻璃板1的不同處係僅於玻璃板1之一方的主表面1a，形成光學膜2的點。

在本實施形態中，光學膜2係具有溢出部2a，但未設置溢出部2a亦可。溢出部2a之平面方向的溢出尺寸t6係1μm~0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。然而，在圖示例中，雖未設置倒角部，但設置如在第三實施形態所說明之倒角部亦可。

如此所構成之附有光學膜之玻璃板3的製造方法係依序具備：成膜工程，和切斷工程，和蝕刻工程。

如圖18所示，在成膜工程中，僅於原玻璃板4之一方的主表面4a，形成光學膜2，製造原玻璃板層積體5。光學膜2係形成於原玻璃板4之一方的主表面4a的全面。

在切斷工程中，經由與第二實施形態同樣的方法，自原玻璃板層積體5製造一片或複數片之玻璃板層積體6(參照圖9)。但，所製造之玻璃板層積體6係僅於玻璃板1之一方的主表面1a形成光學膜2。

如圖19所示，在蝕刻工程中，將玻璃板層積體6浸漬於蝕刻液E。如此，與蝕刻液E直接接觸之玻璃板1之端部及未形成光學膜2側之主表面1a則被徐緩浸蝕，玻璃板1之端面1b則移動於A方向之同時，玻璃板1之主表面1a則移動於B方向。其結果，光學膜2係在保持殘留之狀態，加以除去玻璃板1之端部的表層部X3(圖中之交叉影線部)與主表面1a的表層部X4(圖中之交叉影線部)。隨之，製造如圖17所示，形成僅於玻璃板1之一方的主表面1a具有溢出部3a之光學膜3之附有光學膜之玻璃板3。

經由蝕刻之平面方向的除去厚度t7係1μm~ 0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。此除去厚度t7係與圖17之溢出部2a的溢出尺寸t6大約一致者為佳。另外，經由蝕刻之板厚方向的除去厚度t8係1μm~0.1mm為佳，而3μm~20μm為更佳。

在本製造方法中，僅玻璃板1之一方的主表面1a，經由光學膜2而加以保護之故，在蝕刻工程中，玻璃板1之厚度則產生變化。隨之，加上於玻璃板1之端面加工，可進行玻璃板1之薄化加工(薄板化)者。 [實施例]

顯示經由玻璃板端面之蝕刻的除去量，和經由蝕刻而形成於玻璃板面之凹部的關係。

首先，在使經由蝕刻之除去量變化時，經由顯微鏡畫像而檢查經由蝕刻而形成於玻璃板端面之凹部產生如何變化。

準備由包含25質量%以上P₂ O₅ 之磷酸鹽系玻璃所成之玻璃板，作為光學膜而各形成紅外線反射膜於其玻璃板之雙方的主表面。之後，將形成有其光學膜之玻璃板，浸漬於含有螯合劑之鹼性鹽的鹼性洗滌劑(蝕刻液)，進行蝕刻工程。蝕刻時間係在經由玻璃板端面之蝕刻之除去厚度成為1μm以上之範圍進行。此時所蝕刻之玻璃板端面的顯微鏡畫像，示於圖20及圖21。圖20係除去厚度為小之情況，即蝕刻時間為短之情況，而圖21係除去厚度為大之情況，即蝕刻時間為長之情況。從此等圖瞭解地，可確認到伴隨著除去厚度變大，多形成相對大之凹部(第一凹部)之同時，凹部的總數係減少。

接著，準備形成有紅外線吸收膜於雙方之主表面之玻璃板所成之試料No.1~No.6，在使經由蝕刻之除去量變化時，檢查經由蝕刻而形成於玻璃板端面之凹部的大小及數量如何產生變化。另外，進行玻璃板之落下試驗，亦檢查破損率之同時，對於試料No.6係亦檢查凹部的平均深度。將其結果示於表1。凹部的大小及數量係在玻璃板端面之30μm£的範圍內進行測定。落下試驗係對於各試料No.1~No.6，將以相同條件所製作之10片的試料收容於附蓋之托架的內部之同時，將其附蓋的托架，以自水泥地2m之高度，與地面保持為平行，經由自其位置對於地面使其自由落下而進行。破損率係將在此時附蓋之托架內部所破損之試料的片數，以百分率而表示者。附蓋的托架係如日本特開2016-78890號公報所揭示地，使用經由設置於托架及蓋之突起(相當於同文獻的載置部及抵接部)而將試料作點接觸支持之同時，以肋部區隔各試料的收容空間之構成。然而，即使為未形成紅外線吸收膜等之光學膜於玻璃板之主表面的情況，凹部的總數，第一凹部與第二凹部之比例，破損率等未有大的變化者。

如表1所示，如顯示比較例的試料No.1，未進行蝕刻，而玻璃第一凹部之比例非常少之情況，玻璃板之破損率為100%(10片中10片破損)。對此，如顯示實施例之試料No.2~No.6，經由蝕刻而除去1μm以上玻璃板端面，第一凹部的比例為50%以上之情況，係可確認到玻璃板之破損率降低者。特別是，如顯示實施例之試料No.4~ No.6，第一凹部的比例為85%以上之情況，可確認到大幅改善玻璃板之破損率者。

然而，本發明係不限定於上述實施形態之構成者，而未限定於上述之作用效果者。本發明係可在不脫離其主旨之範圍做種種變形。

在上述實施形態中，圖示說明過在蝕刻工程，將玻璃板全體浸漬於蝕刻液的狀態，但例如，作為經由塗佈蝕刻液於玻璃板之一部分(例如，端面)而使其附著等，僅蝕刻玻璃板之一部分亦可。

在上述實施形態中，形成光學膜之情況，自光學膜的溢出部的溢出尺寸測定經由蝕刻之平面方向的除去厚度亦可。

在上述實施形態中，說明過將成膜工程在切斷工程之前進行之情況，但將成膜工程在切斷工程之後(進行倒角工程之情況係倒角工程之後)進行亦可。

在上述實施形態中，省略切斷工程，呈在成膜工程直接形成光學膜於製品尺寸之玻璃板亦可。

在上述實施形態中，在蝕刻工程之後，自玻璃板之主表面除去光學膜亦可。

在上述實施形態中，呈在切斷工程，噴射氣體於原玻璃板層積體的切斷部之同時，照射雷射，將切斷部進行雷射熔斷亦可。此情況，由調整氣體的噴射量或噴射方向者，可將所切斷之端面加工成凸曲面(例如，圓弧面)者。隨之，使用如此之雷射熔斷，亦可與切斷同時進行倒角者。

1‧‧‧玻璃板1a‧‧‧主表面1b‧‧‧端面1c‧‧‧倒角部2‧‧‧光學膜2a‧‧‧溢出部2b‧‧‧倒角部3‧‧‧附有光學膜之玻璃板4‧‧‧原玻璃板5‧‧‧原玻璃板層積體6‧‧‧玻璃板層積體R‧‧‧凹部R1‧‧‧第一凹部C‧‧‧凹部的頂部外圍E‧‧‧蝕刻液P‧‧‧第一刀刃Q‧‧‧第二刀刃W‧‧‧旋轉磨石

圖1係顯示有關第一實施形態之玻璃板的剖面圖。　　圖2係模式性顯示有關第一實施形態之玻璃板的端面狀態之擴大平面圖。　　圖3係模式性顯示有關第一實施形態之玻璃板的端面狀態之擴大剖面圖。　　圖4係顯示含於有關第一實施形態之玻璃板之製造方法的蝕刻工程之剖面圖。　　圖5係為了說明經由蝕刻之玻璃板端面的除去厚度之測定方法的一例的圖。　　圖6係顯示有關第二實施形態之玻璃板的剖面圖。　　圖7係顯示有關第二實施形態之玻璃板的平面圖。　　圖8係顯示含於有關第二實施形態之玻璃板之製造方法的成膜工程之剖面圖。　　圖9係顯示含於有關第二實施形態之玻璃板之製造方法的切斷工程之平面圖。　　圖10係顯示含於有關第二實施形態之玻璃板之製造方法的蝕刻工程之剖面圖。　　圖11係顯示有關第三實施形態之玻璃板的剖面圖。　　圖12係顯示含於有關第三實施形態之玻璃板的製造方法，兼具倒角工程之切斷工程的初步階段狀態之剖面圖。　　圖13係顯示含於有關第三實施形態之玻璃板的製造方法，兼具倒角工程之切斷工程的中間階段狀態之剖面圖。　　圖14係顯示含於有關第三實施形態之玻璃板的製造方法，兼具倒角工程之切斷工程的最終階段狀態之剖面圖。　　圖15係顯示含於有關第三實施形態之玻璃板之製造方法的倒角工程之變形例的剖面圖。　　圖16係顯示含於有關第三實施形態之玻璃板之製造方法的蝕刻工程之剖面圖。　　圖17係顯示有關第四實施形態之玻璃板的剖面圖。　　圖18係顯示含於有關第四實施形態之玻璃板之製造方法的成膜工程之剖面圖。　　圖19係顯示含於有關第四實施形態之玻璃板之製造方法的蝕刻工程之剖面圖。　　圖20係實施例之顯微鏡畫像。　　圖21係實施例之顯微鏡畫像。

C‧‧‧凹部的頂部外圍

d‧‧‧最大值

R‧‧‧凹部

R1‧‧‧第一凹部

S‧‧‧範圍

Claims

一種玻璃板，具備：表裏一對主表面、及連結各個前述一對主表面之端部的端面，其特徵係前述玻璃係做為組成，令P₂O₅含有25質量%以上，且氟成分之含量為0.1質量%以下之磷酸鹽系玻璃，前述端面係具有複數凹坑狀之凹部，含於前述端面之任意30μm□之範圍內的前述凹部中，頂部外圍上之兩點間之直線距離之最大值為0.5μm以上之第一凹部之比例為50%以上。
如申請專利範圍第1項記載之玻璃板，其中，含於前述端面之任意30μm□之範圍內的前述凹部之總數為30個以上300個以下。
如申請專利範圍第1項或第2項記載之玻璃板，其中，前述第一凹部之深度為0.5μm以上。
如申請專利範圍第1項或第2項記載之玻璃板，其中，於至少一方之前述主表面，形成光學膜。
如申請專利範圍第4項記載之玻璃板，其中，前述光學膜係反射防止膜、紅外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜、紫外線及紅外線遮蔽膜之至少一種。
一種玻璃板之製造方法，該玻璃板具備：表裏一對的主表面、及連結各個前述一對主表面之端部之端面，其特徵係具備將前述玻璃板之至少前述端面，接觸蝕刻液加以蝕刻之蝕刻工程；前述玻璃板係由做為組成，令P₂O₅含有25質量%以上，且氟成分之含量為0.1質量%以下之磷酸鹽系玻璃所成，前述蝕刻液為做為鹼性成分，包含螯合劑之鹼性鹽之鹼性洗滌劑，前述玻璃板之前述端面之前述蝕刻液所除去厚度係1μm以上。
如申請專利範圍第6項記載之玻璃板之製造方法，其中，在前述蝕刻工程之前，更具備於前述玻璃板之至少一方之主表面，形成光學膜之成膜工程。