TWI753884B - 紅外線吸收玻璃板及其製造方法、以及固體攝像元件裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種可謀求固體攝像元件裝置之小型化之紅外線吸收玻璃板。 本發明之紅外線吸收玻璃板1係具有相互對向之第1及第2主面1a、1b、及連結第1及第2主面1a、1b之側面1c者，且包含磷酸鹽系玻璃，厚度為0.2 mm以下，於側面1c不存在微裂縫。
Description
本發明係關於一種紅外線吸收玻璃板及其製造方法、以及使用該紅外線吸收玻璃板之固體攝像元件裝置。
於數位相機等中一直使用CCD(charge coupled device，電荷耦合元件)或CMOS(complementary metal oxide semiconductor，互補金氧半導體)等固體攝像裝置。該等固體攝像元件裝置由於具有廣泛範圍之受光感度，故而為了配合人類之視感，必須去除紅外區之光。於下述專利文獻1中，作為用以去除紅外區之光之近紅外線截止濾光鏡，揭示有一種包含氟磷酸鹽系玻璃之紅外線吸收玻璃板。於專利文獻1中，藉由使用雙面研磨機之物理研磨等使玻璃板之厚度變薄。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2010-168262號公報
[發明所欲解決之問題] 近年來，於固體攝像元件裝置中，謀求進一步之小型化。因此，於構成固體攝像元件裝置之紅外線吸收玻璃板中亦謀求進一步之薄型化。然而，於如專利文獻1般藉由物理研磨使之變薄之方法中，若使玻璃板之厚度過薄，則有玻璃板產生破裂之情形。因此，有無法使玻璃板足夠薄，無法使固體攝像元件裝置充分地進行小型化之情形。 本發明之目的在於提供一種可謀求固體攝像元件裝置之小型化之紅外線吸收玻璃板及該紅外線吸收玻璃板之製造方法、以及固體攝像元件裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明之紅外線吸收玻璃板之特徵在於：其係具有相互對向之第1及第2主面、及連結上述第1及第2主面之側面者，且包含磷酸鹽系玻璃，厚度為0.2 mm以下，於上述側面不存在微裂縫。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為上述磷酸鹽系玻璃以質量%計，包含25～60%之P2
O5
、2～19%之Al2
O3
、5～45%之RO(其中，R係選自Mg、Ca、Sr及Ba中之至少1種)、0～13%之ZnO、8～20%之K2
O、0～12%之Na2
O及0.3～20%之CuO，且實質上不包含氟。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為於上述第1及第2主面不存在研磨痕跡。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為上述第1主面之面積為100 mm2
以上且25000 mm2
以下。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為上述第1主面之面積為1000 mm2
以上且25000 mm2
以下。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為支點間距離2.5 mm下之3點彎曲強度為35 N/mm2
以上。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為上述第1主面之面積為1 mm2
以上且未達1000 mm2
。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為用於固體攝像元件裝置。 本發明之紅外線吸收玻璃板較佳為於上述第1主面及上述第2主面中之至少一者之上設置有光學膜。 上述光學膜較佳為介電多層膜。 本發明之紅外線吸收玻璃板之陣列具備支持體、及矩陣狀地配置於上述支持體上之上述本發明之複數個紅外線吸收玻璃板。 本發明之紅外線吸收玻璃板之製造方法係依據本發明而構成之紅外線吸收玻璃板之製造方法，且包括：研磨步驟，其係對包含磷酸鹽系玻璃之板狀之玻璃母材進行物理研磨；及蝕刻步驟，其係將上述經物理研磨之玻璃母材浸漬於鹼性洗潔劑中，藉此進行蝕刻。 本發明之紅外線吸收玻璃板之製造方法較佳為於上述研磨步驟中，藉由上述物理研磨，使上述玻璃母材之厚度為0.23 mm以上且0.3 mm以下。 本發明之紅外線吸收玻璃板之製造方法較佳為於上述蝕刻步驟中，將上述經物理研磨之玻璃母材浸漬於pH值為7.1以上之鹼性洗潔劑中，藉此進行蝕刻。 上述鹼性洗潔劑較佳為包含胺基多羧酸之鹼金屬鹽。 設置有上述光學膜之紅外線吸收玻璃板之製造方法進而包括於蝕刻後之上述玻璃母材之上述第1主面及上述第2主面中之至少一者之上形成上述光學膜的步驟。 上述本發明之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造方法包括：藉由上述本發明之方法製作經蝕刻之上述玻璃母材之步驟；將上述玻璃母材載置於上述支持體之上之步驟；切割上述支持體上之上述玻璃母材，分割為矩陣狀地配置之上述複數個紅外線吸收玻璃板之步驟；及將上述支持體上之上述紅外線吸收玻璃板浸漬於上述鹼性洗潔劑中，藉此進行蝕刻之蝕刻步驟。 上述支持體較佳為接著強度因紫外線照射而降低之UV膠帶。 本發明之固體攝像元件裝置具備依據本發明而構成之紅外線吸收玻璃板。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種可謀求固體攝像元件裝置之小型化之紅外線吸收玻璃板。
以下，對較佳之實施形態進行說明。但是，以下之實施形態僅為例示，本發明並不限定於以下之實施形態。又，於各圖式中，有具有實質上相同之功能之構件以相同之符號參照的情形。 (紅外線吸收玻璃板) 圖1係表示本發明之一實施形態之紅外線吸收玻璃板之模式性立體圖。如圖1所示，紅外線吸收玻璃板1係平面形狀為矩形。紅外線吸收玻璃板1之角部可進行倒角。 紅外線吸收玻璃板1具有第1及第2主面1a、1b及側面1c。第1及第2主面1a、1b係相互對向。於紅外線吸收玻璃板1中，第1及第2主面1a、1b均為光學面。側面1c係連結第1及第2主面1a、1b。 紅外線吸收玻璃板1包含含有CuO之磷酸鹽系玻璃。因此，紅外線吸收玻璃板1之紅外線吸收功能優異。 紅外線吸收玻璃板1之厚度為0.2 mm以下。較佳為0.19 mm以下，更佳為0.15 mm以下。紅外線吸收玻璃板1由於厚度較薄為0.2 mm以下，故而於用於固體攝像元件裝置時，可謀求固體攝像元件裝置之小型化。再者，若厚度過薄，則有於在搬送步驟中上拉紅外線吸收玻璃板1時，容易產生破裂之情形，故而厚度較佳為0.05 mm以上，更佳為0.08 mm以上。 如此，紅外線吸收玻璃板1由於紅外線吸收功能優異，且可謀求固體攝像元件裝置之小型化，故而可較佳地用於固體攝像元件裝置。 一般，磷酸鹽系玻璃之強度較低，若使之變薄則容易發生破裂，但於本發明中，由於在紅外線吸收玻璃板1之側面1c不存在微裂縫，故而即便使厚度為0.2 mm以下亦不易產生破裂。微裂縫係指長度為1 μm～15 μm之裂縫。微裂縫有於使紅外線吸收玻璃板1彎曲時成為破裂之起點之情況。尤其於在側面1c存在微裂縫之情形時，容易成為破裂之起點。因此，於在側面1c不存在微裂縫之情形時，可令紅外線吸收玻璃板1更不易產生破裂。再者，微裂縫之有無可藉由光學顯微鏡進行確認。 又，於不僅於側面1c，於第1及第2主面1a、1b亦存在微裂縫之情形時，亦有成為破裂之起點之情況。因此，就令紅外線吸收玻璃板1更不易產生破裂之觀點而言，更佳為除側面1c以外，於第1及第2主面1a、1b亦不存在微裂縫。 又，較佳為於紅外線吸收玻璃板1之第1及第2主面1a、1b不存在製造時之研磨痕跡。於此情形時，可令紅外線吸收玻璃板1更不易產生破裂。就令紅外線吸收玻璃板1更不易產生破裂之觀點而言，更佳為除第1及第2主面1a、1b以外，於側面1c亦不存在研磨痕跡。再者，研磨痕跡可藉由原子力顯微鏡進行確認。 紅外線吸收玻璃板1之支點間距離2.5 mm下之3點彎曲強度較佳為35 N/mm2
以上，更佳為50 N/mm2
以上。於3點彎曲強度為上述下限以上之情形時，可令紅外線吸收玻璃板1更不易產生破裂。再者，紅外線吸收玻璃板1之3點彎曲強度之上限並無特別限制，就材料之性質而言，為450 N/mm2
左右。 以下，對構成紅外線吸收玻璃板1之材料更詳細地進行說明。 材料之詳細內容； 紅外線吸收玻璃板1包含磷酸鹽系玻璃。上述磷酸鹽系玻璃較佳為實質上不包含F(氟)。再者，「實質上不包含」意指以質量%計可包含0.1%以下之氟。 作為此種磷酸鹽系玻璃，例如可使用如下玻璃：以質量%計，含有25～60%之P2
O5
、2～19%之Al2
O3
、5～45%之RO(其中，R係選自Mg、Ca、Sr及Ba中之至少1種)、0～13%之ZnO、8～20%之K2
O、0～12%之Na2
O及0.3～20%之CuO，且實質上不包含氟。 P2
O5
係形成玻璃骨架之成分。P2
O5
之含量以質量%計，較佳為25～60%，更佳為30～55%，進而較佳為40～50%。若P2
O5
之含量過少，則有玻璃化變得不穩定之情形。另一方面，若P2
O5
之含量過多，則有耐候性容易降低之情況。 Al2
O3
係進一步提昇耐候性之成分。Al2
O3
之含量以質量%計，較佳為2～19%，更佳為2～15%，進而較佳為2.8～14.5%，尤佳為3.5～14.0%。若Al2
O3
之含量過少，則有耐候性不充分之情況。另一方面，若Al2
O3
之含量過多，則有熔融性降低而熔融溫度上升之情形。再者，若熔融溫度上升，則Cu離子會被還原從而容易自Cu2 ＋
轉化為Cu＋
，故而有難以獲得所需之光學特性之情形。具體而言，有近紫外～可見光範圍中之透光率降低，或紅外線吸收特性容易降低之情況。 RO(其中，R係選自Mg、Ca、Sr及Ba中之至少1種)係改善耐候性，並且提昇熔融性之成分。RO之含量以質量%計，較佳為5～45%，更佳為7～40%，進而較佳為10～35%。若RO之含量過少，則有耐候性及熔融性不充分之情形。另一方面，若RO之含量過多，則有玻璃之穩定性容易降低，容易析出因RO成分所引起之結晶之情況。 再者，RO之各成分之含量之較佳之範圍如下所述。 MgO係改善耐候性之成分。MgO之含量以質量%計，較佳為0～15%，更佳為0～7%。若MgO之含量過多，則有玻璃之穩定性容易降低之情況。 CaO係與MgO同樣地為改善耐候性之成分。CaO之含量以質量%計，較佳為0～15%，更佳為0～7%。若CaO之含量過多，則有玻璃之穩定性容易降低之情況。 SrO係與MgO同樣地為改善耐候性之成分。SrO之含量以質量%計，較佳為0～12%，更佳為0～5%。若SrO之含量過多，則有玻璃之穩定性容易降低之情況。 BaO係使玻璃穩定化，並且提昇耐候性之成分。BaO之含量以質量%計，較佳為1～30%，更佳為2～27%，進而較佳為3～25%。若BaO之含量過少，則有無法充分地使玻璃穩定化，或者無法充分地提昇耐候性之情形。另一方面，若BaO之含量過多，則有於成形中容易析出因BaO所引起之結晶之情況。 ZnO係改善玻璃之穩定性及耐候性之成分。ZnO之含量以質量%計，較佳為0～13%，更佳為0～12%，進而較佳為0～10%。若ZnO之含量過多，則有熔融性降低而熔融溫度變高，結果難以獲得所需之光學特性之情況。又，有玻璃之穩定性降低，容易析出因ZnO成分所引起之結晶之情形。 如上所述，RO及ZnO有改善玻璃之穩定化之效果，尤其於P2
O5
較少之情形時，容易享有該效果。 再者，P2
O5
相對於RO之含量之比(P2
O5
/RO)較佳為1.0～1.9，更佳為1.2～1.8。若比(P2
O5
/RO)過小，則有液相溫度變高而容易析出因RO所引起之失透之情形。另一方面，若P2
O5
/RO過大，則有耐候性容易降低之情形。 K2
O係使熔融溫度降低之成分。K2
O之含量以質量%計，較佳為8～20%，更佳為12.5～19.5%。若K2
O之含量過少，則有熔融溫度變高而難以獲得所需之光學特性之情況。另一方面，若K2
O之含量過多，則有因K2
O所引起之結晶容易於成形中析出，玻璃化變得不穩定之情形。 Na2
O亦與K2
O同樣地為使熔融溫度降低之成分。Na2
O之含量較佳為0～12%，更佳為0～7%。若Na2
O之含量過多，則有玻璃化變得不穩定之情況。 CuO係用以吸收近紅外線之成分。CuO之含量以質量%計，較佳為0.3～20%，更佳為0.3～15%，進而較佳為0.4～13。若CuO之含量過少，則有無法獲得所需之近紅外線吸收特性之情形。另一方面，若CuO之含量過多，則有紫外～可見光範圍之透光率容易降低之情況。又，有玻璃化變得不穩定之情形。再者，為了獲得所需之光學特性，CuO之含量較佳為根據板厚而適當調整。 又，除上述成分以外，亦可於無損本發明之效果之範圍內含有B2
O3
、Nb2
O5
、Y2
O3
、La2
O3
、Ta2
O5
、CeO2
或Sb2
O3
等。具體而言，該等成分之含量分別以質量%計，較佳為0～3%，更佳為0～2%。 藉由具有上述組成，可達成可見光範圍中之更高之透光率及紅外區中之更優異之光吸收特性兩者。具體而言，波長400 nm下之透光率較佳為78%以上，更佳為80%以上，波長500 nm下之透光率較佳為83%以上，更佳為85%以上。另一方面，波長700 nm下之透光率較佳為12%以下，更佳為9%以下，波長800 nm下之透光率較佳為5%以下，更佳為3%以下。 又，藉由具有上述組成，可使液相溫度較低。具體而言，液相溫度較佳為770℃以下，更佳為750℃以下。若液相溫度過高，則有於成形時容易失透之情形。 變化例： 圖2係表示本發明之一實施形態之紅外線吸收玻璃板之變化例的模式性剖視圖。 如圖2所示，於變化例中，於紅外線吸收玻璃板1之第1主面1a上設置有抗反射膜2。又，於紅外線吸收玻璃板1之第2主面1b上設置有紅外線反射膜3。 抗反射膜2係具有降低反射率之功能之膜。抗反射膜2只要為與不設置抗反射膜2時相比，設置抗反射膜2時反射率變低之膜即可，未必必須為反射率成為零之膜。不過，於本發明中，亦可不設置抗反射膜2。 抗反射膜2例如可包含折射率相對較低之低折射率膜與折射率相對較高之高折射率膜交替地積層而成之介電多層膜。上述介電多層膜之積層數並無特別限定，通常為3～5層左右。再者，抗反射膜2亦可包含折射率低於紅外線吸收玻璃板1之低折射率膜。 紅外線反射膜3係具有反射紅外線之功能之膜。紅外線反射膜3例如可包含SiO2
、Nb2
O5
或TiO2
等。 於本變化例中，由於紅外線吸收玻璃板1之厚度亦較薄，故而當用於固體攝像元件裝置時，可謀求固體攝像元件裝置之小型化。 以下，對紅外線吸收玻璃板1等本發明之紅外線吸收玻璃板之製造方法進行說明。 (紅外線吸收玻璃板之製造方法) 本發明之紅外線吸收玻璃板例如可以如下之方式製造。 首先，準備包含磷酸鹽系玻璃之板狀之玻璃母材。 玻璃母材可藉由使製備成所需之組成之磷酸鹽系玻璃之原料粉末批料熔融，並成形為板狀而製造。磷酸鹽系玻璃例如可使用上述組成之玻璃。 熔融溫度較佳為900～1200℃，更佳為900～1000℃。若熔融溫度過低，則有難以獲得均質之玻璃之情形。另一方面，若熔融溫度過高，則Cu離子會被還原從而容易自Cu2 ＋
轉化為Cu＋
，從而有難以獲得所需之光學特性之情形。 再者，作為成形方法，並無特別限定，例如可使用澆鑄法、滾壓法、下拉法或再曳引法等成形方法。 繼而，藉由物理研磨對如上述般準備之板狀之玻璃母材進行研磨(研磨步驟)。於研磨步驟中，較佳為藉由物理研磨，使玻璃母材之厚度為0.23 mm以上且0.3 mm以下。若藉由物理研磨使玻璃母材之厚度過薄，則有玻璃母材發生破裂之情況。又，若玻璃母材之厚度過厚，則有於下述蝕刻步驟中無法充分地使玻璃板之厚度變薄之情況。 於研磨步驟中，例如藉由拋光研磨將玻璃母材研磨至0.3 mm之厚度，繼而，藉由光學研磨而研磨至0.23 mm以上且0.3 mm之厚度，藉此可獲得經物理研磨之玻璃母材。 其次，將經物理研磨之玻璃母材於垂直地豎立之狀態下浸漬於鹼性洗潔劑中，藉此進行蝕刻(蝕刻步驟)。藉此，可獲得厚度為0.2 mm以下之本發明之紅外線吸收玻璃板。 如此，於本發明之紅外線吸收玻璃板之製造方法中，可容易地製造先前難以獲得之厚度為0.2 mm以下之紅外線吸收玻璃板。關於其原因，可如以下般進行說明。 於藉由物理研磨而使紅外線吸收玻璃板之厚度變薄之先前之方法中，若基於使玻璃板之厚度變薄至0.2 mm以下之目的，而使載體之厚度變薄，則有載體產生破裂之情況。又，於將玻璃板之厚度形成為較薄之情形時，亦會於自載體取出時使玻璃板產生破裂。又，即便製作面積較大之玻璃板，於切斷時亦產生破裂。 對此，本案發明之發明者等人發現若將藉由如上述般進行物理研磨而使厚度變薄為某一程度之磷酸鹽系玻璃母材浸漬於鹼性洗潔劑中，則可獲得厚度為0.2 mm以下，且不易產生破裂之玻璃板。關於其原因，認為如下。 磷酸鹽系玻璃係與如氟磷酸鹽系之其他玻璃相比，耐鹼性較低。因此，認為於藉由鹼性洗潔劑進行之蝕刻步驟中，玻璃母材之研磨痕跡或微裂縫被溶解，於所獲得之紅外線吸收玻璃板之第1及第2主面或側面不存在研磨痕跡或微裂縫。認為因不存在研磨痕跡或微裂縫而令紅外線吸收玻璃板之破裂之起點消失，故而紅外線吸收玻璃板之強度得到提高，即便厚度較薄，亦不易發生破裂。 作為鹼性洗潔劑，並無特別限定，例如可使用Na、K等鹼性成分；或三乙醇胺、苄醇或二醇等界面活性劑；或含有水或醇等之鹼性洗潔劑。 作為鹼性洗潔劑中所包含之鹼性成分，較佳為包含胺基多羧酸等螯合劑之鹼金屬鹽。作為胺基多羧酸之鹼金屬鹽，可列舉：二伸乙基三胺五乙酸、乙二胺四乙酸、三伸乙基四胺六乙酸、氮基三乙酸等之鈉鹽及鉀鹽。於該等中，可較佳地使用二伸乙基三胺五乙酸五鈉、乙二胺四乙酸四鈉、三伸乙基四胺六乙酸六鈉、氮基三乙酸三鈉，可尤佳地使用二伸乙基三胺五乙酸五鈉。 鹼性洗潔劑中之浸漬溫度並無特別限定，例如可設為20℃～40℃。 鹼性洗潔劑中之浸漬時間並無特別限定，例如可設為1小時～3小時。再者，經物理研磨之玻璃母材較理想為於垂直地豎立之狀態下浸漬於鹼性洗潔劑中1小時～3小時後，上下顛倒後浸漬相同時間。於此情形時，可獲得厚度分佈更均一之紅外線吸收玻璃板。 就更不易存在微裂縫，且令所獲得之紅外線吸收玻璃板更不易產生破裂之觀點而言，上述鹼性洗潔劑之pH值較佳為7.1以上，更佳為8.0以上。 又，由於所獲得之紅外線吸收玻璃板不易產生破裂，故而可使第1及第2主面之面積較大。例如，第1主面之面積可設為100 mm2
以上且25000 mm2
以下。第1主面之面積之更佳之範圍為400 mm2
以上且25000 mm2
以下、更佳為1000 mm2
以上且25000 mm2
以下、進而較佳為2500 mm2
以上且25000 mm2
以下、尤佳為5000 mm2
以上且25000 mm2
以下。於第1及第2主面之面積較大之紅外線吸收玻璃板中，亦不易產生破裂，故而可切斷為所需之大小而使用。於此情形時，可更高效率地製造紅外線吸收玻璃板。 (固體攝像元件裝置) 圖3係表示使用本發明之一實施形態之紅外線吸收玻璃板之固體攝像元件裝置的模式性剖視圖。如圖3所示，固體攝像元件裝置10具備紅外線吸收玻璃板1、固體攝像元件11、封裝體12及接著劑層13。 封裝體12包含陶瓷。於封裝體12之內部收納有固體攝像元件11。又，於封裝體12之開口部設置有紅外線吸收玻璃板1。再者，封裝體12與紅外線吸收玻璃板1係藉由接著劑層13而接合。接著劑層13可包含適當之紫外線硬化型樹脂或熱硬化性樹脂。 於本實施形態之固體攝像元件裝置10中，於固體攝像元件11之光入射側設置有紅外線吸收玻璃板1，故而可充分地吸收紅外區之光並使光入射至固體攝像元件11。又，如上所述，由於構成固體攝像元件裝置10之紅外線吸收玻璃板1之厚度較薄為0.2 mm以下，故而使固體攝像元件裝置10小型化。 以下，藉由列舉本發明之具體之實施例，而瞭解本發明。再者，本發明並不限定於以下之實施例。 (實施例1) 於溫度850～1300℃下，將以按質量%計成為46%之P2
O5
、7%之Al2
O3
、3%之MgO、4%之CaO、20%之BaO、16%之K2
O及4%之CuO之組成之方式製備的磷酸鹽系玻璃之原料粉末批料熔融，藉由滾壓法成形為板狀，獲得板狀之玻璃母材。 使用切片機將所獲得之玻璃母材切斷為125.1 mm見方之大小，將切斷之玻璃母材放置於設置於雙面研磨機之下壓盤之載體的孔部，使上壓盤下降至其上並施加壓力，一面使上壓盤、下壓盤及載體旋轉，並且流入包含Al2
O3
之研磨液，一面研磨雙面，使玻璃母材之厚度為0.30 mm。繼而，藉由CeO2
進一步研磨玻璃母材，使玻璃母材之厚度為0.25 mm。 其次，於溫度30℃下，使經研磨之玻璃母材浸漬於以質量%計具有Na之成分為37%，三乙醇胺為20%，且水為43%之組成之鹼性洗潔劑中120分鐘，以125.0 mm見方之大小獲得厚度0.15 mm之紅外線吸收玻璃板。 於上述鹼性洗潔劑中，作為Na之成分，包含二伸乙基三胺五乙酸五鈉。 針對所獲得之紅外線吸收玻璃板(30片)，抓持兩端部而水平地上拉，結果未產生破裂，又，藉由光學顯微鏡觀察側面，結果不存在微裂縫。 又，針對所獲得之紅外線吸收玻璃板(30片)，測定支點間距離2.5 mm下之3點彎曲強度，結果為35～350 N/mm2
，儘管厚度較薄為0.15 mm，但具有較高之強度。 (比較例1) 使用以按質量%計成為10%之Al2
O3
、10%之AlF3
、6%之MgF2
、15%之CaF2
、24%之SrF2
、18%之SrF2
、3%之BaO、9%之LiF、1%之Li2
O及4%之CuO之組成之方式製備的氟磷酸鹽系玻璃之原料粉末批料，代替磷酸鹽系玻璃之原料粉末批料，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得紅外線吸收玻璃板。 然而，於比較例1中，氟磷酸鹽系玻璃之耐鹼性較高，於藉由鹼性洗潔劑進行之蝕刻步驟中，未被蝕刻，故而紅外線吸收玻璃板之厚度為0.25 mm，無法獲得厚度0.2 mm以下之紅外線吸收玻璃板。 針對如上述般製作之包含氟磷酸鹽系玻璃之紅外線吸收玻璃板(30片)，抓持兩端部而水平地上拉，結果未產生破裂。但是，藉由光學顯微鏡觀察側面，結果存在1 μm～10 μm左右之微裂縫。 又，針對所獲得之紅外線吸收玻璃板(30片)，測定支點間距離2.5 mm下之3點彎曲強度，結果為30～60 N/mm2
。 紅外線吸收玻璃板之陣列： 圖4係用以說明本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造步驟的模式性剖視圖。又，圖5係用以說明本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造步驟的模式性俯視圖。智慧型手機之相機等中使用之紅外線吸收玻璃板一般為較小之尺寸。因此，可於製作較大之尺寸之紅外線吸收玻璃板後，藉由切割等進行分割，而製造較小之尺寸之紅外線吸收玻璃板之陣列，且自陣列取出較小之尺寸之紅外線吸收玻璃板而使用。以下，對紅外線吸收玻璃板之陣列之製造方法進行說明。 首先，作為玻璃母材，準備經鹼清洗之較大之尺寸之紅外線吸收玻璃板21。於紅外線吸收玻璃板21之第1主面21a及第2主面21b之上，視需要設置抗反射膜或紅外線反射膜等光學膜22及23。於本實施形態中，光學膜22及23包含介電多層膜。 使設置有光學膜22及23之紅外線吸收玻璃板21接著於支持體30之上。作為支持體30，例如可使用接著強度因紫外線照射而降低之UV膠帶。 其次，沿切割線A，藉由晶圓切割機等切斷支持體30之上之紅外線吸收玻璃板21，分割為矩陣狀地配置之複數個紅外線吸收玻璃板。 其次，將與支持體30接著之複數個紅外線吸收玻璃板與支持體30一起浸漬於上述鹼性洗潔劑中，蝕刻紅外線吸收玻璃板之側面。藉此，可去除因切割而產生於側面之微裂縫等。因此，可製成不易產生破裂之紅外線吸收玻璃板。 如上所述，可製造本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列。 圖6係表示本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列的模式性俯視圖。本實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列40具備支持體30、及矩陣狀地配置於支持體30上之複數個紅外線吸收玻璃板31。於本實施形態中，由於支持體30包含UV膠帶，故而可藉由照射紫外線而使接著強度降低，從而容易地自支持體30拆卸紅外線吸收玻璃板31。 於上述實施形態中，藉由切割而切斷紅外線吸收玻璃板21，但亦可藉由雷射照射進行切斷而代替藉由切割之切斷。於藉由雷射照射進行切斷之情形時，於切斷面不易產生微裂縫等，故而可省略之後之蝕刻步驟。
1‧‧‧紅外線吸收玻璃板1a、1b‧‧‧第1、第2主面1c‧‧‧側面2‧‧‧抗反射膜3‧‧‧紅外線反射膜10‧‧‧固體攝像元件裝置11‧‧‧固體攝像元件12‧‧‧封裝體13‧‧‧接著劑層21‧‧‧紅外線吸收玻璃板21a、21b‧‧‧第1、第2主面22、23‧‧‧光學膜30‧‧‧支持體31‧‧‧紅外線吸收玻璃板40‧‧‧紅外線吸收玻璃板之陣列
圖1係表示本發明之一實施形態之紅外線吸收玻璃板之模式性立體圖。 圖2係表示本發明之一實施形態之紅外線吸收玻璃板之變化例的模式性剖視圖。 圖3係表示使用本發明之一實施形態之紅外線吸收玻璃板之固體攝像元件裝置的模式性剖視圖。 圖4係用以說明本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造步驟的模式性剖視圖。 圖5係用以說明本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造步驟的模式性俯視圖。 圖6係表示本發明之另一實施形態之紅外線吸收玻璃板之陣列的模式性俯視圖。
Claims (19)
- 一種紅外線吸收玻璃板，其係具有相互對向之第1及第2主面、及連結上述第1及第2主面之側面者，且包含磷酸鹽系玻璃，厚度為0.2mm以下，於上述側面不存在微裂縫，上述磷酸鹽系玻璃係以質量%計，包含25~60%之P2O5、2~19%之Al2O3、5~45%之RO(其中，R係選自Mg、Ca、Sr及Ba中之至少1種)、0~13%之ZnO、8~20%之K2O、0~12%之Na2O及0.3~20%之CuO，且實質上不包含氟。
- 如請求項1之紅外線吸收玻璃板，其中於上述第1及第2主面不存在研磨痕跡。
- 如請求項1或2之紅外線吸收玻璃板，其中上述第1主面之面積為100mm2以上且25000mm2以下。
- 如請求項3之紅外線吸收玻璃板，其中上述第1主面之面積為1000mm2以上且25000mm2以下。
- 如請求項1或2之紅外線吸收玻璃板，其中支點間距離2.5mm下之3點彎曲強度為35N/mm2以上。
- 如請求項1或2之紅外線吸收玻璃板，其中上述第1主面之面積為1mm2以上且未達1000mm2。
- 如請求項1或2之紅外線吸收玻璃板，其係用於固體攝像元件裝置。
- 如請求項1或2之紅外線吸收玻璃板，其係於上述第1主面及上述第2主面中之至少一者之上設置有光學膜。
- 如請求項8之紅外線吸收玻璃板，其中上述光學膜為介電多層膜。
- 如請求項1或2之紅外線吸收玻璃板，其中上述磷酸鹽系玻璃包含P2O5及RO(其中，R係選自Mg、Ca、Sr及Ba中之至少1種)，P2O5相對於RO之含量之比(P2O5/RO)為1.0~1.9。
- 一種紅外線吸收玻璃板之陣列，其具備支持體、及矩陣狀地配置於上述支持體上之如請求項1至10中任一項之複數個紅外線吸收玻璃板。
- 一種紅外線吸收玻璃板之製造方法，其係如請求項1至7及10中任一項之紅外線吸收玻璃板之製造方法，且包括：研磨步驟，其係對包含磷酸鹽系玻璃之板狀之玻璃母材進行物理研磨；及蝕刻步驟，其係將上述經物理研磨之玻璃母材浸漬於鹼性洗潔劑 中，藉此進行蝕刻。
- 如請求項12之紅外線吸收玻璃板之製造方法，其係於上述研磨步驟中，藉由上述物理研磨，使上述玻璃母材之厚度為0.23mm以上且0.3mm以下。
- 如請求項12或13之紅外線吸收玻璃板之製造方法，其係於上述蝕刻步驟中，將上述經物理研磨之玻璃母材浸漬於pH值為7.1以上之鹼性洗潔劑中，藉此進行蝕刻。
- 如請求項12或13之紅外線吸收玻璃板之製造方法，其中上述鹼性洗潔劑包含胺基多羧酸之鹼金屬鹽。
- 如請求項12或13之紅外線吸收玻璃板之製造方法，其係如請求項8或9之紅外線吸收玻璃板之製造方法，其進而包括於蝕刻後之上述玻璃母材之上述第1主面及上述第2主面中之至少一者之上形成上述光學膜的步驟。
- 一種紅外線吸收玻璃板之陣列之製造方法，其係如請求項11之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造方法，且包括：藉由如請求項12或13之方法，製作經蝕刻之上述玻璃母材之步驟；將上述玻璃母材載置於上述支持體之上之步驟； 切割上述支持體上之上述玻璃母材，分割為矩陣狀地配置之上述複數個紅外線吸收玻璃板之步驟；及將上述支持體上之上述紅外線吸收玻璃板浸漬於上述鹼性洗潔劑中，藉此進行蝕刻之蝕刻步驟。
- 如請求項17之紅外線吸收玻璃板之陣列之製造方法，其中上述支持體係接著強度因紫外線照射而降低之UV膠帶。
- 一種固體攝像元件裝置，其具備如請求項1至10中任一項之紅外線吸收玻璃板。
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