DE3005797A1 - Verfahren zum kontinuierlichen ablagern einer schicht eines feststoffs auf der oberflaeche eines auf hohe temperatur gebrachten substrats und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents
Verfahren zum kontinuierlichen ablagern einer schicht eines feststoffs auf der oberflaeche eines auf hohe temperatur gebrachten substrats und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrensInfo
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Description
zioörner<L
er
D-1 BERLIN-DAHLEM 33 ■ PODBIELSKIALLEE D-8 MÜNCHEN 22 · WIDENMAYERSTRASSE 49
SOCIETA ITALIANA VETRO - SIV - S.p.A.
MÜNCHEN: DIPL.-ING. HANS-HEINRICH WEY
DIPL.-ING. EKKEHARD KÖRNER
Berlin, den 13. Februar 198O
Verfahren zum kontinuierlichen Ablagern einer Schicht eines Feststoffs auf der Oberfläche eines auf hohe Temperatur
gebrachten Substrats und Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens
(Priorität: Schweiz, Nr. 1*112/79 vom 14. Februar 1979)
37 Seiten Beschreibung mit 17 Patentansprüchen 2 Blatt Zeichnungen
MP - 27 562
BERLIN: TELEFON (O3O) 8312O88
KABEL: PROPINDUS ■ TELEX O184O57.
MÜNCHEN: TELEFON (O89) 225585
KABEL: PROPlNDUS · TELEX O5 24244
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Es sind bereits verschiedene Verfahren und Vorrichtungen zum Beschichten eines Substrats, beispielsweise einer Glasplatte,
mit einer Schicht eines Halbleitermaterials, beispielsweise Zinnoxid, vorgeschlagen worden, einer Schicht, die
gleichzeitig eine derjenigen des Substrats ausreichend vergleichbare Transparenz, eine relativ geringe elektrische
Widerstandskraft und einen erhöhten mechanischen Widerstand aufweist.
Neben anderen Verfahren hat man insbesondere versucht, zu
diesem Zweck die unter der englischen Bezeichnung der Chemical Vapor Deposition oder C. V. D. bekannte Technik zu
verwenden. Man kennt insbesondere aus dem Artikel von H. Koch "Elektrische Untersuchungen an Zinndioxydschichten" (Phys.
Stat. 1963, Bd.3,S. IO59 ff) ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Ablagern einer dünnen Schicht aus SnOp auf einem Glasplättchen durch Reaktion von SnCIj, und H_0, die in
verdünnter Form in einem Trägergas in Gegenwart von Luft in gegenseitigen Kontakt mit der Oberfläche des vorher auf
eine Temperatur in der Größenordnung zwischen 200 und 400 C erhitzten Glasplättchens gebracht werden. Diese beiden gasförmigen
Reaktionsmittel werden mittels eines Gebläses mit zwei koaxialen Düsen auf das Glas aufgebracht, von denen
die mittlere Düse die gasförmige Verdünnung des SnOp enthält, während die äußere Düse mit einer gasförmigen Verdünnung von
HpO gespeist wird.
Es sind auch ein dem vorbeschriebenen sehr ähnliches Verfahren und eine Vorrichtung vorgeschlagen worden, insbesondere
in der DE-OS 21 23 274, wobei außerdem ein Dotierung der
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auf dem Substrat, im vorliegenden Fall ebenfalls einem Glasplättchen,aufgebrachten SnO„-Schicht durch Antimon
erhalten werden kann, um die elektrische Widerstandskraft dieser Schicht zu verringern. Zu diesem Zweck wurde
insbesondere außerdem SbCl^ in in" einem Trägergas verdünnter
Form,hier Stickstoff, verwendet, das in Gegenwart von SnClj. und H„0 über das Substrat geleitet wird mittels
eines Gebläses mit drei koaxialen Düsen, die jeweils einen der vorerwähnten Bestandteile aufnehmen. Die Kombinationsreaktion findet hier dicht am Substrat und mit einer
gewissen Entfernung von den drei Düsen des Gebläses statt.
Im einen wie im anderen der vorerwähnten Fälle handelt es sich um Verfahren und Vorrichtungen, die allein zur Beschichtung
von Plättchen mit einer relativ geringen Größe durch eine dotierte oder nicht dotierte Schicht von SnO„
bestimmt sind, auf denen diese Beschichtung durch Ablagerung in Längsrichtung in bezug auf das Gebläse und die Plättchen
durchgeführt wird. Die erhaltene Ablagerung erscheint dann in Form eines Bandes aus Zinnoxid mit Transparenzeigenschaften,
die über die Gesamtlänge des Bandes recht ungleichmäßig sind. Die Mischung der von einem Gebläse der vorbeschriebenen
Art ausgestoßenen Reaktionsmittel ist nicht völlig homogen,
so daß die erhaltene Ablagerung Bereiche mit unterschiedlicher Dicke und Zusammensetzung in Form von parallelen
Streifen zur entsprechenden Achse der Bewegung aufweist,
der Gebläse und Substrat unterliegen.
Hier ist festzustellen, daß, wenn sie auch trotz allem
annehmbar sind, wenn es sich darum handelt, Substrate mit relativ geringen Ausmaßen zu beschichten, die beschriebenen
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Verfahren und Vorrichtungen sich doch als praktisch nicht
verwendbar erweisen, wenn es sich um eine bedeutende industrielle Auswertung handelt, die sich auf die Beschichtung
von Substraten besonders großen Ausmaßes beziehen, wie beispielsweise im Fall' von praktisch endlosen
Glasbändernj die mehrere Meter breit sein können, wie man
sie beispielsweise durch das sog . "Float"-Verfahren erhält.
Wenn man die vorbeschriebenen Verfahren und Vorrichtungen für eine solche Anwendung verwenden wollte, müßte man entweder
auf der gesamten Breite des Glasbandes eine Vielzahl von Gebläsen der beschriebenen Art anordnen - und man stelle
sich die Komplexität der daraus entstehenden Einrichtung vor -, oder man müßte nur von einer beschränkten Anzahl Gebläsen
Gebrauch machen, die ein Mechanismus mit abwechselnder sehr schneller Bewegung quer zur Achse des Vorbeilaufs dieser über
das Band ziehen müßte, um die Beschichtung der Gesamtheit der Oberfläche dieses Bandes zu gewährleisten. Es ist offensichtlich,
daß keine dieser Lösungen es ermöglicht, eine ausreichend homogene SnOp-Beschichtung zu erhalten, die
gleichzeitig die niedrigste elektrische Leitfähigkeit, die Durchlässigkeit und das allgemeine Aussehen guter Qualität,
wie sie für das Endprodukt erwünscht sind, bieten. Da es sich um ein Glas handelt, das sowohl zur Herstellung von Fenstern
oder Türen von Gebäuden als auch für Fenster oder Windschutzscheiben beispielsweise von Fahrzeugen aller Art bestimmt
ist, ist verständlich, daß vergleichbare Leistungen höchst wünschenswert sind.
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Hierzu muß noch die weitere Fähigkeit kommen, die die SnO--Beschichtungen
haben müssen, nämlich, mechanische oder thermische Behandlungen nicht zu behindern, denen die Glasplatten
gewöhnlich unterworfen werden können. Insbesondere wäre es erforderlich, daß derartige mit dotiertem oder nicht
dotiertem SnOp beschichtete Glasplatten durch Einwirkung auf die eine oder auf die andere ihrer Seiten mit Diamanten
schneidbar sein müssen, ohne daß die Güte der SnOp-Beschichtung beeinträchtigt werden könnte. Ebenso muß möglich sein, daß
man die Glasplatten, die man durch Ausschneiden aus derartigen Platten erhält, einem Härtungsvorgang unterwirft,
ohne daß eine mechanische oder optische Beeinträchtigung ihrer Beschichtung eintritt. Schließlich wäre es wünschenswert,
derartige Platten unter Wärmeeinwirkung wölben zu können, insbesondere, um aus ihnen beispielsweise Windschutzscheiben
oder Rückfenster für Fahrzeuge herstellen zu können, und zwar ebenfalls ohne Veränderung der vorerwähnten Eigenschaften
geringer elektrischer Widerstandskraft, guten
mechanischen Verhaltens, guter Durchsichtigkeit und Lichtreflexion, die über die gesamte Fläche der Platten so
homogen wie möglich sein soll.
Die Gesamtheit dieser Leistungen kann durch Verwendung der beschriebenen Verfahren oder Vorrichtungen dieser Art nicht
erhalten werden, d.h. derer,die es nur ermöglichen, einzeln eine sehr beschränkte Glasfläche zu behandeln.
Wahrscheinlich hat die Beschäftigung mit der vorerwähnten Ausführung dazu geführt, die beschriebenen Verfahren und Vorrichtungen
durch die Verfahren und Vorrichtungen zu ersetzen, die insbesondere den Gegenstand der US-PS'en 3 850 679 und
3 888 6^9 sowie der GB-PS 1 507 996 bilden.
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BAD ORIO'MAL,
In allen diesen Unterlagen wird ganz allgemein Bezug genommen auf eine Verteilervorrichtung für vorher zubereitete
Reaktionsgase j in der diese Gase auf die Oberfläche der Glasplatte gleichzeitig über die gesamte Breite dieser
Platte hinweg geleitet werden, und zwar in Form zweier aufeinanderfolgender Vorhänge in den beiden ersten Patenten
sowie in der Form eines tangential zum Glas geführten gasförmigen Stroms auf einer bestimmten Länge der Platte im
dritten Patent.
Diese Vorrichtungen können aber für die Durchführung der C. V. D.-Verfahren der vorerwähnten Arten nicht geeignet
sein, die zur Ablagerung von dotierten oder nicht dotierten SnCU-Beschichtungen bestimmt sind, weil das Hinzutreten einer
gasförmigen SnCIi,- und HpO-Mischung nahe der Verteileröffnung
dieser Vorrichtungen eine vorzeitige und starke Reaktion dieser Bestandteile hervorrufen würde aufgrund
der relativ hohen Temperatur, die praktisch gleich der des zu beschichtenden Glases ist (in der Größenordnung von 400 C),
welche die Wände der diese öffnung begrenzenden Vorrichtungen aufweisen würden. Man erhielte aus diesem Grunde zwei zusätzliche
Nachteile, d.h. einerseits das mehr oder weniger deutliche Verstopfen der Austrittsöffnungen der Verteilervorrichtungeh
und andererseits über das Glas hinweg die Erzeugung einer SnO„-Ablagerung von besonders inhomogener Art
mit sehr veränderlicher Qualität in allen ihren elektrischen, mechanischen oder physischen Aspekten.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren
zum kontinuierlichen Ablagern einer sich aus der Reaktion mindestens zweier gasförmiger oder in dem Gas aufgelöster
Reaktionsmittel ergebenden Feststoffschicht auf der
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BAD ORIGINAL
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Oberfläche eines auf hohe Temperatur gebrachten Substrats zu schaffen sowie eine Vorrichtung zur Durchführung eines
solchen Verfahrens anzugeben, die es ermöglichen, alle vorerwähnten Nachteile und Mängel zu vermeiden.
Für das Verfahren wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Ströme die Form geradliniger gasförmiger Vorhänge aufweisen,
wobei die quergerichteten Profile eines jeden dieser zu einer allen Strömen gemeinsamen fiktiven Kante hin zusammenlaufen;
daß man diese Vorhänge und/oder das Substrat in der Weise anordnet, daß die Kante im wesentlichen in der Ebene
der Substratoberfläche liegt;
daß man das Substrat und die Vorhänge relativ in einer im wesentlichen senkrechten Richtung zur gemeinsamen Kante verschiebt
und in einer Weise, daß diese Kante im wesentlichen in der Ebene der Substratoberfläche gehalten wird;
daß man die aus der sich aus dem Zusammenprall der Ströme auf dem Substrat ergebenden Reaktion ausgestoßenen Gase zwingt,
oberhalb eines vorbestimmten Abschnitts dieses Substrats abzufließen; und
daß man diese Gase am Ende des gegenüber der fiktiven gemeinsamen Kante der Vorhänge liegenden Substratabschnitts entfernt.
In einer bevorzugten Ausführungsform dieses Verfahrens gibt es drei dieser gasförmigen Vorhänge, die immer zu zweit in Berührung
miteinander stehen, wobei der Mittelvorhang aus dem Strom des ersten Reaktionsmittels und die beiden seitlichen
Vorhänge aus dem gasförmigen Strom des anderen Reaktionsmittels bestehen.
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Wenn dieses Verfahren durchgeführt wird, um auf einem
Substrat, insbesondere einer auf hohe Temperatur von beispielsweise etwa 600°C gebrachten Glasplatte, eine SnOp-Beschichtung
durch Reaktion von flüssigem SnCIj. und H-O-Dampf
abzulagern, die in einem inerten Trägergas wie Stickstoff verdünnt wurden, besteht der Mittelvorhang aus der gasförmigen
Verdünnung von SnCIh, während die seitlichen Vorhänge aus der Verdünnung von Wasserdampf bestehen.
Weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Vorrichtung
zur Durchführung des beschriebenen Verfahrens, die erfindungsgemäß folgende Merkmale aufweist:
- Eine Quelle eines ersten gasförmigen oder in einem Trägergas verdünnten Reaktionsmittels,
- eine Quelle eines zweiten gasförmigen oder in einem Trägergas verdünnten Reaktionsmittels,
- ein Gebläse mit drei Düsen, die jeweils eine Öffnung aufweisen, die aus einem geradlinigen Schlitz besteht und deren
seitliche Wände, die die Längskanten eines jeden Schlitzes begrenzen, zu einer allen drei Düsen gemeinsamen Linie
zusammenlaufen, wobei die erste dieser Düsen mit einer ersten Längskante ihrer Ausstoßöffnung neben einer Längskante der
Ausstoßöffnung einer zweiten Düse liegt und mit der zweiten Längskante dieser Öffnung mit einer Längskante der Ausstoßöffnung
der dritten Düse,
- eine erste und eine zweite Ablenkfläche, die sich über eine
vorbestimmte Länge hinweg auf beiden Seiten der Düsen erstrecken, ausgehend von der zweiten Längskante der Ausstoßöffnung
der zweiten bzw. der dritten Düse, wobei die Ablenkflächen untereinander und mit den Längskanten der Düsenöffnungen
des Gebläses koplanar und kinematisch mit diesem Gebläse formschlüssig verbunden sind,
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S. ' " BAD ORIGINAL
- ein erstes Verteilernetz, das die Quelle des ersten
Reaktionsmittels mit der ersten Düse des Gebläses verbindet,
- ein zweites Verteilernetz, das die Quelle des zweiten Reaktionsmittels mit der ersten und der dritten Düse
des Gebläses verbindet,
- Mittel zur Mitnahme des Substrats und des Gebläses in Relativbewegung in eine im wesentlichen senkrechte Richtung
zur fiktiven Linie,
- Mittel, um im Verlauf dieser Relativbewegung den Abstand konstant zu halten, der die Ebene mit den öffnungen der
Düsen des Gebläses und die Ablenkflächen der Substratoberfläche trennt, wobei dieser Abstand im wesentlichen
gleich dem zwischen den Düsen des Gebläses und der fiktiv ^ Linie liegenden ist,
- mindestens eine Einrichtung, um die sich in dem Raum zwischen den Ablenkflächen und der Oberfläche des Substrats
bildenden Reaktionsgase zu entfernen, ausgehend von den am weitesten von den öffnungen der Düsen entfernt liegenden
Enden dieses Raumes.
Wie sich aus folgendem ergibt, ermöglichen das Verfahren und
die Vorrichtung der vorerwähnten Art auf wirkungsvolle Weise mit sehr hoher Geschwindigkeit die Beschichtung von Glasplatten
oder -plättchen mit einer SnOp-Beschichtung von ausgezeichneter Homogenität, die Leistungen von sehr hohem
Niveau auf der Ebene des mechanischen Verhaltens und der elektrischen und optischen Eigenschaften jeder Art
garantieren.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
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Einzelheiten, Vorteile und Anwendungen der Erfindung
werden nachstehend anhand eines in der Zeichnung sehr schematisch dargestellten Ausführungsbeispiels näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Gesamtansicht,
Fig. la und Ib Ansichten von Abwandlungen der Ausführung
entsprechend Fig. I3
Fig. 2 eine perspektivische Teilansicht eines Elements der Vorrichtung nach Fig. 1 im senkrechten Schnitt
und in vergrößertem Maßstab.
Mit der in der Zeichnung dargestellten Vorrichtung soll durch das sogen. C. V. D.-Verfahren auf einem Substrat,
im vorliegenden Fall einer auf hohe Temperatur gebrachten Glasplatte V3 eine Beschichtung aus.Zinnoxid SnOp abgelagert
werden unter Verwertung der folgenden chemischen Reaktion:
2H2O } SnO2 + 4HCl?
Zu diesem Zweck umfaßt die Vorrichtung vor allem eine Reihe von Walzen I3 auf denen die Platte V aufliegt und
sich in Richtung F verschiebt, wobei diese Walzen durch einen (nicht dargestellten) Elektromotor im Gegenuhrzeigersinn
in Drehung mitgenommen werden und selbstverständlich eine der Größe der zu tragenden Glasplatte
kompatible Größe aufweisen. Die Drehgeschwindigkeit der Walzen 1 wird so gewählt, daß die Verschiebung der Platte V
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mit einer Lineargeschwindigkeit von einigen Metern pro Minute stattfindet, und zwar in der Größenordnung von 1 bis
10, dem jeweiligen Fall entsprechend.
Oberhalb dieser Walzenreihe 1 weist die dargestellte Vorrichtung ein Gebläse 2 auf, dessen konstruktives Grundprinzip
Gegenstand der Fig. 2 ist, auf die im folgenden Bezug genommen wird. Dieses Gebläse enthält drei unterschiedliche
Düsen 3, 4 bzw. 5, die sich längsseits in Parallelrichtung zu den vorerwähnten Walzen 1 über eine
der Breite der Glasplatte V entsprechende Länge erstrecken. Derartige Düsen können eine Länge von mehreren Metern haben.
Wie aus der Zeichnung ersichtlich, sind die Düsen 3 bis 5 durch Zusammenbau langgestreckter Walzprofile 6a und 6b, 7a
und 7b, 8a und 8b gebildet, die ihrerseits mittels irgendwelcher geeigneter Mittel an zwei Profilpaaren 9a und Sb
bzw. 10a und 10b befestigt sind, die zwischen sich Durchlässe 11, 12 und 13 begrenzen, die mit den Düsen 3» ^ bzw.
5 in Verbindung stehen.
Die Seitenwände 3a und 3b, 4a und Hb, 5a und 5b der Düsen
3 bis 5 laufen zu einer gemeinsamen Linie L zusammen, die im Abstand von der Ebene liegt, die die Unterseite der Profile
6a und 6b in einer Länge in der Größenordnung von beispielsweise 3 bis 6 mm umfaßt. Außerdem haben die Ausgangsöffnungen
der Düsen 3, 4 und 5j die die Form von drei länglichen
Schlitzen aufweisen, welche sich über die gesamte Länge der Profile 6a, 7a, 7b und 6b erstrecken, eine Breite von einigen
Zehntelmillimetern, beispielsweise 1/10 oder 2/10.
Die Breite der Unterseite der Profile 6a und 6b liegt vorzugsweise zwischen 10 und 20mal die Gesamtbreite der
Ausgangsschlitze der Düsen 3 bis 5·
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Vorzugsweise, aber nicht ausschließlich, wird diese Unterseite der Profile 6a und 6b mit einer chemisch inerten
Metallschicht oder einer Legierung dieser Metalle oder auch von Metalloxiden beschichtet. Beispielsweise kann das Metall
Gold oder Platin sein. Die Oxide können aus SnOp3 SiOp oder AIpO, ausgewählt werden.
Die Metalle und üblichen Legierungen wie Stahl oder Messing haben in Gegenwart von Wasserstoff katalytische Eigenschaften,
die die Steuerung der gewünschten Reaktion beeinträchtigen können, um eine Ablagerung von SnOp zu erhalten, das die
gewünschten mechanischen, physikalischen und optischen Eigenschaften aufweisen soll. Im folgenden werden die Gründe
für diese Gegenwart von Wasserstoff dargelegt.
Der Zusammenbau der das Gebläse 2 bildenden Profile ist natürlich an jedem Ende mit einer nicht dargestellten Abdichtschicht
bedeckt, die so angebracht ist, daß sie eine völlige Abdichtung gewährleistet und auf diese Weise Düsen
3, 4 und 5 und Durchlässe 11, 12 und 13 bildet, die seitlich
gut verschlossen sind. Kanäle 14a und l4b, die im oberen Teil der Profile 10a und 10b über die gesamte Länge dieser
eingebracht sind, ermöglichen eine Pluidzirkulation beispielsweise von öl, um das Gebläse 2 auf einer optimalen Betriebstemperatur
zu halten.
Eine weitere Platte 15 bedeckt die Oberseite des Gebläses 2 über seine gesamte Ausdehnung hinweg auf dichte' Weise,
wodurch jede Verbindung zwischen den Durchlässen 11, 12 und 13 ausgeschlossen wird.
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Es ist auch festzustellen, daß das allgemeine Profil und der Zustand der die Düsen 3 bis 5 sowie die Durchlässe 11 bis 13
(Fig. 2) begrenzenden Wandflächen sowie die Querschnitte dieser so beschaffen sind3 daß für gasförmige Durchlaßmengen
in der Größenordnung von 3 bis 6 l/h pro Zentimeter Länge des Gebläses die Ströme am Ausgang der Düsen "laminar" sind·
Auf beiden Seiten des Gebläses 2 und auf seiner gesamten Länge weist die dargestellte Vorrichtung zwei Ansaugkanäle 16
und 17 (Fig. 1 und 2) mit quadratischem Querschnitt auf, deren Unterseite koplanar mit der Unterseite der vorbeschriebenen
Profile 6a und 6b verläuft. Diese Kanäle weisen jeweils zwei Längsschlitze 16a und l6b für den Kanal 16 bzw. 17a und
17b für den Kanal 17 auf. Die Kanäle sind über ein Leitungssystem 18 mit dem Eingang einer Ansaugpumpe 19 verbunden,
die über ihren Ausgang mit dem Unterteil eines mit feuerfestem Material (Raschigringen) gefüllten Waschturms 20 verbunden
ist.
Die dargestellte Vorrichtung umfaßt weiterhin zwei mit Thermostat versehene Rührwerkbehalter 21 und 22, von denen
der erste Zinnchlorid, SnCIn, in flüssiger Form enthält und
der zweite Wasser; zwei Mengenmesser 23 und 2h mit Durchflußmengen-Steuerventilen
23a bzw. 24a, die mit einer Mischung aus Stickstoff und Wasserstoff im Verhältnis 60:40
gespeist werden; und zwei Ventile 25 und 26, die auf Rohrleitungssystemen 27 und 28 angeordnet sind, die die Mengenmesser
mit den vorerwähnten Rührwerkbehältern verbinden. Zwei Leitungen 29 und 30 verbinden den Ausgang der Behälter
21 bzw. 22 mit dem Durchlaß 13 und den Durchlässen 11 und 12 des Gebläses 2, d.h. endgültig mit der Düse 5 dieses Gebläses,
soweit die Leitung 29, und mit den Düsen 3 und 4, soweit die
Leitung 30 betroffen ist.
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Die Leitungen 29 und 30 durchlaufen einen Behälter E1,
der schematisch durch einen Umriß in strichpunktierten Linien dargestellt ist, eine Heizflüssigkeit, beispielsweise öl,
enthält und in jeder geeigneten Weise auf einer konstanten Temperatur von etwa 110 C gehalten wird.
Die Vorrichtung der vorbeschriebenen Art ermöglicht es, beispielsweise eine Glasplatte mit einer Zinnoxidschicht
zu beschichten, die eine Dicke in der Größenordnung von mm bei gleichzeitiger guter Durchsichtigkeit, relativ geringer
elektrischer Leitfähigkeit, bemerkenswerter Haftfähigkeit
am Glas und erhöhter Widerstandsfähigkeit sowohl mechanischer Art als auch gegenüber Säuren aufweist.
Eine Versuchsvorrichtung dieser Art, versehen mit einem Gebläse von 20 cm Länge, bei dem die Düsenöffnungen 35 4 und
5 eine Breite von 0,1 -0,1 und 0,2 mm aufweisen, ermöglichte, eine auf etwa 600°C erhitzte und mit einer Geschwindigkeit
von 2 m/min in Richtung F (Pig. I und 2) angetriebene Glasplatte von 20 cm Breite und 4 mm Dicke zu behandeln. Der die
Unterseite des Gebläses und die Glasoberfläche trennende
Abstand betrug 6 mm.
Es wurden Behälter 21 und 22 mit einer Kapazität von etwa 200 bis 300 ml mit flüssigem SnCIh im Behälter 21 bzw. HpO
im Behälter 22 verwendet. Diese Behälter wurden auf solche Temperaturen erhitzt, daß für eine Trägergas-Durchflußmenge
N2Z1H2 von 60 l/h im Behälter 21 und 120 l/h im Behälter
22· - Durchflußmengen, die durch Einwirkung auf die Schieber
23a und 24a reguliert wurden - eine verdünnte Reaktionsmittel-Durchflußmenge
in diesem Gas von 2 mol/h Zinnchlorid, SnClj., und 1 mol/h Η?0 erhalten wurde. Außerdem hielt man
die Temperatur des Gebläses durch Zirkulation von öl in dessen Kanälen l4a und l4b (Fig. 2)auf einem Wert von etwa
iio°c. 030035/079·
- 20 -
-χ- Μ
Angesichts des den Düsen 3, 4 und 5 des Gebläses 2 gegebenen
Profils und insbesondere aufgrund der Tatsache, da3 sie mit ihren Seitenwänden auf eine gemeinsame Linie L hin zusammenlaufen,
treten die aus diesen Mundstücken austretenden gasförmigen Ströme, d.h. der Strom SnCIj, in bezug auf die
Düse 5 und der Strom von Wasserdampf in bezug auf die Düsen 3 und 4, die laminar sind, erst in gegenseitige
Berührung, indem sie sich seitlich leicht berühren, und dann immer unmittelbarer entsprechend dem Maß, wie sie
sich der vorerwähnten Linie "L" nähern. Der kombinierte Strom dieser drei gasförmigen Flüsse wird immer weniger
laminar, je mehr diese Flüsse ineinanderfließen. Dies findet jedoch tatsächlich erst unmittelbar nahe der Oberfläche
des Glases V statt, das wie vorbeschrieben auf etwa 600 C
erhitzt worden ist, so daß die Kombinationsreaktion
SnCl^ + 2H2O >
SnO2 + 4HClf
auf dem Glas stattfindet. Hier ist festzustellen, daß, wenn man nicht besondere Vorkehrungen träfe, diese Reaktion unter
Erzeugung einer großen Menge Zinnoxid SnO2, und Hydroxiden
der Art Sn0? . nH„0 am Ausgang der Düsen 3 bis 5 des Gebläses
2 auf sehr heftige Weise stattfände, was das Risiko eines teilweisen oder totalen Verstopfens aller oder eines Teils
der Düsen mit sich brächte unter Ablagerung der gleichen Zinnoxide auf dem Glas in Form eines weißen Schleiers und
nicht in Form der gewünschten halbleitenden, durchsichtigen Schicht.
- 21 -
030035/0799
-X-
Mittels der beschriebenen Vorrichtung wurde diese Gefahr ausgeräumt, indem den beiden gasförmigen Strömen von SnCl^
und HpO-Dampf ein Reduktionsmittel in Form von H„ beigemengt
wurde, das in das Trägergas eingeschlossen war. Der Wasserstoff ist ein weder mit SnCl^ noch mit HpO reagierendes
Gas. Darüber hinaus wirkt er als Katalysator. Er kann daherals inertes Trägergas verwendet werden.
Die Kombinationsreaktion von SnCIn und H„0 findet nicht nur
im Mittelbereich des Gebläses 2 statt, d.h. nahe dem Teil dieses Gebläses, in dem die Düsen 3j ^ und 5 sich öffnen.
Diese Reaktion findet statt, während die Pumpe 19 derart wirkt, daß durch die auf beiden Seiten des Gebläses angeordneten
Kanäle 16 und 17 ein Unterdruck an den rechten und linken Enden (in der Zeichnung) des Raums zwischen der
Glasplatte V und der Unterseite der Profile 6a und 6b des Gebläses entsteht. Aus diesem Grund bildet sich in diesem
Raum ein gasförmiger Strom, der vom Mittelteil dieses Raumes zu den bereits erwähnten Kanälen 16 und 17 fließt. Dieser
Strom enthält vor allem einen Teil SnCl^ und HpO, die
in dem Trägergas dispergiert sind und noch nicht reagiert haben, die bereits gebildeten HCl-Dämpfe und eine gewisse
Menge Trägergas, das von den Reaktionsmitteln befreit ist, die schon reagiert haben. Die Reaktion zwischen SnOp und
HpO kann also mit den restlichen Reaktionsgasen auf einer gewissen Länge auf beiden Seiten der Linie "L" des Zusammenlaufs
der Düsen weiter stattfinden.
- 22 -
030035/079·'
Die mittels der Kanäle l6 und 17 realisierte Ansaugkraft wird so gewählt, daß die von dem Gebläse ausgesandten
Reaktionsgase in diesem Raum nur während der Zeit aufrechterhalten bleiben, die unbedingt erforderlich ist, um eine
Ablagerung von SnO- auf dem Glas zu erreichen, eine Ablagerung, die in Form einer durchsichtigen Schicht stattfindet
und nicht in Form einer pulverförmigen Zunahme an
SnOp. Selbstverständlich darf die Ansaugung auch nicht zu
stark sein, weil andernfalls die aus dem Gebläse ausgesandten Reaktionsgase nicht die Zeit hätten, die Oberfläche des
Glases zu erreichen. Die Intensität der Ansaugung ist daher bestimmend für die Qualität und die Geschwindigkeit des
Anwachsens der Schicht. Es ist auch zu betonen, daß man dank dieser Ansaugung auf eine gewisse Weise den zwischen dem
Gebläse und der Glasplatte befindlichen Raum von der Umgebungsatmosphäre isoliert, einen Raum, in dem die gewünschte
Reaktion stattfindet, und man verhindert einerseits jedes mögliche Eindringen von zusätzlicher 'Feuchtigkeit in diesen
Raum, die die Kombinationsreaktion beeinflussen könnte, und andererseits jedes Entweichen von schädlichen Dämpfen, beispielsweise
HCl oder Wasserstoff, in diese Umgebungsatmo Sphäre,
wobei die Umgebungsatmosphäre die Neigung zeigt, zu den Schlitzen 16a und l6b bzw. 17a und 17b hin zu strömen,
indem sie zwischen dem Kanal 16 bzw. dem Kanal 17, der Glasplatte V und dem Gebläse 2 hindurchströmt.
Die dank der Pumpe 19 angesaugten gasförmigen Erzeugnisse werden, wie beschrieben, so zum Waschturm 20 geleitet, daß
die flüchtigen Restsäuren einer Filterung und einer Mitnahme durch das Wasser unterworfen werden, wobei die sich ergebende
Säurelösung von den gewaschenen und durch die Leitung 20a entfernten Gasen getrennt werden.
030035/0791 " 23 "
Unter den vorbeschriebenen Betriebsbedingungen betrug der Reaktionsertrag etwa 10%. Das Glas war auf seiner
gesamten Oberfläche mit einer SnOp-Schicht von 500 mm Dicke mit einer Durchsichtigkeit von 90 bis 95% entsprechend
den Mustern und mit einer mittleren Leitfähigkeit von Ra = 200 Xl beschichtet.
Außerdem hat sich erwiesen, daß die auf diese Weise erhaltene SnOp-Beschichtung eine besonders große Härte aufwies,
die über der des Glases lag, auf dem sie abgelagert worden war. Ihre Widerstandsfähigkeit war daher außerordentlich
bedeutend, sowohl gegenüber intensivsten mechanischen Belastungen, beispielsweise Stoß, als auch
gegen Angriffe durch Säuren. Dieses Glas konnte insbesondere einem Bombageverfahren mit einem Krümmungshalbmesser von
15 cm unterworfen werden, nachdem es auf eine Temperatur zwischen 600° und 700°C gebracht worden war, ohne daß
irgendeine Beschädigung der SnOp-Beschichtung eintrat. Es war ebenso möglich, es unter den für normales Glas
üblichen Bedingungen zu härten. Schließlich ist festzustellen, daß eine mit einer SnOp-Schicht beschichtete Glasplatte
unter den beschriebenen Bedingungen und Modalitäten mit einem Diamanten geschnitten werden kann, indem die Vorderoder
die Rückseite der Platte angegriffen wird, ohne daß die Beschichtung dabei abblättert.
Mit der gleichen Vorrichtung und unter Arbeitsbedingungen, die sich von den beschriebenen nur im Hinblick auf die
Mitnahmegeschwindigkeit der Platte V unterscheiden, wobei diese Geschwindigkeit auf etwa 10 m/min erhöht wurde, erhielt
man eine SnOp-Ablagerung mit einer Dicke von etwa 10 nm,
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030035/0799
einer mittleren Leitfähigkeit von Ra = 1,5 KfI ,
einer Durchsichtigkeit von fast 100$ für die sichtbare Strahlung und mechanischen Eigenschaften, die praktisch
gleich denen der Ablagerung waren, die bei Mitnahme der Glasplatte mit einer Geschwindigkeit von 2 m/min
erhalten wurde.
Die vorbeschriebene Vorrichtung kann auch für die Ablagerung einer TiOp-Schicht auf einer Glasplatte durch
C.V.D. verwendet werden. Es genügt dafür, in dem Rührwerkbehälter
21 das Zinnchlorid, SnCl2., durch Titanchlorid,
TiCl2., zu ersetzen. Man kann auch ein Trägergas
verwenden, das ausschließlich aus Stickstoff besteht.
Am Ausgang des Gebläses 2 findet folgende Reaktion statt:
TiCl4 + 2H2O >
TiO2 + 4HCIf .
Eine Glasplatte von 20 cm Breite und 4 mm Dicke, erhitzt auf eine Temperatur von 600 C, wurde längsseits mit
einer Geschwindigkeit von 2 m/min an dem Gebläse mit einem Abstand von 6 mm von diesem vorbeigeführt. Durch
Einwirkung auf die Schieber 23a und 24a wurde der Trägergasdurchfluß auf 60 l/h für den Durchflußmesser 23 und
120 l/h für den Durchflußmesser 24 einreguliert. Die Behälter 21 und 22 wurden erhitzt, damit die Durchflußmenge
an Reaktionsmitteln 0,2 mol/h TiCl2, und 0,01 mol/h
HpO betrug.
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330035/0799
Man erhielt eine Schicht aus TiOp von O1Ol um Dicke mit
einer Durchsichtigkeit für sichtbares Licht von etwa 75$ und einer Reflexionskraft für dieses sichtbare Licht
in der Größenordnung von 50$, d.h. sie war höher als die
des die Ablagerung tragenden Glases. Die mechanische Widerstandskraft war der einer wie vorbeschrieben erhaltenen
SnO^-Ablagerung vergleichbar.
Die unmittelbare Zugabe von Hp zum Abschwächen der Reaktionsstärke der Kombination des SnCl^, und des Wasserdampf
es stellt nicht die einzig mögliche Maßnahme dar. Entsprechend einer Abwandlung der Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens ist es möglich, ein ausschließlich aus Stickstoff bestehendes Trägergas zu verwenden und an Ort
und Stelle den zur Reduktion erforderlichen Wasserstoff aus Methanol, CH,OHfzu erzeugen. Fig. la zeigt, wie die
bereits beschriebene (Pig. I) Vorrichtung abgewandelt werden muß.
Die neue Vorrichtung muß zusätzlich einen das Methanol enthaltenden Rührwerkbehälter 31, einen Durchflußmesser
mit seinem Durchflußregelschieber 32a, ein Ventil 33> das auf einem"Rohrleitungssystem 34 angebracht ist, das
den Durchflußmesser 32 mit dem Behälter 31 verbindet, und schließlich eine Leitung 35 aufweisen, die den Ausgang
dieses Behälters mit der Leitung 30 und von dort mit den Durchgängen 11 und 12 des Gebläses 2, d.h. den äußeren
Düsen 3 und 4 dieses Gebläses verbindet.
Die Leitungen 29, 30 und 35 durchqueren einen schematisch
durch einen Umriß in strichpunktierter Linie dargestellten Behälter Ep, der eine Heizflüssigkeit, beispielsweise öl,
030035/0799
enthält, das auf irgendeine geeignete Weise auf einer konstanten Temperatur von etwa 110 C gehalten wird.
In Gegenwart des SnCl^ kann das Methanol mit diesem wie
folgt reagieren:
+ 2CH3OH ^ SnO2 + 2 HCl + 2CH,C1
Angesichts der relativ hohen Temperatur am Ausgang der Düsen kann das Methanol im übrigen durch folgende Reaktion
zerfallen:
CH OH ^ 2H2 + CO
Es kann auch mit HpO reagieren entsprechend der Reaktion
CH OH + H2O
In dem einen wie im anderen Fall hat man also an Ort
und Stelle eine Produktion von Wasserstoff, der für die Steuerung der bereits beschriebenen, wesentlichen Reaktion
erforderlich ist:
+ 2H2O >
SnO2 +
Es ist festzustellen, daß der Versuch es nicht ermöglichte zu bestimmen, welche der drei vorerwähnten, das CH^OH
betreffenden Reaktionen vorzuziehen ist. Es ist bereits
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030035/0799
bemerkt worden, daß unter den im folgenden beschriebenen Betriebsbedingungen die Einleitung des Methanol in den
Ablagerungsprozeß der gewünschten SnOp-Schicht tatsächlich ermöglichte, dieses Verfahren auf gleiche Weise wie beim
Fall der Verwendung von Wasserstoff vermischt mit Stickstoff als Trägergas (Fig. 1) zu steuern.
Um mit der bereits beschriebenen Pilotvorrichtung, abgewandelt durch die Zufügung der zusätzlichen für diese
Ausführungsform geeigneten Mittel, eine Glasplatte von 20 cm Breite mit einer durchsichtigen Beschichtung von SnOp zu
erhalten, ließ man durch jeden der drei Behälter 21, 22 und
31 eine Durchflußmenge von etwa 60 l/h Stickstoff laufen,
wobei alle Durchflußmengen durch Einwirkung auf die Schieber 23a, 24a und 32a, mit denen die Durchflußmesser 23, 24 und
32 versehen sind, reguliert wurden. Man hat diese Flaschen auf geeignete Temperaturen gebracht, damit ihre entsprechenden
Reaktionsmittel-Durchflußmengen 1 mol/.h SnCl^ bzw. 1 mol/h HpO
bzw. 0,5 mol/h CH,QH betrugen. Die Temperatur des Gebläses,
ο aufrechterhalten durch ölzirkulation, betrug wie vorher 110 C,
während die Glasplatte auf eine Temperatur von etwa 600°C vorgeheizt wurde. Das Glas wurde in Richtung F mit einer
Geschwindigkeit von 2 m/min mitgenommen, wobei es auf 6 mm Abstand von der Unterseite der das Gebläse bildenden Profile
6a und 6b gehalten wurde.
Die erhaltene SnOp-Beschichtung hat sich hinsichtlich der Dicke, der Qualität und der mechanischen, elektrischen
und physikalischen Eigenschaften in bezug auf die analoge Beschichtung, die mittels der in Fig. 1 veranschaulichten
Vorrichtung erhalten wurde, als praktisch identisch erwiesen.
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S30035/079!
\ -L
Die den Gegenstand der Fig. Ib bildende Abwandlung der Vorrichtung ist mehr im einzelnen zur Herstellung
von Schichten aus mit Antimon dotiertem SnOp durch Ersetzen bestimmter Zinnatome durch Sb bestimmt. Es ist
bekannt, daß es dank einer solchen Dotierung insbesondere möglich ist, eine relativ erhebliche Verminderung des
spezifischen Leitungswiderstandes der Beschichtung zu erreichen.
Eine solche Dotierung kann durch die folgende Reaktion erhalten werden:
2SbCl5 + 5H2O ^ 2Sb2O + HCl,
die die zusätzliche Einleitung von Antimonionen in die kristalline Struktur des Sn0„ ermöglicht.
Da das Antimonchlorid mit Wasser, aber nicht mit Zinnchlorid reagiert, wird die Vorrichtung entsprechend der Fig. Ib
so verwirklicht, daß das SnCIj- nur am Ausgang des Gebläses
mit HpO zusammeru-gebracht wird, wobei es mit dem Zinnchlorid,
SnCl1J, vermischt wird. Auf diese Weise findet die obenstehende
Reaktion gleichzeitig mit der Kombinationsreaktion von SnCIn und Wasserdampf statt.
Die neue Vorrichtung unterscheidet sich von der der Fig.
durch Hinzufügung eines Rührwerkbehälters 36, der flüssiges Antimonchlorid,SbCl51 enthält, eines Durchflußmessers 37
mit einem Regelventil 37a, einem auf einem Rohrleitungssystem 39 angebrachten Ventil 38 und schließlich einer
Leitung 40, die den Ausgang dieses Behälters mit der Leitung
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S3ÖÖ3S/0799
_- JLl lL.
29 und damit mit der Mitteldüse 5 des Gebläses durch den Durchgang 13 dieses Gebläses hindurch (Fig. 2) verbindet.
Die Leitungen 29, 30 und 40 durchlaufen einen Behälter E7,
der schematisch durch einen in strichpunktierten Linien angedeuteten Umriß dargestellt ist und der eine Heizflüssigkeit,
beispielsweise öl, enthält, das auf jede geeignete Weise auf einer konstanten Temperatur von etwa 110 C gehalten
wird.
Eine Pilotvorrichtung dieser Art, versehen mit einem Gebläse mit Eigenschaften, die denen des Gebläses der bereits beschriebenen
Pilotvorrichtung identisch sind und entsprechend dem Schema der Fig. 1 angebracht sind, ermöglicht es, eine
Glasplatte von. 20 cm Breite und 4 mm Dicke mit einer Ablagerung von mit Antimon dotiertem SnOp von 500 nm Dicke
zu versehen. Die Betriebsbedingungen waren im wesentlichen folgende:
Das Glas wurde auf eine Temperatur von etwa 600 C erhitzt
und längsseits in einem Abstand von 6 mm von dem Gebläse mit einer Geschwindigkeit von 2 m/min verschoben. Das verwendete
Trägergas war eine Mischung aus Stickstoff und Wasserstoff Np40$H2>
und"die Durchflußmengen dieses Gases wurden mittels Einwirkung auf die der Ventile 23a, 24a und
33a auf folgende Werte eingestellt: 60 l/h für den flüssigen SnCl2, enthaltenden Behälter 21, 60 l/h für den H2O enthaltenden
Behälter 22 und 20 l/h für den flüssiges SnCl1- enthaltenden
Behälter 36. Die Behälter wurden im übrigen erhitzt, damit
die Durchflußmenge der Reaktionsmittel 2 mol/h SnCl2., 2 mol/h
H2O und 0,1 mol/h SbCl5 betrug.
€10035/0799
i .
Man erhielt eine dotierte SnOp-Schicht, die einen spezifischen Leitungswiderstand R D in der Größenordnung
von 70 IZ und eine Durchsichtigkeit von 60% aufwies. Die
anderen Eigenschaften wie mechanische Widerstandsfähigkeit
gegen Stoß, Abriß oder Abschneiden mittels Diamenten, Widerstandsfähigkeit
gegen Säure, Fähigkeit, einer thermischen Behandlung unterworfen zu werden, die zur Härtung des Glases
dient, auf dem die Schicht abgelagert ist, entsprechen denen der Schichten von nicht dotiertem SnO„, die auf die bereits
vorbeschriebene Weise abgelagert wurden. Ihre Reflexionsfähigkeit ist praktisch identisch mit der des Glases, auf
dem die erhaltene Schicht abgelagert wurde.
Mit dieser Vorrichtung und unter Betriebsbedingungen, die sich von den oben angegebenen nur im Hinblick auf die Mitnahmegeschwindigkeit
der Glasplatte V -wobei diese Geschwindigkeit auf etwa 10 m/min erhöht wurde- unterschieden,
erhielt man eine mit Antimon dotierte SnOp-Ablagerung mit einer Dicke von etwa 10 nm, einer mittleren Leitfähigkeit
von RD = 500 CL , einer Durchsichtigkeit von 80$ für
sichtbare Strahlung und mechanischen Eigenschaften, die denen identisch waren, die mit der SnOp-Ablagerung erreicht
wurden, die ebenfalls mit Antimon dotiert war und eine Glasplatte bedeckte, die mit einer Geschwindigkeit von 2m/min
mitgenommen wurde.
Obwohl die in Fig. Ib dargestellte Vorrichtung als Reduktionsmittel
Wasserstoff verwendet, das in das Trägergas, den Stickstoff, eingeleitet wird, ist offensichtlich, daß es
auch möglich wäre, eine ähnliche Vorrichtung vorzusehen, in der das Reduktionsmittel aus Methanol, CH,OH, gewonnen
- 31 -
χ- τι
wird, wie im Fall des Ausführungsbeispiels der Fig. la. Die neue Vorrichtung wäre daher eine Kombination der Vorrichtungen
der Fig. la und Ib5 da sie zusätzlich zu den Behältern 21
und 22, die das SnC Ij. bzw. Wasser enthalten, Behälter 31 und
36 aufwiese, die das CH OH bzw. das SbCl1- enthalten, auf
weisen würde. Diese Behälter wären auf gleiche Weise an das Gebläse 2 angeschlossen wie die Konstruktionsteile der Fig. 1,
la und Ib. In einem solchen hypothetischen Fall würden die vorerwähnten Behälter mit Stickstoff gespeist, und zwar mit
Durchflußmengen von 60 l/h, mit Ausnahme des SbCl^-Behälters,
der nur 20 l/h enthielte. Die Heiztemperaturen des Behälters wären so beschaffen, daß die Durchflußmengen der Reaktionsmittelj
die zum Gebläse 2 hin geführt werden, die folgenden wären: 1 mol/h für SnCl^, 1 mol/h für H„0, 2 mol/h für
CH,OH und 0,1 mol/h für SbCl5.
Der spezifische Leitungswiderstand3 die Reflexionskraft
und die Durchsichtigkeit der SnOp-Schichten auf dem Glas können in sehr hohem Maße verbessert werden, wenn diese
Schichten mit Fluor dotierte Schichten sind. Hierfür verwendet man vorzugsweise die beschriebene Vorrichtung entsprechend
Fig. Ij die durch einen Zylinder 4l vervollständigt
ist, der gasförmiges HF enthält, sowie durch eine Leitung 42, die diesen Zylinder mit der Leitung 30 verbindet,
wobei das Ganze in gestrichelten Linien in der Zeichnung dargestellt ist.
Ein Glas mit 4 mm Dicke, das auf eine Temperatur von etwa
600°C gebracht wurde, ist durch Vorbeiführen an dem Gebläse mit einer Geschwindigkeit von 2 m/min und in einem Abstand
von 6 mm von diesem Gebläse mit einer Schicht von 900 nm
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«30035/079*
mit Fluor dotiertem SnOp beschichtet worden. Die DurchfluSmengen an Trägergas (eine Mischung aus N„ hO% Hp)
betrugen 60 l/h für SbCl^ und Wasserdampf. Die Durchflußmenge an HF betrug 0,1 l/min.
Die mit Fluor dotierte SnOp-Ablagerung hat sich als besonders leistungsfähig erwiesen. In der Tat betrug
ihr spezifischer Leitungswiderstand Ra = 20 -Ω- ,
ihre Reflexionskraft für sichtbares Licht lag über der des Glases, das die Ablagerung trug, und ihre Reflexionskraft für Infrarot erwies sich als besonders hoch, sie
lag in der Größenordnung von 75%· Im übrigen betrug die
Durchsichtigkeit für sichtbares Licht 90%· Die Eigenschaften
der mechanischen Widerstandskraft waren ebenfalls sehr hoch: Das mit mit Fluor dotiertem SnO„ beschichtete
Glas konnte einer thermischen Härtungs-Behandlung unterworfen werden, die denjenigen entsprach, denen man
üblicherweise Fahrzeugscheiben aussetzt3 beispielsweise
Seitenscheiben von Kraftfahrzeugen. Es war auch möglich, eine solche Platte unter Hitze (Temperatur von etwa 6500C)
mit Krümmungsradien von 15 cm zu wölben, ohne die Eigenschaften der dotierten SnOp-Ablagerung zu verändern. Außerdem
konnte eine in der beschriebenen Weise beschichtete Glasplatte auf traditionelle Weise bearbeitet werden
(Schneiden, Schleifen usw..), ohne daß die Ablagerung beschädigt wurde. Die mit F dotierte SnOp-Schicht wies
tatsächlich eine Härte auf, die über der des Glases lag, das sie trug, und konnte nicht zerkratzt werden; außerdem
haben sich ihre chemische Widerstandskraft gegen Säure und ihre Widerstandskraft gegen Stöße als besonders hoch
erwiesen.
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330835/0793
Es ist ebenfalls festzustellen, daß eine mit Fluor oder Antimon dotierte SnOp-Schicht, die unter den beschriebenen
Bedingungen auf einer Glasplatte abgelagert wurde, mit Silber oder einer Silberfarbe bei 600°C beschichtet werden
konnte, beispielsweise um elektrische Kontakte zu bilden. Eine solche Silberablagerung haftet sehr gut auf der Oberfläche
der SnOp-Ablagerung.
Mit der gleichen Vorrichtung (Fig. Ib) und unter Arbeitsbedingungen,
die sich in bezug auf die Mitnahmegeschwindigkeit der Glasplatte V von den vorerwähnten nur dadurch
unterschieden, daß diese Geschwindigkeit auf etwa 10 m/min erhöht wurde, erhielt man eine mit Fluor dotierte Ablagerung
von SnOp, die eine Dicke von etwa 10 nm, eine mittlere
Leitfähigkeit von Ra = 200/L , eine Durchsichtigkeit
von fast 100? für sichtbare Strahlen, eine Reflexionskraft
für Infrarot von 25? und mechanische Eigenschaften aufwies,
die mit denen identisch waren, die man mit einer ebenfalls mit Fluor dotierten SnOp-Ablagerung durch Mitnahme der Glasplatte
mit einer Geschwindigkeit von 2 m/min erhielt.
Während die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung, vervollständigt durch den gasförmiges HF enthaltenden Zylinder 41
und eine Leitung 42, die diesen Zylinder mit der Leitung
30 verband, Wasserstoff als Reduktionsmittel verwandte,
das in das Trägergas (den Stickstoff) eingeleitet wurde, ist es offensichtlich auch möglich, eine Vorrichtung vorzusehen,
bei der Schichten von mit Fluor dotiertem SnOp erhalten werden und in der das Reduktionsmittel aus Methanol,
CH,OH, erhalten wird wie im Fall des Ausführungsbeispiels
der in Fig. la dargestellten Vorrichtung. Diese neue Vorrichtung wäre eine Kombination der Vorrichtungen der Fig. 1
«30035/0701" " 34 "
und la: Sie würde sich praktisch darstellen als die Vorrichtung der Fig. la unter Hinzufügung des HF-Zylinders
41, verbunden mit der Leitung 30 über die Leitung 42, wobei alle diese Elemente bereits in Verbindung mit der
Ausführungsform der Vorrichtung nach Fig. 1, dargestellt
in dieser Figur in gestrichelten Linien,beschrieben sind.
In einem solchen hypothetischen Fall würden die Behälter 21, 22 und 31 mit Durchflußmengen von 60 l/h an Stickstoff
gespeist, wobei der HF-Durchfluß 0,1 l/h betrüge. Sie würden auf solche Temperaturen gebracht, daß die
zum Gebläse 2 geleiteten Durchflußmengen an Reaktionsmitteln 1 mol/h für SnCl11, 1 mol/h für H3O und 2 mol/h
für CH^OH betrügen.
Unter den obenstehenden Bedingungen wurde ein auf eine Temperatur von etwa 600 C gebrachtes Glas mit einer
Schicht von 6OO nm mit Fluor dotiertem SnOp beschichtet
durch Vorbeiführen vor dem Gebläse 2, Halten auf einer Temperatur von etwa 110 C in der vorherbeschriebenen Weise,
mit einer Geschwindigkeit von 2 m/min und mit einem Abstand von etwa 6 mm von diesem Gebläse.
Die derart erhaltene Ablagerung von Sn0? wies einen
spezifischen Leitungswiderstand von Ra = etwa 40 -Ώ~ auf.
Die anderen Eigenschaften physikalischer, optischer und mechanischer Natur blieben vergleichbar denen der
mit Fluor dotierten SnO„-Ablagerung, die durch direktes
Einleiten von Wasserstoff in das Trägergas (Vorrichtung entsprechend Fig. 1, vervollständigt durch Zufügen des
Zylinders 41) erhalten wurde.
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030035/079·
Die Verwendungen von Glasplatten aller Größen, beschichtet mit einer mit Antimon oder Fluor dotierten SnOp-Schicht,
können entsprechend ihren Leistungen physikalischer und elektrischer Natur sehr abgewandelt werden.
Obgleich eine nicht dotierte SnOp-Schicht einen relativ hoher,
spezifischen Leitungswiderstand"aufweist,wenn nan sie mit dem
Leitungswiderstand einer entsprechenden mit Antimon oder Fluor dotierten Schicht vergleicht, kann eine mit einer
solchen Schicht beschichtete Glasplatte beispielsweise als Fenster oder Balkontür von Wohnungen, Schiffen oder
Zügen verwendet werden wegen ihrer guten Durchsichtigkeit für sichtbares Licht und ihrer Reflexionskraft für Infrarot,
die relativ erheblich sind. Eine solche Platte hat eine ausreichend erhebliche athermische Kraft, um die Menge
der Wärmestrahlung der Sonne, die durch diese Platte dringen kann, in einem ausreichend hohen Maß zu vermindern.
Diese athermische Kraft ist offensichtlich höher, wenn es sich um ein mit Antimon dotierter SnOp-Schicht beschichtetes
Glas handelt oder um ein Glas, das mit mit Fluor dotiertem SnOp beschichtet ist. Außerdem ist es, da der spezifische
Leitungswiderstand derartiger Schichten ziemlich gering ist für die mit Fluor dotierte SnOp-Schicht und sehr gering
für die mit Antimon dotierte SnOp-Schicht, möglich, mit dotiertem SnOp beschichtete Gläser als Heizfenster, beispielsweise
Heckscheiben von Fahrzeugen, zu verwenden.
Es konnte beobachtet werden, daß in einer sehr erheblichen Feuchtigkeitsatmosphäre eine Glasplatte mit einer Be-
- 36 -
-X-- η
schichtung aus nicht dotiertem oder mit Antimon oder mit Fluor dotiertem SnCL· sich nicht mit einer gleichmäßigen
Schicht Schwitzwasser bedeckte, sondern eher mit einer Vielzahl von Tröpfchen, die die Sichtbarkeitsfähigkeit durch die Ablagerung als solche und durch
die Glasplatte hindurch erheblich weniger veränderte.
Diese Eigenschaft ist offensichtlich besonders vorteilhaft im Fall von Glasplatten, die Scheiben bilden sollen,
insbesondere Scheiben von Fahrzeugen, und ganz besonders Windschutzscheiben und Heckscheiben von Kraftfahrzeugen,
Autobussen oder Lastwagen.
Obgleich in der vorstehenden Beschreibung Bezug auf Ausführungsformen von Vorrichtungen genommen wurde, bei
denen die mit einer Schicht von dotiertem oder nicht dotiertem SnOp beschichteten Glasplatten noch immer mit
einem Abstand von dem Gebläse angeordnet sind, der demjenigen entspricht, der dieses Gebläse und die Konvergenzkante
von den Seitenwänden der drei Düsen dieses Gebläses trennt, ist festzustellen, daß es in der Praxis möglich
ist, diesen Abstand geringfügig zu verringern, so daß die Mischung der aus diesen Düsen ausgestoßenen Reaktionsmittel auf dem Glas aufschlägt und eine relativ intensive
örtliche Wirbelung hervorruft, die diese Mischung fördert.
Es ist schließlich festzustellen daß, obwohl im Rahmen des durch Bezugnahme auf Fig. 1, la, Ib und 2 der beigefügten
Zeichnung beschriebenen Verfahrens und der Vorrichtungen erwähnt, die Verwendung von Wasserstoff als Steuermittel
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030035/0793
- _ .ti-
für die Kombinationsreaktion von SnCK und HO zum
gleichen Ziel und mit gleichem Erfolg ebenfalls stattfinden könnte, wenn eine solche Reaktion erhalten würde,
indem man Verfahren und Vorrichtungen anderer Art verwirklicht, die entsprechend der V.C.D.-Technik arbeiten
wie diejenigen, die von H.Koch in dem eingangs genannten Artikel oder in der DE-OS 21 23 274 beschrieben wurden.
Se/MP - 27 562
0300357079*
BAD ORIGINAL
-ν-
Leerseite
Claims (17)
- PatentanspruchVerfahren zum kontinuierlichen Ablagern einer Schicht eines aus der Reaktion von mindestens zwei gasförmigen oder in einem Gas verdünnten Reaktionsmitteln resultierenden Feststoffs auf der Oberfläche eines auf hohe Temperatur gebrachten Substrats, wobei in dem Gas unterschiedliche laminare Ströme eines jeden Reaktionsmittels gebildet und diese Ströme auf das Substrat ausgespritzt werden, indem man sie durch reziproken tangentialen Kontakt zueinander bringt j wobei man die Ströme und das Substrat relativ verschiebt, so daß die Ströme nacheinander auf bestimmte Bereiche des Substrats geleitet werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Ströme die Form geradliniger gasförmiger Vorhänge aufweisen, wobei die Querprofile eines jeden zu einer fiktiven, allen Strömen gemeinsamen Kante hin zusammenlaufen, daß man diese Vorhänge und/oder das Substrat auf eine Weise anordnet, daß die Kante im wesentlichen in der Ebene der Substratoberfläche enthalten bleibt, daß man das Substrat und die Vorhänge in einer im wesentlichen senkrechten Richtung zu der gemeinsamen Kante auf eine Weise verschiebt, daß diese Kante im wesentlichen in der Ebene der Substratoberfläche gehalten wird, daß man die Gase, die bei der Reaktion ausgestoßen werden, die sich aus dem Aufschlag der Ströme auf dem Substrat ergibt, dazu zwingt, oberhalb eines vorbestimmten Abschnitts dieses83Ö03S/079!Substrats, der sich auf beiden Seiten der Kante erstreckt, abzufließen, unddaß man diese Gase am Ende des Substratabschnitts gegenüber der gemeinsamen fiktiven Kante der Vorhänge entfernt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den gasförmigen Vorhängen mindestens um drei handelt, und daß diese Seite an Seite in seitlicher Berührung von jeweils zweien angeordnet sind,und dadurch, daß der mittlere Vorhang aus dem Strom des ersten Reaktionsmittels besteht, während die seitlichen Vorhänge aus dem gasförmigen Strom des anderen Reaktionsmittels bestehen.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2 zum Ablagern einer SnOp-Schicht mittels Reaktion von SnCl^ bzw. einer TiO„-Schicht mittels Reaktion von TiClj, und Wasserdampf, die in einem inerten Trägergas verdünnt sind, dadurch gekennzeichnet, daß der Strom der SnCl^-Verdünnung bzw. der Strom der TiCl^-Verdünnung den Mittelvorhang bildet, während die seitlichen Vorhänge aus der Verdünnung von Wasserdampf gebildet werden.
- 4. Verfahren nach Anspruch 3> bei dem zur Schaffung einer mit Antimon dotierten SnOp-Schicht ein zusätzliches Reaktionsmittel in Form einer SbCl^-Verdünnung in einem inerten Gas verwendet wird, dadurch gekennzeichnet, daß man diese SbCl^-Verdünnung der SnCIj,-Verdünnung hinzufügt, bevor man den mittleren gasförmigen Vorhang bildet.030036/079·BAD ORIGINAL
- 5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur Schaffung einer mit Fluor dotierten SnOp-Schicht ein zusätzliches Reaktionsmittel aus HF in Gasform verwendet wird, und daß man dieses Reaktionsmittel der Wasserdampf-Verdünnung vor der Bildung der seitlichen Vorhänge hinzufügt.
- 6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man zum Abschwächen der Reaktion SnCl^ und den Wasserdampf in Gegenwart eines Reduktionsmittels miteinander reagieren läßt.
- 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß man Methanol, CEUOH, in die Wasserdampfverdünnung gibt, um das Reduktionsmittel in situ zu erhalten.
- 8. Verfahren nach Anspruch 6,dadurch gekennzeichnet, daß das Trägergas aus einer Mischung von Stickstoff und Wasserstoff gebildet wird, wobei der Wasserstoff das Reduktionsmittel darstellt.
- 9. Verfahren nach Anspruch 8,dadurch gekennzeichnet, daß das Trägergas aus 60% Stickstoff und k0% Wasserstoff gebildet wird.
- 10. Verfahren nach Anspruch 4 und einem der Ansprüche 6 bis
- 11. Verfahren nach Anspruch 5 und einem der Ansprüche 6 bis 8.-H-030036/0791BAD ORIGINAL
- 12. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch mindestens- eine Quelle eines ersten gasförmigen oder in einem Trägergas verdünnten Reaktionsmittels,- eine Quelle eines zweiten gasförmigen oder in einem Trägergas verdünnten Reaktionsmittels,- ein Gebläse mit drei Düsen, die jeweils eine Öffnung haben, die aus einem geradlinigen Schlitz besteht und deren seitliche, die Längskanten eines jeden Schlitzes begrenzende Wände zu einer allen drei Düsen gemeinsamen Linie zusammenlaufen, wobei eine erste dieser Düsen mit einer ersten Längskante ihrer Ausstoßöffnung neben einer Längskante der Ausstoßöffnung einer zweiten Düse liegt und mit der zweiten Längskante der Öffnung neben einer Längskante der Ausstoßöffnung der dritten Düse,- eine erste und eine zweite Ablenkfläche, die sich über eine bestimmte Länge auf beiden Seiten der Düsen von dem zweiten Längsrand der Ausstoßöffnung der zweiten bzw. der dritten Düse aus erstrecken, wobei die Ablenkflächen koplanar zueinander und mit den Längskanten der Öffnungen der Düsen des Gebläses verlaufen und kinematisch formschlüssig mit diesem Gebläse verbunden sind,- ein Verteilernetz, das die Quelle des ersten Reaktionsmittels mit der ersten Düse des Gebläses verbindet,- ein zweites Verteilernetz, das die Quelle des zweiten Reaktionsmittels mit der. zweiten und der dritten Düse des Gebläses verbindet,- Mittel zur Mitnahme des Substrats und des Gebläsesin Relativbewegung in im wesentlichen senkrechter Richtung zu der fiktiven Linie,0 3 0 0 3 B / 0 7 9 ·BAD ORIGINAL- Mittel zum Konstanthalten im Verlauf der Relativbewegung des Abstandes, der die Ebene mit den Öffnungen der Düsen des Gebläses und die Ablenkflächen von der Substratfläche trennt, wobei dieser Abstand im wesentlichen demjenigen zwischen den Düsen des Gebläses und der fiktiven Linie entspricht,- eine Einrichtung, um die Reaktionsgase zu entfernen, die sich in dem Raum zwischen den Ablenkflächen und der Substratoberfläche entwickeln, ausgehend von den am weitesten von den Öffnungen der Düsen entfernten Enden dieses Raumes,
- 13. Vorrichtung nach Anspruch 12,dadurch gekenn· zeichnet, daß die Breite der die Ausstoßöffnungen der Düsen des Gebläses bildenden Schlitze mindestens 1/10 mm und höchstens 2/10 mm beträgt.
- 14. Vorrichtung nach Anspruch 12,dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite Ablenkfläche mit einer Schicht eines chemisch inerten Metalls oder einer Legierung derartiger Metalle bedeckt sind.
- 15. Vorrichtung nach Anspruch 12,dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite Ablenkfläche mit einer Schicht eines chemisch inerten Metalloxids bedeckt sind.
- 16. Vorrichtung nach Anspruch 13,dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite Ablenkfläche sich auf beiden Seiten der Düsen des Gebläses auf einer Länge von zwischen 10 und 20 mal die Breite der Schlitze erstrecken, die die Ausstoßöffnungen der Düsen bilden. ·63003S/079·-s-
- 17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der die Ablenkflächen und die Substratoberfläche trennende Abstand zwischen 3 und 6 mm beträgt.Se/MP - 27 562 - 7 -83Q03S/Q799BAD ORiGINA:
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