CS274254B2 - Method of solid substance's layer continuous coating and equipment for realization of this method - Google Patents
Method of solid substance's layer continuous coating and equipment for realization of this method Download PDFInfo
- Publication number
- CS274254B2 CS274254B2 CS98280A CS98280A CS274254B2 CS 274254 B2 CS274254 B2 CS 274254B2 CS 98280 A CS98280 A CS 98280A CS 98280 A CS98280 A CS 98280A CS 274254 B2 CS274254 B2 CS 274254B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- nozzle
- outlet
- layer
- nozzles
- gaseous
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/453—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/241—Doped oxides with halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/244—Doped oxides with Sb
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/017—Manufacturing methods or apparatus for heaters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Vynález ee týká způsobu kontinuálního nanášení vrstvy pevné látky, například vrstvy oxidu cíničitého, případně dopovaného antimonem nebo fluorem, nebo vrstvy oxidu titaničitého, získaných reakcí alespoň dvou plynných reakčních složek, například chloridu cíničitého, vodní páry a případně redukčního Činidla, nebo chloridu antimoničného nebo plynné kyseliny flurovodíkového anebo chloridu titaničitého a vodní páry, nebo reakčních složek zředěných nosným plynem, například dusíkem a vodíkem, na povrch zahřáté podložky, při kterém se separátní laminární proudy rakčních složek přivádějí na povrch zahřáté podložky do vzájemného tangenciálního reciprokého styku, přičemž ae separátní laminární proudy a podložka vzájemně vůči sobě pohybují a reakění plyn, rezultují cí po kontaktu laminárních proudů s podložkou, se odsává.
Byly již navrženy četné způsoby a zařízení k vytváření vrstev pevné látky na podložce, tvořené například skleněnou deskou, přičemž byla snaha, aby získaná vrstva měla podobnou průhlednost jako podložka, snížený elektrický odpor a zvýšenou mechanickou odolnost. K tomuto účelu bylo použito chemické naparování. V článku H. Kocha Elektrische Untersuchungen an Zinnoxydschichten, Phys. Stát. 1963, sv. 3, str. 1059 a 55 jsou popsány způsob a zařízení k nanášení tenké vrstvy oxidu cíničitého na skleněnou desku reakcí chloridu cíničitého a vody, které jsou zředěné nosným plynem a přivádějí se za přítomnosti vzduchu do styku s povrchem skleněné desky, která byla předem ohřátá na teplotu 200 až 400 °C.7Tyto dvě reakění složky se vedou k povrchu skleněné desky pomocí nanáěecí hlavy se dvěma souosými tryskami, přičemž do středky trysky se přivádí oxid cíniěitý zředěný nosným plynem a do vnější trysky se přivádí voda, která je rovněž zředěna nosným plynem.
V německém patentovém epise DE-AS 2123274 jsou popsány způsob a zařízení, které umožňují provádět dopování nanesené vrstvy oxidu cíničitého antimonem za účelem snížení elektrického odporu vrstvy oxidu cíničitého. K tomu účelu se používá chlorid antimoniěný zředěný nosným plynem, který se přivádí za přítomnosti chloridu cíničitého a vody na povrch podložky pomocí nanášeci hlavy se třemi souosými tryskami, přičemž do každé z tšchto trysek se přivádí Jedna z výše uvedených reakčních složek. K reakci reakčních složek dochází v blízkosti podložky a v určité vzdálenosti od tří trysek nanášeci hlavy.
V obou výše popsaných případech jde o způsoby a zařízení určené výlučně k povlékání vrstvou případně dopovaného oxidu cíničitého podložky poměrně malých rozměrů. Uložení nanášené vrstvy na této podložce se provádí vzájemným přemísťováním nanášeci hlavy a podložky tak, aby se nanášeci hlava dostala do všech míst podložky. Takto získaná vretva je však tvořena zónami oxidu cíničitého, jejichž průhlednost Je v různých místech podložky dosti značně rozdílná. Směs reakčních složek opouštějící nanášeci hlavu není totiž v tomto případě dokonale homogenní, takže získaný povlak má oblasti proměnlivé síly a proměnlivého aložení, přičemž tento povlak má charakter pruhů rovnoběžných se směrem vzájemného pohybu nanášeci hlavy a podložky v případě, že se nanášeci hlava pohybuje vzhledem k podložce v jakýchsi řádcích.
Ačkoliv výše popsané známé zařízení a způsoby jsou přes všechny ostatní nedostatky použitelné pouze pro povlékání podložek poměrně malých rozměrů, je zřejmé, že jsou prakticky nepoužitelné v případě jejich aplikace pro povlékání značně rozměrnějších podložek, jakými jaou například nekonečné skleněné pásy o šířce několika metrů, vyráběné známým způsobem odlévání plochého skla plavením na lázni roztaveného kovu. Kdyby v tomto případě mělo být pro nanášení vrstev použito výše popsaných známých zařízení, bylo by třeba umístit vedle sebe po celé šířce skleněného pásu množinu nanášecích hlav, což by bylo i při omezeném počtu těchto hlav značně složité a to zejména s přihlédnutím k tomu, že by bylo nezbytné zajistit kmitavý pohyb všech nanášecích hlav ve směru kolmém k pohybu skleněného pásu za účelem dosažení povlečení celé šířky skleněného pásu. Je tedy zřejmé, že žádné z takových zařízení neumožní získat dostatečně homogenní vrstvu oxidu cíničitého, která by měla přijatelnou průhlednost a přijatelně nízkou elektrickou vodivost.
U skel pro zasklívání oken a dveří budov nebo vozidel jsou tyto vlastnosti velmi žádoucí. K tomu ještě přistupuje schopnost vrstev oxidu cíniěitého neomezovat použitelnost takto povlečených skel při zpracování těchto skel do tvaru hotových skleněných výrobků. Jedná se zejména o tepelné a mechanické zpracování těchto skel. Zejména je nutné, aby skleněná tabule povlečená případně dopovaným oxidem ciničitým byla schopna řezání z obou stran, aniž by přitom došlo k porušení homogenity nanesené vrstvy oxidu ciničitého v místech blízkých linii řezu. Rovněž je třeba, aby bylo možné takto získané nařezané skleněné tabule vytvrzovat a to opět bez újmy na mechanické a optické vlastnosti nanesené vrstvy. Dále je žádoucí, aby bylo možné tyto skleněné tabule tepelně ohýbat za účelem výroby předních i zadních ochranných skel motorových vozidel a to opět beze změny kvality nanesené vrstvy, zejména beze změny elektrického odporu, mechanické odolnosti, průhlednosti, světelné odrazivosti a homogenity vrstvy po celé ploše skleněné tabule.
Souhrn těchto požadavků nemůže být splněn použitím dosud známých způsobů a zařízení, používaných při povlékání pouze relativně velmi malých skleněných tabulí, přičemž tato skutečnost měla za následek, že tyto způsoby a zařízení byly nahrazeny způsoby a zařízeními popsanými v patentových episech US 3850679, US 3888649 a GB 1507996. V těchto patentových spisech se obecně klade důraz na distribuční ústrojí předběžně připravených reakčnich plynů, ve kterém se tyto reakční plyny přivádějí na povrch skleněné tabule současně v celé šířce skleněné tabule ve formě za sebou uspořádaných clon (v případě prvních dvou amerických patentových spisů) nebo ve formě proudu plynu, přiváděného na povrch skleněné tabule v tangenciálním směru ve vymezené délce skleněné tabule (britský patentový spis).
Avšak ani tato zařízení nevyhovují pro chemické naprašování určeného k nanášení vrstev případně dopovaného oxidu ciničitého, protože při přivedení plynné směsi chloridu ciničitého a vody na úroveň distribučního otvoru těchto zařízení dojde k předčasné a bouřlivé reakci chloridu ciničitého a vodní páry v důsledku teploty téměř rovné teplotě skla (asi 400 °C), kterou v tomto případě mají stěny vymezující uvedený distribuční otvor. Tím k dosavadním nevýhodám přistupují ještě dva další nedostatky: ucpávání distribučního otvoru a tvorba nehomogenní vrstvy oxidu ciničitého s velmi proměnlivou hodnotou elektrických, mechanických a fyzikálních vlastností v různých oblastech skleněné tabule.
Výše uvedené nedostatky nemá způsob kontinuálního nanášení vrstvy pevné látky, například vrstvy oxidu ciničitého, případně dopovaného antimonem nebo fluorem nebo vrstvy oxidu titaničitého, získaných reakcí alespoň dvou plynných reakčnich složek, například chloridu ciničitého, vodní páry a případně redukčního činidla, nebo chloridu antimoničného nebo plynné kyseliny fluorovodíkové nebo chloridu titaničitého a vodní páry, nebo reakčnich složek zředěných nosným plynem, například dusíkem a vodíkem, na povrch zahřáté podložky, při kterém se separátní laminární proudy reakčnich složek přivádějí na povrch zahřáté podložky do vzájemného tangenciálního reciprokého styku, přičemž se separátní laminární proudy a podložka vzájemně vůči sobě pohybují a reakční plyn, rezultující po kontaktu laminárních proudů b podložkou, se odsává, jehož podstata spočívá v tom, žs uvedené proudy reakčnich složek se uvádějí do vzájemného styku ve formě přímých plynných clon, přičemž osy příčných průřezů těchto plynných clon konvergují ke společné přímce, ve které se přímé plynné clony setkávají, přičemž tato společná přímka leží v rovině povrchu zahřáté podložky a přímé plynné clony a povrch zahřáté podložky se vzájemně vůči sobě pohybují ve směru kolmém na uvedenou společnou přímku.
Eři způsobu podle vynálezu se s výhodou použijí tři přímé plynné clony, přičemž mezilehlá střední plynná clona je tvořena první reakční složkou a obě okrajové plynné clony jsou tvořeny druhou reakční složkou.
Předmětem vynálezu je rovněž zařízení k provádění výše uvedeného způsobu, jehož podstata spočívá v tom, že obsahuje první tepelně stabilizovanou probublávací nádobu pro první reakční složku případně zředěnou nosným plynem, druhou tepelně stabilizovanou probublávací nádobu pro druhou plynnou reakční složku případně zředěnou nosným plynem, nanášecí hlavu obsahující první trysku, druhou trysku a třetí trysku, přičemž každá z těchto trysek má výstupní otvor tvořený přímou podélnou Štěrbinou a boční stěny vymezující uvedené trysky konvergují ke společné přímce a první výstupní hrana první trysky přiléhá k první výstupní hraně druhé trysky a druhá výstupní hrana první tryeky přiléhá k první výstupní hraně třetí trysky, první odchylovací povrch a druhý odchylovací povrch, vybíhající od druhé výstupní hrany druhé trysky, resp. od druhé výstupní hrany třetí trysky k okraji nanášecí hlavy, přičemž první a druhý odchylovací povrch a výstupní hrany trysek nanášecí hlavy leží ve společné rovině, první vedení spojující první probublávací nádobu s první tryskou nanášecí hlavy, druhé vedení spojující druhou probublávací nádobu s druhou a třetí tryskou nanášecí hlavy, prostředek pro vzájemný pohyb podložky, na kterou má být nanesena vrstva pevné látky, a nanášecí hlavy, výhodně tvořený válečky, prostředek pro udržení konstantní vzdálenosti mezi rovinou, ve které leží výstupní otvory trysek nanášecí hlavy a první a druhý odchylovací povrch, a povrchem podložky, na který má být nanesena vrstva pevné látky, přičemž tato vzdálenost je rovna vzdálenosti mezi výstupními otvory trysek a uvedenou společnou přímkou, ke které konvergují boční stěny vymezující trysky nanášecí hlavy, a alespoň jedno ústrojí pro odsávání reakčniho plynu, rezultujícího po kontaktu reakčnich složek s podložkou, zahrnující odsávací trubky umístěné na obou stranách nanášecí hlavy, aací vedení a sací čerpadlo.
V zařízení podle vynálezu je poměr mezi vzdáleností oddělující společnou přímku, ke které konvergují boční stěny vymezující trysky nanášecí hlavy, a výstupní otvory trysek nanášecí hlavy, a šířkou těchto výstupních otvorů s výhodou roven 15 až 60.
V zařízení podle vynálezu Jsou první a druhý odchylovací povroh nanášecí hlavy povlečeny vrstvou chemicky inertního kovu nebo slitiny chemicky inertních kovů.
V zařízení podle vynálezu jsou první a druhý odchylovací povrch nanášecí hlavy povlečeny vrstvou chemicky inertního oxidu kovu.
V zařízení podle vynálezu vybíhá první a druhý odchylovací povrch na Jednu resp. druhou stranu od druhé výstupní hrany druhé trysky, reap. od druhé výetupní hrany třetí trysky k okraji nanášecí hlavy výhodně v délce rovné 10- až 20-náeobku celkové šířky výstupních otvorů trysek nanášecí hlavy.
Výhody dosažené způsobem a zařízením podle vynálezu spočívají v tom, že ee dosáhne vysoce účinného způsobu povlékání podložky, tvořené například skleněným pásem nebo skleněnou tabulí, vrstvou pevné látky, například vrstvou oxidu cíničitého, mající požadované mechanické, elektrické a optické vlastnosti a homogenitu těchto vlastností v celé povlečené ploše skleněné podložky, přičemž rozměry povlečeného skla jsou kompati bilní a rozměry plochého skla vyráběného současnými moderními způsoby, zejména plavením na roztaveném kovu.
Vynález bude v následující části popisu blíže objasněn pomocí odkazů na připojené výkresy, na kterých obrázek 1 znázorňuje schéma zařízení podle vynálezu pro povlečení skleněné podložky vrstvou oxidu cíničitého (příklad 1), vrstvou oxidu titaničitého (příklad 2) nebo vrstvou oxidu cíničitého dopovaného fluorem (příklad 7), kdy je jako nosného plynu použito směsi dusíku a vodíku;
obrázek 2 znázorňuje částečný řez perspektivním pohledem na nanášecí hlavu zařízení podle vynálezu;
obrázek 3 znázorňuje schéma zařízení podle vynálezu pro povlečení skleněné podložky vretvou oxidu cíničitóho (příklad 3), kdy je jako nosného plynu použito dusíku a methanolu;
a obrázek 4 znázorňuje schéma zařízení podle vynálezu pro povlečení skleněné podložky vrstvou oxidu oíničitého dopovaného antimonem (příklad 4).
Zařízení zobrazené na obr. 1 je určeno k nanášení vrstvy oxidu oíničitého na podložku, která je v tomto případě tvořena skleněnou deskou V, zahřátou na předem zvolenou teplotu. Využívá se zde chemické reakce probíhající podle rovnice
SnCL4 + 2H20
SnC>2 + 4 HC1.
K tomuto účelu zařízení podle vynálezu obsahuje množinu nosných válečků 1, na kterých je uložena skleněná deska V, která se v důsledku otáčení nosných válečků £ ve smyslu proti pohybu hodinových ručiček, poháněných neznázorněným elektromotorem, pohybuje ve směru šipky P. Nosné válečky £ mají délku odpovídající šířce skleněné desky V, Rychlost otáčení nosných válečků 1. se zvolí taková, aby se skleněná deska V pohybovala lineární rychlostí 1 až 10 m.min“^·.
Nad nosnými válečky 1 je umÍBtěna nanášecí hlava 2, jejíž uspořádání a příčný řez jsou patrné z obr. 2. Nanášecí hlava 2 má tři trysky, a to první trysku 5, druhou trysku 3 a třetí trysku 4, vybíhající rovnoběžně s osami nosných válečků £ v délce odpovídající šířce skleněné desky V. Trysky 3, 4 a 5 mohou mít délku několika metrů. Boční trysky, tj. druhá tryska 3 a třetí tryska 4, jsou vytvořeny uspořádáním blokových profilů 6a a 6b, které v horní části vybíhají ve svislé profily 9a a 9b, a které jsou opatřeny vložkami 8a a 8b, a dále lištami 7a a 7b. Lišty 7a a 7b nahoře vybíhají v hranolové profily 10a a 10b. Střední první tryska 5 je tvořena lištami 7a a 7b. Mezi svislými profily 9a a 9b a hranolovými profily 10a a 10b jsou vytvořeny dva boční kanály 11 a 12 a střední kanál 13, která navazují na druhou trysku 3, třetí trysku 4, resp. první trysku 5.
Boční stěny 3a a 3b, 4a a 4b, 5a a 5b druhé trysky 3, třetí trysky 4, resp. první trysky 5 se sbíhají do epolečná přímky L, vzdálené od spodní plochy blokových profilů 6a a 6b, tvořících první odchylovací povrch 43, resp. druhý odchylovací povrch 44;, 3 až 6 mm. Výstupní otvory trysek 3, 4, 5 jsou vytvořeny v celé délce blokových profilů 6a a 6b a lišt 7a a 7b a mají šířku například 0,1 až 0,2 mm. Šířka prvního odchylovacího povrchu 43 a druhého odchylovacího povrchu 44 je s výhodou rovna 10- až 20-náeobku celkové Šířky výstupních otvorů první, druhé a třetí trysky 5, 3 a 4. Tento první a druhý odchylovací povrch 43 a 44 je s výhodou pokryt vrstvou chemicky inertního kovu nebo slitinou chemicky inertních kovů, popřípadě vrstvou chemicky inertního oxidu kovu. Použitým kovem může být zlato nebo platina. Použitým oxidem kovu může být oxid ze skupiny zahrnující oxid cíničitý, oxid křemičitý a oxid hlinitý.
Obvyklé konstrukční kovy a slitiny, jako například ocel nebo mosaz, mají totiž v přítomnosti vodíku katalytické vlastnoeti, které by mohly rušit reakci nezbytnou k vytvoření vrstvy pevné látky, například tvořené oxidem cíničitým.
Nanášecí hlava £ Je na obou koncích opatřena neznázorněnými, plnotěsně upevněnými koncovými deskami, sloužícími k bočnímu utěsnění první, druhé a třetí trysky 5, 3 a £, bočních kanálů 11 a 12 a středního kanálu 13. Trubicové kanály 14a a 14b vytvořené v celé délce hranolových profilů 10a a 10b slouží k vedení cirkulující tekutiny, například oleje, která udržuje optimální teplotu nanášecí hlavy 2. V horní části nanášecí hlavy 2 je tato hlava opatřena plynotěsně upevněnou deBkou 15 zamezující vzájemné spojení boěních kanálů 11 a 12 a středního kanálu 13.
Rozměry první, druhé a třetí trysky 5, 3 a 1 a Boěních kanálů 11 a 12 a středního kanálu 13 jsou ve všech jejích částech voleny tak, aby při průtoku plynu 3 až 6 l.h”1 na 1 cm délky nanášecí hlavy 2 u nich bylo všude dodrženo laminární proudění. Po obou stranách nanášecí hlavy 2 jsou uloženy odsávací trubky 16 a 17 čtvercového průřezu, jejichž spodní strana leží ve stejné rovině jako první a druhá plocha prvního a druhého odchylovacího povrchu 43 a 44. Odsávací trubky 16 a 17 mají na spodní straně epodni sací štěrbiny 16a a 17a a na boční straně přivrácené k nanášecí hlavě 2 boční sací Štěrbiny 16b a 17b. Odsávací trubky 16 a 17 mají délku etejnou jako nanášecí hlava 2 a jsou připojeny sacím potrubím 18 k sacímu čerpadlu 19, jehož výstup je připojen ke spodní části promývaci kolony 20 naplněné žárovzdorným materiálem, například ve formě Raschigových kroužků.
Zařízení podle vynálezu dále obsahuje první a druhou probublávací nádobu 21 a 22 uložené v termostatech, přičemž první probublávací nádoba 21 obsahuje kapalný chlorid ciničitý a druhá probublávací nádoba 22 obsahuje vodu, dva průtokoměry 23 a 24 opatřené regulačními ventily 23a, resp. 24a, napájené směsí dusíku a vodíku v poměru 60 : 40, přiváděnou vstupním vedením 46, dva uzavírací ventily 25 a 26 zapojené v potrubích 27, resp. 28, spojujících průtokoměry 23, resp. 24 s první a druhou probublávací nádobou 21, resp. 22. Dvě výstupní potrubí 29 a 30 spojují výstupy probublávacích nádob 21, resp. 22 se středním kanálem 13, resp. s bočními kanály 11 a 12 nanášecí hlavy 2 a tedy také se střední první tryskou JS, resp. s boční druhou a třetí tryskou 3 a 4. Výstupní potrubí 29 a 30 jsou vedena uvnitř pláště E^, který je na obr, 1 znázorněn čerchovanou čarou a který obsahuje ohřívací kapalinu, například olej, udržovanou vhodným způsobem na teplotě asi 110 °C.
Výše popsané zařízení umožňuje povléci například skleněnou desku vrstvou oxidu cíničitého o tloušťce asi 500 um, mající velmi dobrou průhlednost, poměrně nízkou elektrickou vodivost, dobrou přilnavost ke sklu a zvýěenou mechanickou odolnost i odolnost vůči kyselinám.
Použití skleněných desek V všech možných rozměrů povlečených vrstvou oxidu cíničitého případně dopovanou antimonem nebo fluorem může být velmi rozmanité podle jejich fyzikálních a zejména elektrických vlastností. Jelikož vrstva nedopovaného oxidu cíničitého má poměrně vysoký elektrický odpor ve srovnání 8 podobnou vrstvou dopovanou fluorem nebo antimonem, může být skleněná deska V, pokrytá takovou vrstvou, použita například pro zasklívání oken nebo dveří obytných domů, lodí nebo vlaků vzhledem k její dobré průhlednosti pro viditelnou oblast světla a její odrazivost pro infračervenou 0blaet záření. Taková deska má atermický účinek dostatečný pro podstatné snížení tepelného záření procházejícího touto deskou. Tento atermický účinek je vyěěí u skleněné desky V povlečené vrstvou oxidu cíničitého dopovanou antimonem nebo fluorem. Jelikož je elektrický odpor takových vrstev dosti značně snížen při dopování antimonem a velmi značně snížen při dopování fluorem, je možné použít skleněnou desku s dopovanou vrstvou oxidu cíničitého pro elektricky vyhřívané skla, například pro zadní okna motorových vozidel.
Kromě toho bylo pozorováno, že v ovzduší β velmi vysokou vlhkostí se skleněná deska V a případně dopovanou vrstvou oxidu cíničitého nepokryje stejnoměrným povlakem zkondenzované vlhkosti, nýbrž množstvím kapiček, které mnohem méně snižují průhlednost skleněné desky T. Tato vlastnosti Je zvláště výhodná u skleněných desek V použitých pro okna, zejména okna vozidel, zvláště pro přední a zadní ochranná skla motorových vozidel, zejména automobilů, autobusů nebo nákladních vozidel.
Příklad 1
Zařízení výše popsaného typu a nanášecí hlavou 2 dlouhou 20 cm 8 výstupními otvory první, druhé a třetí trysky 5, 3 a 4 šířky 0,1, 0,1 a 0,2 mm umožnilo provádět povlékání skleněné desky V 20 cm široké, 4 mm silné a ohřáté na teplotu 600 °C, která se pohybovala ve směru šipky P rychlostí 2 m.min“1. Vzdálenost mezi plochou prvního a dru hého odchylovacího povrchu 43 a 44 nanášecí hlavy 2 a horním povrchem skleněné desky V byla 6 mm. Byla použita první a druhá probublávací nádoba 21 a 22 obsahující 200 až 300 ml chloridu cíničitého resp. vody; tyto nádoby byly vyhřívány na takové teploty, aby při průtoku nosného plynu, tvořeného aměsí dusíku a vodíku, 60 l.h“1 pro první probublávací nádobu 21 a 120 l.h“1 pro druhou probublávací nádobu 22 (řízení průtoku ae provádí regulačními ventily 23a a 24a) byl průtok chloridu cíničitého 2 mol.h”1 a vody 1 mol.h-1. Teplota nanášecí hlavy 2 byla udržována na 110 °C cirkulací oleje v trubicových kanálech 14a a 14b.
S ohledem na průřez první, druhé a třetí trysky 5, 3 a 4 nanášecí hlavy £ a sbíhavost jejích bočních stěn do společné přímky L dostávají se laminární proudy plynů vystupujících z úvěrných trysek (proud chloridu cíničitého ze střední první trysky 5 a proud vodní páry z boční druhé a třetí trysky 3 a 4) do vzájemného nejdříve tangenciálního a potom přímého styku tou měrou, jak se přibližují ke společné přímce L. Při vzájemném pronikání těchto tří proudů v bezprostřední blízkosti povrchu skleněné desky V ohřáté na 600 °C dochází na povrchu skleněné desky V k reakci
SnCl^ + 2H20 -----SnO2 + 4HC1.
Kdyby nebylo použito způsobu a zařízení podle vynálezu, probíhala by uvedená reakce velmi bouřlivě již u výstupních otvorů trysek nanášecí hlavy, přičemž by došlo k částečnému nebo úplnému zanesení trysek nanášecí hlavy za tvorby velkého množství oxidu cíničitého a hydrátů typu SnO2 . nH20 a k vytvoření vrstvy na skleněné tabuli V, která by měla formu bílého závoje a nikoliv formu průhledné vrstvy.
Zmíněné nebezpečí je eliminováno zavedením redukčního činidla ve formě vodíku obsaženého v nosném plynu do obou plynných proudů (jak do proudu chloridu cíničitého, tak i do proudu vodní páry). Vodík je totiž plyn, který nereaguje ani s chloridem cíničitým ani s vodou. Kromě toho působí jako katalyzátor uvedené reakce a je tedy výhodně použitelný Jako inertní nosný plyn.
Reakce chloridu cíničitého s vodou se neodehrává pouze ve střední zóně nanášecí hlavy £ (to znamená v blízkosti oné části nanášecí hlavy 2, ve které jsou výstupní otvory první, druhé a třetí trysky 5, 3 a 4). Sací čerpadlo 19 vytvoří podtlak v obou odsávacích trubkách 16 a 17 a tím i na obou koncích mezery mezi skleněnou deskou V a prvním a druhým odchylovacím povrchem 43 a 44 nanášecí hlavy 2. Tím vznikne proud plynu směřující od střední části zmíněné mezery směrem k odsávacím trubkám 16 a 17. Tento proud obeahuje dosud nezreagovanou část chloridu cíničitého a vody zředěných nosným plynem, páry chlorovodíku a určité množství nosného plynu již prostého reakčních složek. Reakce chloridu cíničitého s vodou tedy může pokračovat mezi zbylou částí reakčních složek i v určité oblasti po obou stranách uvedené společné přímky L. Velikost podtlaku vytvářeného odsávacími trubkami 16 a 17 se volí tak, aby reakční plyny vystupující z nanášecí hlavy 2 nesetrvávaly v mezeře mezi povrchem skleněné desky V a tryskovou hlavou 2 déle naž po dobu přesně nutnou k nanesení oxidu cíničitého na povrch skleněné desky V ve formě průhledné vrstvy a nikoliv nánosu práškového oxidu cíničitého. Odsávání nesmí být příliš silné, neboť jinak by reakční plyny vystupující z nanášeci hlavy 2 neměly čaa dosáhnout povrchu skleněné desky V, Intenzita odsávání je tedy stanovena s ohledem na jakost a rychlost narůstání vrstvy oxidu cíničitého. Kromě toho se tímto izoluje prostor mezi nanášeci hlavou 2 a skleněnou deskou V, ve kterém probíhá požadovaná reakce; odsáváním se rovněž zamezí pronikání dodatečné vlhkosti, která by mohla ovlivnit reakci chloridu cíničitého s vodou, do tohoto prostoru. Zamezí se tím také jakémukoliv úniku škodlivých par, například chlorovodíku nebo vodíku do okolní atmosféry, neboť vzduch, který případně pronikne do prostoru pod odsávací trubky 16 a 17 nebo do prostoru mezi tyto odsávací trubky 16 a 17 a nanášecí hlavu 2, je společně s plynnou reakční směsí strháván do spodních sacích štěrbin I6a a 17a, resp. do bočních sacích štěrbin 16b a 17b.
Plynná reakční směs odsátá sacím čerpadlem 19 je vedena do promývací kolony 20, do které se potrubím 45 zavádí voda a kde dochází k vymytí reakčnich složek a případných produktů jejich reakce vodou, přičemž získaný kyselý roztok se odvádí výstupním potrubím 20a a rezultující plynná fáze zbavená reakčnich složek včetně případných reakčnich produktů se odvádí výstupem 47, uspořádaným v horní části promývací kolony 20, do okolní atmosféry.
Při výše definovaných provozních podmínkách činil výtěžek reakce 70 %. Skleněná deska V byla v celé fevé ploše pokryta vrstvou oxidu cíničitého mající tloušťku 500 nm, průhlednost 90 až 95 % a střední elektrický odpor RQ n 200 ohmů. Kromě toho měla skleněná deska V s nanesenou vrstvou oxidu cíničitého vyšší tvrdost než samotná skleněná deska V. Byla zvýšena také odolnost skleněné desky V jak proti mechanickým nárazům, tak i proti účinku kyselin. Tato skleněná deeka V byla schopna ohýbání s poloměrem křivosti 15 cm po zahřátí na teplotu 600 až 700 °C bez jakéhokoliv poškození vrstvy oxidu cíničitého. Rovněž bylo možné získanou skleněnou desku s vrstvou oxidu cíničitého vytvrzovat za podmínek obvyklých pro normální nepovlečené eklo. Konečně je třeba uvést, že skleněná deska V povlečená vrstvou oxidu cíničitého výše uvedeným způsobem může být rozřezána diamantem z jedné i druhé strany, aniž by při tom došlo k odloupnutí vrstvy oxidu cíničitého v blízkosti řezu.
Příklad 2
Stejným zařízením a za stejných podmínek jako v příkladě 1 s výjimkou rychlosti pohybu skleněné desky V, která v tomto případě činí 10 m.min“\ byla získána vrstva oxidu cíničitého mající tloušťku 10 nm, střední elektrický odpor Rq » 1,5 kiloohmu, průhlednost pro viditelnou oblast světla 100 % a mechanické vlastnosti v podstatě stejné, jako má vrstva oxidu cíničitého, získaná při rychlosti pohybu skleněné desky V 2 m.min·'· (příklad 1).
Příklad 3
Výše popsané zařízení může být rovněž použito pro naprašování vrstvy oxidu titaničitého na skleněnou desku V. Pro tento účel postačí nahradit v první probublávací komoře 21 chlorid ciničitý chloridem titaničitým. Může se také použít nosný plyn tvořený pouze dusíkem. Reakce na výstupu z nanášeci hlavy 2 odpovídá chemické rovnici
TiCl4 + 2H20
TiO2 + 4HC1.
Skleněná deeka V o šířce 20 cm a tloušťce 4 mm zahřátá na teplotu 600 °C se pohybuje pod nanášeci hlavou 2 rychlostí 2 m.min“^ ve vzdálenosti 6 mm od prvního a druhého odCS 274254 B2 chylovacího povrchu 43 a 44 nanášecí hlavy 2, Ovládání regulačních ventilů 23a a 24a byl průtok nosného plynu v průtokoměru 23 60 l.h”^ a v průtokoměru 24 120 l.h”\
První a druhá probublávací nádoba 21 a 22 byly zahřívány tak, aby průtok chloridu titaničitého činil 0,2 mol.h“·'· a průtok vody činil 0,01 mol.h-^-. Byla získána vrstva oxidu titaničitého o tloušíce 0,01 mikrometru, e průhledností pro viditelnou oblast svštla 75 % a s odrazivostí viditelné oblaeti evětla 50 % (což je vyšší odrazivost, než má samotná skleněná deska). Mechanická odolnost získané vrstvy je srovnatelná s mechanickou odolností vrstvy oxidu ciničitého, vytvořené způsobem podle příkladu 1.
Příklad 4
Přímé přidávání vodíku pro snížení intenzity průběhu reakce chloridu ciničitého s vodou není jediným možným opatřením. V rámci varianty popsaného postupu je možné použít nosný plyn tvořený pouze duBÍkem a vodík nezbytný pro redukci vytvářet in šitu z methanolu. Zařízení použitelné k tomuto účelu je znázorněno na obr. 3. Toto zařízení obsahuje další, tj. třetí probublávací nádobu 31 pro methanol, průtokoměr 32 s regulačním ventilem 32a, uzavírací ventil 33, zapojený v potrubí 34 spojujícím průtokoměr 32 s třetí probublávací nádobou 31, a potrubí 35 spojující výstup třetí probublávací nádoby 31 b výstupním potrubím 30 a tedy i s bočními kanály 11 a 12 nanášecí hlavy 2 a s druhou a třetí boční tryskou 3 a 4. Výstupní potrubí 29 a 30 a potrubí 35 jsou uložena uvnitř pláště E2, znázorněného echematicky čerchovanou čarou a obsahujícího ohřívací kapalinu, například olej, udržovaný na teplotě asi 110 °C. Chlorid cíničitý a methanol reagují podle rovnice
SnCl^ + 2CH^0H ----SnO2 + 2HC1 + ŽCHjCl.
Vzhledem k poměrně vysoké teplotě na výstupu z nanášecí hlavy 2 se methanol rovněž rozkládá podle rovnice
CH3*OH -----> 2H2 + CO.
Methanol rovněž reaguje s vodou podle rovnice
CHjOH + H20 ----> 3¾ + C02.
Obě posledně uvedené reakce vytvářejí tedy vodík potřebný pro reakci
SnCl4 + 21^0 ----> SnO2 + 4HC1.
Tento vodík se tvoří in šitu. Pokusy nebylo zjištěno, která z výše uvedených tří reakcí methanolu má dominantní charakter. Nicméně bylo zjištěno, že i při tomto uspořádání dochází k uspokojivé tvorbě vodíku, plnícího zde funkci inertního nosného plynu. V tomto uspořádání se tedy vstupním vedením 46 přivádí pouze dusík. K získání skleněné desky V o šířce 20 cm povlečené vrstvou průhledného oxidu ciničitého byl nastaven v první, druhé a třetí probublávací nádobě 21, 22 a 31 průtok 60 l.h”^ dusíku, řízený regulačními ventily 23a, 24a a 32a průtokoměrů' 23, 24 a 32. První, druhá a třetí probublávací nádoba 21, 22 a 31 byly zahřívány na takové teploty, aby průtok chloridu titaničitého činil 1 mol.h“\ průtok vody činil 1 mol.h1 a průtok methanolu Činil 0,5 mol.h“1. Teplota nanášeci hlavy 2 činila etejnš jako v předešlém případě 110 °C, zatímco skleněná deska V byla zahřáta na teplotu 600 °C a byla unášena ve směru šipky F rychlostí 2 m.min“^ při udržování vzdálenosti 6 mm od prvního a druhého odchylovacího povrchu 43 a 44 nanášeci hlavy 2, Získaná vrstva oxidu cíničitáho měla tloušťku a mechanické, elektrické a fyzikální vlastnosti prakticky shodné s tloušťkou, mechanickými, elektric kými a fyzikálními vlastnostmi vrstvy získané v příkladě 1.
Příklad 5
Další varianta zařízení podle vynálezu, znázorněná na obr. 4, je obzvláště vhodná pro vytváření vrstev oxidu cíničitého dopovaných antimonem (nahrazením některých atomů cínu atomy antimonu). Je známo, že tímto dopováním lze získat vrstvy, mající významně nižší elektrický odpor. Toto dopování lze realizovat reakcí podle rovnice
2SbCl5 + SHgO -----> 2Sb205 + HCl.
Tato reakce umožňuje zavedení iontů antimonu do krystalická mřížky oxidu cíničitého. Aby chlorid antimoničný reagoval a vodou a nikoliv s chloridem cíničitým, je zařízení vytvořeno tak, aby chlorid antimoničný smísený b chloridem cíničitým byl uváděn do styku s vodou až po výstupu z nanášeci hlavy £. Reakce chloridu cíničitého s vodou a reakce chloridu antimoničného s vodou takto probíhají současně. Zařízení z obr. 4 se lisí od zařízení z obr. 1 přidáním dodatkové probublávací nádoby 36, obsahující kapalný chlorid antimoničný, s průtokoměrem 37, regulačním ventilem 37a, uzavíracím ventilem 38, uspořádaným v potrubí 39, a potrubím 40 spojujícím výstup dodatkové probublávací nádoby 36 s výstupním potrubím 29 a tedy se střední první tryskou 5 nanášeci hlavy 2 přes střední kanál 13.
Potrubí 40 a výstupní potrubí 29 a 30 jeou uložena v plášti E^ znázorněném schematicky čerchovanou čarou a obsahujícím ohřívací kapalinu, například olej, udržovanou na stálé teplotě 110 °C,
Zařízení popsaného typu opatřené stejnou nanášeci hlavou 2, jaká byla popsána v příkladě 1, umožnilo povlékat skleněnou desku V o šířce 20 cm a tloušťce 4 mm vrstvou oxidu cíničitého dopovanou antimonem mající tloušťku 500 nm. Skleněná deska V byla zahřáta na 600 °C a byla posouvána ve vzdálenosti 6 mm od prvního a druhého odchylovacího povrchu 43 a 44 nanášecí hlavy 2 rychlostí 2 m.min”\ Použitým nosným plynem, přiváděným vstupním vedením 46, byla směs 60 % dusíku a 40 % vodíku; průtoky nosného plynu byly regulovány regulačními ventily 23a, 24a a 33a na tyto hodnoty: 60 l.h“^ pro první probublávací nádobu 21 obsahující kapalný chlorid cíničitý, 60 l.h“^· pro druhou probublávací nádobu 22 obsahující vodu a 20 l,h“^· pro dodatkovou probublávací nádobu 36 obsahující kapalný chlorid antimoničný. První, druhá a dodatková probublávací nádoba 21, 22 a 36 byly vyhřívány tak, aby průtoky chloridu cíničitého, vody a chloridu antimoničného činily 2 mol.h”\ 2 mol.h“^· a 0,1 mol.h”\ Byla vytvořena vrstva oxidu cíničitého dopovaná antimonem mající elektrický odpor 70 ohmů a průhlednost 60 %. 0statní charakteristiky, Jako například mechanická odolnost vůči nárazu, trhání při řezání diamantem, jakož 1 odolnost vůči kyselinám, a možnost tepelného vytvrzení za obvyklých podmínek, byly stejné jako u vrstvy nedopované, která byla vytvořena postupem podle příkladů 1 nebo 3. Odrazivoat pro viditelnou oblast světla této vrstvy je prakticky stejná jako odrazivost skleněné desky.
Příklad 6
Při rychlosti pohybu skleněné desky V 10 m.min“3' byla ve stejném zařízení, jaké bylo popsáno v předcházejícím příkladě 5, vytvořena vrstva oxidu cíničitého dopovaná antimonem, mající tloušťku 10 nm, střední elektrický odpor RQ - 500 ohmů, průhlednost 80 % pro viditelnou oblast světla a mechanické vlastnosti stejné, jako u vrstvy vytvořené při rychlosti skleněné desky V 2 m.min^ podle předcházejícího příkladu 5.
Příklad 7
Ačkoliv zařízení podle obr. 4 používá jako redukční činidlo vodík zředěný nosným plynem, tj. dusíkem, je zřejmé, že by bylo rovněž možné vytvořit podobné zařízení, ve kterém by redukčním Činidlem byl methanol jako u zařízení podle obr. 3. Toto zařízení by tedy bylo kombinací zařízení podle obr. 3 a obr, 4 a kromě první a druhé probublávací nádoby 21 a 22, obsahujících chlorid cíničitý, resp. vodu, hy obsahovalo třetí probublávací nádobu 31 a dodatkovou probublávací nádobu 36 obsahující methanol, resp. chlorid antimoničný,^ Tyto probublávací nádoby by byly připojeny k nanášeci hlavě 2 stejným způsobem Jako u zařízení z obr. 3 a obr. 4. První, druhá a třetí probublávací nádoba 21, 22 a 31 by byly napájeny dusíkem při průtoku 60 l.h“1 a dodatková probublávací nádoba 36 obsahující chlorid antimoničný by měla průtok dusíku 20 l.h“1. Teplota ohřívání probublávacích nádob 21, 22, 31 a 36 by byla volena tak, aby průtoky reakčnich složek měly následující hodnoty: 1 mol.h1 chloridu cíničitého, 1 mol.h“1 vody, 2 mol, .h“1 methanolu a 0,1 mol.h“1 chloridu antimoničného.
Příklad 8
Odolnost, odra2ivost a průhlednost vrstev oxidu cíničitého na skle mohou být zlepšeny tím, že se tyto vrstvy dopují fluorem. Pro tento případ je výhodné použít zařízení podle obr. 1, doplněné kontejnerem 41 obsahujícím plynný fluorovodík a spojeným potrubím 42 s výstupním potrubím 30 (kontejner a potrubí jsou na obr, 1 vyznačeny přerušovanou čarou). Skleněná deska V o tloušťce 4 mm, ohřátá na teplotu 600 °C byla povlečena vrstvou oxidu cíničitého dopovanou fluorem a mající tloušťku 900 nm, přičemž skleněná deska V se vůči nanášeci hlavě 2 pohybovala rychlostí 2 m.min“1 a byla uspořádána ve vzdálenosti 6 mm od prvního a druhého odchylovacího povrchu 43 a 44 nanášeci hlavy 2, Průtok nosného plynu (tvořeného směsí 60 % dusíku a 40 % vodíku) v první a druhé probublávací nádobě 21 a 22, obsahující chlorid cíničitý, resp. vodu, činil 60 l.h“1. Průtok fluorovodíku činil 0,1 l.min“1.
Tímto způsobem byla získána vrstva oxidu cíničitého dopovaná fluorem s následujícími vlastnostmi: elektrický odpor RQ 20 ohmů, odrazivost pro viditelnou oblast světla vyšší než odrazivost skleněné desky Y, odrazivost pro infračervenou oblast světla 75 % (mimořádně vysoká), průhlednost pro viditelnou oblast světla 90 %. Rovněž mechanická odolnost získané vrstvy je znamenitá. Skleněná deska povlečená uvedenou vrstvou oxidu cíničitého dopovanou fluorem mohla být tepelně zpracována za účelem vytvrzení za stejných podmínek, za Jakých se zpracovávají běžná skla pro vozidla, například boční automobilová okna. Rovněž bylo možné získanou skleněnou desku V ohýbat při teplotě kolem 650 °C k dosažení poloměru křivosti 15 cm, aniž by se změnily vlastnosti dopované vrstvy oxidu cíničitého. Tato skleněná deska V mohla být zpracována tradičním způsobem, například řezáním, bez Jakéhokoliv poškození nanesené vrstvy. Získaná vrstva oxidu cíničitého dopovaná fluorem měla vyšší tvrdost než samotná skleněná deska V a byla dokonale odolná proti poškrábání, přičemž její odolnost vůči kyselinám a nárazům byla rovněž výrazně zvýšena. Dále bylo zjištěno, že vrstva oxidu cíničitého dopovaná fluorem nebo antimonem a nanesená na skleněné desce V za výše uvedených podmínek může být pokryta souvislou stříbrnou vrstvou (nebo stříbrným obrazovým vzorem), nanesenou při teplotě 600 °C, například za úěelem vytvoření elektrických kontaktů. Tato vrstva stříbra na povrchu vrstvy oxidu cíničitého velmi dobře lpí.
Příklad 9
Za použití zařízení z obr. 1 a za stejných podmínek až na rychlost pohybu skleněné desky V, která v tomto případě Siní 10 m,min“\ byla vytvořena vrstva oxidu cíničitého dopovaná fluorem, mající tloušťku 10 nm, střední odpor RQ » 200 ohmů, průhlednost pro viditelnou oblast světla 100 % a odrazivost pro infračervenou oblast světla 25 %. Mechanické vlastnosti získané vrstvy byly stejné jako vlastnosti vrstvy oxidu cíničitého dopované fluorem, získané při rychlosti skleněné desky 7 2 m.min”^.
Příklad 10
Ačkoliv zařízení podle obr. 1, doplněné kontejnerem 41 obsahujícím plynný fluorovodík a potrubím 42 připojujícím tento kontejner 41 k výstupnímu potrubí 30, používá jako redukční činidlo vodík zaváděný do nosného plynu, kterým je dusík, je zřejmé, že by bylo možné sestrojit zařízení pro nanášení vrstev oxidu cíničitého dopovaných fluorem, ve kterém by redukční činidlo bylo získáno z methanolu, jako při způsobu, prováděném za použití zařízení podle obr. 3. Toto nové zařízení by tedy představovalo kombinaci zařízení podle obr. 1 a podle obr. 3 a v praxi by se realizovalo jako zařízení podle obr. 3, ve kterém by byl doplněn kontejner 41 na fluorovodík, připojený potrubím 42 k výstupnímu potrubí 30. Iři tomto provedení způsobu podle vynálezu jsou první, druhá a třetí probublávací nádoba 21, 22 a 31 napájeny dusíkem při průtoku 60 l.h“^ a průtok fluorovodíku činí 0,1 l.h . První, druhá a třetí probublávací nádoba 21, 22 a 31 ae udržují na takových teplotách, aby bylo dosaženo následujících průtoků reakčních složek: 1 ml.h”'*· chloridu cíničitého, 1 mol.h“1 vody a 2 mol.h“1 methanolu. Při rychlosti pohybu skleněné desky V vůči nanášecí hlavě 2, udržované na teplotě 110 °C, 2 m.min“1 a při vzdálenosti povrchu skleněné desky V od prvního a druhého odchylovacího povrchu 43 a 44 nanášecí hlavy 2 rovné 6 mm byla skleněná deska V o tloušťce 4 mm a ohřátá na teplotu 600 °C povlečena vrstvou oxidu cíničitého dopovanou fluorem o tloušťce 600 nm. Takto získaná vrstva oxidu cíničitého měla elektrický odpor 40 ohmů. Ostatní fyzikální, optické a mechanické vlastnosti byly srovnatelné s vlastnostmi vrstvy oxidu cíničitého dopované fluorem, která byla získána v zařízení podle obr. 1 doplněném kontejnerem 41 za zavádění vodíku do nosného plynu.
Ačkoliv u výěe popsaných konkrétních příkladů zařízení podle vynálezu se vždy předpokládalo, že skleněné desky V určené k povlečení vrstvou případně dopovaného oxidu cíničitého nebo vrstvou oxidu titaničitého jsou umístěny ve výše definované vzdálenosti od nanášecí hlavy 2, která odděluje nanášecí hlavu 2 a společnou přímku L, ve které se sbíhají roviny vedené bočními stěnami první, druhé a třetí trysky 5, 3 a 4 nanášecí hlavy 2, je třeba uvést, že v praxi je možné tuto vzdálenost poněkud zmenšit, takže k míšení reakčních eložek vystupujících z uvedených trysek nanášecí hlavy 2 dochází bezprostředně po nárazu uvedených reakčních složek na povrch skleněné deeky V při vzniku poměrně intenzivního víření, které podporuje promísení reakčních eložek.
I když v rámci způsobu a zařízení podle obrázků 1 až 4 bylo uvedeno použití vodíku jako prostředku k regulaci reakce chloridu cíničitého a vody, bude rovněž možné realizovat tuto reakci i jiným způsobem chemického naprašování, například způsobem, popsaným v již zmíněném článku H. Kocha nebo v již uvedeném patentovém spise DE-AS
2123274.
Claims (7)
- Způsob kontinuálního nanášení vrstvy pevné látky, například vrstvy oxidu cíničitého, případně dopované antimonem nebo fluorem, nebo vrstvy oxidu titaničitého, získaných reakcí alespoň dvou plynných reakčních složek, například chloridu cíničitého, vodní páry a případně redukčního činidla, nebo chloridu antimoničného nebo plynné kyseliny fluorovodíkové nebo chloridu titaničitého a vodní páry, nebo reakčních složek zředěných nosným plynem, například dusíkem a vodíkem, na povrch zahřáté podložky, při kterém se separátní laminární proudy reakčních složek přivádějí na povrch zahřáté podložky do vzájemného tangenciálního reciprokého styku, přičemž se separátní laminární proudy a podložka vzájemně vůči sobě pohybují a reakční plyn, rezultující po kontaktu laminárních proudů s podložkou, se odsává, vyznačený tím, že uvedené proudy reakčních složek se uvádějí do vzájemného styku ve formě přímých plynných clon, přičemž osy příčných průřezů těchto přímých plynných clon konvergují ke společné přímce, ve které se podélné clony setkávají, přičemž tato společná přímka leží v rovině povrchu zahřáté podložky a přímé plynné clony a povrch zahřáté podložky se vzájemně vůči sobě pohybují ve směru kolmém na uvedenou společnou přímku,
- 2.Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že se použijí tři přímé plynné clony, přičemž střední plynná clona je tvořena první reakční složkou a obě boční přímé plynné clony jsou tvořeny druhou reakční složkou.
- 3.Zařízení k provádění způsobu podle bodů 1 a 2, vyznačené tím, že obsahuje tepelně stabilizovanou první probublávací nádobu (21) pro první reakční složku, případně zředěnou nosným plynem, tepelně stabilizovanou druhou probublávací nádobu (22) pro druhou reakční složku případně zředěnou nosným plynem, nanášecí hlavu (2), obsahující první trysku (5), druhou trysku (3) a třetí trysku (4), přičemž každá z těchto trysek (3, 4,5) má výstupní otvor, tvořený přímou podélnou štěrbinou a boční stěny (3a, 3b, 4a, 4b, 5at 5b) vymezující trysky (3, 4, 5) konvergují ke společné přímce (L) a první výstupní hrana trysky (5) přiléhá k první výstupní hraně druhé trysky (3) a druhá výstupní hrana první trysky (5) přiléhá k první výstupní hrana třetí trysky (4), první odchylovací prvek (43) a druhý odchylovací prvek (44), vybíhající od druhé výstupní hrany druhé trysky (3), resp. od druhé výstupní hrany třetí trysky (4), přičemž první a druhý odchylovací povrch (43, 44) a výstupní hrany trysek (3, 4, 5) nanášecí hlavy leží ve společné rovině, první vedení (29), spojující první probublávací nádobu (21) β první tryskou (5) nanášecí hlavy (2), druhé vedení (30), spojující druhou probublávací nádobu (22) s druhou a třetí tryskou (3, 4) nanášecí hlavy (2), prostředek pro vzájemný pohyb podložky, na kterou má být nanesena vrstva pevná látky, a nanášecí hlavy (2), výhodně tvořený válečky (1), prostředek pro udržení konstantní vzdálenosti mezi rovinou, ve které leží výstupní otvory tryeek (3, 4, 5) nanášecí hlavy (2) a první a druhý odchylovací povrch (43, 44), a povrchem podložky, přičemž tato vzdálenost je rovna vzdálenosti mezi výstupními otvory trysek (3, 4, 5) a uvedenou epolečnou přímkou (L), ke které konvergují boční stěny (3a, 3b, 4a, 4b, 5a, 5b) vymezující trysky (3, 4, 5), a alespoň jedno ústrojí pro odsávání reakčního plynu, rezultujícího po kontaktu s povrchem podložky, zahrnující odsávací trubky (16, 17) umístěné na obou stranách nanášecí hlavy (2), sací vedení (18) a sací čerpadlo (19).
- 4.Zařízení podle bodu 3, vyznačené tím, že poměr mezi vzdáleností, oddělující společnou přímku (L), ke které konvergují boční stěny (3a, 3b, 4a, 4b, 5a, 5b) vymezující trysky (3, 4, 5), a výstupní otvory trysek (3, 4, 5), a šířkou těchto výstupních otvorů je roven 15 až 60,
- 5.Zařízení podle bodu 3, vyznačené tím, že první a druhý odehylovací povrch (43, 44) jsou povlečeny vrstvou chemicky inertního kovu nebo slitiny chemicky inertních kovů.
- 6.Zařízení podle bodu 3, vyznačené tím, že první a druhý odehylovací povrch (43, 44) jsou povlečeny vrstvou chemicky inertního oxidu kovu,
- 7.Zařízení podle bodu 3, vyznačené tím, že první a druhý odehylovací povrch (43, 44) vybíhá na jednu, resp, druhou stranu od druhé výstupní hrany druhé trysky (3), resp. od druhé výstupní hrany třetí trysky (4) k okraji nanéšecí hlavy (2) v délce rovné 10 až 20 násobku celkové šířky výstupních otvorů trysek (3, 4, 5).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH141279A CH628600A5 (fr) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS98280A2 CS98280A2 (en) | 1990-09-12 |
CS274254B2 true CS274254B2 (en) | 1991-04-11 |
Family
ID=4209839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS98280A CS274254B2 (en) | 1979-02-14 | 1980-02-13 | Method of solid substance's layer continuous coating and equipment for realization of this method |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4294868A (cs) |
JP (1) | JPS55130842A (cs) |
KR (1) | KR830002475B1 (cs) |
AU (1) | AU538579B2 (cs) |
BE (1) | BE881708A (cs) |
BR (1) | BR8000891A (cs) |
CA (1) | CA1136007A (cs) |
CH (1) | CH628600A5 (cs) |
CS (1) | CS274254B2 (cs) |
DD (1) | DD149058A5 (cs) |
DE (1) | DE3005797C2 (cs) |
ES (1) | ES488517A0 (cs) |
FR (1) | FR2448943A1 (cs) |
GB (1) | GB2044137B (cs) |
IT (1) | IT1140560B (cs) |
MX (1) | MX154318A (cs) |
NL (1) | NL179043C (cs) |
PL (1) | PL126146B1 (cs) |
SE (1) | SE446091B (cs) |
SU (1) | SU1371499A3 (cs) |
TR (1) | TR20840A (cs) |
ZA (1) | ZA80824B (cs) |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1134153B (it) * | 1979-11-21 | 1986-07-31 | Siv Soc Italiana Vetro | Ugello per depositare in continuo su un substrato uno strato di una materia solida |
CA1172918A (en) * | 1980-02-15 | 1984-08-21 | William E. Hofmann | Process for making glass surfaces abrasion-resistant and article produced thereby |
BE889217A (fr) * | 1980-06-19 | 1981-12-15 | Bfg Glassgroup | Procede et dispositif de formation d'un revetement uniforme a plusieurs constituants |
CH643469A5 (fr) * | 1981-12-22 | 1984-06-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide. |
US4451000A (en) * | 1982-06-11 | 1984-05-29 | Hollis Engineering, Inc. | Soldering apparatus exhaust system |
US4477494A (en) * | 1982-07-12 | 1984-10-16 | Glass Containers Corporation | Process for forming rust resistant tin oxide coatings on glass containers |
US4524718A (en) * | 1982-11-22 | 1985-06-25 | Gordon Roy G | Reactor for continuous coating of glass |
GB2139612B (en) * | 1983-05-13 | 1987-03-11 | Glaverbel | Coating a hot vitreous substrate |
EP0173715B1 (en) * | 1984-02-13 | 1992-04-22 | SCHMITT, Jerome J. III | Method and apparatus for the gas jet deposition of conducting and dielectric thin solid films and products produced thereby |
US4928627A (en) * | 1985-12-23 | 1990-05-29 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
US5122394A (en) * | 1985-12-23 | 1992-06-16 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
JPH0645881B2 (ja) * | 1986-03-28 | 1994-06-15 | 日本鋼管株式会社 | 連続処理ラインにおける鋼板の浸珪処理方法 |
JPS63139033A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Nec Corp | プラズマディスプレイ用透明導電膜の製造方法 |
EP0276796B1 (en) * | 1987-01-27 | 1992-04-08 | Asahi Glass Company Ltd. | Gas feeding nozzle for a chemical vapor deposition apparatus |
GB2209176A (en) * | 1987-08-28 | 1989-05-04 | Pilkington Plc | Coating glass |
US4853257A (en) * | 1987-09-30 | 1989-08-01 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath |
US5136975A (en) * | 1990-06-21 | 1992-08-11 | Watkins-Johnson Company | Injector and method for delivering gaseous chemicals to a surface |
GB9300400D0 (en) * | 1993-01-11 | 1993-03-03 | Glaverbel | A device and method for forming a coating by pyrolysis |
US5453383A (en) * | 1994-06-14 | 1995-09-26 | General Mills, Inc. | Method of applying sugar coating by using steam assisted discharge nozzle |
US5534314A (en) * | 1994-08-31 | 1996-07-09 | University Of Virginia Patent Foundation | Directed vapor deposition of electron beam evaporant |
FR2724923B1 (fr) * | 1994-09-27 | 1996-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s) |
US5571332A (en) * | 1995-02-10 | 1996-11-05 | Jet Process Corporation | Electron jet vapor deposition system |
GB2302101B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties |
CA2178033C (en) * | 1995-06-09 | 2007-11-13 | Robert Terneu | Glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
GB2302102B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
US6231971B1 (en) | 1995-06-09 | 2001-05-15 | Glaverbel | Glazing panel having solar screening properties |
GB9515198D0 (en) * | 1995-07-25 | 1995-09-20 | Pilkington Plc | A method of coating glass |
MY129739A (en) * | 1996-01-09 | 2007-04-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Coated glass for buildings |
US5698262A (en) | 1996-05-06 | 1997-12-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for forming tin oxide coating on glass |
US6238738B1 (en) | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
GB9616983D0 (en) | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
US6027766A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
US7096692B2 (en) | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
US6103015A (en) * | 1998-01-19 | 2000-08-15 | Libbey-Owens-Ford Co. | Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe |
US5904958A (en) * | 1998-03-20 | 1999-05-18 | Rexam Industries Corp. | Adjustable nozzle for evaporation or organic monomers |
US6268019B1 (en) * | 1998-06-04 | 2001-07-31 | Atofina Chemicals, Inc. | Preparation of fluorine modified, low haze, titanium dioxide films |
DE19923591A1 (de) * | 1999-05-21 | 2000-11-23 | Fleissner Maschf Gmbh Co | Vorrichtung mit einem Düsenbalken zur Erzeugung von Flüssigkeitsstrahlen zur Strahlbeaufschlagung der Fasern einer Warenbahn |
GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
DE10046557B4 (de) * | 2000-09-19 | 2006-07-27 | Datron-Electronic Gmbh | Vorrichtung zum dosierten Ausbringen eines aus mehreren unterschiedlich viskosen Medien bestehenden Materialstranges mittels Koextrusion und mehrfunktionale Kombinationsdichtung |
JP4124046B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2008-07-23 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
CN102154628B (zh) * | 2004-08-02 | 2014-05-07 | 维高仪器股份有限公司 | 用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器 |
US8398770B2 (en) * | 2007-09-26 | 2013-03-19 | Eastman Kodak Company | Deposition system for thin film formation |
US8709160B2 (en) * | 2008-08-22 | 2014-04-29 | United Technologies Corporation | Deposition apparatus having thermal hood |
US8404047B2 (en) * | 2008-09-16 | 2013-03-26 | United Technologies Corporation | Electron beam vapor deposition apparatus and method |
US8343591B2 (en) * | 2008-10-24 | 2013-01-01 | United Technologies Corporation | Method for use with a coating process |
US20100104773A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Neal James W | Method for use in a coating process |
US20100189929A1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-07-29 | Neal James W | Coating device and deposition apparatus |
US20100247809A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Neal James W | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating |
JP2014520201A (ja) * | 2011-03-23 | 2014-08-21 | ピルキントン グループ リミテッド | 薄膜コーティングを被覆するための装置およびこのような装置を用いた被覆方法 |
GB201114242D0 (en) | 2011-08-18 | 2011-10-05 | Pilkington Group Ltd | Tantalum oxide coatings |
GB2510615A (en) * | 2013-02-08 | 2014-08-13 | Glyndwr University | Gas blade injection system |
US10704144B2 (en) * | 2015-10-12 | 2020-07-07 | Universal Display Corporation | Apparatus and method for printing multilayer organic thin films from vapor phase in an ultra-pure gas ambient |
ES2908476T3 (es) * | 2016-03-18 | 2022-04-29 | Basf Se | Oxido de estaño dopado con metales para aplicaciones de electrocatálisis |
JP6529628B2 (ja) * | 2018-04-17 | 2019-06-12 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 成膜装置 |
CN118414451A (zh) * | 2022-01-19 | 2024-07-30 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体成膜装置和等离子体成膜方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1307216A (en) * | 1969-04-23 | 1973-02-14 | Pilkington Brothers Ltd | Treating glass |
US3814327A (en) * | 1971-04-06 | 1974-06-04 | Gen Electric | Nozzle for chemical reaction processes |
CH544156A (de) * | 1971-04-16 | 1973-11-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur Herstellung von oxydischen Halbleiterschichten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE2121319A1 (de) * | 1971-04-30 | 1973-01-18 | Rocholl Martin Ggottfried Dipl | Verfahren zum beschichten von glasscheiben mit einem optisch transparenten flaechenheizleiter |
US3951100A (en) * | 1972-12-15 | 1976-04-20 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of coatings |
US3850679A (en) * | 1972-12-15 | 1974-11-26 | Ppg Industries Inc | Chemical vapor deposition of coatings |
FR2210675B1 (cs) * | 1972-12-15 | 1978-05-12 | Ppg Industries Inc | |
DD109033A1 (cs) * | 1973-12-11 | 1974-10-12 |
-
1979
- 1979-02-14 CH CH141279A patent/CH628600A5/fr unknown
-
1980
- 1980-01-31 US US06/117,086 patent/US4294868A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-02-01 AU AU55139/80A patent/AU538579B2/en not_active Ceased
- 1980-02-12 CA CA000345546A patent/CA1136007A/en not_active Expired
- 1980-02-12 PL PL1980221965A patent/PL126146B1/pl unknown
- 1980-02-12 IT IT19855/80A patent/IT1140560B/it active
- 1980-02-13 ES ES488517A patent/ES488517A0/es active Granted
- 1980-02-13 DE DE3005797A patent/DE3005797C2/de not_active Expired
- 1980-02-13 GB GB8004867A patent/GB2044137B/en not_active Expired
- 1980-02-13 ZA ZA00800824A patent/ZA80824B/xx unknown
- 1980-02-13 SU SU802878803A patent/SU1371499A3/ru active
- 1980-02-13 TR TR20840A patent/TR20840A/xx unknown
- 1980-02-13 JP JP1561380A patent/JPS55130842A/ja active Granted
- 1980-02-13 BE BE0/199390A patent/BE881708A/fr not_active IP Right Cessation
- 1980-02-13 NL NLAANVRAGE8000897,A patent/NL179043C/xx not_active IP Right Cessation
- 1980-02-13 CS CS98280A patent/CS274254B2/cs unknown
- 1980-02-13 BR BR8000891A patent/BR8000891A/pt unknown
- 1980-02-13 SE SE8001131A patent/SE446091B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-02-14 KR KR1019800000592A patent/KR830002475B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1980-02-14 DD DD80219060A patent/DD149058A5/de not_active IP Right Cessation
- 1980-02-14 FR FR8003323A patent/FR2448943A1/fr active Granted
- 1980-02-14 MX MX181188A patent/MX154318A/es unknown
-
1981
- 1981-02-18 US US06/236,134 patent/US4351267A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8000891A (pt) | 1980-10-21 |
GB2044137B (en) | 1983-08-03 |
DE3005797A1 (de) | 1980-08-28 |
PL126146B1 (en) | 1983-07-30 |
US4294868A (en) | 1981-10-13 |
KR830001668A (ko) | 1983-05-18 |
FR2448943A1 (fr) | 1980-09-12 |
BE881708A (fr) | 1980-05-30 |
ES8100356A1 (es) | 1980-11-01 |
GB2044137A (en) | 1980-10-15 |
JPS6133904B2 (cs) | 1986-08-05 |
CS98280A2 (en) | 1990-09-12 |
KR830002475B1 (ko) | 1983-10-26 |
AU538579B2 (en) | 1984-08-23 |
US4351267A (en) | 1982-09-28 |
NL8000897A (nl) | 1980-08-18 |
DE3005797C2 (de) | 1984-10-31 |
IT1140560B (it) | 1986-10-01 |
TR20840A (tr) | 1982-10-19 |
JPS55130842A (en) | 1980-10-11 |
CA1136007A (en) | 1982-11-23 |
SE8001131L (sv) | 1980-08-15 |
SU1371499A3 (ru) | 1988-01-30 |
NL179043C (nl) | 1986-07-01 |
DD149058A5 (de) | 1981-06-24 |
MX154318A (es) | 1987-07-08 |
SE446091B (sv) | 1986-08-11 |
ES488517A0 (es) | 1980-11-01 |
AU5513980A (en) | 1980-08-21 |
IT8019855A0 (it) | 1980-02-12 |
FR2448943B1 (cs) | 1982-12-03 |
CH628600A5 (fr) | 1982-03-15 |
ZA80824B (en) | 1981-02-25 |
PL221965A1 (cs) | 1980-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CS274254B2 (en) | Method of solid substance's layer continuous coating and equipment for realization of this method | |
KR890000873B1 (ko) | 고온으로 가열된 기질표면에 고체 물질의 층을 연속적으로 침착시키기 위한 장치 | |
CA1090209A (en) | Process for forming a metal or metal compound coating on a face of a continuously longitudinally moving glass ribbon and apparatus for use in forming such coating | |
US20090104369A1 (en) | Method for producing functional glass surfaces by changing the composition of the original surface | |
RU2194089C2 (ru) | Способ получения покрытия из оксида олова на стекле | |
JP4716631B2 (ja) | 基板上の光触媒被膜の製造方法 | |
US4325987A (en) | Process for the production of an electrically conducting article | |
EP0365239B1 (en) | Process for coating glass | |
CA1138725A (en) | Glass coating | |
JPH05208849A (ja) | ガラス基材上に被覆を形成する方法及び装置 | |
JPS6210943B2 (cs) | ||
JPH1179788A (ja) | 被膜形成ガラスおよびその製法 | |
CA2000269C (en) | Coating glass | |
EP0755902B1 (en) | A method of coating flat glass | |
KR830002390B1 (ko) | 전도성물질의 제조방법 | |
ITTO940110A1 (it) | Vetro rivestito e procedimento per la sua fabbricazione | |
CZ352497A3 (cs) | Způsob nanášení reflexní vrstvy na sklo a produkty získané tímto způsobem | |
KR850000800Y1 (ko) | 고온으로 가열된 썹스트레이트 표면에 고체물질의 층을 연속적으로 용착시키는 장치 | |
CA2002495A1 (en) | Method and apparatus for manufacturing coated flat glass |