DE10295972B4 - Nicht in einer Form hergestellte Packung für eine Halbleiteranordnung und Verfahren zur Herstellung - Google Patents
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Abstract
Halbleiteranordnung mit:
einem Substrat (12), welches eine Basisschicht (20), eine Metallschicht (21) und eine Isolierschicht (22) zwischen der Basisschicht (20) und der Metallschicht (21) aufweist;
einem Plättchen (11), welches eine erste Oberfläche umfassend einen Drain aufweist und eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zu der ersten Oberfläche aufweist, welche mit der Metallschicht (21) des Substrats (12) verbunden ist, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst; und
mehreren mit dem Substrat (12) benachbart zum Plättchen (11) verbundenen Lötkugeln (13), wobei die Lötkugeln (13) nach Verbinden der Halbleiteranordnung mit einer gedruckten Schaltkreisplatine im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens (11) angeordnet sind,
wobei zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung die erste Oberfläche des Plättchens (11) über ein Lötlot mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist,
wobei der Gate-Bereich des Plättchens über mindestens eine Lötkugel in einem Gate-Bereich (14) des Substrats (12) mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist und...
einem Substrat (12), welches eine Basisschicht (20), eine Metallschicht (21) und eine Isolierschicht (22) zwischen der Basisschicht (20) und der Metallschicht (21) aufweist;
einem Plättchen (11), welches eine erste Oberfläche umfassend einen Drain aufweist und eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zu der ersten Oberfläche aufweist, welche mit der Metallschicht (21) des Substrats (12) verbunden ist, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst; und
mehreren mit dem Substrat (12) benachbart zum Plättchen (11) verbundenen Lötkugeln (13), wobei die Lötkugeln (13) nach Verbinden der Halbleiteranordnung mit einer gedruckten Schaltkreisplatine im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens (11) angeordnet sind,
wobei zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung die erste Oberfläche des Plättchens (11) über ein Lötlot mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist,
wobei der Gate-Bereich des Plättchens über mindestens eine Lötkugel in einem Gate-Bereich (14) des Substrats (12) mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist und...
Description
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- 1. Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Packung für eine Halbleiteranordnung und insbesondere eine Packung für eine Halbleiteranordnung, die einen geformten Körper nicht erfordert. Derartige Packungen sind beispielsweise aus der
US 5 777 386 A , derEP 0 966 038 A2 und aus IBM Technical Disclosure Bulletin 01 Dezember 1993, US Vol. 36, No. 12, Seiten 463–464 bekannt geworden. - 2. Beschreibung des Standes der Technik
- Halbleiteranordnungen, insbesondere MOSFET-Anordnungen, erfordern im Allgemeinen einen sehr niedrigen Packungswiderstand (RDSon) mit guten thermischen Eigenschaften. Es ist ebenfalls im Allgemeinen wünschenswert, einfache, schnelle und effiziente Verfahren zum Aufbau von Packungen aus Halbleiteranordnungen vorzusehen. Somit sind zahlreiche Packungskonzepte und -verfahren im Stand der Technik entwickelt worden.
- Ein Beispiel eines solchen Packungskonzeptes besteht aus einer Kugelgitteranordnung (BGA) (ball grid array). Ein solches Konzept umfasst eine Anordnung aus Source-, Gate- und Drain-Lötkugeln, die direkt mit der gedruckten Schaltkreisplatine (PCB) verbunden sind. Dies erfordert ein mit Perlen versehenes Plättchen (bumped die), und ein Leitungsrahmen (leadframe) wird verwendet, um den Drain-Kontakt zu erleichtern. Ein anderes Packungskonzept wird gemeinhin als „Flip Chip in Leaded Molded Package (FLMP)” bezeichnet, welche eine geformte, an ihrer Oberfläche mit Leitungen versehene Befestigungspackung (molded leaded surface mount package) aufweist, wo ein mit Perlen versehenes Plättchen mit Gate- und Source-Anschlüssen des Rahmens verbunden ist. Der Drain-Anschluss, der sich auf der Rückseite des Plättchens befindet, wird von der Formkomponente oder dem Körper freigelegt und mit der gedruckten Schaltkreisplatine über einen Lötlotrückfluss während eines Standard-Platinenbestückungsprozesses verbunden. Andere Packungsherstellungskonzepte verwenden eine Kupferriemen-(copper straps) und/oder Drahtverbindungs-(wire bonding)Technologie.
- Diese herkömmlichen Konzepte bestehen aus verschiedenen Komponenten und können zu komplizierten Herstellungsverfahren (zum Aufbau von Packungen) führen.
- ABRISS DER ERFINDUNG
- Die vorliegende Erfindung stellt eine Halbleiteranordnung zur Verfügung, mit einem Substrat, welches eine Basisschicht, eine Metallschicht und eine Isolierschicht zwischen der Basisschicht und der Metallschicht aufweist, einem Plättchen, welches eine erste Oberfläche umfassend einen Drain aufweist und eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zu der ersten Oberfläche aufweist, welche mit der Metallschicht des Substrats verbunden ist, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst. Mehrere Lötkugeln sind ebenfalls mit dem Substrat benachbart zum Plättchen verbunden. Die Lötkugeln sind nach Verbinden der Halbleiteranordnung mit einer gedruckten Schaltkreisplatine im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens angeordnet, wobei zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung die erste Oberfläche des Plättchens über ein Lötlot mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist, wobei der Gate-Bereich des Plättchens über mindestens eine Lötkugel in einem Gate-Bereich des Substrats mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist und wobei der Source-Bereich des Plättchens mittels mindestens einer weiteren Lötkugel über das Substrat mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist.
- Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung weist die Basisschicht ein metallisiertes Muster auf und weist die Metallschicht ein anderes metallisiertes Muster auf oder dient zur Wärmeverteilung.
- Die vorliegende Erfindung stellt ebenfalls ein Verfahren zur Herstellung einer Packung einer Halbleiteranordnung zur Verfügung, welches die Schritte aufweist, ein Substrat, welches eine Basisschicht, eine Metallschicht und eine Isolierschicht zwischen der Basisschicht und der Metallschicht aufweist, zur Verfügung zu stellen, ein Plättchen aufweisend eine erste Oberfläche, welche einen Drain umfasst, und eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zur ersten Oberfläche, welche mit der Metallschicht des Substrats verbunden wird, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst, zur Verfügung zu stellen, Lötlot auf dem Substrat und/oder dem Plättchen anzuordnen, das Plättchen auf das Substrat aufzubringen, die Lötkugeln auf dem Substrat benachbart zu der zweiten Oberfläche des Plättchens anzuordnen, so dass die Lötkugeln zum Bereitstellen von Verbindungen zwischen der Halbleiteranordnung und einer Schaltkreisplatine positioniert sind, um im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens zu sein, die erste Oberfläche des Plättchens mit der gedruckten Schaltkreisplatine über ein Lötlot zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung zu verbinden, den Gate-Bereich des Plättchens über mindestens eine Lötkugel in einem Gate-Bereich des Substrats mit der gedruckten Schaltkreisplatine zu verbinden und den Source-Bereich des Plättchens mittels mindestens einer weiteren Lötkugel über das Substrat mit der gedruckten Schaltkreisplatine zu verbinden.
- Andere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden beim Lesen und Verstehen der detaillierten Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele deutlich, die nachfolgend beschrieben werden, und zwar unter Bezugnahme auf die Zeichnungen, in denen gleiche Bezugszeichen gleiche Elemente repräsentieren.
- KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
-
1 ist eine Draufsicht auf eine Halbleiteranordnung gemäß der vorliegenden Erfindung; -
2 ist eine entlang der Linie A-A geschnittene Seitenansicht der in1 gezeigten Halbleiteranordnung; -
3 ist eine Draufsicht auf eine andere Halbleiteranordnung gemäß der vorliegenden Erfindung; -
4 ist eine entlang der Linie B-B geschnittene Seitenansicht der in3 gezeigten Halbleiteranordnung; und -
5 ist eine geschnittene Seitenansicht einer alternativen Ausführung gemäß der vorliegenden Erfindung. - DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
-
1 zeigt eine MOSFET-Halbleiteranordnung10 , die ein Plättchen11 , ein Substrat12 und Lötkugeln13 aufweist. Das Substrat weist einen Gate-Bereich14 auf. - Wie
2 zu entnehmen ist, weist das Substrat vorzugsweise eine Basisschicht20 und eine obere Metallschicht21 auf. Die Basisschicht und die obere Metallschicht sind getrennt durch eine Isolierschicht22 , vorzugsweise isolierendes Epoxy, das die beiden Schichten miteinander verbindet. Das Basismaterial weist vorzugsweise ein metallisiertes Muster auf, während die obere Metallschicht vorzugsweise ein anderes metallisiertes Muster aufweist. Die Metallschicht kann ebenfalls zur Wärmeverteilung dienen. - Das Plättchen ist vorzugsweise über eine Hochtemperaturlötpaste mit dem Substrat verbunden, kann aber auch über ein anderes im Stand der Technik bekanntes geeignetes leitendes Verbindungsmaterial verbunden sein. Die Lötkugeln sind benachbart zum Plättchen an gegenüberliegenden Seiten des Plättchens angeordnet, wobei mindestens eine Lötkugel im Gate-Bereich des Substrats angeordnet ist.
- Bei Benutzung wird somit die Halbleiteranordnung auf einer gedruckten Schaltkreisplatine angeordnet und die Oberfläche des Plättchens direkt mit der gedruckten Schaltkreisplatine über eine Lötpaste oder ein geeignetes elektrisch leitendes Verbindungsmaterial verbunden und dient somit als Drain-Verbindung. Die Oberfläche des mit dem Substrat verbundenen Plättchens weist den Gate-Bereich und den Source-Bereich des Plättchens auf. Somit dient die Lötkugel im Gate-Bereich des Substrates dazu, den Gate-Bereich des Plättchens mit der gedruckten Schaltkreisplatine zu verbinden, während die übrigen Lötkugeln den Source-Bereich des Plättchens über das Substrat mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbinden. Dementsprechend wird der Gate-Bereich des Substrats vom übrigen Abschnitt des Substrats elektrisch isoliert.
- Ein Verfahren zur Herstellung oder zum Aufbau einer Packung einer solchen Halbleiteranordnung umfasst die Schritte, die Lötpaste auf dem Substrat oder dem Plättchen aufzutragen und das Plättchen am Substrat mit einem Flip-Chip-Verfahren zu befestigen. Lötkugeln werden anschließend auf dem Substrat benachbart zum Plättchen angeordnet. Vorzugsweise wird diese Kombination dann getestet. Die Halbleiteranordnung wird anschließend getrimmt bzw. vollendet und nochmals getestet.
- Die Lötkugeln werden auf einer solchen Höhe angeordnet, dass bei Verbindung der Halbleiteranordnung mit einer gedruckten Schaltkreisplatine die Lötkugeln im Wesentlichen koplanar zur Drain-Oberfläche des Plättchens liegen, wodurch die Halbleiteranordnung in gleicher Höhe wie die gedruckte Schaltkreisplatine liegt.
- In einer alternativen Ausführung werden die Lötkugeln nicht auf der Halbleiteranordnung, sondern auf der gedruckten Schaltkreisplatine angeordnet und wird anschließend die Halbleiteranordnung mit dieser verbunden.
- In
3 ist eine alternative Ausführung der Halbleiteranordnung gemäß der vorliegenden Erfindung dargestellt. Bei dieser Ausführung weist das Substrat metallisiertes Keramikmaterial auf. Beispiele von Materialen für das Substrat umfassen ein isoliertes Metallsubstrat. - Bei einer solchen Ausführung dient die freigelegte Oberfläche des Plättchens als Drain-Verbindung mit der gedruckten Schaltkreisplatine, während die Lötkugeln als Gate- und Source-Verbindungen mit der gedruckten Schaltkreisplatine dienen.
- Die in den
3 und4 dargestellte Anordnung wird ähnlich wie in der zuvor unter Bezugnahme auf die in den1 und2 dargestellte Halbleiteranordnung beschriebenen Weise hergestellt. - Demnach stellt die vorliegende Erfindung eine Halbleiteranordnung zur Verfügung, die eine verbesserte Wärmeverteilung der Anordnung vorsieht, da die Rückseite des Plättchens direkt an die gedruckte Schaltkreisplatine angelötet ist und die Source und das Gate des MOSFET an ein Substrat angelötet sind, und zwar vorzugsweise mit Hilfe einer Hochtemperaturlötpaste. Somit braucht das Plättchen nicht aus einem mit Perlen versehenem Plättchen (bumped die) zu bestehen, sondern benötigt eine lötbare obere Metallfläche beispielsweise aus autokatalytischem Nickel (oder elektrolytischem Nickel) mit einer goldenen Außenschicht. Außerdem wird der Herstellungsprozess beträchtlich vereinfacht, da er keine formfaktorbestimmten Verfahren wie Drahtbonding, Gießformen, Gratentfernen, Trimmen und Formen sowie Plattieren umfasst. Außerdem ist die Abdruck- bzw. Auflagefläche nun für die Halbleiteranordnung veränderbar, da die Lötkugeln während des Designprozesses veränderbar sind.
- Wie
5 entnommen werden kann, ermöglicht die vorliegende Erfindung ebenfalls eine einfache Kombination von zwei oder mehreren Plättchen11a , b in einem hochverdichteten Packungsschema (ein oder mehrere Plättchen an jeder Seite des Substrats12 ). Dabei kann ein einfaches Verfahren zur hochverdichteten Integration ohne Verwendung von herkömmlichen Verfahren zur Herstellung einer an der Oberfläche befestigten Packung erzielt werden, und dies ist ein formfaktorunabhängig von Schritten wie Gießformen, Gratentfernen, Trimmen und Formen. Das Substrat weist zwei Schichten aus metallisiertem Keramikmaterial auf, die über eine Isolierschicht getrennt oder auf sonstige Weise elektrisch voneinander isoliert sind. Somit bestimmt die Anordnung der Lötkugeln die Source- und Gate-Verbindungen jedes Plättchens. Falls es gewünscht ist, den Drain-Bereich des Plättchens11b mit der gedruckten Schaltkreisplatine zu verbinden, können bekannte Techniken wie beispielsweise Drahtbonding verwendet werden. - Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf spezifische Ausführungsbeispiele beschrieben worden ist, sei angemerkt, dass es beabsichtigt ist, sämtliche Modifikationen und Äquivalente innerhalb des Schutzumfanges der beiliegenden Ansprüche abzudecken.
Claims (10)
- Halbleiteranordnung mit: einem Substrat (
12 ), welches eine Basisschicht (20 ), eine Metallschicht (21 ) und eine Isolierschicht (22 ) zwischen der Basisschicht (20 ) und der Metallschicht (21 ) aufweist; einem Plättchen (11 ), welches eine erste Oberfläche umfassend einen Drain aufweist und eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zu der ersten Oberfläche aufweist, welche mit der Metallschicht (21 ) des Substrats (12 ) verbunden ist, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst; und mehreren mit dem Substrat (12 ) benachbart zum Plättchen (11 ) verbundenen Lötkugeln (13 ), wobei die Lötkugeln (13 ) nach Verbinden der Halbleiteranordnung mit einer gedruckten Schaltkreisplatine im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens (11 ) angeordnet sind, wobei zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung die erste Oberfläche des Plättchens (11 ) über ein Lötlot mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist, wobei der Gate-Bereich des Plättchens über mindestens eine Lötkugel in einem Gate-Bereich (14 ) des Substrats (12 ) mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist und wobei der Source-Bereich des Plättchens mittels mindestens einer weiteren Lötkugel über das Substrat (12 ) mit der gedruckten Schaltkreisplatine verbunden ist. - Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, bei welcher die Basisschicht (
20 ) ein metallisiertes Muster und die Metallschicht ein zweites metallisiertes Muster aufweist. - Verfahren zur Herstellung einer Packung einer Halbleiteranordnung, mit den Schritten: ein Substrat (
12 ), welches eine Basisschicht (20 ), eine Metallschicht (21 ) und eine Isolierschicht (22 ) zwischen der Basisschicht (20 ) und der Metallschicht (21 ) aufweist, zur Verfügung zu stellen; ein Plättchen (11 ) aufweisend eine erste Oberfläche, welche einen Drain umfasst, und eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zur ersten Oberfläche, welche mit der Metallschicht (21 ) des Substrats (12 ) verbunden wird, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst, zur Verfügung zu stellen; Lötlot auf dem Substrat (12 ) und/oder dem Plättchen (11 ) anzuordnen; das Plättchen (11 ) auf das Substrat (12 ) aufzubringen; die Lötkugeln (13 ) auf dem Substrat (12 ) benachbart zu der zweiten Oberfläche des Plättchens anzuordnen, so dass die Lötkugeln zum Bereitstellen von Verbindungen zwischen der Halbleiteranordnung und einer Schaltkreisplatine positioniert sind, um im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens zu sein, die erste Oberfläche des Plättchens (11 ) mit der gedruckten Schaltkreisplatine über ein Lötlot zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung zu verbinden, den Gate-Bereich des Plättchens über mindestens eine Lötkugel in einem Gate-Bereich (14 ) des Substrats (12 ) mit der gedruckten Schaltkreisplatine zu verbinden und den Source-Bereich des Plättchens mittels mindestens einer weiteren Lötkugel über das Substrat (12 ) mit der gedruckten Schaltkreisplatine zu verbinden. - Verfahren nach Anspruch 3, mit den weiteren Schritten: die Kombination aus Plättchen (
11 ), Substrat (12 ) und Lötkugeln (13 ) zu testen; das Substrat (12 ) zu trimmen bzw. fertigzustellen; und die Kombination aus Plättchen (11 ), Substrat (12 ) und Lötkugeln (13 ) erneut zu testen. - Verfahren nach Anspruch 3, ferner mit den Schritten, ein zweites Plättchen (
11a ) zur Verfügung zu stellen, Lötlot auf dem Substrat (12'' ) oder dem zweiten Plättchen (11a ) anzuordnen und das zweite Plättchen (11a ) mit dem Substrat (12'' ) zu verbinden. - Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, mit einem zweiten Plättchen (
11a ), das an einer Fläche gegenüber einer Fläche, mit der das erste Plättchen (11b ) verbunden ist, mit dem Substrat (12'' ) verbunden ist. - Verfahren zur Herstellung einer Packung einer Halbleiteranordnung, mit den Schritten: ein Substrat (
12 ), welches eine Basisschicht (20 ), eine Metallschicht (21 ) und eine Isolierschicht (22 ) zwischen der Basisschicht (20 ) und der Metallschicht (21 ) aufweist, zur Verfügung zu stellen; ein Plättchen (11 ) zur Verfügung zu stellen, aufweisend eine erste Oberfläche, welche einen Drain umfasst, und aufweisend eine zweite Oberfläche entgegengesetzt zur ersten Oberfläche, welche mit der Metallschicht (21 ) des Substrats (12 ) verbunden wird, wobei die zweite Oberfläche Source- und Gate-Bereiche umfasst; gleichzeitig die erste Oberfläche des Plättchens (11 ) mittels Lötlot mit einer gedruckten Schaltkreisplatine zum Bereitstellen einer Drain-Verbindung zu verbinden und Lötkugeln (13 ) auf dem Substrat (12 ) benachbart zu der zweiten Oberfläche des Plättchens (11 ) anzuordnen, wobei die Lötkugeln (13 ) positioniert werden, um im Wesentlichen koplanar zu der ersten Oberfläche des Plättchens (11 ) zu sein, um Verbindungen zwischen dem Gate-Bereich des Plättchens (11 ) und der gedruckten Schaltkreisplatine sowie zwischen dem Source-Bereich und der gedruckten Schaltkreisplatine bereitzustellen; und das Lötlot und die Lötkugeln zurückfließen zu lassen. - Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, wobei die Halbleiteranordnung frei von Unterfüllmaterial im Bereich einer Peripherie des Plättchens (
11 ) ist. - Verfahren nach Anspruch 3, wobei eine Peripherie des Plättchens (
11 ) in der Halbleiteranordnung frei von Unterfüllmaterial gehalten wird. - Verfahren nach Anspruch 7, wobei die Halbleiteranordnung frei von Unterfüllmaterial im Bereich einer Peripherie des Plättchens (
11 ) ist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US09/776,341 US6469384B2 (en) | 2001-02-01 | 2001-02-01 | Unmolded package for a semiconductor device |
US09/776,341 | 2001-02-01 | ||
PCT/US2002/001686 WO2002061832A1 (en) | 2001-02-01 | 2002-01-17 | Unmolded package for a semiconductor device |
Publications (2)
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DE10295972T5 DE10295972T5 (de) | 2004-04-15 |
DE10295972B4 true DE10295972B4 (de) | 2013-05-16 |
Family
ID=25107113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE10295972T Expired - Fee Related DE10295972B4 (de) | 2001-02-01 | 2002-01-17 | Nicht in einer Form hergestellte Packung für eine Halbleiteranordnung und Verfahren zur Herstellung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US6469384B2 (de) |
JP (2) | JP4729244B2 (de) |
CN (2) | CN100352047C (de) |
DE (1) | DE10295972B4 (de) |
TW (1) | TW535243B (de) |
WO (1) | WO2002061832A1 (de) |
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- 2002-01-17 CN CNB028044363A patent/CN100352047C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-17 WO PCT/US2002/001686 patent/WO2002061832A1/en active Application Filing
- 2002-01-17 DE DE10295972T patent/DE10295972B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-17 JP JP2002561280A patent/JP4729244B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-17 CN CN200710162352A patent/CN100576483C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-25 TW TW91101244A patent/TW535243B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-09-04 US US10/235,249 patent/US6740541B2/en not_active Expired - Lifetime
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WO2002061832A1 (en) | 2002-08-08 |
CN100576483C (zh) | 2009-12-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20130817 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |