JPH11238828A - Bga型パッケージの半導体装置およびその製造方法、実装装置 - Google Patents

Bga型パッケージの半導体装置およびその製造方法、実装装置

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JPH11238828A
JPH11238828A JP10038988A JP3898898A JPH11238828A JP H11238828 A JPH11238828 A JP H11238828A JP 10038988 A JP10038988 A JP 10038988A JP 3898898 A JP3898898 A JP 3898898A JP H11238828 A JPH11238828 A JP H11238828A
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pad
cover plate
semiconductor device
ball
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Hidekazu Hosomi
英一 細美
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    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チップ5の能動素子面5aをベース基板3に
向けて接続するフリップチップ接続方式において、カバ
ープレート1のプレス量が少なく且つ薄型のBGA型パ
ッケージの半導体装置およびその製造方法、実装装置を
提供するものである。 【解決手段】 ベース基板3の一方の面にフリップチッ
プパッド8とボールパッド9を形成して、ボールパッド
9上に半田ボール4を形成し、フリップチップパッド8
上にバンプ6を介してチップ5を装着する。半田ボール
4側において、半田ボール4はチップ5より突き出して
いる。ベース基板3の他方の面をカバープレート1で被
覆する。このことよりパッケージの高さを低くすること
ができ、且つカバープレート1のプレスがない、もしく
は小さくしてカバープレート1の平坦性を保つことがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フリップチップ接
続方式によるBGA型パッケージの半導体装置およびそ
の製造方法、実装装置に関する。
【0002】
【従来の技術】フリップチップによる接続は、チップの
能動素子面にパッドを形成して能動素子面をベース基板
に向けて接続する方式で、高密度実装が可能である。
【0003】またBGA(Ball Grid Arr
ay)型パッケージは、パッケージの裏面に半田ボール
からなる端子を備えるパッケージで、多ピン化が容易で
あり、また実装歩留まりも高いために広く利用されてい
る。特にチップの接続技術にフリップチップを用いたB
GA型パッケージは、さらに多ピン化に向いている。
【0004】図9に従来のフリップチップ接続方式によ
るBGA型パッケージの半導体装置の断面図を示す。従
来のBGA型パッケージの半導体装置は、ベース基板3
に対してチップ5は一方の面に、半田ボール4は他方の
面に配置されている。ベース基板3の一方の面にフリッ
プチップパッド8が、他方の面にボールパッド9が形成
され、ボールパッド9上に半田ボール4が形成されてい
る。チップ5が能動素子面5aをベース基板3に向けて
バンプ6を介してフリップチップパッド8上に装着され
ている。チップ5とベース基板3の間には樹脂7が充填
されている。チップ5とベース基板3の一部を凸型にプ
レスされた金属板のカバープレート1が被覆しており、
接着剤2により接着されている。
【0005】例えば、チップ5の厚さ0.625mm、
バンプ6の高さ0.07mmの場合、カバープレート1
のプレス量(P)=0.695mmとなる。さらにベー
ス基板3の厚さ0.075mm、カバープレート1の厚
さ0.2mm、接着剤2の厚さ0.1mm、半田ボール
4の高さ0.6mmの場合のパッケージの高さ(H)=
1.67mmとなる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このようにベース基板
の一方の面にチップを装着し、他方の面に半田ボールを
形成すると、チップの厚さ分だけカバープレートをプレ
スする必要がある。プレス量が大きいと金属板に歪みが
生じ、カバープレートの平坦性を保つのに大変な困難が
伴う。
【0007】また、チップの厚さを薄くすると研磨工程
の時間が長くなり製造コストが上がるため、パッケージ
の高さを低くするのが困難である。
【0008】本発明の目的は、フリップチップ接続方式
において、カバープレートのプレス量が小さく且つ薄型
のBGA型パッケージの半導体装置およびその製造方
法、実装装置を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明によるBGA型
パッケージの半導体装置は、電気的に接続しているフリ
ップチップパッドとボールパッドが一方の面に形成され
たベース基板と、前記ボールパッド上に形成され且つ前
記ボールパッドと電気的に接続された半田ボールと、前
記フリップチップパッド上にバンプを介して装着され且
つ前記フリップチップパッドと電気的に接続されたチッ
プと、前記ベース基板を被覆するカバープレートとを有
することを特徴としている。また、前記BGA型パッケ
ージの半導体装置の前記半田ボールが形成された側にお
いて、前記半田ボールは前記チップよりも突き出してい
ることを特徴としている。
【0010】また、前記カバープレートの前記チップの
領域は前記カバープレート側に凸型であり、前記半田ボ
ールおよび前記ボールパッドを合わせた高さは前記バン
プ、前記チップおよび前記フリップチップパッドを合わ
せた高さから前記凸型の部分の高さを引いた高さより高
いことと、前記カバープレートは実質的に平坦であり、
前記半田ボールおよび前記ボールパッドを合わせた高さ
は前記バンプ、前記チップおよび前記フリップチップパ
ッドを合わせた高さより高いことを特徴としている。ま
た前記カバープレートは金属であることを特徴としてい
る。
【0011】さらに、前記ベース基板と前記カバープレ
ートの間に接着剤が塗布されており、前記フリップチッ
プパッド近傍の接着剤の熱伝導率は、前記ボールパッド
近傍の接着剤の熱伝導率より高いことを特徴としてい
る。前記ベース基板と前記カバープレートの間に接着剤
が塗布されており、前記フリップチップパッド近傍の接
着剤の熱伝導率は、前記ボールパッド近傍の接着剤の熱
伝導率より高いことを特徴としている。
【0012】また、この発明によるBGA型パッケージ
の半導体装置の製造方法は、ベース基板にフリップチッ
プパッドとボールパッドを形成する工程と、前記ボール
パッド上に半田ボールを形成する工程と、前記フリップ
チップパッド上にバンプを介してチップを装着する工程
と、金型で金属板をプレスしてカバープレートを形成す
る工程と、前記カバープレートと前記ベース基板を接着
剤で接着する工程とを備えることを特徴としている。前
記ボールパッド、前記フリップチップパッド、前記半田
ボールおよび前記チップは電気的に接続されていること
を特徴としている。
【0013】また、この発明によるBGA型パッケージ
の半導体装置を組み込んだ実装装置は、本発明によるB
GA型パッケージとパッドを有する実装基板が接続さ
れ、チップと実装基板が離れていることと、チップと実
装基板が接触していることと、チップと実装基板の間に
熱伝導材を有していることを特徴としている。
【0014】この発明によれば、ベース基板の一方の面
にフリップチップパッドとボールパッドが形成され、フ
リップチップパッド上にバンプを介してチップが装着さ
れ、ボールパッド上に半田ボールが形成されることによ
り、パッケージの高さを低くすることができ、且つカバ
ープレートのプレスがなく、もしくはカバープレートの
プレス量を小さくすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明する。
【0016】図2は本発明の第1の実施の形態によるB
GA型パッケージの半導体装置を底面から見た図で、図
1は図2に示したA−A´線に沿った断面図である。ベ
ース基板3にはチップ5と半田ボール4の間の領域に段
差部10が形成されている。段差部10は、チップ5が
搭載される領域のベース基板3及び半田ボール4が形成
される領域のベース基板3よりも薄く、もしくは開口し
ている。またベース基板3の一方の面上にフリップチッ
プパッド8とボールパッド9が形成され、フリップチッ
プパッド8とボールパッド9は電気的に接続されてお
り、段差部10をまたぐようにして配線されている。ベ
ース基板3はポリイミドテープ等が用いられる。ボール
パッド9上に半田ボール4が形成され、電気的に接続さ
れている。チップ5は能動素子面5aをベース基板3に
向けてバンプ6を介してフリップチップパッド8上に装
着され、チップ5とフリップチップパッド8は電気的に
接続されている。バンプ6には金あるいは半田が用いら
れる。半田ボール4側において、半田ボール4はチップ
5より突き出している。ベース基板3とチップ5との間
には樹脂7が充填されている。樹脂7はチップ5の接続
信頼性を向上させ、またチップ5の能動素子面5aを保
護するために用いられる。ベース基板3をカバープレー
ト1が被覆しており、接着剤2により接着されている。
【0017】図3は、図1および図2におけるカバープ
レート1を形成する工程を説明する断面図である。カバ
ープレート1は、凸型に形成された金型11で金属板1
2をプレスしたもので、チップ5の領域を被覆するよう
にチップ5に対して反対側に凸型に変形されている。
【0018】図9に示した従来技術と同一に、チップ5
の厚さ0.625mm、バンプ6の高さ0.07mm、
ベース基板3の厚さ0.075mm、カバープレート1
の厚さ0.2mm、接着剤2の厚さ0.1mm、半田ボ
ール4の高さ0.6mmの場合、チップ5の下面と半田
ボール4の最下点との距離(d1)を例えばd1=0.
03mmとすると、パッケージの高さ(h1)=1.1
mmとなり、図9に示した従来技術よりも0.57mm
低くなる。この時、カバープレート1のプレス量(p
1)=0.125mmであり、図9で示した従来技術の
1/5以下となる。チップ5の下面と半田ボール4の最
下点との距離(d1)がこれよりも大きい場合、例えば
d1=0.1mmの場合でもh1=1.17mm、p1
=0.195mmとなり、パッケージの高さ(h1)は
図9に示した従来技術よりも0.5mm低く、またカバ
ープレート1のプレス量(p1)は図9で示した従来技
術の1/3以下となるため、金属板に歪みが生じ難く、
カバープレート1の平坦性を保つことができる。また段
差部10が形成されていることによりベース基板3が変
形しやすくなり、容易にカバープレート1の形状に合わ
せて接着させることが可能となる。図2では、段差部1
0は合計4つ形成されているが、その個数はこれ以上で
も以下でもよい。また、段差部10の形状は四角形であ
るが、任意の閉曲線形状を取ることもできる。容易にカ
バープレート1の形状に合わせてベース基板3を接着さ
せることが可能であれば、段差部10を形成する必要は
ない。
【0019】図4は、本発明の第2の実施の形態による
BGA型パッケージの半導体装置の断面図である。ま
た、第2の実施の形態によるBGA型パッケージの半導
体装置の底面図は、第1の実施の形態による底面図であ
る図2と同様である。ベース基板3にはチップ5と半田
ボール4の間の領域に段差部10が形成されている。段
差部10は、チップ5が装着される領域のベース基板3
及び半田ボール4が形成される領域のベース基板3より
も薄く、もしくは開口している。ベース基板3の同一面
上にフリップチップパッド8とボールパッド9が形成さ
れ、フリップチップパッド8とボールチップ9は電気的
に接続され、段差部10をまたぐようにして配線されて
いる。ベース基板3はポリイミドテープ等が用いられ
る。ボールパッド9上に半田ボール4が形成され、電気
的に接続されている。チップ5は能動素子面5aをベー
ス基板3に向けてバンプ6を介してフリップチップパッ
ド8上に装着され、チップ5とフリップチップパッド8
は電気的に接続されている。バンプ6には金あるいは半
田が用いられている。半田ボール4側において、半田ボ
ール4はチップ5より突き出している。チップ5とベー
ス基板3の間には樹脂7で充填されている。樹脂7 はチ
ップ5の接続信頼性を向上させ、またチップ5の能動素
子面5aを保護するために用いられる。カバープレート
1がベース基板3を被覆しており、接着剤2aおよび2
bで接着されている。フリップチップパッド8近傍の接
着剤2aの熱伝導率が、ボールパッド9近傍の接着剤2
bの熱伝導率より高い。接着剤2bとして、例えば銀ペ
ーストが用いられる。
【0020】本発明の第2の実施の形態におけるカバー
プレート1を形成する工程を説明する断面図は、第1の
実施の形態における図3と同様である。カバープレート
1は、凸型に形成された金型11で金属板12をプレス
したもので、チップ5の領域を被覆するようにチップ5
に対して反対側に凸型に変形されている。
【0021】第2の実施の形態によるBGA型パッケー
ジの半導体装置では、第1の実施の形態と同様、パッケ
ージの高さ(h1)を低く、またカバープレート1のプ
レス量(p1)を小さくできる。カバープレート1のプ
レス量が小さくなるため、金属板に歪みが生じ難く、カ
バープレート1の平坦性を保つことができる。また、接
着剤として用いるもので熱伝導率が高いものは、一般に
ペースト状のものが多く、ディスペンスで供給する必要
がある。また一般に、熱伝導率が高いものは接着力が弱
いものが多く、熱伝導率が低いものは接着力が強いもの
が多いので、2種類の接着剤2aおよび2bを用いるこ
とでチップ5から出る熱を効率的に発散させる。そこ
で、フリップチップパッド8近傍の接着剤2aに、ボー
ルパッド9近傍の接着剤2bよりも熱伝導率が高いもの
を用いることで、チップ5の能動素子面5aから出る熱
が熱伝導率の高いフリップチップパッド8近傍の接着剤
2aに伝わり、カバープレート1の全面から効率的に発
散することができる。また段差部10が形成されている
ことによりベース基板3が変形しやすくなり、容易にカ
バープレート1の形状に合わせて接着させることが可能
となる。図2では、段差部10は合計4つ形成されてい
るが、その個数はこれ以上でも以下でもよい。また、段
差部10の形状は四角形であるが、任意の閉曲線形状を
取ることもできる。容易にカバープレート1の形状に合
わせてベース基板3を接着させることが可能であれば、
段差部10を形成する必要はない。
【0022】図5は、本発明の第3の実施の形態による
BGA型パッケージの半導体装置の断面図である。ベー
ス基板3の同一面上にフリップチップパッド8とボール
パッド9が形成され、フリップチップパッド8とボール
パッド9は電気的に接続されている。ベース基板3はポ
リイミドテープ等が用いられる。ボールパッド9上に半
田ボール4が形成され、電気的に接続されている。チッ
プ5が能動素子面5aをベース基板3に向けてバンプ6
を介してフリップチップパッド8上に装着され、チップ
5とフリップチップパッド8は電気的に接続されてい
る。バンプ6には金あるいは半田が用いられている。半
田ボール4側において、半田ボール4はチップ5 より突
き出している。チップ5とベース基板3の間には樹脂7
が充填されている。樹脂7はチップ5の接続信頼性を向
上させ、またチップ5の能動素子面5aを保護するため
に用いられる。カバープレート1がベース基板3を被覆
しており、接着剤2で接着されている。カバープレート
1 は実質的に平坦な金属板である。
【0023】例えば、チップ5の厚さが薄く0.5mm
の場合、チップ5の下面と半田ボール4の最下点との距
離(d2)=0.03mmとなり、チップ5の下面は半
田ボール4の最下点よりも上に位置するので、カバープ
レート1をプレスする必要がなくなるため、カバープレ
ート1の平坦性を保つことができる。さらにパッケージ
の高さ(h2)も低くなり、h2=0.975mmにな
る。
【0024】尚、第3の実施の形態のBGA型パッケー
ジの半導体装置についても第2の実施の形態と同様に2
種類の接着剤を塗布することで、チップから出る熱を効
率的に放熱できる。
【0025】また、ベース基板3が薄くてもカバープレ
ート1がベース基板3全体を被覆しているので、BGA
型パッケージの強度が増す。
【0026】また、第1および第2の実施の形態では、
カバープレート1は凸型に形成された金型11で金属板
12をプレスして形成しているが、凸型に形成された鋳
型に金属を流し込んで形成してもよい。その場合、パッ
ケージの高さ(h1)を低くすることができる。
【0027】図6、図7および図8は、本発明の第1の
実施の形態のBGA型パッケージの半導体装置を組み込
んだ実装装置の断面図である。実装基板13にはパッド
14が形成され、第1の実施の形態のBGA型パッケー
ジの半導体装置の半田ボール4とパッド14が接続され
ている。また、ベース基板3及び実装基板13上にソル
ダレジストを塗布しておくことができる。
【0028】図6において、チップ5と実装基板13は
離れている。チップ5と実装基板13は離れているの
で、フィンをつけることにより、チップ5から出る熱を
効率的に発散させることができる。
【0029】図7において、チップ5と実装基板13は
接触している。チップ5から出る熱を実装基板13から
効率的に発散させることができる。また、チップ5と実
装基板13が接触していることにより、実装後それ以上
半田ボール4の高さは低くならない。第1の実施の形態
によるBGA型パッケージの半導体装置を実装基板13
に接続した後、半田ボール4の高さを維持できるため、
信頼性が向上する。
【0030】図8において、チップ5と実装基板13の
間には熱伝導材15が充填されている。熱伝導率のよい
銀ペースト等の熱伝導材15を用いることにより、チッ
プ5から出る熱を効率的に発散させることができる。
【0031】尚、第2および第3の実施の形態のBGA
型パッケージの半導体装置においても図6、図7および
図8と同様な実装を行うことができる。
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、ベース基板の一方の面
にフリップチップパッドとボールパッドを形成させ、フ
リップチップパッド上にバンプを介してチップを装着さ
せ、ボールパッド上に半田ボールを形成させたので、パ
ッケージの高さを低く抑えることができ、またカバープ
レートのプレスがない、もしくは小さくしてカバープレ
ートの平坦性を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態によるBGA型パッ
ケージの半導体装置における断面図
【図2】本発明の第1の実施の形態によるBGA型パッ
ケージの半導体装置における底面図
【図3】本発明による凸型に形成された金型で金属板を
プレスしてカバープレートを形成する工程の断面図
【図4】本発明の第2の実施の形態によるBGA型パッ
ケージの半導体装置における断面図
【図5】本発明の第3の実施の形態によるBGA型パッ
ケージの半導体装置における断面図
【図6】本発明の第1の実施の形態のBGA型パッケー
ジの半導体装置を組み込んだ実装装置における断面図
【図7】本発明の第1の実施の形態のBGA型パッケー
ジの半導体装置を組み込んだ実装装置における断面図
【図8】本発明の第1の実施の形態のBGA型パッケー
ジの半導体装置を組み込んだ実装装置における断面図
【図9】従来技術によるBGA型パッケージの半導体装
置における断面図
【符号の説明】
1…カバープレート 2、2a、2b…接着剤 3…ベース基板 4…半田ボール 5…チップ、5a…能動素子面 6…バンプ 7…樹脂 8…フリップチップパッド 9…ボールパッド 10…段差部 11…金型 12…金属板 13…実装基板 14…パッド 15…熱伝導材

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気的に接続されたフリップチップパッ
    ドとボールパッドが一方の面に形成されたベース基板
    と、 前記ボールパッド上に形成され且つ前記ボールパッドと
    電気的に接続された半田ボールと、 前記フリップチップパッド上にバンプを介して装着され
    且つ前記フリップチップパッドと電気的に接続されたチ
    ップと、 前記ベース基板の他方の面を被覆するカバープレートと
    を具備することを特徴とするBGA型パッケージの半導
    体装置。
  2. 【請求項2】 前記BGA型パッケージの半導体装置の
    前記半田ボールが形成された側において、前記半田ボー
    ルは前記チップより突き出していることを特徴とする請
    求項1記載のBGA型パッケージの半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記カバープレートの前記チップの領域
    は前記カバープレート側に凸型であり、前記半田ボール
    および前記ボールパッドを合わせた高さは前記バンプ、
    前記チップおよび前記フリップチップパッドを合わせた
    高さから前記凸型の部分の高さを引いた高さより高いこ
    とを特徴とする請求項1または請求項2記載のBGA型
    パッケージの半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記カバープレートは実質的に平坦であ
    り、前記半田ボールおよび前記ボールパッドを合わせた
    高さは前記バンプ、前記チップおよび前記フリップチッ
    プパッドを合わせた高さより高いことを特徴とする請求
    項1または請求項2記載のBGA型パッケージの半導体
    装置。
  5. 【請求項5】 前記カバープレートは金属であることを
    特徴とする請求項1または請求項2記載のBGA型パッ
    ケージの半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記ベース基板と前記カバープレートの
    間に接着剤が塗布されており、前記フリップチップパッ
    ド近傍の接着剤の熱伝導率は、前記ボールパッド近傍の
    接着剤の熱伝導率より高いことを特徴とする請求項1ま
    たは請求項2記載ののBGA型パッケージの半導体装
    置。
  7. 【請求項7】 前記ベース基板の前記チップと前記半田
    ボールの間の領域は開口していること、または前記チッ
    プおよび前記半田ボールの領域よりも薄いことを特徴と
    する請求項3記載のBGA型パッケージの半導体装置。
  8. 【請求項8】 ベース基板にフリップチップパッドとボ
    ールパッドを形成する工程と、 前記ボールパッド上に半田ボールを形成する工程と、 前記フリップチップパッド上にバンプを介してチップを
    装着する工程と、 金属板を金型でプレスしてカバープレートを形成する工
    程と、 前記カバープレートと前記ベース基板を接着剤で接着す
    る工程とを備えたことを特徴とするBGA型パッケージ
    の半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】前記ボールパッド、前記フリップチップパ
    ッド、前記半田ボールおよび前記チップは電気的に接続
    されていることを特徴とする請求項8記載のBGA型パ
    ッケージの半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 請求項1記載のBGA型パッケージの
    半導体装置と、 前記半田ボールに接続された実装基板とを具備すること
    を特徴とする実装装置。
  11. 【請求項11】 前記チップと前記実装基板が離れてい
    ることを特徴とする請求項10記載の実装装置。
  12. 【請求項12】 前記チップと前記実装基板が接触して
    いることを特徴とする請求項10記載の実装装置。
  13. 【請求項13】 前記チップと前記実装基板の間に熱伝
    導材を有することを特徴とする請求項10記載の実装装
    置。
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