DE102007004005A1 - Leistungshalbleitermodul - Google Patents
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Abstract
Ein Leistungshalbleitermodul mit einer erhöhten Zuverlässigkeit gegenüber Wärmeermüdung beinhaltet ein Leistungshalbleiterelement, eine mit der Unterseite des Elements verbundene unterseitige Elektrode, ein erstes isolierendes Substrat, das mit der Oberseite der unterseitigen Elektrode verbunden ist und an seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien hat, eine mit der Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbundene oberseitige Elektrode, ein zweites isolierendes Substrat, das mit der Oberseite der oberseitigen Elektrode verbunden ist und an seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien hat, eine mit der Unterseite des ersten isolierenden Substrats verbundene erste Wärmespreize und eine mit der Oberseite des zweiten isolierenden Substrats verbundene zweite Wärmespreize. Das Leistungshalbleiterelement und die ersten und zweiten isolierenden Substrate sind mit einem Harz abgedichtet.
Description
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Leistungshalbleitermodul.
- Um ein Leistungshalbleitermodul in kompakter Größe herzustellen, ist es notwendig, die Größe eines Leistungshalbleiterelements oder eines Kühlmechanismus zu minimieren. Für die Miniaturisierung des Leistungshalbleiterelements ist es erforderlich, dass das Element seinen Verlust reduziert. Für die Miniaturisierung des Kühlmechanismus ist es effektiv, zu ermöglichen, dass das Element bei hohen Temperaturen verwendet wird. Da jedoch die Miniaturisierung eine Zunahme der Wärmeerzeugungsdichte beinhaltet, ist eine effizientere Kühlung erforderlich. Die Verwendung des Elements bei hohen Temperaturen erfordert eine Zuverlässigkeit, die so hoch wie belastbar gegenüber Wärmeermüdung ist. Die JP-A-2003-17658 (Patentdokument 1) offenbart eine Struktur, bei der isolierende Substrate jeweils auf den oberen und unteren Oberflächen eines Leistungshalbleiters vorgesehen sind und Wärmesenken an beiden Seiten des Halbleiters vorgesehen sind, um den Halbleiter von seinen Ober- und Unterseiten zu kühlen (siehe
5 und6 , Absätze (0049)-(0056)). - ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
- Im Stand der Technik von Patentdokument 1 beinhaltet die Einschränkung des Leistungshalbleiterelements von seinen Ober- und Unterseiten eine Zunahme der durch eine Temperaturänderung verursachten Verziehung, die dazu führt, dass eine auf das Element oder Lötmittel aufgebrachte Belastung mit einer reduzierten Zuverlässigkeit erhöht wird. Somit wird gefordert, Zuverlässigkeit sicherzustellen.
- Deshalb ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Leistungshalbleitermodul bereitzustellen, das eine erhöhte Zuverlässigkeit gegenüber Wärmeermüdung hat.
- Ein Leistungshalbleitermodul gemäß der vorliegenden Erfindung beinhaltet ein Leistungshalbleiterelement, eine mit der Unterseite des Elements verbundene unterseitige Elektrode, ein erstes isolierendes Substrat, das mit der Unterseite der unterseitigen Elektrode verbunden ist und auf seinen beiden Oberflächen vorgesehene metallische Folien hat, eine mit der Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbundene oberseitige Elektrode, ein zweites isolierendes Substrat, das mit der Oberseite der oberseitigen Elektrode verbunden ist und auf seinen beiden Oberflächen vorgesehene metallische Folien hat, eine mit der Unterseite des ersten isolierenden Substrats verbundene erste Wärmesenke und eine mit der Oberseite des zweiten isolierenden Substrats verbundene zweite Wärmesenke. Das Leistungshalbleiterelement, das erste isolierende Substrat und das zweite isolierende Substrat sind mit einem Harz abgedichtet.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung kann das Leistungshalbleiterelement minimiert werden, das gesamte Leistungshalbleitermodul kann minimiert werden, und eine hohe Zuverlässigkeit gegenüber Wärmeermüdung kann sichergestellt werden.
- Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung der Ausführungsformen der Erfindung in Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen ersichtlich.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHUNGEN
-
1 zeigt eine vertikale Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß einer Ausführungsform 1; -
2A und2B sind horizontale Querschnittsansichten des Leistungshalbleitermoduls der Ausführungsform 1; -
3 ist eine Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß einer Ausführungsform 2; -
4 ist eine vertikale Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß einer Ausführungsform 3; -
5A und5B sind horizontale Querschnittsansichten des Leistungshalbleitermoduls der Ausführungsform 3; -
6 ist eine vertikale Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß einer Ausführungsform 4; -
7A und7B sind horizontale Querschnittsansichten des Leistungshalbleitermoduls der Ausführungsform 4; und -
8 ist eine Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß einer Ausführungsform 5. - BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMEN
- Einzelheiten der vorliegenden Erfindung werden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen erläutert.
- Ausführungsform 1:
- Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird durch Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert.
1 zeigt eine vertikale Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß der Aus führungsform, und2 zeigt eine horizontale Querschnittsansicht von diesem. Das Bezugszeichen1 in1 bezeichnet ein Leistungshalbleiterelement, wie zum Beispiel einen IGBT oder einen Leistungs-MOSFET, und die Ziffer2 bezeichnet ein Leistungshalbleiterelement, wie zum Beispiel eine Freilaufdiode. Die Unterseiten des Leistungshalbleiterelements1 und des Leistungshalbleiterelements2 sind mit dazwischen angeordneten ersten Lötmitteln3 und4 an eine unterseitige Zuleitungselektrode5 gebondet. Das Material der unterseitigen Zuleitungselektrode5 kann aus Kupfer hergestellt sein. Wenn jedoch das Elektrodenmaterial aus einem Verbundmaterial (Cu-C) aus Kupfer und Kohlenstoff hergestellt ist, das einen kleinen linearen Ausdehnungskoeffizienten hat, kann eine Belastung bei den ersten Lötmitteln3 und4 oder bei einem zweiten Lötmittel6 , die durch thermische Verformung verursacht wird, entspannt werden, womit die Zuverlässigkeit erhöht wird. Der lineare Ausdehnungskoeffizient des Cu-C-Materials beträgt ungefähr 6 × 10-6/K, was kleiner als der lineare Ausdehnungskoeffizient 17 × 10-6/K von Kupfer ist. Ein unterseitiges isolierendes Substrat8 ist aus einem Material wie zum Beispiel Aluminiumnitrid (AlN), Aluminiumoxid (Al2O3), Siliciumnitrid (Si3N4) oder Bornitrid (BN) hergestellt. Kupferfolien7 ,9 (oder Aluminiumfolien) werden vorher direkt auf beide Oberflächen des unterseitigen isolierenden Substrats8 gebondet. Die Unterseite der unterseitigen Zuleitungselektrode5 ist mit dem dazwischen angeordneten zweiten Lötmittel6 auf eine Kupferfolie7 gebondet, die auf der Oberseite des unterseitigen isolierenden Substrats8 vorgesehen ist. Die auf der unteren Oberfläche des unterseitigen isolierenden Substrats8 vorgesehene Kupferfolie9 ist mit einem dazwischen angeordneten dritten Lötmittel10 auf eine unterseitige Kupferbasis11 (Wärmespreize) gebondet. Die unterseitige Kupferbasis11 ist mittels eines nicht gezeigten Bolzens oder dergleichen mit einer unterseitigen Wärmesenke13 verbunden und ist mit einem dazwischen angeordneten Schmiermittel12 fest damit verbunden. Oder die obengenannte Verbindung kann unter Verwendung eines Lötmittels mit einem niedrigen Schmelzpunkt anstelle des Schmiermittels erreicht werden. Beispielsweise kann ein Lötmittel einer Sn-In-Basis oder einer Sn-Ag-Bi-Basis mit einem Schmelzpunkt von ungefähr 100°C, der niedriger als jener des zweiten Lötmittels6 ist, eingesetzt werden. - Die Oberseiten der Leistungshalbleiterelemente
1 und2 sind mit dazwischen angeordneten vierten Lötmitteln14 ,15 und16 an oberseitige Zuleitungselektroden17 und18 gebondet. Das Material der oberseitigen Zuleitungselektroden17 und18 ist wie die unterseitige Zuleitungselektrode5 auch aus einem Kupfermaterial oder einem Kupfer-Kohlenstoff-Verbundmaterial hergestellt. Ein oberseitiges isolierendes Substrat23 ist aus einem Material aus Aluminiumnitrid, Aluminiumoxid, Siliciumnitrid oder dergleichen ähnlich dem unterseitigen isolierenden Substrat8 hergestellt. Das oberseitige isolierende Substrat23 ist an seiner Unterseite an Kupferfolien21 und22 (oder Aluminiumfolien) und an seiner Oberseite an eine Kupferfolie24 (oder Aluminiumfolie) gebondet. Die oberseitigen Zuleitungselektroden17 und18 sind mit dazwischen angeordneten fünften Lötmitteln19 und20 auf die Kupferfolien21 und22 gebondet, die auf der unteren Oberfläche des oberseitigen isolierenden Substrats23 vorgesehen sind. Die Dicke der Teile der oberseitigen Zuleitungselektroden17 und18 , die an die Oberseiten der Leistungshalbleiterelemente1 und2 durch Lötmittel gebondet sind, ist so ausgeführt, dass sie größer als diejenige von deren anderen Teilen ist. Dies dient zum Zweck des Beibehaltens eines konstanten Abstands zwischen den oberen und unteren Elektroden, um ein mögliches Entladen zwischen den Elektroden zu vermeiden, die an ihren Enden sehr nahe beieinander liegen. Dieses Erfordernis wird hoch, weil insbesondere ein später zu erläuterndes Siliciumcarbid (SiC)-Element so ausgeführt ist, dass es sehr dünn ist. - Die Kupferfolie
24 auf der Oberseite des oberseitigen isolierenden Substrats23 ist mit einem dazwischen angeordneten sechsten Lötmittel25 an eine oberseitige Kupferbasis26 gebondet. Die oberseitige Kupferbasis26 ist mittels eines nicht gezeigten Bolzens oder dergleichen mit einer oberseitigen Wärmesenke28 verbunden und ist mit einem dazwischen angeordneten Schmiermittel27 auch fest damit verbunden. Auch in diesem Fall kann die obengenannte Verbindung unter Verwendung eines Lötmittels mit niedrigem Schmelzpunkt erreicht werden. - Alle oder einige der Oberflächen und Seitenflächen der Leistungshalbleiterelemente
1 ,2 , der isolierenden Substrate8 ,23 , der Kupferfolien7 ,9 ,21 ,22 ,24 (oder Aluminiumfolien) und der Zuleitungselektroden5 ,17 ,18 sind mit weichem Harz, wie zum Beispiel Harz auf Polyimidbasis, Harz auf Polyamidimidbasis oder dergleichen, überzogen, um einen dünnen Film zu bilden. Nachdem die Struktur ausgehärtet oder fest geworden ist, wird sie mit einem Formharz29 auf Epoxydbasis abgedichtet. Das Abdichten mit dem Harzmaterial kann ausgeführt werden, um eine Pressspritzformstruktur zu bilden. Wenn die Struktur mit dem weichen Harz, wie zum Beispiel Harz auf Polyimidbasis oder Polyamidimidbasis, zur Bildung eines dünnen Films bedeckt ist, kann eine auf die Elemente oder Lötmittel durch die Verformung des harten Harzes auf Epoxydbasis aufgebrachte Belastung entspannt werden. Als das Abdichtungsharz wird ein elektrisch isolierendes und thermisch leitendes Harz verwendet. Um die Wärmeausdehnung des Abdichtungsharzes klein zu machen, können einer oder mehr aus SiO2, SiC, BN, Si3N4, AlN oder Al2O3 in dem Harz als ein Füllstoff oder Füllstoffe vermischt werden. Wenn ein Material mit einem linearen Ausdehnungskoeffizienten in einem Bereich von 7 × 10-6/K bis 20 × 10-6/K und mit einem Young'schen Modul von 5 bis 20 GPa als das Harzmaterial auf Epoxydbasis verwendet wird, kann eine sehr hohe Zuverlässigkeit sichergestellt werden. Weiterhin kann, wenn ein bei hohen Temperaturen zu betreibendes Element, wie zum Beispiel ein später zu erläuterndes SiC-Element, eingesetzt wird, das Abdichten unter Verwendung eines Harzes mit einer Glasübergangstemperatur von nicht niedriger als 200°C, beispielsweise unter Verwendung eines Epoxydharzes mit hoher Wärmebeständigkeit, eines Polyphenylensulfidharzes, eines Polycarbonatharzes, eines Polyetherimidharzes oder dergleichen, erfolgen. - Ein Teil der unterseitigen Zuleitungselektrode
5 ist bis zur Außenseite des Formharzes29 ausgedehnt, um einen Verbindungsanschluss einer Hauptstromquelle oder dergleichen zu bilden. Ein Teil der oberseitigen Zuleitungselektrode17 ist auch bis zur Außenseite des Formharzes29 ausgedehnt, um einen Verbindungsanschluss einer Motorverdrahtungsleitung zu bilden. Ein Teil der oberseitigen Zuleitungselektrode18 ist auch bis zur Außenseite des Formharzes29 ausgedehnt, um einen Steueranschluss eines Gates oder dergleichen zu bilden. Ein externes Signal zum Steuern des Betriebs des Leistungselements wird in den Steueranschluss eingegeben. Ein Kühlmedium fließt durch die unterseitigen und oberseitigen Wärmesenken13 und28 auf solche Weise, dass die Leistungshalbleiterelemente1 und2 von ihren beiden Ober- und Unterseiten gekühlt werden. Eine Frostschutzlösung wird als das Kühlmedium verwendet. Das Material der ober- und unterseitigen Wärmesenken13 und28 ist Aluminium, Kupfer oder dergleichen. Wenn das Leistungshalbleiterelement von seinen Ober- und Unterseiten auf diese Weise gekühlt wird, kann das Modul einer hohen Wärmeerzeugungsdichte gewachsen sein und kann in kompakter Größe gemacht oder miniaturisiert werden. Die ober- und unterseitigen Wärmesenken13 und28 können in einigen Fällen ein Luftkühlungssystem mit einer Rippe zur Luftkühlung verwenden. - Es ist empfehlenswert, dass alle Lötmittel bleifreie Lötmittel sind. Als die ersten Lötmittel
3 ,4 und die vierten Lötmittel14 ,15 ,16 zum Bonden der Leistungshalbleiterelemente1 ,2 und der ober- und unterseitigen Zuleitungselektroden5 ,17 ,18 werden Hochtemperaturlötmittel mit beispielsweise in diesen vermischten Kupferpartikeln und Zinnpartikeln verwendet. Auch als das zweite Lötmittel6 zum Bonden der unterseitigen Zuleitungselektrode5 und dem unterseitigen isolierenden Substrat8 sowie die fünften Lötmittel19 ,20 zum Bonden der oberseitigen Zuleitungselektroden17 ,18 und des oberseitigen isolierenden Substrats23 wird das gleiche Lötmittel wie oben erwähnt verwendet. Die Leistungshalbleiterelemente1 ,2 , die ober- und unterseitigen Zuleitungselektroden5 ;17 ,18 und die ober- und unterseitigen isolierenden Substrate8 ,23 sind durch Überziehen der Elemente, Elektroden und isolierenden Substrate mit der Lötmittelpaste, durch Aufeinanderstapeln von diesen und gleichzeitiges oder individuelles Erwärmen und Schmelzen von diesen aneinander gebondet. Als das dritte Lötmittel10 zum Bonden des unterseitigen isolierenden Substrats8 und der unterseitigen Kupferbasis11 und als das sechste Lötmittel25 zum Bonden des oberseitigen isolierenden Substrats23 und der oberseitigen Kupferbasis26 kann ein Lötmittel mit einem Schmelzpunkt oder einer Schmelztemperatur, der beziehungsweise die niedriger als jene der ersten, vierten, zweiten und fünften Lötmittel ist, beispielsweise ein bleifreies Sn-3Ag-0,5Cu-Lötmittel verwendet werden. Die dritten und sechsten Lötmittel10 und25 werden gleichzeitig oder getrennt abwechselnd für das Bonden erwärmt und geschmolzen. Zu diesem Zeitpunkt ist es erwünscht, einen Atmosphärenofen einzusetzen, der auch Zinn in den Hochtemperaturseitenlötmitteln schmilzt und der mit einem Vakuumofen für hohlraumlose Ausbildung kombiniert ist. Die Delaminierung des Harzes kann durch Vorsehen von Vertiefungen in den Oberflächen der Kupferbasen11 und26 vermieden werden. In diesem Fall werden, um die Vertiefungen nicht zu begraben, die Oberflächen der Kupferbasen11 und26 nicht mit Polyimid oder dergleichen überzogen. - Als Nächstes wird unter Bezugnahme auf
1 und2A und2B eine Erläuterung über eine ebene Ausgestaltung der Leistungshalbleiterelemente und so weiter in Verbindung mit einem Beispiel gegeben, bei dem ein IGBT-Element als das Leistungselement verwendet wird.2A zeigt eine Querschnittsansicht des Moduls entlang einer Linie II-II in1 und von seiner Unterseite gesehen, und 2B zeigt eine Querschnittsansicht des Moduls entlang der Linie II-II und von seiner Oberseite gesehen. Ein IGBT (Leistungshalbleiterelement1 ) an dem rechten Ende von2A ist so angeordnet, dass ein Strom von der unterseitigen Zuleitungselektrode5 zu der oberseitigen Zuleitungselektrode17 in1 fließt. Mit anderen Worten ist der IGBT so angeordnet, dass eine Kollektorelektrode an seiner Unterseite und eine Emitterelektrode an seiner Oberseite vorgesehen ist. Eine Gate-Elektrode ist auch so angeordnet, dass sie an seiner Oberseite vorgesehen ist. Eine Freilaufdiode (Leistungshalbleiterelement2 ) ist so angeordnet, dass eine Anode an ihrer Oberseite und eine Kathode an ihrer Unterseite vorgesehen ist. Ein IGBT-Element101 , das als das zweite Element von dem rechten Ende der2A vorgesehen ist, ist so angeordnet, dass ein Strom von seiner Oberseite zu der Unterseite fließt. Mit anderen Worten ist eine Kollektorelektrode des IGBTs an seiner Oberseite und eine Emitterelektrode an seiner Unterseite vorgesehen. Eine Gate-Elektrode des IGBTs ist auch an seinem unteren Ende vorgesehen. Eine Diode102 ist so angeordnet, dass eine Anode an ihrem unteren Ende und eine Kathode an ihrer Oberseite vorgesehen ist. In2B sind die oberseitige emitterseitige Zuleitungselektrode des Leistungshalbleiterelements1 und eine kollektorseitige Zuleitungselektrode des IGBT-Elements101 gemeinsam mit der oberseitigen Zuleitungselektrode verbunden. Mit einer solchen Anordnung kann, da die Elemente in einem kleinen Raum angeord net werden können, das Modul kompakt gemacht werden. Das Leistungshalbleiterelement ist so ausgeführt worden, dass es bei diesem Beispiel eine rechteckige Form hat. Jedoch kann zur Vermeidung einer Belastungskonzentration an Eckteilen die Form des Elements runde Ecken haben. Sogar wenn das Element so ausgebildet ist, dass es eine kreisförmige Form hat, kann eine Belastungskonzentration an seinen Ecken verhindert werden. - Das Leistungshalbleiterelement kann aus Silicium (Si) hergestellt sein. Wenn das Leistungshalbleiterelement aus einem Halbleiter mit breitem Spalt, wie zum Beispiel Siliciumcarbid (SiC) oder Galliumnitrid (GaN) hergestellt ist, kann das Element jedoch bei höheren Temperaturen verwendet werden, und somit kann das Element oder sein Modul kompakter gemacht werden. Da eine Verlustzunahmerate in Bezug auf einen Temperaturanstieg bei der SiC-Charakteristik groß ist, kann ein Temperatursensor beispielsweise auf dem isolierenden Substrat vorgesehen sein, um thermische Zerstörung zu verhindern.
- Obwohl bei der vorhergehenden Erläuterung zum Zwecke der Erläuterung die Ausdrücke "oberseitig" und "unterseitig" verwendet worden sind, kann das Element in horizontaler Richtung oder in einer anderen Richtung angeordnet sein. Wenn das Element beispielsweise in der horizontalen Richtung angeordnet ist, können "oberseitig" und "unterseitig" durch "rechtsseitig" und "linksseitig" ersetzt sein.
- Da bei der vorliegenden Ausführungsform das Leistungshalbleiterelement von seinen Ober- und Unterseiten gekühlt wird, kann die starke Kühlung auf ein Leistungshalbleiterelement mit einer hohen Wärmeerzeugungsdichte angewandt werden. Als ein Ergebnis kann das Leistungshalbleiterelement kompakt gemacht werden, und somit kann das gesamte Leistungshalbleitermodul kompakt gemacht werden. Da das Überziehen mit dem weichen Harz, wie zum Beispiel Harz auf Polyimidbasis oder Harz auf Polyamidimidbasis, und die Pressspritzformstruktur durch das Harz auf Epoxydbasis ermöglichen, dass die Belastungskonzentration auf den Elementen oder dem Lötmittel entspannt wird, kann eine hohe Zuverlässigkeit gegenüber Wärmeermüdung und so weiter sichergestellt werden.
- Ausführungsform 2:
-
3 zeigt eine Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß dieser Ausführungsform. Bei der vorliegenden Ausführungsform sind die Unterseiten der Leistungshalbleiterelemente1 und2 an die Kupferfolie7 des isolierenden Substrats gebondet. Die Leistungshalbleiterelemente1 und2 sind mit den dazwischen angeordneten ersten Lötmitteln3 und4 an die Kupferfolie7 gebondet. Ein plattenartiges Verbindungselement40 aus Kupfer ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel42 mit der Kupferfolie7 verbunden, und das Verbindungselement40 wiederum ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel43 mit einem Elektrodenanschluss41 verbunden. Die weitere Anordnung ist ähnlich derjenigen in der Ausführungsform 1, und somit wird auf deren Erläuterung verzichtet. - Als die vierten Lötmittel
14 und15 zum Bonden der Leistungshalbleiterelemente1 ,2 und der oberseitigen Zuleitungselektroden17 ,18 wird ein Hochtemperaturlötmittel beispielsweise mit in diesem vermischten Kupferpartikeln und Zinnpartikeln verwendet. Sogar für die ersten Lötmittel3 ,4 zum Bonden der Leistungshalbleiterelemente1 ,2 und dem unterseitigen isolierenden Substrat8 sowie die fünften Lötmittel19 ,20 zum Bonden der Zuleitungselektroden17 ,18 und des oberseitigen isolierenden Substrats23 wird das gleiche Hochtemperaturlötmittel verwendet. Die Leistungshalbleiterelemente1 ,2 , die oberseitigen Zuleitungselektroden17 ,18 und die ober- und unterseitigen isolierenden Substrate8 ,23 sind durch Aufbringen einer Lötmittelpaste auf die Elemente, Elektroden und Substrate, Zusammenstapeln von diesen, gleichzeitiges oder individuelles Erwärmen und dann Schmelzen von diesen aneinander gebondet. Als das dritte Lötmittel10 zum Bonden des unterseitigen isolierenden Substrats8 und der unterseitigen Kupferbasis11 ; das sechste Lötmittel25 zum Bonden des oberseitigen isolierenden Substrats23 und der oberseitigen Kupferbasis26 und die Lötmittel42 ,43 zum Bonden der Elektrodenanschlüsse wird ein Lötmittel mit einem Schmelzpunkt, der niedriger als derjenige der ersten Lötmittel3 ,4 und der vierten Lötmittel14 ,15 ,16 und der fünften Lötmittel19 ,20 ist, beispielsweise ein bleifreies Lötmittel aus Sn-3Ag-0,5Cu verwendet. Das Bonden erfolgt durch gleichzeitiges oder individuelles Erwärmen und Schmelzen des dritten Lötmittels10 , des sechsten Lötmittels25 und der Lötmittel42 ,43 . - Da bei der vorliegenden Ausführungsform das Elektrodenelement nicht an der Unterseite verwendet wird, kann ein Wärmewiderstand klein gemacht werden, können das Leistungselement und somit das gesamte Leistungshalbleitermodul kompakter gemacht werden.
- Ausführungsform 3:
-
4 zeigt eine vertikale Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß dieser Ausführungsform, und5A und5B zeigen horizontale Querschnittsansichten von diesem. Insbesondere ist5A eine Querschnittsansicht entlang einer Linie V-V in4 und gesehen von ihrer Unterseite, und5B ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie V-V und gesehen von ihrer Oberseite. Bei der vorliegenden Ausführungsform sind die Unterseiten des Leistungshalbleiterelements1 und2 an die Kupferfolie7 des unterseitigen isolierenden Substrats gebondet. Die Leistungshalbleiterelemente1 und2 sind mit den dazwischen angeordneten ersten Lötmitteln3 und4 an die Kupferfolie7 gebondet. Unterdessen sind die Oberseiten der Leistungshalbleiterelemente1 und2 an die an das oberseitige isolierende Substrat23 gebondeten Kupferfolien21 und22 gebondet. Die Leistungshalbleiterelemente1 und2 und die Kupferfolien21 und22 sind mit den vierten Lötmitteln14 ,15 und16 zusammen gebondet. Das plattenförmige Verbindungselement40 aus Kupfer oder dergleichen ist über das dazwischen angeordnete Lötmittel42 mit der Kupferfolie7 verbunden, und das Verbindungselement40 ist über das dazwischen angeordnete Lötmittel43 mit dem Elektrodenanschluss41 verbunden. Ein plattenförmiges Verbindungselement44 aus Kupfer oder dergleichen ist über ein dazwischen angeordnetes Lötmittel47 mit einer Kupferfolie21 verbunden. Ein plattenförmiges Verbindungselement48 aus Kupfer oder dergleichen ist über ein dazwischen angeordnetes Lötmittel50 mit einer Kupferfolie22 verbunden, und das Verbindungselement48 ist über ein dazwischen angeordnetes Lötmittel51 mit einem Elektrodenanschluss49 verbunden. Die Dicke eines Teils der an das oberseitige isolierende Substrat23 gebondeten Kupferfolie, der beinahe an dem oberen Teil des Leistungshalbleiterelements an das Lötmittel gebondet ist, ist so ausgeführt, dass sie größer als diejenige von deren anderen Teilen ist. Dies dient zum Zweck des Beibehaltens eines konstanten Abstands zwischen den oberen und unteren Elektroden, um ein Entladen zwischen den Elektroden zu vermeiden, die an ihren Enden sehr nahe beieinander liegen. Wenn die Leistungshalbleiterelemente1 und2 eine ausreichend große Dicke haben, kann das Erfordernis, insbesondere die Dicken der Kupferfolien21 und22 an den Elementteilen zu ändern, eliminiert werden. Um Interferenz zwischen den Verbindungselementen40 und48 zu vermeiden, werden weiterhin die Größe des unterseitigen isolierenden Substrats8 und die Größe des oberseitigen isolierenden Substrats23 geändert. - Als die vierten Lötmittel
14 ,15 und16 zum Bonden der Leistungshalbleiterelemente1 und2 und des oberseitigen isolierenden Substrats23 wird ein Hochtemperaturlötmittel mit beispielsweise in diesem vermischten Kupfer- und Zinnpartikeln verwendet. Sogar für die ersten Lötmittel3 ,4 zum Bonden der Leistungshalbleiterelemente1 ,2 und dem unterseitigen isolierenden Substrat8 wird das gleiche Hochtemperaturlötmittel verwendet. Das Bonden wird durch Aufbringen einer Lötmittelpaste auf die Leistungshalbleiterelemente1 und2 und die ober- und unterseitigen isolierenden Substrate8 und23 , Zusammenstapeln von diesen, gleichzeitiges oder individuelles Erwärmen und dann Schmelzen von diesen durchgeführt. Als das dritte Lötmittel10 zum Bonden des unterseitigen isolierenden Substrats8 und der unterseitigen Kupferbasis11 , das sechste Lötmittel25 zum Bonden des oberseitigen isolierenden Substrats23 und der oberseitigen Kupferbasis26 und die Lötmittel42 ,43 ,46 ,47 ,50 ,51 zum Bonden der Elektrodenanschlüsse wird ein Lötmittel mit einem Schmelzpunkt, der niedriger als jene der ersten Lötmittel3 ,4 und der vierten Lötmittel14 ,15 ,16 ist, beispielsweise ein bleifreies Lötmittel aus Sn-3Ag-0,5Cu verwendet. Das Bonden erfolgt durch gleichzeitiges oder individuelles Erwärmen und Schmelzen des dritten Lötmittels10 , des sechsten Lötmittels25 und der Lötmittel42 ,43 ,46 ,47 ,50 ,51 . - Da bei der vorliegenden Ausführungsform die an die ober- und unterseitigen isolierenden Substrate
8 und23 gebondeten Kupferfolien als die Elektroden verwendet werden, kann ein Wärmewiderstand klein gemacht und das Leistungshalbleitermodul kompakt ausgeführt werden. - Ausführungsform 4:
-
6 zeigt eine vertikale Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß dieser Ausführungsform, und7A und7B zeigen horizontale Querschnittsansichten von diesem. Insbesondere ist7A die Querschnittsansicht entlang einer Linie VII-VII in6 und von seiner Unterseite gesehen, und7B ist die Querschnittsansicht entlang der Linie VII-VII und von seiner Oberseite gesehen. Da seine grundlegende Struktur ähnlich jener der Ausführungsform 3 ist, werden nur zwischen den Ausführungsformen unterschiedliche Teile erläutert. - Bei der vorliegenden Ausführungsform ist zum Zweck des weiteren Reduzierens eines Montageoberflächenbereichs eine Kerbe in einem Teil des unterseitigen isolierenden Substrats
8 und in einem Teil des oberseitigen isolierenden Substrats23 vorgesehen. Da als ein Ergebnis Interferenz zwischen den Verbindungselementen40 und48 der ober- und unterseitigen Elektroden vermieden werden kann, kann die Größe des isolierenden Substrats weiter reduziert werden. Dementsprechend kann gemäß der vorliegenden Ausführungsform das Leistungshalbleitermodul kompakter ausgeführt werden. - Ausführungsform 5:
-
8 zeigt eine Querschnittsansicht eines Leistungshalbleitermoduls gemäß dieser Ausführungsform. In8 ist die auf dem isolierenden Substrat8 vorgesehene Kupferfolie7 (Aluminiumfolie) mit dem dazwischen angeordneten ersten Lötmittel3 und4 an die Unterseiten der Leistungshalbleiterelemente1 und2 gebondet. Das isolierende Substrat8 ist aus einem Material wie zum Beispiel Aluminiumnitrid (AlN), Aluminiumoxid (Al2O3) oder Siliciumnitrid (SiN) hergestellt. Die Kupferfolien7 ,53 ,56 (oder Aluminiumfolien) werden vorher direkt auf die obere Oberfläche des isolierenden Substrats8 gebondet, und die Kupferfolie9 (Aluminiumfolie) wird vorher direkt auf die untere Oberfläche des isolierenden Substrats8 gebondet. - Die auf der unteren Oberfläche des unterseitigen isolierenden Substrats
8 vorgesehene Kupferfolie9 und die unterseitige Kupferbasis11 sind mit dem dazwischen angeordneten dritten Lötmittel10 zusammen gebondet. Die unterseitige Kupferbasis11 ist mittels eines Bolzens oder dergleichen mit der unterseitigen Wärmesenke13 verbunden und ist über das dazwischen angeordnete Schmiermittel12 fest damit verbunden. Die Oberseite der Leistungshalbleiterelemente1 und2 ist mit dazwischen angeordneten vierten Lötmitteln14 ,15 und16 an oberseitige Zuleitungselektroden52 und55 gebondet. Die oberseitigen Zuleitungselektroden52 und55 sind aus Kupfer oder einem Kupfer-Kohlenstoff-Verbundmaterial hergestellt. Die oberseitige Zuleitungselektrode52 ist weiterhin mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel54 an eine Kupferfolie53 gebondet, die auf dem isolierenden Substrat8 vorgesehen ist. Ein Elektrodenbondingelement57 ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel60 an die Kupferfolie53 gebondet, und das Elektrodenbondingelement57 ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel61 auch mit einem Elektrodenanschluss58 verbunden. Eine weitere oberseitige Zuleitungselektrode55 ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel an eine Kupferfolie56 gebondet, die auf dem isolierenden Substrat8 vorgesehen ist. Ein Elektrodenbondingelement62 ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel64 an die Kupferfolie56 gebondet, und das Elektrodenbondingelement62 ist mit einem dazwischen angeordneten Lötmittel65 auch an einen Anschluss63 gebondet. - Ein elektrisch isolierendes Harzmaterial
66 mit einer relativ großen Wärmeleitfähigkeit steht in festem Kontakt mit den Oberseiten der oberseitigen Zuleitungselektroden52 und55 , und die Kupferbasis26 ist als eine zweite Wärmespreize auf der oberen Oberfläche des Harzmaterial66 vorgesehen. Die oberseitige Kupferbasis26 ist als die zweite Wärmespreize mittels eines Bolzens oder dergleichen mit der oberseitigen Wärmesenke28 verbunden und ist über das dazwischen angeordnete Schmiermittel27 fest damit verbunden. Mit einer derartigen Anordnung wird in dem Leistungselement erzeugte Wärme effektiv durch die Zuleitungselektrode in die unterseitige Wärmespreize und auch durch das Harzmaterial66 in die oberseitige Wärmespreize übertragen. - Eine Pressspritzformstruktur durch das Formharz
29 ist um die Leistungshalbleiterelemente1 und2 herum ausgebildet. Insbesondere sind alle oder einige der Oberflächen und Seitenflächen der Leistungshalbleiterelemente1 ,2 , des isolierenden Substrats8 , der auf das isolierende Substrat gebondeten Kupferfolien7 ,53 ,56 mit einem dünnen Film aus weichem Harz, wie zum Beispiel Harz auf Polyimidbasis oder einem Harz auf Polyamidimidbasis, bedeckt. Nachdem die resultierende Struktur ausgehärtet ist, wird sie mit Epoxydharz abgedichtet, um eine Pressspritzformstruktur zu bilden. Da die Struktur mit einem dünnen Film aus weichem Harz, wie zum Beispiel Harz auf Polyimidbasis oder Harz auf Polyamidimidbasis, bedeckt ist, kann eine auf das Element aufgebrachte Belastung, die durch die Verformung des Harzes auf Epoxydhasis aufgrund einer Temperaturänderung verursacht wird, entspannt werden. - Da gemäß der vorliegenden Erfindung das Leistungshalbleiterelement von seinen Ober- und Unterseiten gekühlt wird, kann eine effektive Kühlung sogar auf ein Leistungshalbleiterelement mit einer hohen Wärmeerzeugungsdichte angewandt werden, und somit kann das gesamte Leistungshalbleitermodul kompakt gemacht werden. Weiterhin kann wegen des Überziehens mit dem weichen Harz, wie zum Beispiel Harz auf Polyimidbasis oder Harz auf Polyamidimidbasis, und auch wegen der Pressspritzformstruktur durch Harz auf Epoxydbasis eine hohe Zuverlässigkeit gegenüber Wärmeermüdung oder dergleichen sichergestellt werden, während die Aufbringung einer großen Belastung auf das Leistungshalbleiterelement etc. vermieden wird.
- Merkmale, Komponenten und spezielle Einzelheiten der Strukturen der oben beschriebenen Ausführungsformen können ausgetauscht oder kombiniert werden, um weitere Ausführungsformen zu bilden, die für die jeweilige Anwendung optimiert sind. Soweit jene Modifikationen für einen Fachmann leicht ersichtlich sind, sollen sie implizit durch die obige Beschreibung offenbart sein, ohne zum Zweck Prägnanz der vorliegenden Beschreibung jede mögliche Kombination explizit zu spezifizieren.
- Es sollte weiterhin durch den Fachmann verstanden werden, dass, obwohl die vorhergehende Beschreibung über Ausführungsformen der Erfindung erfolgt ist, die Erfindung nicht auf diese beschränkt ist und verschiedene Änderungen und Modifikationen durchgeführt werden können, ohne dass von der Erfindung und dem Umfang der beigefügten Ansprüche abgewichen wird.
Claims (19)
- Leistungshalbleitermodul mit: einem Leistungshalbleiterelement (
1 ,2 ); einer mit einer Unterseite des Leistungshalbleiterelements verbundenen unterseitigen Elektrode (5 ); einem ersten isolierenden Substrat (8 ), das mit einer Unterseite der unterseitigen Elektrode verbunden ist und an seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (7 ,9 ) hat; einer mit einer Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbundenen oberseitigen Elektrode (17 ,18 ); einem zweiten isolierenden Substrat (23 ), das mit einer Oberseite der oberseitigen Elektrode verbunden ist und auf seinen beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (21 ,22 ,24 ) hat; einer mit einer Unterseite des ersten isolierenden Substrats verbundenen ersten Wärmespreize (11 ); und einer mit einer Oberseite des zweiten isolierenden Substrats verbundenen zweiten Wärmespreize (26 ), wobei das Leistungshalbleiterelement, das erste isolierende Substrat und das zweite isolierende Substrat mit Harz abgedichtet sind. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1, wobei eine Dicke eines Teils der an den oberen Teil des Leistungshalbleiterelements (
1 ,2 ) gebondeten oberseitigen Elektrode (17 ,18 ) größer als diejenige eines Teils der nicht an den oberen Teil des Leistungshalbleiterelements gebondeten oberseitigen Elektrode ist. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1, wobei zumindest irgendeine der oberseitigen Elektrode (
17 ,18 ) und der unterseitigen Elektrode (5 ) aus einem Kupfer-Kohlenstoff-Verbundmaterial (Cu-C) hergestellt ist. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1, wobei ein Hochtemperaturlötmittel mit in diesem vermischten Kupfer- und Zinnpartikeln als ein Lötmittel (
3 ,4 ) zum Bonden des Leistungshalbleiterelements (1 ,2 ) und der oberseitigen Elektrode (17 ,18 ) oder der unterseitigen Elektrode (5 ) und als ein Lötmittel (19 ,20 ) zum Bonden der oberseitigen Elektrode (17 ,18 ) oder der unterseitigen Elektrode (5 ) und des ersten oder zweiten isolierenden Substrats (8 ,23 ) verwendet wird und ein Lötmittel mit einer Schmelztemperatur, die niedriger als jene des Hochtemperaturlötmittels ist, als ein Lötmittel (10 ,25 ) zum Bonden des ersten oder zweiten isolierenden Substrats (8 ,23 ) und der ersten oder zweiten Wärmespreize (11 ,26 ) verwendet wird. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1, wobei das erste isolierende Substrat eine von dem zweiten isolierenden Substrat unterschiedliche Form hat und die angrenzenden Leistungshalbleiterelemente so angeordnet sind, dass durch die angrenzenden Leistungshalbleiterelemente und durch das erste isolierende Substrat fließende Ströme eine zueinander entgegengesetzte Richtung haben.
- Leistungshalbleitermodul mit: einem Leistungshalbleiterelement (
1 ,2 ); einem ersten isolierenden Substrat (8 ), das mit einer Unterseite des Leistungshalbleiterelements verbunden ist und an seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (7 ,9 ) hat; einer mit einer Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbundenen oberseitigen Elektrode (17 ,18 ); einem zweiten isolierenden Substrat (23 ), das mit einer Oberseite der oberseitigen Elektrode verbunden ist und auf seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (21 ,22 ,24 ) hat; einer mit einer Unterseite des ersten isolierenden Substrats verbundenen ersten Wärmespreize (11 ); und einer mit einer Oberseite des zweiten isolierenden Substrats verbundenen zweiten Wärmespreize (26 ), wobei das Leistungshalbleiterelement, das erste isolierende Substrat und das zweite isolierende Substrat mit Harz abgedichtet sind. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 6, wobei eine Dicke eines Teils der an den oberen Teil des Leistungshalbleiterelements gebondeten oberseitigen Elektrode größer als diejenige eines Teils der nicht an den oberen Teil des Leistungshalbleiterelements gebondeten oberseitigen Elektrode ist.
- Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 6, wobei zumindest die oberseitige Elektrode aus einem Kupfer-Kohlenstoff-Verbundmaterial (Cu-C) hergestellt ist.
- Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 6, wobei ein Hochtemperaturlötmittel mit in diesem vermischten Kupfer- und Zinnpartikeln als ein Lötmittel (
14 ,15 ,16 ) zum Bonden des Leistungshalbleiterelements (1 ,2 ) und der oberseitigen Elektrode (17 ,18 ) und als ein Lötmittel (19 ,20 ) zum Bonden der oberseitigen Elektrode (19 ,20 ) und der an das zweite isolierende Substrat (23 ) gebondeten metallischen Folie (21 ,22 ) verwendet wird, ein Lötmittel mit einer Schmelztemperatur, die niedriger als diejenige des Hochtemperaturlötmittels ist, als ein Lötmittel (10 ,25 ) zum Bonden des ersten oder zweiten isolierenden Substrats (8 ,23 ) und der ersten oder zweiten Wärmespreize (11 ,26 ) verwendet wird. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 6, wobei das erste isolierende Substrat eine von dem zweiten isolierenden Substrat unterschiedliche Form hat und die auf dem ersten isolierenden Substrat vorgesehenen angrenzenden Leistungshalbleiterelemente so angeordnet sind, dass durch die angrenzenden Leistungshalbleiterelemente fließende Ströme eine zueinander entgegengesetzte Richtung haben.
- Leistungshalbleitermodul mit: einem Leistungshalbleiterelement (
1 ,2 ); einem ersten isolierenden Substrat (8 ), das mit einer Unterseite des Leistungshalbleiterelements verbunden ist und an seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (7 ,9 ) hat; einem zweiten isolierenden Substrat (23 ), das mit einer Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbunden ist und auf seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (21 ,22 ,24 ) hat; einer mit einer Unterseite des ersten isolierenden Substrats verbundenen ersten Wärmespreize (11 ); und einer mit einer Oberseite des zweiten isolierenden Substrats verbundenen zweiten Wärmespreize (26 ), wobei eine Dicke eines Teils der an das zweite isolierende Substrat gebondeten metallischen Folie, der an das Leistungshalbleiterelement gebondet ist, größer als eine Dicke eines Teils der nicht an den oberen Teil des Leistungshalbleiterelements gebondeten metallischen Folie ist und das Leistungshalbleiterelement, das erste isolierende Substrat und das zweite isolierende Substrat mit Harz abgedichtet sind. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 11, wobei ein Hochtemperaturlötmittel mit in diesem vermischten Kupfer- und Zinnpartikeln als ein Lötmittel (
6 ) zum Bonden des Leistungs halbleiterelements (1 ,2 ) und der an das erste isolierende Substrat (8 ) gebondeten metallischen Folie (7 ) und als ein Lötmittel (19 ,20 ) zum Bonden des Leistungshalbleiterelements (1 ,2 ) und der an das zweite isolierende Substrat (23 ) gebondeten metallischen Folie (21 ,22 ) verwendet wird und ein Lötmittel mit einer Schmelztemperatur, die niedriger als diejenige des Hochtemperaturlötmittels ist, als ein Lötmittel (10 ,25 ) zum Bonden des ersten oder zweiten isolierenden Substrats (8 ,23 ) und der ersten oder zweiten Wärmespreize (11 ,26 ) verwendet wird. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 11, wobei das erste isolierende Substrat, das mit der Unterseite des Leistungshalbleiterelements verbunden ist und die an seine beiden Oberflächen gebondeten metallischen Folien hat, eine von dem zweiten isolierenden Substrat, das mit der Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbunden ist und die auf seine beiden Oberflächen gebondeten metallischen Folien hat, unterschiedliche Form hat und die auf dem ersten isolierenden Substrat vorgesehenen angrenzenden Leistungshalbleiterelemente so angeordnet sind, dass durch die Leistungshalbleiterelemente fließende Ströme eine zueinander entgegengesetzte Richtung haben.
- Leistungshalbleitermodul mit: einem Leistungshalbleiterelement (
1 ,2 ); einem ersten isolierenden Substrat (8 ), das mit einer Unterseite des Leistungshalbleiterelements verbunden ist und an seine beiden Oberflächen gebondete metallische Folien (7 ,9 ) hat; einer mit einer Oberseite des Leistungshalbleiterelements verbundenen oberseitigen Elektrode (17 ,18 ); einer mit einer Unterseite des ersten isolierenden Substrats verbundenen ersten Wärmespreize (11 ); und einer mit einem elektrisch isolierenden Harzmaterial an eine Oberseite der oberseitigen Elektrode gebondeten zweiten Wärmespreize (26 ), wobei das Leistungshalbleiterelement und das erste isolierende Substrat mit Harz abgedichtet sind. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 14, wobei das Harz zum Abdichten des Leistungshalbleiterelements und des ersten isolierenden Substrats ein Harz auf Epoxydbasis ist.
- Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 15, wobei das Leistungshalbleiterelement, die metallische Folie des ersten isolierenden Substrats und die oberseitige Elektrode mit einem Harz auf Polyimidbasis oder einem Harz auf Polyamidimidbasis bedeckt sind.
- Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 16, wobei das Epoxydharz einen linearen Ausdehnungskoeffizienten von 7 × 10-6/K bis 20 × 10-6/K hat und einen Young'schen Modul von 5Gpa bis 20Gpa aufweist.
- Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 14, wobei das Leistungshalbleiterelement ein Siliciumcarbidelement ist.
- Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 14, wobei das Leistungshalbleiterelement ein Galliumnitridelement ist.
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DE102007004005A Ceased DE102007004005A1 (de) | 2006-03-20 | 2007-01-26 | Leistungshalbleitermodul |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007031490A1 (de) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Infineon Technologies Ag | Halbleitermodul |
JP2013149730A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体モジュールおよびその製造方法 |
DE112009000447B4 (de) * | 2008-04-09 | 2016-07-14 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE112012007051B4 (de) | 2012-10-25 | 2020-06-10 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
US11646249B2 (en) | 2020-12-29 | 2023-05-09 | Semiconductor Components Industries, Llc | Dual-side cooling semiconductor packages and related methods |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7449780B2 (en) * | 2003-03-31 | 2008-11-11 | Intel Corporation | Apparatus to minimize thermal impedance using copper on die backside |
DE102006027481C5 (de) * | 2006-06-14 | 2012-11-08 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Leistungshalbleitermodul mit gegeneinander elektrisch isolierten Anschlusselementen |
JP2007335663A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Toyota Motor Corp | 半導体モジュール |
JP2008124430A (ja) | 2006-10-18 | 2008-05-29 | Hitachi Ltd | パワー半導体モジュール |
US7737548B2 (en) * | 2007-08-29 | 2010-06-15 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor die package including heat sinks |
JP4958735B2 (ja) * | 2007-11-01 | 2012-06-20 | 株式会社日立製作所 | パワー半導体モジュールの製造方法、パワー半導体モジュールの製造装置、パワー半導体モジュール、及び接合方法 |
JP5055625B2 (ja) * | 2007-12-18 | 2012-10-24 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ワイドギャップ半導体チップの鉛フリー真空半田付け方法 |
JP4580997B2 (ja) | 2008-03-11 | 2010-11-17 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 電力変換装置 |
JP4586087B2 (ja) | 2008-06-30 | 2010-11-24 | 株式会社日立製作所 | パワー半導体モジュール |
US8358000B2 (en) * | 2009-03-13 | 2013-01-22 | General Electric Company | Double side cooled power module with power overlay |
JP2010225720A (ja) | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Mitsubishi Electric Corp | パワーモジュール |
JP2010239033A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Honda Motor Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2010250660A (ja) | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Brother Ind Ltd | ステータスを表示するためのプログラム |
EP2436032A1 (de) * | 2009-05-27 | 2012-04-04 | Curamik Electronics GmbH | Gekühlte elektrische baueinheit |
JP2011023463A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Denso Corp | 半導体モジュール |
JP5126278B2 (ja) * | 2010-02-04 | 2013-01-23 | 株式会社デンソー | 半導体装置およびその製造方法 |
JP5627499B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2014-11-19 | 株式会社デンソー | 半導体モジュールを備えた半導体装置 |
EP2571050A4 (de) * | 2010-05-12 | 2017-10-04 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Halbleiterbauelement |
JP5581131B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2014-08-27 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | パワーモジュール及びそれを用いた電力変換装置 |
KR101533895B1 (ko) | 2010-09-02 | 2015-07-03 | 도요타지도샤가부시키가이샤 | 반도체 모듈 |
EP2485256A3 (de) * | 2011-02-08 | 2018-01-03 | ABB Research Ltd. | Halbleiterbauelement |
JP2012174856A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Hitachi Cable Ltd | ヒートシンク及びその製造方法 |
JP5387620B2 (ja) * | 2011-05-31 | 2014-01-15 | 株式会社安川電機 | 電力変換装置、半導体装置および電力変換装置の製造方法 |
US8804340B2 (en) * | 2011-06-08 | 2014-08-12 | International Rectifier Corporation | Power semiconductor package with double-sided cooling |
JP5520889B2 (ja) * | 2011-06-24 | 2014-06-11 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | パワー半導体モジュール及びそれを用いた電力変換装置 |
JP2013021254A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP5354083B2 (ja) * | 2011-11-07 | 2013-11-27 | ダイキン工業株式会社 | 半導体装置 |
JP5899962B2 (ja) * | 2012-01-25 | 2016-04-06 | 株式会社デンソー | 半導体モジュール及び電力変換装置 |
US9888568B2 (en) | 2012-02-08 | 2018-02-06 | Crane Electronics, Inc. | Multilayer electronics assembly and method for embedding electrical circuit components within a three dimensional module |
WO2013119643A1 (en) * | 2012-02-08 | 2013-08-15 | Crane Electronics, Inc. | Multilayer electronics assembly and method for embedding electrical circuit components within a three dimensional module |
KR101388737B1 (ko) * | 2012-04-12 | 2014-04-25 | 삼성전기주식회사 | 반도체 패키지, 반도체 모듈, 및 그 실장 구조 |
ITMI20120712A1 (it) | 2012-04-27 | 2013-10-28 | St Microelectronics Srl | Dispositivo elettronico a montaggio passante con doppio dissipatore di calore |
ITMI20120711A1 (it) | 2012-04-27 | 2013-10-28 | St Microelectronics Srl | Dispositivo di potenza |
ITMI20120713A1 (it) | 2012-04-27 | 2013-10-28 | St Microelectronics Srl | Sistema elettronico a montaggio attraverso fori passanti con elementi di dissipazione serrati tra loro contro corpo isolante |
JP5975177B2 (ja) * | 2013-07-16 | 2016-08-23 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2015064197A1 (ja) | 2013-10-29 | 2015-05-07 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュール |
CN105264658A (zh) * | 2013-10-29 | 2016-01-20 | 富士电机株式会社 | 半导体模块 |
CN105794094B (zh) * | 2013-12-04 | 2018-09-28 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置 |
JP6407756B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-10-17 | 株式会社東芝 | 半導体モジュールの製造方法 |
JP6409690B2 (ja) * | 2014-11-20 | 2018-10-24 | 株式会社デンソー | 冷却モジュール |
US9240370B1 (en) | 2014-12-15 | 2016-01-19 | Industrial Technology Research Institute | Power module |
US9418921B2 (en) | 2014-12-15 | 2016-08-16 | Industrial Technology Research Institute | Power module |
US9230726B1 (en) | 2015-02-20 | 2016-01-05 | Crane Electronics, Inc. | Transformer-based power converters with 3D printed microchannel heat sink |
US9892993B2 (en) * | 2015-04-28 | 2018-02-13 | Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor module having stacked insulated substrate structures |
ES2773479T3 (es) * | 2016-05-24 | 2020-07-13 | Mitsubishi Electric Corp | Sistema que comprende al menos un módulo de potencia que comprende al menos un chip de potencia que se refrigera con una barra colectora refrigerada por líquido |
JP6387048B2 (ja) * | 2016-06-09 | 2018-09-05 | ローム株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US10403601B2 (en) * | 2016-06-17 | 2019-09-03 | Fairchild Semiconductor Corporation | Semiconductor package and related methods |
JPWO2018043535A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2019-06-24 | ローム株式会社 | パワーモジュール、駆動回路付パワーモジュール、および産業機器、電気自動車またはハイブリッドカー |
JP2018041803A (ja) * | 2016-09-06 | 2018-03-15 | 日本メクトロン株式会社 | フレキシブルプリント基板およびフレキシブルプリント基板の製造方法 |
JP6511506B2 (ja) * | 2016-11-18 | 2019-05-15 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 半導体モジュール及びこれを備えた電力変換装置 |
KR101897641B1 (ko) * | 2016-11-29 | 2018-10-04 | 현대오트론 주식회사 | 파워 모듈 패키지의 제조방법 및 이를 이용한 파워 모듈 패키지 |
JP2018098927A (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 電気接続箱 |
US11270982B2 (en) | 2017-01-30 | 2022-03-08 | Mitsubishi Electric Corporation | Method of manufacturing power semiconductor device and power semiconductor device |
JP2018133448A (ja) * | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
CN108962853A (zh) * | 2017-05-17 | 2018-12-07 | 通用电气公司 | 集成的功率半导体封装装置和功率变换器 |
JP6801605B2 (ja) * | 2017-08-11 | 2020-12-16 | 株式会社デンソー | 電力変換装置 |
JP2019057576A (ja) * | 2017-09-20 | 2019-04-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
CN110071097A (zh) * | 2018-01-24 | 2019-07-30 | 株洲中车时代电气股份有限公司 | 半导体模块及集成式双面冷却型半导体装置 |
JP6969501B2 (ja) * | 2018-05-28 | 2021-11-24 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP7159620B2 (ja) * | 2018-05-30 | 2022-10-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置、冷却モジュール、電力変換装置及び電動車両 |
JP7074046B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2022-05-24 | 株式会社デンソー | 半導体装置とその製造方法 |
JP7163828B2 (ja) * | 2019-03-05 | 2022-11-01 | 株式会社デンソー | 半導体モジュールとそれを備えた半導体装置 |
JP7095632B2 (ja) * | 2019-03-11 | 2022-07-05 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
US11282791B2 (en) * | 2019-06-27 | 2022-03-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device having a heat dissipation structure connected chip package |
JP2022161696A (ja) * | 2021-04-09 | 2022-10-21 | 株式会社デンソー | パワーカード |
US20230260861A1 (en) * | 2022-02-11 | 2023-08-17 | Wolfspeed, Inc. | Semiconductor packages with increased power handling |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58103161A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-20 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH07235430A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Hitachi Ltd | 内燃機関用点火装置 |
JP3879150B2 (ja) * | 1996-08-12 | 2007-02-07 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP3507682B2 (ja) * | 1998-01-09 | 2004-03-15 | 株式会社東芝 | 半導体モジュール |
JP3525753B2 (ja) | 1998-08-26 | 2004-05-10 | 株式会社豊田中央研究所 | パワーモジュール |
US6072240A (en) * | 1998-10-16 | 2000-06-06 | Denso Corporation | Semiconductor chip package |
JP3627591B2 (ja) * | 1999-10-07 | 2005-03-09 | 富士電機機器制御株式会社 | パワー半導体モジュールの製造方法 |
US6703707B1 (en) * | 1999-11-24 | 2004-03-09 | Denso Corporation | Semiconductor device having radiation structure |
US6627998B1 (en) * | 2000-07-27 | 2003-09-30 | International Business Machines Corporation | Wafer scale thin film package |
JP3974747B2 (ja) * | 2000-11-29 | 2007-09-12 | 株式会社日立製作所 | パワー回路 |
DE10062108B4 (de) * | 2000-12-13 | 2010-04-15 | Infineon Technologies Ag | Leistungsmodul mit verbessertem transienten Wärmewiderstand |
JP3736452B2 (ja) * | 2000-12-21 | 2006-01-18 | 株式会社日立製作所 | はんだ箔 |
JP2003017658A (ja) | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Toshiba Corp | 電力用半導体装置 |
JP4120876B2 (ja) * | 2003-05-26 | 2008-07-16 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP2004363295A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US7193326B2 (en) * | 2003-06-23 | 2007-03-20 | Denso Corporation | Mold type semiconductor device |
JP2005032833A (ja) * | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Toshiba Corp | モジュール型半導体装置 |
JP4039339B2 (ja) * | 2003-08-07 | 2008-01-30 | トヨタ自動車株式会社 | 浸漬式両面放熱パワーモジュール |
JP4100685B2 (ja) * | 2003-08-20 | 2008-06-11 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 半導体装置 |
JP4016917B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2007-12-05 | 株式会社デンソー | 半導体冷却ユニット |
JP2005123265A (ja) * | 2003-10-14 | 2005-05-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | パワーデバイス冷却装置及びモータ駆動用インバータユニット |
JP4222193B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2009-02-12 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
JP2005310925A (ja) | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体の実装方法および自動車モータ駆動システム |
JP4319591B2 (ja) * | 2004-07-15 | 2009-08-26 | 株式会社日立製作所 | 半導体パワーモジュール |
JP4378239B2 (ja) * | 2004-07-29 | 2009-12-02 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置及びそれを使用した電力変換装置並びにこの電力変換装置を用いたハイブリッド自動車。 |
JP2006054227A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Hitachi Ltd | 半導体パワーモジュール及び半導体装置 |
JP4450230B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2010-04-14 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
-
2006
- 2006-03-20 JP JP2006075883A patent/JP2007251076A/ja active Pending
-
2007
- 2007-01-25 US US11/657,458 patent/US7671465B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-01-26 DE DE102007004005A patent/DE102007004005A1/de not_active Ceased
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007031490A1 (de) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Infineon Technologies Ag | Halbleitermodul |
US7632712B2 (en) | 2007-07-06 | 2009-12-15 | Infineon Technologies Ag | Method of fabricating a power semiconductor module |
DE102007031490B4 (de) * | 2007-07-06 | 2017-11-16 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls |
DE112009000447B4 (de) * | 2008-04-09 | 2016-07-14 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
JP2013149730A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体モジュールおよびその製造方法 |
US9059334B2 (en) | 2012-01-18 | 2015-06-16 | Mitsubishi Electric Corporation | Power semiconductor module and method of manufacturing the same |
DE102012222879B4 (de) | 2012-01-18 | 2023-05-04 | Mitsubishi Electric Corporation | Leistungshalbleitermodul und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE112012007051B4 (de) | 2012-10-25 | 2020-06-10 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
US11646249B2 (en) | 2020-12-29 | 2023-05-09 | Semiconductor Components Industries, Llc | Dual-side cooling semiconductor packages and related methods |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7671465B2 (en) | 2010-03-02 |
JP2007251076A (ja) | 2007-09-27 |
US20070216013A1 (en) | 2007-09-20 |
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