CN110197793A - 一种芯片及封装方法 - Google Patents
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- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0655—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
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- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
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- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13147—Copper [Cu] as principal constituent
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- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
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- H01L2224/1403—Bump connectors having different sizes, e.g. different diameters, heights or widths
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- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/141—Disposition
- H01L2224/1418—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/14181—On opposite sides of the body
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- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
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- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73209—Bump and HDI connectors
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73267—Layer and HDI connectors
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
- H01L2224/9212—Sequential connecting processes
- H01L2224/92122—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
- H01L2224/92125—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/96—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being encapsulated in a common layer, e.g. neo-wafer or pseudo-wafer, said common layer being separable into individual assemblies after connecting
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06527—Special adaptation of electrical connections, e.g. rewiring, engineering changes, pressure contacts, layout
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/13—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
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Abstract
本申请实施例公开了一种芯片及其封装方法。该芯片中,第一基板上的第一焊垫阵列上的各个第一焊垫与不同裸芯片上的第二管脚阵列中的相对应的各个第二管脚贴合在一起,从而实现不同裸芯片之间的短距离、高密度互连。塑封体用于包裹第一管脚、第二管脚、第一焊垫以及第一基板,从而使扇出单元和第一基板塑封成一整体结构。在该整体结构中,裸芯片上用于与芯片外围电连接的第一管脚阵列的各个第一管脚底部不被塑封体包裹,如此,各个第一管脚可以直接电连接至芯片外围。本申请实施例提供的芯片的整体尺寸主要取决于集成在一起的多颗裸芯片的尺寸,相较于现有技术,本申请实施例提供的芯片的整体尺寸较小,能够满足芯片小型化的需求。
Description
技术领域
本领域涉及半导体封装技术领域,尤其涉及一种芯片及封装方法。
背景技术
随着集成电子技术的不断发展,对芯片性能要求也日渐提高,如功能增强、尺寸减小、 耗能与成本降低等,从而催生了3DIC(Three Dimensional Integrated Circuit,三维集成电路) 技术。硅中介层(Silicon Interposer)技术是三维集成电路中实现堆叠芯片互连的一种技术 解决方案。该技术方案使用半导体工艺在硅片上制作线宽、节点间距都比树脂基板小得多 的互连线路。从而能够将不同功能的芯片比如CPU、DRAM等可以连到同一块硅中介层上 面,通过硅中介层完成大量运算和数据交流,从而大大增加芯片在三维方向堆叠的密度、 缩短芯片之间的互连线、减小外观尺寸、显著降低噪声、减小RC延迟,并改善芯片速度和 低功耗的性能等。
然而,3DIC目前由于仍有许多瓶颈尚待克服,例如晶圆薄化良率、堆叠芯片信号引出 工艺难度高、用于芯片互连的硅通孔(Through Silicon Via,TSV)工艺难度高以及高功率 芯片堆叠后散热问题等。
而扇出型晶圆级封装(Fan-out Wafer Level Package,FoWLP)可以在晶圆上通过再布 线层将单个芯片的I/O管脚进行引出,增大单个封装面积,从而提高整体I/O管脚数量。其设 计难度不仅低于硅通孔3DIC,且封装结构接近2.5D IC,因此,扇出型晶圆级封装有望成为 先进封装技术的发展要点。
然而,现有的扇出型晶圆级封装结构中,裸芯片上用于与封装结构外围电连接的管脚 需要通过基板才能实现与封装结构外围的电连接,如此,导致封装结构的整体尺寸较大, 不能满足芯片小型化的需求。
发明内容
有鉴于此,本申请实施例提供了一种芯片及封装方法,以减小芯片整体尺寸,满足芯 片小型化的需求。
为了达到上述发明目的,本申请采用了如下技术方案:
本申请的第一方面提供了一种芯片,包括:扇出单元、第一基板和塑封体;
所述扇出单元包括集成在一起的多颗按照预设位置排列的裸芯片,每颗所述裸芯片的 第一表面上设置有第一管脚阵列和第二管脚阵列;所述第一管脚阵列包括多个第一管脚, 所述第二管脚阵列包括多个第二管脚;相邻裸芯片上的第二管脚阵列相邻;
所述第一基板包括第一表面,所述第一基板的第一表面上设置有第一再布线层以及与 所述第一再布线层电连接的第一焊垫阵列,且所述第一焊垫阵列包括多个第一焊垫;
其中,所述第一基板位于所述扇出单元的下方,并且所述第一焊垫阵列与所述第二管 脚阵列相对设置,且所述第二管脚阵列中的每个第二管脚与所述第一焊垫阵列中相对应的 第一焊垫贴合在一起,从而使不同所述裸芯片之间通过所述第一基板实现互连;
所述塑封体用于包裹所述第一管脚、所述第二管脚以及所述第一基板,从而使所述扇 出单元和第一基板塑封成一整体结构。
在上述第一方面提供的芯片中,第一基板上的第一焊垫阵列上的各个第一焊垫与不同 裸芯片上的第二管脚阵列中的相对应的各个第二管脚贴合在一起,从而实现不同裸芯片之 间的短距离、高密度互连。塑封体用于包裹第一管脚、第二管脚、第一焊垫以及第一基板, 从而使扇出单元和第一基板塑封成一整体结构。在该整体结构中,裸芯片上用于与芯片外 围电连接的第一管脚阵列的各个第一管脚底部不被塑封体包裹,如此,各个第一管脚可以 直接电连接至芯片外围。因此,通过本申请实施例提供的芯片,裸芯片上用于与芯片外围 电连接的管脚可以直接电连接至芯片外围,无需通过基板作为中介。因此,本申请实施例 提供的芯片的整体尺寸主要取决于集成在一起的多颗裸芯片的尺寸,相较于现有技术,本 申请实施例提供的芯片的整体尺寸较小,能够满足芯片小型化的需求。
结合本申请的第一方面,在第一种可能的实施方式中,所述芯片还包括第二基板,
所述第二基板通过布线层增层工艺直接设置于所述塑封体的下方;
所述第二基板上设置有第二再布线层,所述第二基板包括相对的第一表面和第二表 面,所述第二基板的第一表面上设置有与所述第二再布线层电连接的第二焊垫阵列,所述 第二焊垫阵列包括多个第二焊垫;所述第二基板的第二表面上设置有第三焊垫阵列,且所 述第三焊垫阵列包括多个第三焊垫;
所述第二焊垫阵列与所述第一管脚阵列相对设置,且所述第二焊垫阵列中的每个第二 焊垫电连接至所述第一管脚阵列中对应的第一管脚。
在该第一种可能的实施方式中,该芯片与芯片外围电路的电性连接不再受限于裸芯片 的管脚的尺寸和排布。因而,该芯片结构能够减少裸芯片管脚排布对芯片与芯片外围电路 电性连接的限制。
结合本申请的第一方面及其第一种可能的实施方式,在第二种可能的实施方式中,所 述第一基板的内部设置有与所述第一再布线层电连接的通孔,所述通孔延伸至所述第一基 板的第二表面,并且所述通孔与芯片外围电连接,其中,所述第一基板的第二表面与所述 第一基板的第一表面相对。
在该第二种可能的实施方式中,通过该通孔方便第一基板与芯片外围的信号传输。
结合本申请的第一方面及其第一种至第二种任一可能的实施方式,在第三种可能的实 施方式中,所述芯片还包括:设置于所述第二基板下方的第三基板;
所述第三基板包括相对的第一表面和第二表面,所述第三基板的第一表面上设置有第 四焊垫阵列,所述第三基板的第二表面上设置有第五焊垫阵列,所述第四焊垫阵列包括多 个第四焊垫,所述第五焊垫阵列包括多个第五焊垫;
其中,所述第四焊垫阵列与所述第三焊垫阵列相对,且所述第四焊垫阵列中的每个第 四焊垫电连接至所述第三焊垫阵列中相对的第三焊垫;
所述第五焊垫阵列中的第五焊垫用于实现所述芯片与所述芯片外围的信号传输。
在该第三种可能的实施方式中,该芯片能够进一步增加芯片的布线资源和封装的管脚 数,改善封装的电源完整性,同时改善芯片的板级可靠性。
结合本申请的第一方面及其第一种至第三种任一可能的实施方式,在第四种可能的实 施方式中,所述芯片还包括设置在所述裸芯片的第二表面上的散热片,其中,所述裸芯片 的第二表面与所述裸芯片的第一表面相对。
在该第四种可能的实施方式中,能够提高芯片的散热性能。
结合本申请的第一方面的第四种可能的实施方式,在第五种可能的实施方式中,所述 芯片包括设置于所述第二基板下方的第三基板;所述散热片将所述扇出单元遮罩,并且所 述散热片的边缘固定在所述第三基板上。
在该第五种可能的实施方式中,不仅能够提高芯片的散热性能,还能够控制整个芯片 结构的翘曲和芯片的可靠性。
结合本申请的第一方面的第三种可能的实施方式,在第六种可能的实施方式中,所述 第二基板和所述第三基板之间填充有填充胶。
在该第六种可能的实施方式中,能够提高第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙 的填充效果,进而提高芯片的可靠性。
结合本申请的第一方面及其第一种至第六种任一可能的实施方式,在第七种可能的实 施方式中,所述第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙内填充有填充胶。
在该第七种可能的实施方式中,能够缓解第一管脚与第二基板之间的应力,进而提高 整个芯片结构的可靠性。
结合本申请的第一方面及其第一种至第七种任一可能的实施方式,在第八种可能的实 施方式中,用于制作所述第一基板的材料为硅基材料、树脂材料和玻璃材料中的至少一种。 在该第八种可能的实施方式中,能够降低芯片成本。
结合本申请的第一方面及其第一种至第八种任一可能的实施方式,在第九种可能的实 施方式中,所述裸芯片为无源裸芯片或功能裸芯片。
结合本申请的第一方面及其第一种至第九种任一可能的实施方式,在第十种可能的实 施方式中,所述第二管脚包含铜柱和焊接凸块中的至少一种。在该第十种可能的实施方式 中,能够提高芯片结构的灵活性。
结合本申请的第一方面及其第一种至第十种任一可能的实施方式,在第十一种可能的 实施方式中,实现互连的不同裸芯片之间形成有至少一个互连结构,每个所述互连结构中 包括多条互连线。
结合本申请的第一方面的第十一种可能的实施方式,在第十二种可能的实施方式中, 同一互连结构中的各条互连线的长度均相等。该在第十二种可能的实施方式中,能够信号 质量和改善信号间的串扰。
结合本申请的第一方面及其第一种至第十二种任一可能的实施方式,在第十三种可能 的实施方式中,所述第一再布线层包括n层第一再布线子层,其中,n≥1,且n为整数。
结合本申请的第一方面及其第一种至第十三种任一可能的实施方式,在第十四种可能 的实施方式中,所述n≥2,所述n层第一再布线子层包括参考层和线路层,所述参考层所 在的平面为所述线路层的参考面。该在第十四种可能的实施方式中,能够信号质量和改善 信号间的串扰。
结合本申请的第一方面的第三种可能的实施方式,在第十五种可能的实施方式中,所 述第三基板为激光研磨制备的多层基板或采用机械研磨制备的多层基板。
结合本申请的第一方面及其第一种至第十五种任一可能的实施方式,在第十六种可能 的实施方式中,所述第一基板上设置有逻辑芯片。
本申请的第二方面提供了一种芯片封装方法,所述芯片封装方法包括:
分别制作扇出单元和第一基板;所述扇出单元包括集成在一起的多颗按照预设位置排 列的裸芯片,每颗所述裸芯片的第一表面上设置有第一管脚阵列和第二管脚阵列;所述第 一管脚阵列包括多个第一管脚,所述第二管脚阵列包括多个第二管脚;相邻裸芯片上的第 二管脚阵列相邻;所述第一基板包括第一表面,所述第一基板的第一表面上设置有第一再 布线层以及与所述第一再布线层电连接的第一焊垫阵列,且所述第一焊垫阵列包括多个第 一焊垫;
将所述第一基板置于所述扇出单元的下方,并且使所述第二管脚阵列中的每个第二管 脚与所述第一焊垫阵列中相对应的第一焊垫贴合在一起,从而使不同所述裸芯片之间通过 所述第一基板实现互连;
使用模塑料对贴合在一起的扇出单元和第一基板进行塑封,形成包裹所述第一管脚、 所述第二管脚以及所述第一基板的塑封体。
在该第二方面提供的芯片封装方法中,芯片包括扇出单元、第一基板和塑封体。其中, 第一基板上的第一焊垫阵列上的各个第一焊垫与不同裸芯片和上的第二管脚阵列中的相对 应的各个第二管脚贴合在一起,从而实现不同裸芯片之间的短距离、高密度互连。塑封体 用于包裹第一管脚、第二管脚以及第一基板,从而使扇出单元和第一基板塑封成一整体结 构。在该整体结构中,裸芯片上用于与芯片外围电连接的第一管脚阵列的各个第一管脚底 部不被塑封体包裹,如此,各个第一管脚可以直接电连接至芯片外围。因此,通过第二方 面提供的芯片封装方法,裸芯片上用于与芯片外围电连接的管脚可以直接电连接至芯片外 围,无需利用基板作为中介。因此,通过该方法制作出的芯片的整体尺寸主要取决于扇出 单元尺寸,相较于现有技术,通过该方法制作出的芯片的整体尺寸较小,能够满足芯片小 型化的需求。
结合本申请的第二方面,在第一种可能的实施方式中,所述方法还包括:
当所述塑封体包裹所述第一管脚阵列中的各个第一管脚的底部时,研磨所述塑封体远 离所述扇出单元的表面,以露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚的底部;
通过布线层增层工艺在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作 第二基板,所述第二基板上设置有第二再布线层,所述第二基板包括相对的第一表面和第 二表面,所述第二基板的第一表面上设置有与所述第二再布线层电连接的第二焊垫阵列, 所述第二焊垫阵列包括多个第二焊垫;所述第二基板的第二表面上设置有第三焊垫阵列, 且所述第三焊垫阵列包括多个第三焊垫;
其中,所述第二焊垫阵列与所述第一管脚阵列相对设置,且所述第二焊垫阵列中的每 个第二焊垫电连接至所述第一管脚阵列中对应的第一管脚。
在该第一种可能的实施方式中,该芯片与芯片外围电路的电性连接不再受限于裸芯片 的管脚的尺寸和排布。因而,该方法制作出的芯片结构能够减少裸芯片管脚排布对芯片与 芯片外围电路电性连接的限制。
结合本申请的第二方面的第一种可能的实施方式,在第二种可能的实施方式中,所述 在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作第二基板,具体包括:
在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上涂覆介质层,然后在所述介 质层表面制作再布线层,逐层叠加,直至完成第二再布线层的制作;在制作所述第二再布 线层的同时,在第一管脚阵列相对的位置上制作第二焊垫阵列,其中,所述第二焊垫阵列 包括多个第二焊垫;且一个所述第二焊垫对应一个第二焊垫,;
在制作完第二再布线层和第二焊垫阵列之后,继续涂覆介质层,然后在该介质层的表 面上制作由多个第三焊垫组成的第三焊垫阵列。
在该第二种可能的实施方式中,即使包括高管脚密度的裸芯片,也能够很方便地实现 裸芯片与芯片外围电路的电连接,因此,该实施例形成的芯片结构能够减少裸芯片管脚排 布对芯片与芯片外围电路电连接的限制。
结合本申请的第二方面的第一种至第二种任一可能的实施方式中,在第三种可能的实 施方式中,所述芯片封装方法还包括:
制作第三基板,所述第三基板包括相对的第一表面和第二表面,所述第三基板的第一 表面上设置有第四焊垫阵列,所述第三基板的第二表面上设置有第五焊垫阵列,所述第四 焊垫阵列包括多个第四焊垫,所述第五焊垫阵列包括多个第五焊垫;
所述在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作第二基板之后,所 述芯片封装方法还包括:
将所述第三基板置于所述第二基板的下方,并且使所述第四焊垫阵列与所述第三焊垫 阵列相对,且使所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫与所述第三焊垫阵列中相对应的第三 焊垫贴合,以使所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫电连接至所述第三焊垫阵列中相对应 的第三焊垫。
在该第三种可能的实施方式中,该芯片与芯片外围电路的电性连接不再受限于裸芯片 的管脚的尺寸和排布。因而,该芯片结构能够减少裸芯片管脚排布对芯片与芯片外围电路 电性连接的限制。
结合本申请的第二方面的第三种可能的实施方式,在第四种可能的实施方式中,所述 将所述第三基板置于所述第二基板的下方,并且使所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫与 所述第三焊垫阵列中相对应的第三焊垫贴合后,还包括:
向所述第二基板和所述第三基板之间填充填充胶。
在该第四种可能的实施方式中,能够提高第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙 的填充效果,进而提高芯片的可靠性。
结合本申请的第二方面的第一种至第四种任一可能的实施方式中,在第五种可能的实 施方式中,所述使用模塑料对贴合在一起的扇出单元和第一基板进行塑封前,还包括:
向所述第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙内填充填充胶。
结合本申请的第二方面的第一种至第五种任一可能的实施方式,在第六种可能的实施 方式中,所述芯片封装方法还包括:
在所述裸芯片的第二表面上设置散热片,其中,所述裸芯片的第二表面与所述裸芯片 的第一表面相对。
在该第六种可能的实施方式中,该方法制成的芯片的散热性能较好。
结合本申请的第二方面的第一种至第六种任一可能的实施方式中,在第七种可能的实 施方式中,所述在所述裸芯片的第二表面上设置散热片之前,还包括:
研磨所述扇出单元远离所述第二基板的表面,以露出所述裸芯片的第二表面。
结合本申请的第二方面的第三种可能的实施方式,在第八种可能的实施方式中,所述 芯片封装方法还包括:
在所述扇出单元远离所述第二基板的表面上设置散热片,所述散热片将所述扇出单元 遮罩,并且所述散热片的边缘固定在所述第三基板上。
在该第八种可能的实施方式中,该方法不仅能够提高芯片的散热性能,还能够控制整 个芯片结构的翘曲和芯片的可靠性。
相较于现有技术,本申请具有以下有益效果:
基于以上技术方案可知,本申请实施例提供的芯片中,第一基板上的第一焊垫阵列上 的各个第一焊垫与不同裸芯片上的第二管脚阵列中的相对应的各个第二管脚贴合在一起, 从而实现不同裸芯片之间的短距离、高密度互连。塑封体用于包裹第一管脚、第二管脚、 第一焊垫以及第一基板,从而使扇出单元和第一基板塑封成一整体结构。在该整体结构中, 裸芯片上用于与芯片外围电连接的第一管脚阵列的各个第一管脚底部不被塑封体包裹,如 此,各个第一管脚可以直接电连接至芯片外围。因此,通过本申请实施例提供的芯片,裸 芯片上用于与芯片外围电连接的管脚可以直接电连接至芯片外围,无需通过基板作为中介。 因此,本申请实施例提供的芯片的整体尺寸主要取决于集成在一起的多颗裸芯片的尺寸, 相较于现有技术,本申请实施例提供的芯片的整体尺寸较小,能够满足芯片小型化的需求。
附图说明
图1是本领域常用的一种扇出型晶圆级封装结构的剖面示意图;
图2是本领域常用的另一种扇出型晶圆级封装结构的剖面示意图;
图3A是本申请实施例提供的一种芯片的剖面示意图;
图3B是本申请实施例提供的芯片中的扇出单元示意图;
图4至图4’分别为本申请实施例提供的一种芯片剖面示意图和俯视图;
图5是本申请实施例提供的裸芯片的第一表面结构示意图;
图6A至图6C是本申请实施例提供的裸芯片之间的互连结构示意图;
图7是本申请实施例提供的另一种芯片剖面示意图;
图8是本申请实施例提供的又一种芯片剖面示意图;
图9是本申请实施例提供的又一种芯片剖面示意图;
图10A是本申请实施例提供的又一种芯片剖面示意图;
图10B是本申请实施例提供的第二基板的第一表面结构示意图;
图11至图11’分别为本申请实施例提供的又一种芯片剖面示意图和俯视图;
图12为本申请实施例提供的又一种芯片剖面示意图;
图13为本申请实施例提供的又一种芯片俯视图;
图14是本申请实施例提供的一种芯片封装方法流程示意图;
图15A1至图15D分别为本申请实施例提供的一种芯片封装方法一系列制程对应的结 构示意图;
图16是本申请实施例提供的另一种芯片封装方法流程示意图;
图17是本申请实施例提供的第三基板的剖面结构示意图。
具体实施方式
在介绍本申请实施例的具体实现方式之前,首先描述本申请实施例用到的缩略语与关 键术语定义。
扇出型晶圆级封装可以在晶圆上通过再布线层将单颗芯片的I/O管脚引出,增大单个封 装面积,从而提高整体I/O管脚数量。其设计难度不仅低于硅通孔3DIC,且封装结构接近2.5D IC,因此,扇出型晶圆级封装有望成为先进封装技术的发展要点。
目前,业界出现了一些扇出型晶圆级封装技术。其中,现有的一种扇出型封装结构如 图1所示。该扇出型封装结构是结合传统扇出型晶圆级封装与覆晶封装(Flip Chip)的2.5D FOP封装结构。
该封装结构的封装过程具体如下:首先将待集成的多颗裸芯片10和11按照一定间距和 位置并列放置在载体上,该载体的尺寸可以与晶圆的原始尺寸相同;然后采用模塑料12对 待集成的多颗裸芯片10和11进行模封形成重构的晶圆。然后在重构的晶圆上进行再布线, 即在重构的晶圆上的裸芯片的正面上制备扇出布线层13,扇出布线层13通过高密度互连结 构14和15可把裸芯片10和11上的I/O管脚电扩展到到裸芯片10和11之外的区域,使得裸芯片 和PCB板16之间的电性连接不受限于裸芯片10和11的尺寸和排布。
图1所示的封装结构采用晶圆级的工艺制程,使得封装、测试均可以在晶圆上完成, 该封装结构能够有效增加封装管脚的数量,能够解决先进工艺节点及更高芯片功能对更多 管脚数量的要求。而且,该2.5D FOP封装可以实现多颗裸芯片的集成封装,并通过扇出布 线层实现裸芯片间的短距离高密度互连,而不再需要经过基板。但是该封装结构存在以下 缺点:
第一:裸芯片10和11之间的互连是通过扇出布线层13实现的。而在重构的晶圆上制备 多层大面积尺寸的扇出布线层13的过程中,重构的晶圆受到光刻、曝光和显影工艺的影响, 会造成应力不均匀,产生翘曲甚至变形,而重构的晶圆上的裸芯片都是经过测试的合格的 裸芯片,如果后续扇出布线层13制备过程中产生缺陷,会导致合格的裸芯片也同时浪费掉, 导致成本上升。
第二:在重构的晶圆上制备出的扇出布线层的线宽、线距均只能达到2μm,且工艺实 现难度大,如此限制了芯片互连密度以及芯片信号和电源的完整性。
为了克服图1所示的扇出型封装结构的缺陷,业界还出现了另一种扇出型封装结构。 该扇出型封装结构是结合带有硅通孔的硅中介层(Si Interposer)和覆晶封装的2.5DTSV封 装结构。该扇出型封装结构如图2所示。该扇出型封装结构的封装过程具体如下:
首先在一片硅晶圆上制作硅通孔211,并在硅晶圆的表面上制备单层或多层再布线层 212,从而形成用于信号连接的硅中介层21。
然后将待集成的多颗裸芯片22和23按照预先设计位置放置在硅中介层21的正面上,然 后通过焊接工艺将裸芯片22和23焊接在硅中介层21的正面上。
最后通过硅中介层21背面上的电连接结构213与封装基板24焊接在一起。如此,裸芯 片上的I/O管脚藉由硅中介层21上的再布线层212和硅通孔211扇出到封装基板24上,而不同 裸芯片之间则通过再布线层212形成互连结构。
图2所示的2.5D TSV封装结构采用硅中介层和TSV技术,在硅晶片上实现了不同裸芯 片的互连。利用成熟的半导体制造工艺以及硅材料实现极小线宽线距(目前硅中介层的最 小线宽和线距均为0.4μm),大大提高了芯片之间的信号互连密度,缩短了信号走线距离。 但是,该封装结构存在以下缺陷:
待集成的多颗裸芯片需要焊接在硅中介层上,如此,硅中介层的尺寸需要大于所有裸 芯片的尺寸之和,耗材高。
基于此,为了能够解决现有的扇出型晶圆级封装技术存在的封装成本高且线宽线距较 大,工艺实现难度大的问题,本申请实施例提供了一种芯片。请参见图3A,该芯片的具体 结构为2.5D基板桥式扇出型封装结构。如图3A所示,该芯片包括:
基板108、扇出单元111及布线层104,所述扇出单元111包括第一芯片101和第二芯片102。请结合参阅图3B,图3B示意性地表达了扇出单元111的结构,其中隐藏的线(视 图方向看不到的线)用虚线表示。所述第一芯片101包括第一管脚阵列A1,其中第一管脚 阵列A1包括多个第一管脚32a,所述第二芯片102包括第二管脚阵列A2,其中第二管脚 阵列A2包括多个第二管脚32b。所述扇出单元111还包括第三管脚阵列A3,第三管脚阵 列A3包括多个第三管脚41,所述第一管脚阵列A1、所述第二管脚阵列A2及所述第三管 脚A3阵列均面对所述基板108设置。第一芯片101和第二芯片102的面对基板108的表 面被定义为正面,相反的表面被定义为背面,第一管脚阵列A1、第二管脚阵列A2和第三 管脚阵列A3分布于第一芯片101和第二芯片102的正面。本实施方式中,第一芯片101 和第二芯片102相邻设置,第一管脚阵列A1与第二管脚阵列A2相邻设置,所述第三管脚 阵列A3分布于所述扇出单元111之除所述第一管脚阵列A1和所述第二管脚阵列A2之外 的区域。第一芯片101和第二芯片102相邻设置表明第一芯片101和第二芯片102没有其 他芯片将二者区隔开。
图3A所示的芯片中,通过布线层104跨接于所述第一管脚阵列A1和所述第二管脚阵 列A2之间,用于将所述第一管脚阵列A1中的第一管脚32a连接至所述第二管脚阵列A2中的对应的第二管脚32b,以实现所述第一芯片101和所述第二芯片102之间的电连接, 无需设置具有通孔结构的中介板,而且,因为布线层104的制作工艺简单(通过普通的增 层工艺即可实现),成本也低;且通过第三管脚阵列A3与基板108的直接连接,使得扇出 单元111与基板108之间的连接无需设置大面积的中介板,也省去了在中介板是制作通孔 的工艺。因此,图3A所示的芯片具有工艺难度小,成本低的优势。
然而,在图3A所示的芯片中,扇出单元111上的第三管脚阵列A3中的第三管脚需要通 过基板108才能连接至芯片外围。使得影响芯片整体尺寸的部件包括扇出单元111和基板 108,如此导致芯片的整体尺寸较大,不能满足芯片小型化的需求。
为了减小芯片的整体尺寸,满足芯片小型化的需求,本申请实施例提供了芯片的另一 种结构。
下面结合附图详细描述本申请实施例提供的芯片的具体实现方式。
请参见图4和图4’,其中,图4为本申请实施例提供的一种芯片结构剖面示意图,图4’为本申请实施例提供的一种芯片结构俯视图。如图4和图4’所示,本申请实施例提供的一种芯片包括:
扇出单元31、第一基板32和塑封体33;
该扇出单元31包括集成在一起的多颗按照预设位置排列的裸芯片341和342。在本申 请实施例中,集成在一起的多颗裸芯片可以为两颗裸芯片,也可以为两颗以上裸芯片。作 为示例,本申请实施例以待集成的多颗裸芯片以两颗为例进行说明。
在本申请实施例中,裸芯片341和342可以利用模塑料通过模塑工艺集成在一起,形 成扇出单元31。
为了清楚地理解裸芯片341和342的正面结构,本申请实施例还提供了裸芯片341和 342的第一表面结构示意图,具体如图5所示。裸芯片341或342的第一表面上设置有第一管脚阵列C1和第二管脚阵列C2;第一管脚阵列C1包括多个第一管脚351,第二管脚阵 列C2包括多个第二管脚352;相邻裸芯片上的第二管脚阵列C2相邻;
第一基板32包括第一表面,第一基板32的第一表面上设置有第一再布线层321以及 与第一再布线层321电连接的第一焊垫阵列,该第一焊垫阵列包括多个第一焊垫322。
在本申请实施例中,裸芯片341和342的第一表面与第一基板32的第一表面相对,并且第一基板32位于扇出单元31的下方,并且第一焊垫阵列与所述第二管脚阵列C2相对设置,且所述第二管脚阵列C2中的每个第二管脚352与所述第一焊垫阵列中相对应的第一焊垫322贴合在一起,从而使不同所述裸芯片341和342之间通过第一基板32上的第一在 布线层321实现互连。
塑封体33用于包裹第一管脚351、第二管脚352、第一焊垫322以及第一基板32,从而使扇出单元31和第一基板32塑封成一整体结构。
需要说明,在本申请实施例中,塑封体33是在第一基板32上的第一焊垫阵列与裸芯 片341和342的第二管脚阵列C2贴合在一起后通过模塑工艺形成的。该模塑工艺具体可以 为压塑成型工艺(compression mold process)。因此,塑封体33至少包裹第一管脚351的侧 面、第二管脚352的侧面、第一焊垫322的侧面以及第一基板32的侧面。而且,为了能够将裸芯片341和342上的第一管脚阵列C1中的各个第一管脚351引出到芯片外围,塑封体 33不包裹各个第一管脚351的底部,也就是说,各个第一管脚351的底部露出塑封体33 之外。
作为本申请的一具体示例,塑封体33除了包裹第一基板32的侧面外,还可以包裹第 一基板32的背面,从而使塑封在一起的第一管脚阵列所在的区域与第一基板32所在的区 域为一表面平整的结构,也就是说,使塑封形成的整体结构的表面为平整表面。
需要说明,贴合在一起的扇出单元31和第一基板32组成的结构,因没有保护层保护, 所以,其结构稳定性较低,单独工作的可能性较低,基于此,塑封体33将第一管脚351的侧面、第二管脚352的侧面、第一焊垫322的侧面包裹起来,如此能够提高整个芯片的使 用寿命和可靠性,而且因塑封体33的结构稳定,机械强度高,可以有力支撑该整体结构单 独使用和工作。因此,通过压塑成型工艺将扇出单元31和第一基板32塑封在一起形成的 整体结构可以单独稳定工作,也可以根据需要在其上制作RDL载板,或者根据需要将其与 基板键合,组成更大的封装结构。
为了能够将各颗裸芯片341和342上的各个第一管脚351引出到芯片的外围,各个第 一管脚351的底部可以设置有焊球36,每个焊球36可以与外部电路例如PCB板实现电连接。作为本申请的一具体示例,为了实现第一管脚351与焊球36之间更好的电连接,在每 个第一管脚351与焊球36之间还可以设置有焊垫37。
需要说明,在本申请实施例中,用于形成塑封体33的塑封料的成分与现有技术的填 充胶(under fill)不同。塑封料和填充胶是在环氧树脂模塑料(Epoxy MoldingCompound) 的基础上添加不同的添加剂得到。
在本申请实施例中由塑封料形成的塑封体33一般通过压塑成型工艺实现。该压塑成 型工艺与填充胶点胶工艺有很大不同。其中,压塑成型工艺可以分为两类,一类是灌注式 (face-up type),另一类是浸入式(face-down type)。其中,灌注式是将被模塑的结构放在 流动的塑封料的下方,流动的塑封料向下流,灌注在被模塑的结构上,然后利用模具压合 被灌注的结构。浸入式是将被模塑的结构放在盛放有流动的塑封料容器的上方,然后将该 被模塑的结构浸入到盛放有流动塑封料容器中,然后将被塑封的结构从容器中取出,接着 利用模具压合该被塑封的结构。如此,压塑成型工艺能够一次性完整整片晶圆上大量芯片 的填充和固化,不需要针对单一芯片逐个填充,整体效率较高。
此外,压塑成型工艺的固化分为在压合状态时的初始固化以及完成压合后再放置到加 热炉内完成最终固化。
通过塑封体33包裹裸芯片和基板能够形成一个结构稳定的结构体,该结构体能够直 接被装载在终端设备中。
而填充胶点胶工艺具体为:在利用填充胶填充时,需要对整片晶圆上的所有芯片逐个 依次一一点胶,点胶位置在每个芯片的四个边缘,通过毛细作用将填充胶吸引填充到芯片 与基板或其他介质材料之间的空隙中,从而完成填充过程。填充完后,在将该填充后的结 构放入加热炉完成最终的固化。因此,该填充过程耗费的时间较长,填充效率较低。
此外,若采用上述填充胶点胶工艺来填充上述由扇出单元31和第一基板32组成的结 构,以实现对裸芯片及整个结构保护的话,则需要在扇出单元31和第一基板32组成的结构连接到其它结构例如基板上之后再执行,而本申请中由塑封料填充上述由扇出单元31和第一基板32组成的结构则可以在该结构与其它结构例如基板连接之前执行。
以上为本申请实施例提供的一种芯片的具体实现方式。在该具体实现方式中,芯片包 括扇出单元31、第一基板32和塑封体33。其中,第一基板32上的第一焊垫阵列C1上的各个第一焊垫351与不同裸芯片341和342上的第二管脚阵列C2中的相对应的各个第二管脚352贴合在一起,从而实现不同裸芯片之间的短距离、高密度互连。塑封体33用于包裹 第一管脚351、第二管脚352以及第一基板32,从而使扇出单元31和第一基板32塑封成 一整体结构。在该整体结构中,裸芯片上用于与芯片外围电连接的第一管脚阵列C1的各个 第一管脚底部不被塑封体33包裹,如此,各个第一管脚可以直接电连接至芯片外围。因此, 通过本申请实施例提供的芯片,裸芯片上用于与芯片外围电连接的管脚可以直接电连接至 芯片外围,无需利用基板作为中介。因此,本申请实施例提供的芯片的整体尺寸主要取决 于扇出单元尺寸,相较于现有技术,本申请实施例提供的芯片的整体尺寸较小,能够满足 芯片小型化的需求。
此外,在本申请实施例中,裸芯片341和342通过第一基板32实现互连的方式也有利 于芯片的小型化。
此外,在本申请实施例中,第一基板32可以独立制作,无需在扇出单元31上直接制作,因此,若第一基板32制作过程中出现缺陷,不会导致合格裸芯片的废弃,从而降低了 封装成本。
而且,在本申请实施例中,第一基板32的尺寸只要能够满足与裸芯片上的第二管脚 352的贴合即可,无需大于或者等于所有集成在一起的裸芯片的尺寸之和,因此,本申请实施例能够降低第一基板32的耗材,从而能够大大降低封装成本。另外,如此设计,也有 利于芯片的小型化。
此外,在本申请实施例中,第一基板32上的第一再布线层的线宽和线距均可以达到 0.4μm,因此,该线宽和线距较小,且制作工艺较为简单。
作为本申请的一具体实施例,塑封体33与扇出单元31可以为一体成型结构,如此,塑封体33和扇出单元31可以由同一次模塑工艺压塑成型得到。此外,作为本申请的另一 具体实施例,塑封体33与扇出单元31也可以为分体结构,如此,塑封体33和扇出单元 31由不同次模塑工艺压塑成型得到。
作为本申请的一可选实施例,为了清楚地理解本申请实施例所述的裸芯片341和342 之间的具体互连结构,本申请实施例还提供了裸芯片341和342之间的互连结构。具体分 别如图6A和图6B所示。
在该可选实施例中,设定第一再布线层321包括三层再布线子层,其可以分别为第一 再布线子层、第二再布线子层和第三再布线子层。如图6A和图6B所示,其中,第一再布线子层和第三再布线子层用于实现裸芯片341和342的互连,第二再布线子层所在的平面作为用于实现裸芯片间互连的再布线子层的参考平面,如此,可以提高信号质量和改善信号间的串扰。
在图6A和图6B所示的互连结构中,裸芯片341和342之间形成两个互连结构,分别为第一互连结构51和第二互连结构52。其中,第一互连结构51可以由第一再布线子层形成,第二互连结构52可以由第三再布线子层形成。
如图6A和图6B所示,裸芯片341上的第二管脚阵列包括用于形成第一互连结构51的第一管脚组511a和用于形成第二互连结构的第二管脚组512a。裸芯片342上的第二管脚阵列包括用于形成第一互连结构51的第一管脚组511b和用于形成第二互连结构的第二管脚组512b。
在本申请实施例中,不同裸芯片之间可以形成至少一个互连结构,每一互连结构可以 包括至少一条互连线。当一个互连结构中包括多条互连线时,属于同一互连结构中的多条 互连线的长度可以相等,也可以不等。作为本申请的一可选实施例,为了提高信号传输质 量,同一互连结构中的各条互连线的长度均相等。具体到图6A来说,设定按照由左到右 的顺序将同一电连接结构组内的电连接结构列依次分别命名为第1列、第2列和第3列,按照自上而下的顺序将电连接结构行命名依次分别为第1行、第2行直至第7行。在第一 互连结构51中,该第一管脚组511a内的第1行电连接结构的连接方式如图6C所示。第一 管脚组511a内的第1行第1列焊点连接第一管脚组511b内的第1行第1列焊点,第一管 脚组511a内的第1行第2列焊点连接第一管脚组511b内的第1行第2列焊点,第一管脚 组511a内的第1行第3列焊点连接第一管脚组511b内的第1行第3列焊点。其它行上的 电连接结构与第1行的电连接结构的连接方式相同。在此不再赘述。
需要说明,在本申请实施例中,根据封装结构设计的需要,第一再布线层321可以为 单层布线层,也可以为多层布线层。当第一再布线层包括多层第一再布线子层时,为了信 号质量和改善信号间的串扰,设定任意一层第一再布线子层所在的平面作为其它第一再布 线子层的参考平面,其它第一再布线子层用于形成不同裸芯片之间的互连结构。换句话说, 当第一再布线层321包括多层布线层时,该多层布线层包括参考层和线路层,其中,参考 层所在的平面作为线路层的参考面。其中,线路层用于形成不同裸芯片之间的互连结构。
在本申请实施例中,当第一再布线层包括多层第一再布线子层时,不同第一再布线子 层之间可以设置有绝缘介质层,该绝缘介质层可以为有机介质层,例如可以为聚合物材料 制成的介质层。该聚合物材料可以为PI,PBO或环氧树脂基聚合物。此外,绝缘介质层上 的通孔或通孔区域的最小尺寸可达5um/10um或更小。
在本申请实施例中,通过第一基板32上的第一再布线层321以及第一焊垫阵列中的第 一焊垫322分别与裸芯片341和342上的第二管脚阵列C2中的第二管脚352之间形成互连 结构,从而实现裸芯片341和342的互连。在该互连结构中,第一基板32上的第一再布线层321像连接裸芯片341和裸芯片342的桥梁,所以,可以将第一基板32称为桥式基板。
作为本申请的一可选实施例,第一基板32的横截面尺寸只需要满足能够与裸芯片341 和342的第二管脚阵列的贴合即可,无需大于待集成的多颗裸芯片的总尺寸。因此,本申 请实施提供的芯片的耗材较低。
作为本申请的另一可选实施例,为了保证裸芯片之间的高密度互连的性能要求,在工 艺条件允许的条件下,裸芯片之间的间距要尽量小,例如裸芯片之间的间距可以为50μm 甚至更小。在扇出单元31中,裸芯片341和342的侧面被模塑料包裹。并且,在本申请实施例中,裸芯片341和342最外侧的模塑料的外延宽度可以灵活设计,一般可以小于5mm。。也就是说,扇出单元31最外侧的模塑料在裸芯片的厚度方向上可以根据需要外延一定的宽度,从而可以简化基板的设计及层数。
此外,在本申请实施例中,裸芯片341和342可以为无源裸芯片,也可以为功能裸芯片。更具体地说,裸新片341和342可以为同质或异质,例如模拟裸新片与数字裸新片的 集成,不同工艺节点的裸新片的集成,不同功能裸新片的集成,不同数量裸新片叠加后的 集成。此外,裸芯片341和342还可以为堆叠裸芯片。
需要说明,第一管脚351用于将裸芯片上的I/O管脚引出到芯片外围,第二管脚352用于实现不同裸芯片之间的互连,因此,为了方便管脚与焊垫之间的连接,作为本申请的又一可选实施例,第一管脚351的尺寸大于第二管脚352的尺寸。更具体地说,第一管脚 351的高度大于第二管脚352的高度,并且第一管脚351的横截面尺寸也大于第二管脚352 的横截面尺寸。
作为本申请的一可选实施例,在第一管脚阵列中,相邻两个第一管脚351之间的间距 为第一间距d1,在第二管脚阵列中,相邻两个第二管脚352之间的间距为第二间距d2,其中,第一间距d1可以大于第二间距d2,以更加有利于相对应的管脚与焊垫之间的连接。
需要说明,在本申请实施例中,第一焊垫阵列中的第一焊垫用于与第二管脚阵列中的 第二管脚连接,因此,作为本申请的一可选实施例,单个第一焊垫的横截面尺寸与单个第 二管脚的横截面尺寸可以相同。
作为示例,第一管脚351可以为铜柱(Cu pillar),第二管脚352可以为焊接凸块(solder bump)。
在本申请实施例中,第一焊垫322可以为各种形式的电连接结构。例如其可以为焊接 凸块、突出的金属接口或者平的金属盘。其中,焊接凸块可以为钎料焊块。
此外,作为本申请实施例的扩展,上述第一管脚351和第二管脚352不限于上述示例 的各个具体管脚结构。举例来说,第一管脚351不限定为铜柱,第二管脚352也不限定为焊接凸块。实际上,在本申请实施例中,第一管脚351可以由铜柱和焊接凸块中的至少一 种组成。同理,第二管脚352也可以由铜柱和焊接凸块中的至少一种组成。
当第一管脚351为铜柱和焊接凸块共同组成的结构时,对应的芯片的剖面示意图如图 7所示。需要说明,图7所示的芯片结构与图4所示的芯片除了第一管脚351的结构不同外,其它部件及其结构均相同。在图7所示的芯片结构中,每个第一管脚351包括相互连 接的铜柱部分3511和焊接凸块部分3512。需要说明,因第一管脚351的尺寸较大,第一管 脚351采用由相互连接的铜柱部分3511和焊接凸块部分3512组成的结构,可以方便第一 管脚351的制备。
此外,作为本申请的又一可选实施例,因第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙 较小,若采用模塑料通过模塑工艺来填充其间隙,可能会导致该间隙的填充效果差的问题, 为了提高第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙的填充效果,进而提高芯片的可靠性, 如图8所示,本申请实施例中,不同第一焊垫322之间的间隙内填充有填充胶71。需要说 明,图8所示的封装结构与图4所示的芯片结构基本相同,其不同之处仅在于图8所示的 芯片结构中包括填充在第一焊垫阵列中的各个第一焊垫322之间的间隙内的填充胶71。
作为本申请的又一可选实施例,用于制作第一基板32的的材料可以为硅基材料、树 脂材料和玻璃材料等任何介质材料。更具体地说,第一基板32可以为硅基板,此外,第一基板32可以为通过扇出再布线层技术加工成的基板,在该具体示例下,第一基板32可以 常采用树脂材料和电镀铜技术制作完成。此外,第一基板32也可以表面制作有互连电路的 玻璃基板,其中,互连电路可以通过刻蚀和电镀工艺在玻璃材料表面上加工而成。需要说 明,在本申请实施例中,形成于第一基板32上的第一再布线层的线宽和线距均可以达到 0.4μm。
需要说明,上述实施例中所述的芯片中,第一基板32的作用为实现裸芯片互连,其上仅设置有实现裸芯片互连的再布线层和电连接结构。实际上,作为本申请实施例的扩展,为了能够向第一基板32上的第一再布线层32供电,如图9所示的封装结构,第一基板32 的内部还可以设置有与第一再布线层321电连接的通孔323,该通孔323延伸至第一基板 32的第二表面。其中,第一基板32的第二表面与第一基板32的第一表面相对。
该通孔323可以电连接至芯片外围的电路上,如此,通过该通孔323,芯片外围的电能能够通过第一通孔323传输至第一再布线层321上。
作为本申请的另一可选实施例,第一基板32上还可以设置有逻辑芯片。作为更具体 示例,可以在该逻辑芯片内部设置有逻辑层(图9中未示出),该逻辑层与通孔323电连接, 如此,通过该通孔323能够实现所述逻辑层与外界之间的信号传输。也就是说,通孔323能够将逻辑层上的信号引出到第一基板32的第二表面,并与外界进行信号传输。
需要说明,上述各个实施例所述的芯片通过设置在裸芯片第一表面上的第一管脚阵列 中的各个第一管脚351将裸芯片的I/O管脚引出到芯片外围区域。如此,可以实现芯片的 小型化,从而满足终端消费类芯片的小型化需求。
另外,随着裸芯片管脚密度的增加,裸芯片上的管脚间距越来越小,导致裸芯片上的 管脚很难直接与芯片外围电路电连接。也就是说,针对裸芯片管脚直接与芯片外围电路的 连接的芯片结构,其与芯片外围电路的电性连接受限于裸芯片的管脚的尺寸和排布。
基于此,为了方便裸芯片上的管脚与芯片外围电路的电连接,使得芯片与芯片外围电 路的电性连接不受限于裸芯片上管脚的尺寸和排布,本申请实施例在上述任一实施例的基 础上还可以在塑封体的下方增设一用于与裸芯片上的管脚直接电连接的基板,具体参见图 10A。
需要说明,作为示例,图10A所示的芯片是在上述图4所示的芯片的基础上进行改进 得到的。
如图10A所示,本申请实施例提供的芯片的另一种具体实现方式除了包括上述具体实 现方式中所述的各个部件之外,还可以包括:
第二基板91,该第二基板91通过布线层增层工艺直接设置于塑封体33的下方;
该第二基板91上设置有第二再布线层(图中未示出),并且该第二基板91包括相对的第一表面和第二表面,为了清楚地理解第二基板91的第一表面结构,本申请实施例还提供了第二基板91的第一表面结构示意图。如图10B所示,该第二基板91的第一表面上设 置有与第二再布线层电连接的第二焊垫阵列,该第二焊垫阵列包括多个第二焊垫911。第二焊垫911可以为金属凸块或金属焊盘,也可以为凸出的金属接口。其中,金属凸块可以为 钎料焊块。
需要说明,在本申请实施例中,第二再布线层可以包括多层再布线层,该多层再布线 层可以均匀分布在第二基板91的整个厚度内。如此,第二再布线层可以不仅分布在第二基 板91的第一表面上,还可以分布在第二基板91的内部。
此外,该第二基板91的第二表面上设置有第三焊垫阵列,该第三焊垫阵列包括多个 第三焊垫912;在本申请实施例中,该第三焊垫912用于实现芯片与芯片外围电路的电连接。作为示例,第三焊垫912可以为金属焊球。
在本申请实施例中,第二焊垫阵列与第一管脚阵列相对,且第二焊垫阵列中的每个第 二焊垫912电连接至第一管脚阵列中对应的第一管脚351。
在图10A所示的芯片实施例中,裸芯片341和342上的第一管脚阵列中的各个第一管 脚351先电连接至第二基板91上的第二焊垫阵列中的对应的各个第二焊垫上,第二基板91上的第三焊垫阵列中的各个第三焊垫与芯片外围电路电连接。如此,裸芯片341和342 上的第一管脚351通过第二基板91电连接至芯片外围电路上。因第二基板91可以提供更 大的线路设计空间,其上的第三焊垫912之间的密度可以比裸芯片上的第一管脚351的密 度小,因此,相较于裸芯片341和342上的第一管脚351,第二基板91上的第三焊垫912 可以比较容易地通过焊接工艺电连接至芯片外围电路上,所以,本申请实施例提供的芯片 上即使包括高管脚密度的裸芯片,也能够很方便地实现裸芯片与芯片外围电路的电连接, 因此,图10A所示的芯片中,其与芯片外围电路的电性连接不再受限于裸芯片的管脚的尺 寸和排布。因而,该芯片结构能够减少裸芯片管脚排布对芯片与芯片外围电路电性连接的 限制。
作为本申请的又一可选实施例,如图10A所示的芯片结构,第一基板32可以与第二基板91相接触。实际上,作为本申请实施例的扩展,第一基板32也可以不与第二基板91 接触,其与第二基板91之间存在一定间隙,也就是说,第一基板32悬空在第二基板91 的上方。更具体地说,在本申请实施例中,只要能够将第一基板32放置在扇出单元31和 第二基板91之间即可,对第一基板32的厚度不做具体限定。
此外,如图10A所示,第二基板91的横截面尺寸可以与扇出单元31的横截面尺寸相当。如此,可以实现封装结构的小型化,以满足终端消费类芯片的小型化需求。
此外,第二基板91可以直接在塑封体33远离扇出单元31的表面上制作。具体地,通过在塑封体33远离扇出单元31的表面上涂覆介质层,例如PI/PBO材料,然后在介质层 表面生长铜导电线路,逐层叠加,直至完成第二再布线层的制作;在制作第二再布线层的 同时,在第一管脚阵列相对的位置上制作与其相对应的第二焊垫阵列。在制作完第二再布 线层和第二焊垫阵列之后,继续涂覆介质层,然后在该介质层的表面上制作由多个第三焊 垫912组成的第三焊垫阵列。
上述图10A所示的芯片中,通过一块第二基板91将裸芯片上的I/O管脚引出到芯片的外围区域,实现其与PCB板的电连接。该第二基板91能够提供较大的线路设计空间, 便于芯片与芯片外围电路的电连接。
此外,为了进一步增加芯片的布线资源和封装的管脚数,改善封装的电源完整性,同 时改善芯片的板级可靠性,本申请实施例还提供了芯片的另一种具体实现方式。
请参见图11和图11’。其中,图11为本申请实施例提供的另一种芯片剖面示意图,图11’为本申请实施例提供的另一种芯片结构俯视图。
需要说明,作为示例,图11和图11’所示的芯片结构是在上述图10A所示的芯片结构 的基础上进行改进得到的。
如图11和图11’所示,本申请实施例提供的芯片结构的另一种具体实现方式除了包括 上述具体实现方式中所述的各个部件之外,还可以包括:
设置于第二基板91下方的第三基板101,该第三基板101包括相对的第一表面和第二 表面,该第三基板101的第一表面上设置有第四焊垫阵列,该第三基板101的第二表面上设置有第五焊垫阵列,第四焊垫阵列包括多个第四焊垫1011,第五焊垫阵列包括多个第五焊垫1012。
其中,第四焊垫阵列与第三焊垫阵列相对,且所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫 1011电连接至所述第三焊垫阵列中相对的第三焊垫912;
第五焊垫阵列中的第五焊垫1012用于实现芯片与所述芯片外围的信号传输。
作为一示例,第四焊垫1011可以为金属凸点,第五焊垫1012可以为金属焊球。作为更具体示例,该金属焊球可以为钎料焊球,通过焊接的方式与PCB板连接在一起。作为另 一示例,第五焊垫1012还可以为金属焊盘,通过插接(socket)的方式与外围区域的PCB 板连接在一起。
需要说明,在本申请实施例中,第三基板101的横截面尺寸可以大于扇出单元31的横截面尺寸。作为另一示例,第三基板101的横截面尺寸也可以等于扇出单元31的横截面尺寸。
在图11和图11’所示的芯片结构中,裸芯片上的I/O管脚通过第二基板91和第三基板 101布线引出到芯片外围区域。在该具体实现方式中,通过两块基板将裸芯片上的I/O管脚 引出,增加了芯片结构的布线资源和封装的管脚数,改善了封装的电源完整性,同时改善 了芯片结构的板级可靠性。
作为本申请的一可选实施例,为了缓解第一管脚351与第二基板91之间的应力,进而提高整个芯片结构的可靠性,在图11所示的芯片结构中,还可以包括填充在第二基板91和第三基板101之间的填充胶102。
此外,为了提高芯片结构的散热性能,本申请实施例还提供了芯片结构的又一种具体 实现方式。
请参见图12。图12所示的芯片结构是在图11所示的芯片结构的基础上进行改进得到 的。因此,图12所示的封装结构除了包括图11所示的封装结构的各个部件以外,还可以包括:
设置在裸芯片341和342第二表面上的散热片111,其中,裸芯片341和342的第二表面与裸芯片341和342的第一表面相对。
作为本申请的具体示例,散热片111可以通过导热胶与裸芯片341和342第二表面粘 合在一起,从而能够为大功耗的芯片提供良好的散热途径。
另外,为了有利于裸芯片341和342工作时产生的热量,作为本申请的一可选实施例, 每颗裸芯片的第二表面不被模塑料包裹,同时若满足散热需求,每颗裸芯片的第二表面也 可以被模塑料包裹。需要说明,若裸芯片的功率较小,产生的热量较少,每颗裸芯片的第 二表面也可以被模塑料包裹。
此外,作为本申请的另一可选实施例,当第三基板101的横截面尺寸可以大于扇出单 元的横截面尺寸时,为了能够控制封装结构的翘曲和结构的可靠性,散热片111还可以与 第三基板101连接在一起。更具体地说,散热片111可以通过粘合剂粘合在第三基板101的正面上。
作为示例,散热片111可以为整体结构,也可以为分体结构,当为整体结构时,散热片111可以呈帽状结构,也可以呈曲面型结构。当散热片111呈帽状结构时,散热片111 将扇出单元31遮罩,并且散热片111的边缘固定在第三基板101上。
需要说明,当散热片111固定在第三基板101上时,可以控制整个芯片结构的翘曲和 芯片的可靠性。
以上所述的芯片的具体实现方式是以两颗裸芯片作为待集成的裸芯片为例说明的。实 际上,在本申请实施例提供的芯片中不限于两颗裸芯片的互连,其可以为三颗或者更多颗 裸芯片的互连。图13展示了集成有四颗裸芯片的扇出型晶圆级封装结构的俯视图。如图 13所示,该集成的四颗裸芯片341至344通过第一基板32实现互连。
以上为本申请实施例提供的芯片结构的具体实现方式。基于该芯片结构的具体实现方 式,本申请实施例还提供了芯片封装方法的具体实现方式。具体参见以下实施例。
请参见图14至图15D。本申请实施例提供的一种扇出型晶圆级封装结构的封装方法 包括以下步骤:
S141:分别制作扇出单元31和第一基板32。
作为一具体示例,制作扇出单元31的实现方式可以具体包括以下步骤:
A1:根据设计要求把裸芯片的原始晶圆进行减薄,然后将该减薄后的晶圆切割成单颗 裸芯片。
每颗裸芯片的第一表面上均设置有第一管脚窗口阵列和第二管脚窗口阵列,其中,第 一管脚窗口阵列中包括多个间距为第一间距d1的第一管脚窗口,第二管脚窗口阵列中包括 多个间距为第二间距d2的第二管脚窗口。其中,第一管脚窗口的尺寸大于第二管脚窗口的 尺寸,第一间距d1大于第二间距d2。
A2:把待集成的多颗裸芯片341和342按照预设位置排列放置在临时载体上140。
如图15A1所示,按照设计要求将待集成的多颗裸芯片341和342按照预设位置排列放置在临时载体140上。
需要说明,在本申请实施例中,临时载体140的尺寸可以与原始晶圆的尺寸相同。该 临时载体140可以为膜材料层,该膜材料层可以为采用树脂类材料制作成的膜。
为了保证裸芯片之间的高密度互连的性能要求,在工艺条件允许的前提下,裸芯片之 间的间距要尽量小,例如裸芯片之间的间距可以为50μm甚至更小。裸芯片341和342的侧面被模塑料包裹。并且,在本申请实施例中,裸芯片341和342最外侧的模塑料的外延 宽度可以灵活设计,一般可以小于5mm。也就是说,扇出单元31最外侧的模塑料在裸芯 片的厚度方向上可以外延一定的宽度,从而可以简化基板的设计及层数。
A3:采用模塑料对放置在临时载体140上的多颗裸芯片341和342进行模封,从而形成扇出单元31。
需要说明,在本申请示例中,模封完成后,将模封在一起的多颗裸芯片从临时载体上 取下来,该模封在一起的多颗裸芯片形成了扇出单元。形成的扇出单元31如图15A2所示, 在该扇出单元31中,每颗裸芯片的侧面被模塑料141包裹。每颗裸芯片的正面不被模塑料 所包裹,即每颗裸芯片的正面暴露在外,如此,每颗裸芯片的第一管脚窗口阵列和第二管 脚窗口阵列暴露在外。
A4:在每颗裸芯片的第一管脚窗口阵列的每个第一管脚窗口中形成第一管脚351,从 而形成第一管脚阵列C1,在每颗裸芯片的第二管脚窗口中形成第二管脚352,从而形成第 二管脚阵列C2。
如图15A3所示,在每颗裸芯片的第一管脚窗口阵列的每个第一管脚窗口中形成第一 管脚351,从而形成第一管脚阵列C1,在每颗裸芯片的第二管脚窗口中形成第二管脚352, 从而形成第二管脚阵列C2。
作为示例,第一管脚351可以为铜柱,第二管脚352可以为钎料凸块。
需要说明,在每个第一管脚窗口中形成第一管脚351之前以及在每个第二管脚窗口中 形成第二管脚352之前,还需要在每个第一管脚窗口表面上和每个第二管脚窗口表面上形 成凸点下金属。
下面介绍制作第一基板32的具体实现方式。需要说明,第一基板32上可以设置有与 外界进行信号传输的通孔,也可以不设置有与外界进行信号传输的通孔,下面分这两种情 况分别介绍第一基板32的具体实现方式。
首先介绍不设置有与外界进行信号传输的通孔的第一基板32的具体实现方式,作为 一具体示例,制作第一基板32的实现方式可以具体包括以下步骤:
B1:根据封装结构的设计要求,将原始晶圆表面划分为第一区域和第二区域。
B2:在原始晶圆的第一区域制作第一再布线层321,然后在原始晶圆的第二区域制作 各个凸点下金属,并在每个凸点下金属上方制作第第一焊垫322,从而形成第一焊垫阵列。
作为示例,可以通过电镀或植球的方式在第二区域制作各个凸点下金属。
此外,第一焊垫322可以为322可以为铜柱,也可以为金属凸点。
B3:将制作好第一再布线层321和第三电连接结构322的晶圆切割分成单个第一基板 32。
在该情形下,形成的单个第一基板32的剖面结构示意图如图15A4所示。
下面介绍设置有与外界进行信号传输的通孔的第一基板32的具体实现方式。在该情 形下,制作第一基板32的实现方式可以包括以下步骤:
B’1:根据封装结构的设计要求,将原始晶圆正面划分为第一区域和第二区域。
B’2:原始晶圆的第一区域制作第一再布线层321,然后在原始晶圆的第二区域制作各 个凸点下金属,并在每个凸点下金属上方制作第一焊垫322,从而形成第一焊垫阵列。
作为示例,可以通过电镀或植球的方式在第二区域制作各个凸点下金属。
此外,第一焊垫可以为322可以为铜柱,也可以为钎料凸点。
B’3:在原始晶圆内部制作通孔,该通孔与第一再布线层321实现电连接。
需要说明,可以采用TSV工艺在原始晶圆内部制作通孔。
B’4:在原始晶圆的背面制作与通孔电连接的金属焊垫。
B’4:将制作好的第一再布线层321和第一焊垫322、通孔以及金属焊垫的晶圆切割分 成单块第一基板32。
在该情形下,形成的单块第一基板32的剖面结构示意图如图15A5所示。
S142:将第一基板32置于扇出单元31的下方,并且使第二管脚阵列中的每个第二管 脚352与第一焊垫阵列中相对应的第一焊垫322贴合在一起,从而使不同裸芯片341和342 之间通过第一基板32实现互连。
在本申请实施例中,通过第一基板32实现各颗裸芯片的互连。因此,如图15B所示,将设置在第一基板32第一表面上的第一焊垫阵列中的各个第一焊垫和与之相对应的各颗裸芯片341和342上的第二管脚阵列中的第二管脚352贴合连接在一起,从而使得不同裸 芯片之间通过设置在第一基板32上的第一再布线层321实现互连。
为了便于第一焊垫阵列中的各个第一焊垫与第二管脚阵列中对应的第二管脚的贴合, 作为一具体示例,第一基板32与扇出单元31之间可以采用热风重熔(Mass Reflow)或热 压键合(Thermo Compression Bonding)方式连接在一起。
S143:使用模塑料对贴合在一起的扇出单元31和第一基板32进行塑封,形成包裹各 个第一管脚351、各个第二管脚352和第一基板32的塑封体33。
为了方便装配,需要使第一管脚阵列的表面与第一基板32的背面处于同一平面上, 因此,在本申请实施例中,需要使用模塑料对贴合在一起的扇出单元31和第一基板32进 行塑封,形成包裹各个第一管脚351、各个第二管脚352和第一基板32的塑封体33。本步骤执行完对应的剖面结构示意图如图15C所示。
此外,因各个第一管脚351、各个第二管脚352被模塑料包裹,所以,该塑封体33的形成也能提高整个封装结构的可靠性。
S144:研磨塑封体33远离扇出单元31的表面,以露出第一管脚阵列中各个第一管脚 的底部。
本步骤可以具体为:采用机械研磨的方法研磨塑封体33远离扇出单元31的表面,以 露出第一管脚阵列中的各个第一管脚351的底部。
本步骤执行完对应的剖面结构示意图如图15D所示
S145:在露出的各个第一管脚351的底部形成与外部电连接的焊球36。
为了能够将第一管脚351与外部电路例如PCB板电连接,如图3A所示,在露出的各个第一管脚351的底部上形成金属焊球36。此外,为了实现第一管脚351与焊球36之间 更好的电连接,在每个第一管脚351与焊球36之间还可以形成焊垫37。
以上为本申请实施例提供的一种芯片封装方法的具体实现方式。由该具体实现方式封 装成的芯片结构中,通过第一基板32实现了裸芯片之间的短距离、高密度的互连。塑封体 33用于包裹第一管脚351、第二管脚352以及第一基板32,从而使扇出单元31和第一基板32塑封成一整体结构。在该整体结构中,裸芯片341和342上用于与芯片外围电连接的 第一管脚阵列的各个第一管脚底部不被塑封体33包裹,如此,各个第一管脚可以直接电连 接至芯片外围。因此,通过本申请实施例提供的芯片,裸芯片上用于与芯片外围电连接的 管脚可以直接电连接至芯片外围,无需通过基板作为中介。因此,本申请实施例提供的芯 片的整体尺寸主要取决于集成在一起的多颗裸芯片的尺寸,相较于现有技术,本申请实施 例提供的芯片的整体尺寸较小,能够满足芯片小型化的需求。
此外,在本申请实施例中,裸芯片341和342通过第一基板32实现互连的方式也有利 于芯片的小型化。
此外,在本申请实施例中,第一基板32可以独立制作,无需在集成在一起的裸芯片上 制作,因此,若第一基板32制作过程中出现缺陷,不会导致合格裸芯片的废弃,从而降低了封装成本。
而且,在本申请实施例中,第一基板32的尺寸只要能够满足与裸芯片上的第二管脚 352的贴合即可,无需大于或者等于所有集成在一起的裸芯片的尺寸之和,因此,本申请实施例能够降低第一基板32的耗材,从而能够大大降低封装成本。从另一方面来说,如此设计,也有利于芯片的小型化。
此外,在本申请实施例中,第一基板32上的第一再布线层的线宽和线距均可以达到 0.4μm,因此,该线宽和线距较小,且制作工艺较为简单。
作为本申请的另一实施例,为了方便裸芯片上的管脚与芯片外围电路的电连接,使得 芯片与芯片外围电路的电性连接不受限于裸芯片上管脚的尺寸和排布,第一管脚351可以 通过一基板与外部电路连接。基于此,本申请实施例还提供了芯片封装方法的另一种实现 方式。
请参见图16。本申请实施例提供的另一种芯片封装方法包括以下步骤:
S161至S164与S141至S144相同,为了简要起见,在此不再详细描述。
S165:通过布线层增层工艺在露出第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作 第二基板91,该第二基板91上设置有第二再布线层(图中未示出),并且第二基板91包括相对的第一表面和第二表面,第二基板91的第一表面上设置有与第二再布线层电连接的第二焊垫阵列,该第二焊垫阵列包括多个第二焊垫911;所述第二基板91的第二表面上设置有第三焊垫阵列,且所述第三焊垫阵列包括多个第三焊垫912。
本步骤可以具体包括:
在研磨后的塑封体33远离扇出单元31的表面上涂覆介质层,然后在介质层表面制作 再布线层,逐层叠加,直至完成第二再布线层的制作(图中未示出第二再布线层)。在制作 第二再布线层的同时,在第一管脚阵列相对的位置上制作与其对应的第二焊接阵列。该第 二焊垫阵列包括多个第二焊垫911;该第二焊垫911与第二再布线层之间形成电连接。
在制作完第二再布线层和第二焊垫阵列之后,继续涂覆介质层,然后在该介质层的表 面上制作第三焊垫阵列,第三焊垫阵列包括多个第三焊垫912。
执行完S165后,对应的剖面结构示意图如图10A所示。
在该实施例中,第二基板91直接制作在塑封体33远离所述扇出单元31的表面上。当第 二基板91制作完成后,即可实现裸芯片上的第一管脚与第二基板91的电连接。
需要说明,在本申请实施例中,直接在研磨后的塑封体33远离扇出单元31的表面上制 成的第二基板91上布置有多层再布线层,因此,该第二基板91也可以称为RDL载板。
在本申请实施例中,因第二基板91直接制作在研磨后的塑封体33远离扇出单元31的表 面上,因此,第一基板91的横截面尺寸与塑封体33的横截面尺寸相同。而塑封体33的横截 面尺寸与扇出单元31的横截面尺寸相同,所以,第一基板91的横截面尺寸与扇出单元31的 横截面尺寸相同。
在该实施例形成的芯片结构中,裸芯片341和342上的第一管脚阵列中的各个第一管 脚351先电连接至第二基板91上的第二焊垫阵列中的对应的各个第二焊垫上,第二基板91上的第三焊垫阵列中的各个第三焊垫与芯片外围电路电连接。如此,裸芯片341和342 上的第一管脚351通过第二基板91电连接至芯片外围电路上。因第二基板91可以提供更 大的线路设计空间,其上的第三焊垫912之间的密度可以比裸芯片上的第一管脚351的密 度小,因此,相较于裸芯片341和342上的第一管脚351,第二基板91上的第三焊垫912 可以比较容易地通过焊接工艺电连接至芯片外围电路上,所以,通过本申请实施例形成的 芯片上即使包括高管脚密度的裸芯片,也能够很方便地实现裸芯片与芯片外围电路的电连 接,因此,该实施例形成的芯片结构能够减少裸芯片管脚排布对芯片与芯片外围电路电连 接的限制。
作为本申请的一可选实施例,为了进一步增加封装结构的布线资源和封装的管脚数, 改善封装的电源完整性,同时改善封装结构的板级可靠性,在上述任一封装方法的具体实 现方式中,还可以包括以下步骤S1至S2:
S1:制作第三基板101。
如图17所示,第三基板101包括相对的第一表面和第二表面,第三基板101的第一表面上设置有第四焊垫阵列,该第三基板101的第二表面上设置有第五焊垫阵列,第四焊垫阵列包括多个第四焊垫1011,第五焊垫阵列包括多个第五焊垫1012。
在本申请实施例中,第三基板101上的第四焊垫阵列中的各个第四焊垫分别与第二基 板91上的第三焊垫阵列中的第三焊垫相对应。
第三基板101上的第五焊垫阵列中的各个第五焊垫1012用于与芯片外围电路电连接。 更具体地,第三基板101上的第五焊垫阵列中的各个第五焊垫1012用于与芯片外围区域的 PCB板电连接。
需要说明,该可选实施例中,第二基板91上的第三焊垫阵列中的各个第三焊垫912不再用于与外部电路连接,而是用于与第三基板101第一表面上的第四焊垫阵列中的各个第四焊垫1011连接。并且,在该可选实施例中,由第三基板101第二表面上的第五焊垫阵 列中的各个第五焊垫1012与芯片外围区域的PCB板电连接。
在制作完第三基板101和通过布线层增层工艺在露出第一管脚阵列中的各个第一管脚 底部的表面上制作第二基板91之后,本申请实施例提供的芯片封装方法还可以包括:
S2:将第三基板101置于第二基板91的下方,并且使第四焊垫阵列中的每个第四焊垫1011与第三焊垫阵列中相对应的第三焊垫912贴合,以使第四焊垫阵列中的每个第四焊垫1011电连接至第三焊垫阵列中相对应的第三焊垫912。
作为本申请的另一可选实施例,为了缓解第一管脚351与第二基板91之间的应力,进 而提高整个芯片结构的可靠性,上述可选实施例所述的封装方法中,在S2之后,还可以包 括以下步骤:
S3:向第二基板91和第三基板101之间填充填充胶102。
执行完该步骤对应的剖面结构示意图如图11所示。
此外,作为本申请的又一可选实施例,因第一焊垫阵列中的第一焊垫322之间的间距 较小,在利用模塑料对贴合在一起的扇出单元31和第一基板32进行塑封的过程中,模塑料有可能不能完全包裹各个第一焊垫322,从而导致整个芯片结构的可靠性下降。因此, 为了提高第一焊垫阵列中的第一焊垫322之间的填充效果,在上任一实施例的封装方法中,在使用模塑料对贴合在一起的扇出单元31和第一基板32进行塑封前,还可以包括以下步骤:
S4:向第一焊垫阵列中的第一焊垫322之间的间隙内填充填充胶71。
执行完该步骤对应的剖面结构示意图如图8所示。
此外,作为本申请的又一可选实施例,为了提高封装结构的散热性能,上述任一可选 实施例所述的封装方法中还可以包括以下步骤:
S5:在裸芯片的第二表面上设置散热片111。
执行完该步骤对应的剖面结构示意图如图12所示。
作为本申请的具体示例,散热片111可以通过导热胶与裸芯片的第二表面粘合在一起, 从而能够为大功耗的芯片提供良好的散热途径。
另外,为了更加有利于裸芯片341和342工作时产生的热量,若裸芯片341和342的背面被模塑料包裹,作为本申请的一可选实施例,在S5之前,还可以包括以下步骤:
S6:研磨扇出单元31远离第二基板91的表面,以露出裸芯片341和342的第二表面。
此外,为了能够控制封装结构的翘曲和结构的可靠性,散热片111还可以与第三基板 101连接在一起。因此,作为本申请的又一可选实施例,在上述可选实施例的基础上,还可以包括以下步骤:
S7:将扇出单元31遮罩在散热片111内,并将散热片111的边缘固定连接在所述第三基板101上。
当第三基板101的横截面尺寸可以大于扇出单元的横截面尺寸时,散热片111可以通 过粘合剂粘合在第三基板101的第一表面上。
以上为本申请实施例提供的芯片及其封装方法的具体实现方式。
Claims (26)
1.一种芯片,其特征在于,包括:扇出单元、第一基板和塑封体;
所述扇出单元包括集成在一起的多颗按照预设位置排列的裸芯片,每颗所述裸芯片的第一表面上设置有第一管脚阵列和第二管脚阵列;所述第一管脚阵列包括多个第一管脚,所述第二管脚阵列包括多个第二管脚;相邻裸芯片上的第二管脚阵列相邻;
所述第一基板包括第一表面,所述第一基板的第一表面上设置有第一再布线层以及与所述第一再布线层电连接的第一焊垫阵列,且所述第一焊垫阵列包括多个第一焊垫;
其中,所述第一基板位于所述扇出单元的下方,并且所述第一焊垫阵列与所述第二管脚阵列相对设置,且所述第二管脚阵列中的每个第二管脚与所述第一焊垫阵列中相对应的第一焊垫贴合在一起,从而使不同所述裸芯片之间通过所述第一基板实现互连;
所述塑封体用于包裹所述第一管脚、所述第二管脚以及所述第一基板,从而使所述扇出单元和第一基板塑封成一整体结构。
2.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述芯片还包括第二基板,
所述第二基板通过布线层增层工艺直接设置于所述塑封体的下方;
所述第二基板上设置有第二再布线层,所述第二基板包括相对的第一表面和第二表面,所述第二基板的第一表面上设置有与所述第二再布线层电连接的第二焊垫阵列,所述第二焊垫阵列包括多个第二焊垫;所述第二基板的第二表面上设置有第三焊垫阵列,且所述第三焊垫阵列包括多个第三焊垫;
所述第二焊垫阵列与所述第一管脚阵列相对设置,且所述第二焊垫阵列中的每个第二焊垫电连接至所述第一管脚阵列中对应的第一管脚。
3.根据权利要求1或2所述的芯片,其特征在于,所述第一基板的内部设置有与所述第一再布线层电连接的通孔,所述通孔延伸至所述第一基板的第二表面,并且所述通孔与芯片外围电连接,其中,所述第一基板的第二表面与所述第一基板的第一表面相对。
4.根据权利要求1-3任一项所述的芯片,其特征在于,所述芯片还包括:设置于所述第二基板下方的第三基板;
所述第三基板包括相对的第一表面和第二表面,所述第三基板的第一表面上设置有第四焊垫阵列,所述第三基板的第二表面上设置有第五焊垫阵列,所述第四焊垫阵列包括多个第四焊垫,所述第五焊垫阵列包括多个第五焊垫;
其中,所述第四焊垫阵列与所述第三焊垫阵列相对,且所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫电连接至所述第三焊垫阵列中相对的第三焊垫;
所述第五焊垫阵列中的第五焊垫用于实现所述芯片与所述芯片外围的信号传输。
5.根据权利要求1-4任一项所述的芯片,其特征在于,所述芯片还包括设置在所述裸芯片的第二表面上的散热片,其中,所述裸芯片的第二表面与所述裸芯片的第一表面相对。
6.根据权利要求5所述的芯片,其特征在于,所述芯片包括设置于所述第二基板下方的第三基板;所述散热片将所述扇出单元遮罩,并且所述散热片的边缘固定在所述第三基板上。
7.根据权利要求4所述的芯片,其特征在于,所述第二基板和所述第三基板之间填充有填充胶。
8.根据权利要求1-7任一项所述的芯片,其特征在于,所述第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙内填充有填充胶。
9.根据权利要求1-8任一项所述的芯片,其特征在于,用于制作所述第一基板的材料为硅基材料、树脂材料和玻璃材料中的至少一种。
10.根据权利要求1-9任一项所述的芯片,其特征在于,所述裸芯片为无源裸芯片或功能裸芯片。
11.根据权利要求1-10任一项所述的芯片,其特征在于,所述第二管脚包含铜柱和焊接凸块中的至少一种。
12.根据权利要求1-11任一项所述的芯片,其特征在于,实现互连的不同裸芯片之间形成有至少一个互连结构,每个所述互连结构中包括多条互连线。
13.根据权利要求12所述的芯片,其特征在于,同一互连结构中的各条互连线的长度均相等。
14.根据权利要求1-13任一项所述的芯片,其特征在于,所述第一再布线层包括n层第一再布线子层,其中,n≥1,且n为整数。
15.根据权利要求14所述的芯片,其特征在于,所述n≥2,所述n层第一再布线子层包括参考层和线路层,所述参考层所在的平面为所述线路层的参考面。
16.根据权利要求4所述的芯片,其特征在于,所述第三基板为激光研磨制备的多层基板或采用机械研磨制备的多层基板。
17.根据权利要求1-16任一项所述的芯片,其特征在于,所述第一基板上设置有逻辑芯片。
18.一种芯片封装方法,其特征在于,所述芯片封装方法包括:
分别制作扇出单元和第一基板;所述扇出单元包括集成在一起的多颗按照预设位置排列的裸芯片,每颗所述裸芯片的第一表面上设置有第一管脚阵列和第二管脚阵列;所述第一管脚阵列包括多个第一管脚,所述第二管脚阵列包括多个第二管脚;相邻裸芯片上的第二管脚阵列相邻;所述第一基板包括第一表面,所述第一基板的第一表面上设置有第一再布线层以及与所述第一再布线层电连接的第一焊垫阵列,且所述第一焊垫阵列包括多个第一焊垫;
将所述第一基板置于所述扇出单元的下方,并且使所述第二管脚阵列中的每个第二管脚与所述第一焊垫阵列中相对应的第一焊垫贴合在一起,从而使不同所述裸芯片之间通过所述第一基板实现互连;
使用模塑料对贴合在一起的扇出单元和第一基板进行塑封,形成包裹所述第一管脚、所述第二管脚以及所述第一基板的塑封体。
19.根据权利要求18所述的芯片封装方法,其特征在于,所述方法还包括:
当所述塑封体包裹所述第一管脚阵列中的各个第一管脚的底部时,研磨所述塑封体远离所述扇出单元的表面,以露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚的底部;
通过布线层增层工艺在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作第二基板,所述第二基板上设置有第二再布线层,所述第二基板包括相对的第一表面和第二表面,所述第二基板的第一表面上设置有与所述第二再布线层电连接的第二焊垫阵列,所述第二焊垫阵列包括多个第二焊垫;所述第二基板的第二表面上设置有第三焊垫阵列,且所述第三焊垫阵列包括多个第三焊垫;
其中,所述第二焊垫阵列与所述第一管脚阵列相对设置,且所述第二焊垫阵列中的每个第二焊垫电连接至所述第一管脚阵列中对应的第一管脚。
20.根据权利要求19所述的芯片封装方法,其特征在于,所述在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作第二基板,具体包括:
在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上涂覆介质层,然后在所述介质层表面制作再布线层,逐层叠加,直至完成第二再布线层的制作;在制作所述第二再布线层的同时,在第一管脚阵列相对的位置上制作第二焊垫阵列,其中,所述第二焊垫阵列包括多个第二焊垫;且一个所述第二焊垫对应一个第二焊垫,;
在制作完第二再布线层和第二焊垫阵列之后,继续涂覆介质层,然后在该介质层的表面上制作由多个第三焊垫组成的第三焊垫阵列。
21.根据权利要求19或20所述的芯片封装方法,其特征在于,所述芯片封装方法还包括:
制作第三基板,所述第三基板包括相对的第一表面和第二表面,所述第三基板的第一表面上设置有第四焊垫阵列,所述第三基板的第二表面上设置有第五焊垫阵列,所述第四焊垫阵列包括多个第四焊垫,所述第五焊垫阵列包括多个第五焊垫;
所述在露出所述第一管脚阵列中的各个第一管脚底部的表面上制作第二基板之后,所述芯片封装方法还包括:
将所述第三基板置于所述第二基板的下方,并且使所述第四焊垫阵列与所述第三焊垫阵列相对,且使所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫与所述第三焊垫阵列中相对应的第三焊垫贴合,以使所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫电连接至所述第三焊垫阵列中相对应的第三焊垫。
22.根据权利要求21所述的芯片封装方法,其特征在于,所述将所述第三基板置于所述第二基板的下方,并且使所述第四焊垫阵列中的每个第四焊垫与所述第三焊垫阵列中相对应的第三焊垫贴合后,还包括:
向所述第二基板和所述第三基板之间填充填充胶。
23.根据权利要求18-22任一项所述的芯片封装方法,其特征在于,所述使用模塑料对贴合在一起的扇出单元和第一基板进行塑封前,还包括:
向所述第一焊垫阵列中的各个第一焊垫之间的间隙内填充填充胶。
24.根据权利要求18-23任一项所述的芯片封装方法,其特征在于,所述芯片封装方法还包括:
在所述裸芯片的第二表面上设置散热片,其中,所述裸芯片的第二表面与所述裸芯片的第一表面相对。
25.根据权利要求24所述的芯片封装方法,其特征在于,所述在所述裸芯片的第二表面上设置散热片之前,还包括:
研磨所述扇出单元远离所述第二基板的表面,以露出所述裸芯片的第二表面。
26.根据权利要求21所述的芯片封装方法,其特征在于,所述芯片封装方法还包括:
在所述扇出单元远离所述第二基板的表面上设置散热片,所述散热片将所述扇出单元遮罩,并且所述散热片的边缘固定在所述第三基板上。
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