CN104684735A - 平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法 - Google Patents

平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104684735A
CN104684735A CN201380050337.7A CN201380050337A CN104684735A CN 104684735 A CN104684735 A CN 104684735A CN 201380050337 A CN201380050337 A CN 201380050337A CN 104684735 A CN104684735 A CN 104684735A
Authority
CN
China
Prior art keywords
printing plate
lithographic printing
publication
recording layer
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201380050337.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104684735B (zh
Inventor
高梨元气
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN104684735A publication Critical patent/CN104684735A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104684735B publication Critical patent/CN104684735B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3085Imagewise removal using liquid means from plates or webs transported vertically; from plates suspended or immersed vertically in the processing unit
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2053Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
    • G03F7/2055Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08Developable by water or the fountain solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

本发明提供一种平版印刷版原版及使用其的平版印刷版的制版方法,所述平版印刷版原版在支承体上具有图像记录层,所述图像记录层可以通过在图像曝光后在印刷机上供给印刷墨液和润版液中的至少任一种除去未曝光部而形成图像,所述图像记录层含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物以及具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类,通过该平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法,可以提供一种维持了显影后平版印刷版的耐刷性,并且可以得到良好的显影性的平版印刷版原版以及使用其的平版印刷版的制版方法。

Description

平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法
技术领域
本发明涉及平版印刷版原版以及平版印刷方法。特别是涉及适合用于可以使用各种激光器基于计算机等的数字信号直接制版的、所谓能够直接制版的平版印刷版原版的平版印刷版原版以及使用其的平版印刷版的制造方法。
背景技术
一般而言,平版印刷版由在印刷过程中接受墨液的亲油性的图像部和接受润版液的亲水性的非图像部构成。平版印刷,是利用水和油性墨液彼此排斥的性质,将平版印刷版的亲油性的图像部作为墨液接受部,将亲水性的非图像部作为润版液接受部(墨液非接受部),使平版印刷版的表面产生墨液附着性的差异,并且在使墨液仅着墨于图像部后,将墨液转印到纸等被印刷体进行印刷的方法。
为了制作该平版印刷版,以往使用在亲水性的支承体上设置亲油性的感光性树脂层(图像记录层)而形成的平版印刷版原版(PS版),在通过平版印刷软片等掩模对PS版进行曝光后,使用碱性显影液等进行显影处理,残留下对应于图像部的图像记录层,并溶解除去对应于非图像部的不需要的图像记录层,得到平版印刷版。
随着该领域近来的发展,目前平版印刷版可以通过CTP(计算机直接制版)技术获得。也就是说,不借助平版印刷软片,而使用激光器或激光二极管,直接对平版印刷版原版进行扫描曝光,并且显影而得到平版印刷版。
随着上述进步,有关平版印刷版原版的问题已经转移到对应于CTP技术的图像形成特性、印刷特性、物理特性等方面的改善。另外,随着对地球环境日益增长的关注,作为有关平版印刷版原版的另一个问题是涉及伴随显影处理等湿处理所产生废液的环境问题变得显著。
针对上述环境问题,提出了显影或制版的简化或无处理化。作为简单的制版方法之一,实行了称为“机上显影”的方法。即,对平版印刷版原版曝光后,不进行以往的显影,直接将平版印刷版原版安装到印刷机上,并且在通常的印刷工序的初期阶段进行图像记录层的不需要部分的除去的方法。
另外,作为简单显影的方法,还实行了称为“胶显影”的方法,其中,不使用以往的强碱性显影液,而使用pH接近中性的整理液或胶液进行图像记录层的不需要部分的除去。
在如上所述的制版操作的简化中,从容易操作的观点考虑,使用能够在明亮房间中或者在黄色灯下进行操作的平版印刷版原版和光源的系统是优选的。因此,作为光源,可以使用发射波长760~1200nm的红外线的半导体激光器和YAG激光器等固体激光器。
作为能够进行机上显影的平版印刷版原版,例如,专利文献1和2中记载了在亲水性支承体上具有图像记录层(感热层)的平版印刷版原版,所述图像记录层含有内包了聚合性化合物的微胶囊。另外,专利文献3中记载了在支承体上设置了含有红外线吸收剂、自由基聚合引发剂和聚合性化合物的图像记录层(感光层)的平版印刷版原版。此外,专利文献4中记载了在支承体上设置了图像记录层的能够机上显影的平版印刷版原版,所述图像记录层含有聚合性化合物、和在侧链上具有聚氧化乙烯链的接枝聚合物或者具有聚氧化乙烯嵌段的嵌段聚合物。另外,专利文献5中记载了设置含有特定的显影促进剂的图像记录层的可机上显影的平版印刷版原版。另外,专利文献6中记载了设置含有特定的酸基或其盐的图像记录层的能够机上显影的平版印刷版原版。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-277740号公报
专利文献2:日本特开2001-277742号公报
专利文献3:日本特开2002-287334号公报
专利文献4:美国专利申请公开第2003/0064318号说明书
专利文献5:日本特开2008-284817号公报
专利文献6:日本特开2009-154525号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,随着对平版印刷版原版的性能提出了更高的要求,目前的现状是需要一种能够以更高层次实现机上显影性和耐刷性的技术。
本发明鉴于上述情况而完成,其目的在于提供一种维持了显影后平版印刷版的耐刷性,并且可以得到良好的显影性的平版印刷版原版以及使用其的平版印刷版的制版方法。
解决问题的方法
即,解决前述问题的方法如下所述。需要说明的是,本说明书中“~”表示包含其前后所记载的数值分别作为最小值和最大值的范围。
[1]一种平版印刷版原版,其在支承体上具有图像记录层,所述图像记录层可以通过在图像曝光后在印刷机上供给印刷墨液和润版液中的至少任一种除去未曝光部而形成图像,所述图像记录层含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物以及具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类。
[2]根据上述[1]所述的平版印刷版原版,上述具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类具有下述通式(A)表示的结构。
-O-L-SO3 -X+  通式(A)
其中,L表示亚乙基或亚丙基,X+表示氢离子、碱金属离子或铵离子。
[3]根据上述[1]或[2]所述的平版印刷版原版,上述多糖类为具有由磺酸基或其盐形成的基团的纤维素。
[4]根据上述[2]所述的平版印刷版原版,多糖类为具有下述通式(1)表示的重复单元的、具有由磺酸基或其盐形成的基团的纤维素,
[化1]
在此,R各自独立地表示氢原子、烷基、羟基烷基、羧基烷基、或-L-SO3 -X+,n表示2以上的整数,L和X+分别与上述通式(A)中的L和X+同义。
并且,上述通式(1)表示的重复单元的3个R中,表示-L-SO3 -X+的R的个数(取代度)为0.3~2.5。
[5]一种平版印刷版的制版方法,通过将上述[1]~[4]中任一项所述的平版印刷版原版进行图像状曝光后安装于印刷机,并且供给印刷墨液和润版液中的至少任一种的方法进行机上显影处理,或者通过将上述[1]~[4]中任一项所述的平版印刷版原版安装于印刷机后进行图像状曝光后,供给印刷墨液和润版液中的至少任一种的方法进行机上显影处理。
虽然本发明的作用尚未明确,但推定如下。
本发明的平版印刷版原版在支承体上具有如下的图像记录层,其含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物、以及具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类,并且能够通过印刷墨液和润版液中的至少任一种除去。
可以推定图像记录层通过含有具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类,其亲水性提高,未曝光部(相对于非图像部)的润版液浸透性提高,非图像部的除去性提高。另一方面可以推定,由于曝光部交联,因此难以发生润版液的浸透,并且由于在膜中含有具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类这样的高分子量材料,因此可以维持曝光部的耐磨耗性,并且维持耐刷性。
发明效果
根据本发明,可以提供一种维持了显影后平版印刷版的耐刷性,并且可以得到良好的显影性的平版印刷版原版以及使用其的平版印刷版的制版方法。
具体实施方式
[平版印刷版原版]
本发明的平版印刷版原版,在支承体上具有图像记录层,所述图像记录层可以通过在图像曝光后在印刷机上供给印刷墨液和润版液中的至少任一种来除去未曝光部而形成图像,并且所述图像记录层含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物、以及具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类。
另外,本发明的平版印刷版原版,可以根据需要在支承体和图像记录层之间设置底涂层,另外可以在图像记录层上设置保护层。
以下,对本发明的平版印刷版原版的构成要素进行说明。
[图像记录层]
本发明的平版印刷版原版中的图像记录层含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物、以及具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类。
[红外线吸收剂]
聚合性组合物中使用的红外线吸收剂只要是吸收图像曝光时的光而成为激发状态,并且通过电子转移、能量转移或发热等向聚合引发剂供给能量,提高聚合引发功能的红外线吸收剂,就可以没有特别限定地使用。特别优选使用在750~1400nm的波长范围中具有极大吸收的红外线吸收剂。红外线吸收剂优选使用染料或颜料。
作为染料,可以利用市售的染料以及例如《染料便览》(有机合成化学协会编集,昭和45年刊)等文献中记载的公知染料。具体而言,可以列举偶氮染料、金属络盐偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸菁色素、吡喃鎓盐、金属硫醇盐络合物等染料。
作为这些染料中特别优选的染料,可以列举花青色素、方酸菁色素、吡喃鎓盐、硫醇镍络合物、假吲哚花青色素。进一步优选花青色素、假吲哚花青色素,作为特别优选的例子,可以列举下述通式(IV)表示的花青色素。
[化2]
通式(IV)中,X1表示氢原子、卤原子、-N(R9)(R10)、-X2-L1或以下所示的基团。其中,R9和R10各自可以相同,也可以不同,表示可以具有取代基的碳原子数6~10的芳香族烃基、碳原子数1~8的烷基、氢原子,并且R9和R10也可以互相键合形成环。其中,优选苯基。X2表示氧原子或硫原子,L1表示碳原子数1~12的烃基、具有杂原子(N、S、O、卤原子、Se)的芳香族环、含有杂原子的碳原子数1~12的烃基。下述式的Xa -与后述的Za -同样定义,Ra表示氢原子、或选自烷基、芳基、取代或未取代的氨基、卤原子的取代基。
[化3]
通式(IV)的R1和R2各自独立地表示碳原子数1~12的烃基。从聚合性组合物溶液的保存稳定性考虑,R1和R2优选为碳原子数2个以上的烃基。另外,R1和R2也可以互相连接形成环,在形成环时特别优选形成5元环或6元环。
Ar1和Ar2各自可以相同,也可以不同,表示可以具有取代基的芳基。作为优选的芳基,可以列举苯环基和萘环基。另外,作为优选的取代基,可以列举碳原子数12以下的烃基、卤原子、碳原子数12以下的烷氧基。Y1和Y2各自可以相同,也可以不同,表示硫原子或碳原子数12以下的二烷基亚甲基。R3、R4各自可以相同,也可以不同,表示可以具有取代基的碳原子数20以下的烃基。作为优选的取代基,可以列举碳原子数12以下的烷氧基、羧基、磺基。R5、R6、R7和R8各自可以相同,也可以不同,表示氢原子或碳原子数12以下的烃基。从原料获得的容易性考虑,优选为氢原子。另外,Za -表示抗衡阴离子。但是,当通式(IV)表示的花青色素在其结构内具有阴离子性的取代基,而不需要电荷的中和时,Za -不是必需的。从聚合性组合物溶液的保存稳定性考虑,优选的Za -为卤化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸盐离子、六氟磷酸盐离子以及磺酸根离子,特别优选为高氯酸根离子、六氟磷酸盐离子和芳基磺酸根离子。
作为通式(IV)表示的花青色素的具体例子,可以列举日本特开2001-133969号公报的段落编号[0017]~[0019]中记载的化合物、日本特开2002-023360号公报的段落编号[0016]~[0021]、日本特开2002-040638号公报的段落编号[0012]~[0037]中记载的化合物,优选日本特开2002-278057号公报的段落编号[0034]~[0041]、日本特开2008-195018号公报的段落编号[0080]~[0086]中记载的化合物,特别优选日本特开2007-90850号公报的段落编号[0035]~[0043]中记载的化合物。
另外,还可以优选使用日本特开平5-5005号公报的段落编号[0008]~[0009]、日本特开2001-222101号公报的段落编号[0022]~[0025]中记载的化合物。
以下,列举红外线吸收剂的优选具体例子,但本发明并不限定于此。
[化4]
红外线吸收剂可以仅使用1种,也可以并用2种以上,还可以并用颜料等红外线吸收剂。作为颜料,优选为日本特开2008-195018号公报的段落编号[0072]~[0076]中记载的化合物。
红外线吸收剂的含量,相对于图像记录层的全部固体成分100质量份,优选为0.05~30质量份,更优选为0.1~20质量份,特别优选为0.2~10质量份。
[聚合引发剂]
作为本发明中使用的聚合引发剂,表示引发、促进聚合性化合物聚合的化合物。作为在本发明中可以使用的聚合引发剂,优选自由基聚合引发剂,可以使用公知的热聚合引发剂、具有键解离能小的键的化合物、光聚合引发剂等。
作为本发明的聚合引发剂,例如,可以列举(a)有机卤化物、(b)羰基化合物、(c)偶氮化合物、(d)有机过氧化物、(e)茂金属化合物、(f)叠氮化合物、(g)六芳基联咪唑化合物、(h)有机硼酸盐化合物、(i)二砜化合物、(j)肟酯化合物、(k)鎓盐化合物。
作为(a)有机卤化物,优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0022]~[0023]中记载的化合物。
作为(b)羧基化合物,优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0024]中记载的化合物。
作为(c)偶氮化合物,例如可以使用日本特开平8-108621号公报中记载的偶氮化合物等。
作为(d)有机过氧化物,例如优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0025]中记载的化合物。
作为(e)茂金属化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0026]中记载的化合物。
作为(f)叠氮化合物,可以列举2,6-双(4-叠氮基亚苄基)-4-甲基环己酮等化合物。作为(g)六芳基联咪唑化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0027]中记载的化合物。
作为(h)有机硼酸盐化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0028]中记载的化合物。
作为(i)二砜化合物,可以列举日本特开昭61-166544号、日本特开2002-328465号各公报中记载的化合物。
作为(j)肟酯化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的段落编号[0028]~[0030]中记载的化合物。
作为(k)鎓盐化合物,例如,可以列举S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、日本特开平5-158230号公报中记载的重氮鎓盐、美国专利第4069055号说明书、日本特开平4-365049号公报等中记载的铵盐、美国专利第4069055号、美国专利第4069056号的各说明书中记载的鏻盐、欧州专利第104、143号、美国专利申请公开第2008/0311520号的各说明书、日本特开平2-150848号、日本特开2008-195018号的各公报、或J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)中记载的碘鎓盐、欧州专利第370693号、欧州专利第233567号、欧州专利第297443号、欧州专利第297442号、美国专利第4933377号、美国专利第4760013号、美国专利第4734444号、美国专利第2833827号、德国专利第2904626号、德国专利第3604580号、德国专利第3604581号的各说明书中记载的锍盐、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)中记载的硒鎓盐、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478Tokyo,Oct(1988)中记载的砷鎓盐、日本特开2008-195018号公报中记载的吖嗪鎓盐等鎓盐等。
作为上述物质中更优选的物质,可以列举鎓盐,尤其是碘鎓盐、锍盐和吖嗪鎓盐。以下表示这些化合物的具体例子,但并不限定于此。
作为碘鎓盐的例子,优选二苯基碘鎓盐,特别优选被给电子基例如烷基或烷氧基取代的二苯基碘鎓盐,进一步优选非对称的二苯基碘鎓盐。作为具体例子,可以列举:二苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-(2-甲基丙基)苯基-对甲苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4-二乙氧基苯基碘鎓=四氟硼酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=1-全氟丁烷磺酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=六氟磷酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓=四苯基硼酸盐。
作为锍盐的例子,可以列举三苯基锍=六氟磷酸盐、三苯基锍=苯甲酰甲酸盐、双(4-氯苯基)苯基锍=苯甲酰甲酸盐、双(4-氯苯基)-4-甲基苯基锍=四氟硼酸盐、三(4-氯苯基)锍=3,5-双(甲氧基羰基)苯磺酸盐、三(4-氯苯基)锍=六氟磷酸盐。
作为吖嗪鎓盐的例子,可以列举1-环己基甲氧基吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-环己氧基-4-苯基吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-乙氧基-4-苯基吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶鎓=六氟磷酸盐、4-氯-1-环己基甲氧基吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-乙氧基-4-氰基吡啶鎓=六氟磷酸盐、3,4-二溴-1-(2-乙基己氧基)吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-苄氧基-4-苯基吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-苯乙氧基-4-苯基吡啶鎓=六氟磷酸盐、1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶鎓=对甲苯磺酸盐、1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶鎓=全氟丁烷磺酸盐、1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶鎓=溴化物、1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶鎓=四氟硼酸盐。
相对于构成图像记录层的全部固体成分,本发明的聚合引发剂优选以0.1~50质量%、更优选为0.5~30质量%、特别优选为0.8~20质量%的比例添加。在该范围内,可以获得良好的灵敏度和印刷时非图像部的良好的耐污性。
[聚合性化合物]
本发明的图像记录层中使用的聚合性化合物,没有特别限制。上述聚合性化合物中,优选具有至少一个烯属不饱和双键的聚合性化合物,更优选具有至少一个末端烯属不饱和键的聚合性化合物,特别优选具有至少2个以上末端烯属不饱和键的聚合性化合物。上述优选的聚合性化合物,例如具有单体、预聚物、即二聚物、三聚物和低聚物,或它们的混合物等化学形态。
作为单体的例子,可以列举不饱和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)、其酯类、酰胺类,优选使用不饱和羧酸与多元醇化合物的酯、不饱和羧酸与多元胺化合物的酰胺类。此外,还适宜使用具有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应物、及与单官能或多官能的羧酸的脱水缩合反应物等。另外,具有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的加成反应物、以及具有卤素基团、甲苯磺酰氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的取代反应物也适合。另外,作为其他的例子,还可以使用将上述不饱和羧酸替换为不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等的化合物组。这些化合物记载于包括日本特表2006-508380号公报、日本特开2002-287344号公报、日本特开2008-256850号公报、日本特开2001-342222号公报、日本特开平9-179296号公报、日本特开平9-179297号公报、日本特开平9-179298号公报、日本特开2004-294935号公报、日本特开2006-243493号公报、日本特开2002-275129号公报、日本特开2003-64130号公报、日本特开2003-280187号公报、日本特开平10-333321号公报的参考文献中。
作为多元醇化合物与不饱和羧酸的酯单体的具体例子,作为丙烯酸酯,有乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁烷二醇二丙烯酸酯、四亚甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、己烷二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性三丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物等。作为甲基丙烯酸酯,有四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、双[对(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、双-[对(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。另外,作为多胺化合物与不饱和羧酸的酰胺的单体的具体例子,有亚甲基双-丙烯酰胺、亚甲基双-甲基丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基双丙烯酰胺、苯二甲基双甲基丙烯酰胺等。
另外,利用异氰酸酯与羟基的加成反应制造的氨基甲酸酯系加聚性化合物也是优选的,作为其具体例子,例如,可以列举日本特公昭48-41708号公报中记载的使下述通式(A)表示的含有羟基的乙烯基单体与1分子中具有2个以上异氰酸酯基的多异氰酸酯化合物进行加成所得的1分子中含有2个以上聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH  (A)
(其中,R4和R5各自独立地表示H或CH3。)
另外,日本特开昭51-37193号公报、日本特公平2-32293号公报、日本特公平2-16765号公报、日本特开2003-344997号公报、日本特开2006-65210号公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、日本特公昭58-49860号公报、日本特公昭56-17654号公报、日本特公昭62-39417号公报、日本特公昭62-39418号公报、日本特开2000-250211号公报、日本特开2007-94138号公报记载的具有氧化乙烯系骨架的氨基甲酸酯化合物类、US7153632号公报、日本特表平8-505958号公报、日本特开2007-293221号公报、日本特开2007-293223号公报记载的具有亲水性基团的氨基甲酸酯化合物类也是合适的。
上述化合物中,从涉及机上显影性的亲水性和涉及耐刷性的聚合能力之间的平衡优异的观点考虑,特别优选三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、双(丙烯酰氧基乙基)羟基乙基异氰脲酸酯等异氰脲酸环氧乙烷改性丙烯酸酯类。
这些聚合性化合物的结构、使用形态(单独使用,或将2种以上并用等)、添加量等使用方法的详细情况,可以根据最终的平版印刷版原版的性能设计而任意设定。相对于图像记录层的全部固体成分,上述聚合性化合物优选以5~75质量%、更优选为7~70质量%、特别优选为10~60质量%的范围使用。
[具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类]
(由磺酸基或其盐形成的基团)
具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类优选具有下述通式(A)表示的结构。
-O-L-SO3 -X+  通式(A)
其中,L表示亚乙基或亚丙基,X+表示氢离子、碱金属离子或铵离子。
作为碱金属离子,可以列举锂离子、钠离子、钾离子等。作为铵离子,有无机铵离子、有机铵离子。作为有机铵离子,可以列举NH3(R1)+、NH2(R1)(R2)+、NH(R1)(R2)(R3)+、N(R1)(R2)(R3)(R4)+等。R1~R4各自独立地表示碳原子数1~6的烷基。
(多糖类)
作为具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类中的多糖类骨架的例子,可以列举以葡萄糖作为单元糖的糊精、淀粉、纤维素、葡聚糖、或糖原普鲁兰多糖(グリコーゲンプルラン)等;以果糖作为单元糖的菊糖、果聚糖、或低聚果糖等;以N-乙酰葡萄糖胺作为单元糖的壳多糖等;以半乳糖作为单元糖的低聚半乳糖等;以甘露糖作为单元糖的低聚甘露糖等。另外,上述多糖类也可以是由两种以上的单元糖构成的多糖类,作为这种多糖类骨架的例子,可以列举棉子糖、水苏糖(半乳糖/果糖/葡萄糖)等。其中优选为糊精、淀粉、纤维素、葡聚糖、或糖原普鲁兰多糖,特别优选为纤维素。
具体而言,具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类优选为具有下述通式(1)表示的重复单元的纤维素。
[化5]
其中,R各自独立地表示氢原子、烷基、羟基烷基、羧基烷基、或-L-SO3 -X+。n表示2以上的整数。L和X+分别与上述通式(A)中的L和X+同义。
并且,上述通式(1)表示的重复单元的3个R中,表示-L-SO3 -X+的R的个数(取代度)为0.3~2.5。
本说明书中的“取代度”是指,在多糖类的每一个单糖(即,相当于上述重复单元)中,羟基的氢原子被修饰的取代基的平均数,例如,当纤维素的全部的羟基的氢原子被修饰时,取代度为3。
表示-L-SO3 -X+的R的个数(取代度)更优选为0.35~2,进一步优选为0.4~1.2。
n优选为6~3000。
作为R的烷基,可以列举甲基及乙基等。
作为R的羟基烷基,可以列举羟基丙基及羟基乙基等。
作为R的羧基烷基,可以列举羧基甲基等。
(合成方法)
作为具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类的合成方法,可以列举:日本特开平9-227601号公报等中记载的基于纤维素的磺化的方法;以及纤维素等多糖类,与乙烯基磺酸或其金属盐、β-氯乙烷磺酸或其金属盐、丁烷磺内酯、丙烷磺内酯等磺烷基化剂进行反应的方法。
作为与构成母核的多糖类进行反应的具有由磺酸基或其盐形成的基团的加成物的结构,优选在一个末端具有由磺酸基或其盐形成的基团、在另一个末端具有卤原子(F、Cl、Br、I等)的化合物,更优选下述式(I)表示的化合物。
[化6]
X+与上述通式(A)中的X+同义。n表示1~10的整数。
X+的具体例子,与在上述通式(A)的X+中说明的内容相同。
n优选为2或3。
另外,作为与构成母核的多糖类反应的具有由磺酸基或其盐形成的基团的加成物的结构,还优选为下述式(II)表示的环状化合物。
[化7]
m表示1~3的整数。
具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类的质量平均分子量优选为1000~50000,更优选为2000~50000,进一步优选为3000~30000。
在本发明中,质量平均分子量可以使用GPC(凝胶渗透色谱,GelPermeation Chromatography)并通过常规的方法测定。
相对于构成图像记录层的全部固体成分,具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类优选为0.5~40质量%,更优选为1~30质量%,进一步优选为2~25质量%。
[粘合剂聚合物]
为了赋予皮膜性,本发明的图像记录层通常含有粘合剂聚合物。本发明中可以使用的粘合剂聚合物,只要可以赋予皮膜性,就可以没有限制地使用以往公知的物质。其可以是直链状的粘合剂聚合物,也可以是日本特开2007-249036中记载的星型聚合物结构。例如,作为优选例子,可以列举作为平版印刷版原版用的以下所述的加聚物及侧链具有交联性基团的氨基甲酸酯树脂。
在本发明中,如上所述,图像记录层是,可以通过在印刷机上供给印刷墨液和润版液中的至少任一种来除去未曝光部从而形成图像的图像记录层。
作为可以在这种图像记录层中含有的粘合剂聚合物,优选具有氧化烯基的粘合剂聚合物。
本发明的平版印刷版原版的图像记录层所使用的具有氧化烯基的粘合剂聚合物,可以在主链具有聚(氧化烯)部位,也可以在侧链具有聚(氧化烯)部位,既可以是在侧链具有聚(氧化烯)的接枝聚合物,也可以是由含聚(氧化烯)的重复单元构成的嵌段、与由不含(氧化烯)的重复单元构成的嵌段的嵌段共聚物。
在主链上具有氧化烯基的情况下,优选聚氨酯树脂。在侧链具有氧化烯基情况下,作为主链的聚合物,可以列举丙烯酸系树脂、聚乙烯基醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、线性酚醛型酚系树脂、聚酯树脂、合成橡胶、天然橡胶,特别优选丙烯酸系树脂。
作为上述的氧化烯,优选碳原子数2~6的氧化烯,特别优选氧化乙烯或氧化丙烯。
聚(氧化烯)部位中的氧化烯的重复数为2~120,优选为2~70的范围,更优选为2~50的范围。
如果氧化烯的重复数为120以下,则磨损所导致的耐刷性、墨液接受性导致的耐刷性两者都不会发生降低,因此优选。
聚(氧化烯)部位优选作为粘合剂聚合物的侧链以下述通式(a)表示的结构而含有。更优选作为丙烯酸系树脂的侧链以下述通式(a)表示的结构而含有。
[化8]
通式(a)中,y表示2~120,优选为2~70的范围,更优选为2~50的范围。R1表示氢原子或烷基,R2表示氢原子或有机基。作为有机基,优选碳原子数1~6的烷基,可以列举甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、1,1-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、环戊基、和环己基。
上述中,R1优选为氢原子或甲基,最优选为氢原子。R2最优选为氢原子或甲基。
为了提高图像部的皮膜强度,上述粘合剂聚合物可以具有交联性。为了使上述聚合物具有交联性,只要向高分子的主链或侧链中导入烯属不饱和键等交联性官能团即可。交联性官能团也可以通过共聚而导入。
作为在分子的主链中具有烯属不饱和键的聚合物的例子,可以列举聚-1,4-丁二烯、聚-1,4-异戊二烯等。
作为在分子的侧链中具有烯属不饱和键的聚合物的例子,可以列举丙烯酸或甲基丙烯酸的酯或酰胺的聚合物,其中,酯或酰胺的残基(-COOR或CONHR的R)具有烯属不饱和键。
作为具有烯属不饱和键的残基(上述R)的例子,可以列举-(CH2)nCR1=CR2R3、-(CH2O)nCH2CR1=CR2R3、-(CH2CH2O)nCH2CR1=CR2R3、-(CH2)nNH-CO-O-CH2CR1=CR2R3、-(CH2)n-O-CO-CR1=CR2R3和(CH2CH2O)2-X(式中,R1~R3各自独立地表示氢原子、卤原子或碳原子数1~20的烷基、芳基、烷氧基或芳氧基,R1和R2或R3也可以互相键合形成环。n表示1~10的整数。X表示二环戊二烯残基。)
作为酯残基的具体例子,可以列举-CH2CH=CH2(记载于日本特公平7-21633号公报。)、-CH2CH2O-CH2CH=CH2、-CH2C(CH3)=CH2、-CH2CH=CH-C6H5、-CH2CH2OCOCH=CH-C6H5、-CH2CH2-NHCOO-CH2CH=CH2和CH2CH2O-X(式中,X表示二环戊二烯残基。)。
作为酰胺残基的具体例子,可以列举-CH2CH=CH2、-CH2CH2-Y(式中,Y表示环己烯残基。)、-CH2CH2-OCO-CH=CH2
就具有交联性的粘合剂聚合物而言,例如在其交联性官能团上加成自由基(聚合引发自由基或聚合性化合物的聚合过程的生长自由基),在聚合物之间直接或经由聚合性化合物的聚合链进行加聚,从而在聚合物分子间形成交联,发生固化。或者,聚合物中的原子(例如与官能性交联基相邻的碳原子上的氢原子)被自由基脱去而生成聚合物自由基,且其相互键合,由此在聚合物分子间形成交联而发生固化。
粘合剂聚合物中交联性基团的含量(通过碘滴定得到的能够自由基聚合的不饱和双键的含量),相对于每1g高分子化合物,优选为0.1~10.0mmol,更优选为1.0~7.0mmol,最优选为2.0~5.5mmol。在该范围内,可以得到良好的灵敏度和良好的保存稳定性。
以下示出本发明中所使用的上述粘合剂聚合物的具体例子(1)~(13),但本发明并不限定于此。
需要说明的是,下述例示化合物中,与各重复单元一同记载的数值(与主链重复单元一同记载的数值)表示该重复单元的摩尔百分率。与侧链的重复单元一同记载的数值表示该重复部位的重复数。
[化9]
[化10]
[化11]
需要说明的是,本发明中上述粘合剂聚合物的质量平均摩尔质量(Mw)以基于GPC法的以聚苯乙烯换算值计优选为2000以上,更优选为5000以上,进一步优选为1万~30万。
本发明中,根据需要,可以并用日本特开2008-195018号公报中记载的聚丙烯酸、聚乙烯基醇等亲水性高分子化合物。另外,也可以并用亲油性高分子化合物和亲水性高分子化合物。
在应用于本发明的图像记录层时,上述粘合剂聚合物的形态在图像记录层中可以以实现各原材料相连的功能的粘合剂的方式存在,也可以以微粒的形状存在。在以微粒形状存在时,平均粒径为10~1000nm的范围,优选为20~300nm的范围,特别优选为30~120nm的范围。
相对于构成图像记录层的全部固体成分,本发明的上述粘合剂聚合物的含量优选为5~90质量%,更优选为5~80质量%,进一步优选为10~70质量%。
本发明的聚合引发剂、敏化色素、聚合性化合物和粘合剂聚合物的优选组合,最优选为将各自的优选方式组合而成的组合。
[红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物、具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类及粘合剂聚合物以外的成分]
[聚合物微粒]
为了提高显影性,本发明的图像记录层可以含有聚合物微粒。特别优选具有聚氧化烯结构的聚合物微粒。其中,优选在侧链上具有聚氧化烯基的聚合物微粒。
由此,润版液的浸透性提高,显影性变好。作为聚氧化烯结构,优选为具有2~120个碳原子数2或3的氧化烯单元的氧化烯结构,更优选为具有2~120个氧化乙烯单元的聚氧化乙烯结构。特别优选具有2~100个氧化乙烯单元的聚氧化乙烯结构。通过这种具有聚氧化烯结构的聚合物微粒,可以兼顾耐刷性和显影性。另外,还可以提高着墨性。
本发明的聚合物微粒优选为在施加热时可以将图像记录层转变为疏水性的疏水化前体。作为疏水化前体聚合物微粒,优选为选自疏水性热塑性聚合物微粒、热反应性聚合物微粒、内包有疏水性化合物的微胶囊、以及微凝胶(交联聚合物微粒)中的至少一种粒子。其中,优选具有聚合性基团的聚合物微粒及微凝胶。为了提高显影性,如上所述,也可以具有聚氧化烯结构。
作为疏水性热塑性聚合物微粒,可以列举1992年1月的ResearchDisclosure No.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开平9-131850号公报、日本特开平9-171249号公报、日本特开平9-171250号公报、欧州专利第931647号说明书等中记载的疏水性热塑性聚合物微粒作为优选的例子。
作为构成这种聚合物微粒的聚合物的具体例子,可以列举乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑、具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等单体的均聚物或共聚物、或它们的混合物。其中,作为更优选的例子,可以列举聚苯乙烯、含有苯乙烯和丙烯腈的共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯。
本发明中使用的疏水性热塑性聚合物微粒的平均粒径优选为0.01~2.0μm。
作为本发明中使用的热反应性聚合物微粒,可以列举具有热反应性基团的聚合物微粒,它们通过热反应所致的交联、以及此时的官能团变化而形成疏水化区域。
作为本发明中使用的具有热反应性基团的聚合物微粒的热反应性基团,只要形成化学键,则可以为进行任何反应的官能团,但作为优选的基团,可以列举:进行自由基聚合反应的烯属不饱和基团(例如,丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、阳离子聚合性基团(例如,乙烯基、乙烯氧基等)、进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段物、环氧基、乙烯氧基以及作为它们的反应配对物的具有活性氢原子的官能团(例如氨基、羟基、羧基等)、进行缩合反应的羧基以及作为反应配对物的羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐以及作为反应配对物的氨基或羟基等。
作为本发明中使用的微胶囊,例如为如日本特开2001-277740号公报、日本特开2001-277742号公报、EP2383118号公报中记载的那样,将图像记录层的构成成分的全部或部分内包在微胶囊中的材料。需要说明的是,图像记录层的构成成分可以在微胶囊的外部含有。此外,含有微胶囊的图像记录层的优选方式是,将疏水性的构成成分内包在微胶囊中,在微胶囊外含有亲水性的构成成分。
在本发明中,可以是含有交联树脂粒子、即微凝胶的方式。该微凝胶可以在其中和/或表面含有图像记录层的构成成分的一部分,特别是从图像形成灵敏度、耐刷性的观点出发,特别优选通过在其表面具有(B)聚合性化合物而形成反应性微凝胶的方式。
作为将图像记录层的构成成分微胶囊化或微凝胶化的方法,可以应用公知方法。
上述微胶囊、微凝胶的平均粒径优选为0.01~3.0μm。进一步优选为0.05~2.0μm,特别优选为0.10~1.0μm。在该范围内,可以得到良好的分辨率和经时稳定性。
作为聚合物微粒的含量,优选为图像记录层全部固体成分的5~90质量%的范围。
[其他成分]
本发明的图像记录层可以根据需要进一步含有下述成分。
(低分子亲水性化合物)
为了提高机上显影性而不降低耐刷性,本发明的图像记录层也可以含有低分子亲水性化合物。
作为低分子亲水性化合物,例如,作为水溶性有机化合物,可以列举乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇等二醇类及其醚或酯衍生物类、甘油、季戊四醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯等多元醇类、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺等有机胺类及其盐、烷基磺酸、甲苯磺酸、苯磺酸等有机磺酸类及其盐、烷基氨基磺酸等有机氨基磺酸类及其盐、烷基硫酸、烷基醚硫酸等有机硫酸类及其盐、苯基膦酸等有机膦酸类及其盐、酒石酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、乳酸、葡糖酸、氨基酸类等有机羧酸类及其盐、甜菜碱类等。
就本发明而言,在这些物质中,优选含有选自多元醇类、有机硫酸盐类、有机磺酸盐类、甜菜碱类中的至少一种。
作为有机磺酸盐的具体化合物,可以列举:正丁基磺酸钠、正己基磺酸钠、2-乙基己基磺酸钠、环己基磺酸钠、正辛基磺酸钠等烷基磺酸盐;5,8,11-三氧杂十五烷-1-磺酸钠、5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、13-乙基-5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、5,8,11,14-四氧杂二十四烷-1-磺酸钠等含有氧化乙烯链的烷基磺酸盐;苯磺酸钠、对甲苯磺酸钠、对羟基苯磺酸钠、对苯乙烯磺酸钠、间苯二甲酸二甲基-5-磺酸钠、1-萘磺酸钠、4-羟基萘磺酸钠、1,5-萘二磺酸二钠、1,3,6-萘三磺酸三钠等芳基磺酸盐;日本特开2007-276454号公报的段落编号[0026]~[0031]、日本特开2009-154525号公报的段落编号[0020]~[0047]中记载的化合物等。盐可以为钾盐、锂盐。
作为有机硫酸盐,可以列举聚氧化乙烯的烷基、烯基、炔基、芳基或杂环单醚的硫酸盐。氧化乙烯单元优选为1~4,该盐优选为钠盐、钾盐或锂盐。作为它们的具体例子,可以列举日本特开2007-276454号公报的段落编号[0034]~[0038]中记载的化合物。
作为甜菜碱类,优选氮原子上的烃取代基的碳原子数1~5的化合物,作为具体例子,可以列举乙酸三甲基铵、乙酸二甲基丙基铵、3-羟基-4-三甲基铵基丁酸盐、4-(1-吡啶基)丁酸盐、1-羟乙基-1-咪唑基乙酸盐、三甲基铵甲磺酸盐、二甲基丙基铵甲磺酸盐、3-三甲基铵基-1-丙烷磺酸盐、3-(1-吡啶基)-1-丙烷磺酸盐等。
上述低分子亲水性化合物由于疏水性部分的结构小且几乎没有表面活性作用,因此润版液不会浸透至图像记录层的曝光部(图像部)而导致图像部的疏水性、皮膜强度降低,进而能够良好地维持图像记录层的墨液接受性、耐刷性。
这些低分子亲水性化合物在图像记录层中的添加量优选为图像记录层全部固体成分的0.5质量%以上且20质量%以下。更优选为1质量%以上且15质量%以下,进一步优选为2质量%以上且10质量%以下。在该范围内,可以得到良好的机上显影性和耐刷性。
这些化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
(增感化剂)
对于本发明的图像记录层,为了提高着墨性,可以在图像记录层中使用鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基的聚合物等增感化剂。特别是在保护层中含有无机质的层状化合物的情况下,这些化合物作为无机质的层状化合物的表面被覆剂而发挥作用,防止无机质的层状化合物导致的印刷途中的着墨性降低。
作为优选的鏻化合物,可以列举日本特开2006-297907号公报和日本特开2007-50660号公报中记载的鏻化合物。作为具体例子,可以列举四丁基碘化鏻、丁基三苯基溴化鏻、四苯基溴化鏻、1,4-双(三苯基鏻)丁烷=二(六氟磷酸盐)、1,7-双(三苯基鏻)庚烷=硫酸盐、1,9-双(三苯基鏻)壬烷=萘-2,7-二磺酸盐等。
作为上述含氮低分子化合物,可以列举胺盐类、季铵盐类。另外还可以列举咪唑鎓盐,苯并咪唑鎓盐,吡啶鎓盐、喹啉鎓盐。其中,优选季铵盐和吡啶鎓盐。作为具体例子,可以列举四甲基铵=六氟磷酸盐、四丁基铵=六氟磷酸盐、十二烷基三甲基铵=对甲苯磺酸盐、苄基三乙基铵=六氟磷酸盐、苄基二甲基辛基铵=六氟磷酸盐、苄基二甲基十二烷基铵=六氟磷酸盐、日本特开2008-284858号公报的段落编号[0021]~[0037]、日本特开2009-90645号公报的段落编号[0030]~[0057]中记载的化合物等。
作为上述含铵基的聚合物,只要在其结构中具有铵基,则可以为任意的聚合物,但优选为含有5~80摩尔%的在侧链具有铵基的(甲基)丙烯酸酯作为共聚成分的聚合物。作为具体例子,可以列举日本特开2009-208458号公报的段落编号[0089]~[0105]中记载的聚合物。
对于上述含铵盐的聚合物而言,其通过下述测定方法求出的比浓粘度(還元比粘度)(单位:ml/g)值优选为5~120的范围,更优选为10~110的范围,特别优选为15~100的范围。如果将上述比浓粘度换算为基于GPC法的聚苯乙烯换算值计的质量平均摩尔质量(Mw),则优选为10000~150000,更优选为17000~140000,特别优选为20000~130000。
<比浓粘度的测定方法>
在20ml的容量瓶中称量聚合物固体成分1g,用N-甲基吡咯烷酮进行定容。将该溶液在30℃的恒温槽中静置30分钟,将其加入到乌氏比浓粘度计(粘度计常数=0.010cSt/s)中,测定在30℃下的流落时间。需要说明的是,测定是使用同一样品测定2次,并算出其平均值。同样地,空白(只有N-甲基吡咯烷酮)的情况下也进行测定,由下述式算出比浓粘度(ml/g)。
[数1]
以下,示出含铵基的聚合物的具体例子。
(1)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比10/90Mw4.5万)(2)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比20/80Mw6.0万)(3)2-(乙基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比30/70Mw4.5万)(4)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=六氟磷酸盐/甲基丙烯酸-2-乙基己酯共聚物(摩尔比20/80Mw6.0万)(5)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=甲基硫酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比40/60Mw7.0万)(6)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比25/75Mw6.5万)(7)2-(丁基二甲基铵基)乙基丙烯酸酯=六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比20/80Mw6.5万)(8)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=13-乙基-5,8,11-三氧杂-1-十七烷磺酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比20/80Mw7.5万)(9)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯=六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯/2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比15/80/5Mw6.5万)
相对于图像记录层的全部固体成分,上述增感化剂的含量优选为0.01~30.0质量%,更优选为0.1~15.0质量%,进一步优选为1~10质量%。
(其他)
此外作为其他成分,可以添加表面活性剂、着色剂、晒印剂、阻聚剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机微粒、无机质层状化合物、及敏化助剂或链转移剂等。具体而言,优选日本特开2008-284817号公报的段落编号[0114]~[0159]、日本特开2006-091479号公报的段落编号[0023]~[0027]、美国专利公开2008/0311520号说明书的段落编号[0060]中记载的化合物以及添加量。
(图像记录层的形成)
本发明的图像记录层例如如日本特开2008-195018号公报的段落编号[0142]~[0143]中所述,将必要的上述各成分分散或溶解于公知的溶剂中制备涂布液,利用棒涂机涂布等公知的方法将其涂布在支承体上,进行干燥由此形成。涂布、干燥后所得到的支承体上的图像记录层涂布量(固体成分)因用途而不同,通常优选为0.3~3.0g/m2。在该范围内,可以得到良好的灵敏度和图像记录层的良好的皮膜特性。
[底涂层]
本发明的平版印刷版原版优选在图像记录层与支承体之间设置有底涂层(有时也称作中间层)。底涂层由于在曝光部中强化支承体与图像记录层的密合,在未曝光部使图像记录层从支承体上的剥离变得容易,因此有助于提高显影性而不会损害耐刷性。另外,红外激光曝光的情况下,底涂层作为隔热层而发挥作用,由此防止因曝光产生的热扩散至支承体而导致灵敏度降低。
作为在底涂层中使用的化合物,优选使用含有具有膦酸、磷酸、磺酸等酸基的化合物的底涂层。此外,优选具有可吸附在支承体表面的吸附性基团、及用于提高与图像记录层的密合性的交联性基团。这些化合物既可以是低分子聚合物也可以是高分子聚合物。另外,这些化合物可以根据需要混合使用2种以上。
当其为高分子聚合物时,优选为具有吸附性基团的单体、具有亲水性基团的单体和具有交联性基团的单体的共聚物。作为能够吸附于支承体表面的吸附性基团,优选酚性羟基、羧基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3。作为亲水性基团,优选磺基。作为交联性基团,优选甲基丙烯酰基、烯丙基等。该高分子聚合物可以具有交联性基团,所述交联性基团是通过高分子聚合物的极性取代基、与含有具有相反电荷(対荷電)的取代基及烯属不饱和键的化合物之间的成盐而导入的,该高分子聚合物还可以共聚有上述以外的单体,优选共聚有亲水性单体。
具体来说,可以优选列举日本特开平10-282679号公报中记载的具有能够进行加聚的烯属双键反应基的硅烷偶联剂、日本特开平2-304441号公报记载的具有烯属双键反应基的磷化合物。还优选使用日本特开2005-238816号、日本特开2005-125749号、日本特开2006-239867号、日本特开2006-215263号和日本特开2011-245846号各公报中记载的含有具有交联性基团(优选为烯属不饱和键基团)、与支承体表面发生相互作用的官能团及亲水性基团的低分子或高分子化合物的聚合物。作为更优选的聚合物,可以列举日本特开2005-125749号、日本特开2006-188038号、以及日本特开2011-245846号公报中记载的具有能够吸附于支承体表面的吸附性基团、亲水性基团、以及交联性基团的高分子聚合物。
底涂层用高分子树脂中的不饱和双键的含量,相对于每1g高分子聚合物,优选为0.1~10.0mmol,最优选为0.2~5.5mmol。
底涂层用的高分子聚合物,其质量平均摩尔质量优选为5000以上,更优选为1万~30万。
为了防止经时产生的污损,本发明的底涂层除了上述底涂层用化合物以外,还可以含有螯合剂、仲胺或叔胺、阻聚剂、包含氨基或具有阻聚能力的官能团及与铝支承体表面发生相互作用的基团的化合物等(例如,1,4-二氮杂双环[2,2,2]辛烷(DABCO)、2,3,5,6-四羟基-对醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸等)。
底涂层可以通过公知方法进行涂布。底涂层的涂布量(固体成分)优选为0.1~100mg/m2,更优选为1~30mg/m2
[支承体]
作为在本发明涉及的感光性平版印刷版原版中使用的支承体,可以使用公知的支承体。其中,优选通过公知的方法进行粗面化处理、进行阳极氧化处理后的铝板。
另外,上述铝板可以根据需要适当地选择进行日本特开2001-253181号公报、日本特开2001-322365号公报中记载的阳极氧化皮膜的微孔的扩大处理或封孔处理、以及美国专利第2714066号、美国专利第3181461号、美国专利第3280734号和美国专利第3902734号的各说明书中记载的碱金属硅酸盐或者美国专利第3276868号、美国专利第4153461号和美国专利第4689272号的各说明书中记载的利用聚乙烯基膦酸等的表面亲水化处理。
支承体的中心线平均粗糙度优选为0.10~1.2μm。
本发明的平版印刷版原版中使用的支承体,可以根据需要在背面上设置背涂层,该背涂层含有日本特开平5-45885号公报中记载的有机高分子化合物、日本特开平6-35174号公报中记载的硅的烷氧化合物。
[保护层]
本发明的方法中使用的平版印刷版原版优选在图像记录层上设置保护层(外涂层)。保护层除了具有阻断氧而抑制图像形成阻碍反应的功能以外,还具有防止图像记录层产生损伤,以及在进行高照度激光器曝光时防止烧蚀的功能。
本发明的平版印刷版原版的保护层可以由2层以上形成。例如,保护层可以形成为上部保护层和下部保护层的2层结构。
对于具有这种特性的保护层,例如,记载于美国专利第3458311号说明书和日本特公昭55-49729号公报中。作为可以用于保护层的低氧透过性的聚合物,可以适当地选择使用水溶性聚合物、水难溶性聚合物中的任一种,也可以根据需要将2种以上混合使用。具体而言,例如可以列举聚乙烯基醇、改性聚乙烯基醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物、聚(甲基)丙烯腈等。
作为改性聚乙烯基醇,可以优选使用具有羧基或磺基的酸改性聚乙烯基醇。具体而言,日本特开2005-250216号、日本特开2006-259137号公报中记载的改性聚乙烯基醇是优选的。
保护层可以使用日本特开2012-73597号公报中记载的至少具有下述通式(1)表示的重复单元和下述通式(2)表示的重复单元的亲水性聚合物。
特别优选含有具有下述通式(1)和通式(2)表示的重复单元的亲水性聚合物(以下,也称为特定亲水性聚合物(e))。
[化12]
通式(1)和通式(2)中,R1和R4各自独立地表示氢原子或甲基。R2和R3各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基。R5表示直链、支链或环状的碳原子数2~8的未取代烷基、可以具有芳香环或杂环作为取代基的取代烷基、或下述通式(3)表示的取代基。
需要说明的是,作为能够导入至取代烷基的取代基,可以列举芳香族环基、杂环基以及聚醚基等。
[化13]
在通式(3)中,L表示碳原子数2~6的亚烷基,R6表示直链、支链或环状的碳原子数4~8的未取代烷基或芳香族取代烷基。n为聚醚的平均加成摩尔数,表示2~4的数。
通式(1)表示的重复单元的R2和R3优选均为氢原子。通式(2)表示的重复单元的R5优选为碳原子数2~8的直链、支链或环状的未取代烷基。
作为通式(1)和通式(2)各式所表示的重复单元的组合,最优选通式(1)和通式(2)的R1和R4均为氢原子、通式(1)的R2和R3均为氢原子、通式(2)的R5为碳原子数4的支链并且未取代的烷基这样的组合。
特定亲水性聚合物(e)进一步优选为具有下述通式(4)表示的重复单元的亲水性聚合物。
[化14]
通式(4)中,R7表示氢原子或甲基。X表示单键、选自下述结构组(5)所示结构中的二价的连接基团、或者将选自下述结构组(5)所示结构中的多种组合起来的二价的连接基团。Y表示羧酸基、羧酸盐基、磺酸基、磺酸盐基、磷酸基、磷酸盐基、膦酸基、膦酸盐基、羟基、羧基甜菜碱基、磺基甜菜碱基、铵基或者下述通式(6)表示的聚醚基。
作为通式(4)表示的重复单元,从水溶性和机上显影性的观点考虑,Y优选为磺酸基、磺酸盐基、羧基甜菜碱基、磺基甜菜碱基、铵基,更优选为磺酸基、磺酸盐基和磺基甜菜碱基。
另外,作为X,优选为含有选自下述结构组(5)连接链所示结构中的二价的连接链的任一种的连接基团。
[化15]
[化16]
在通式(6)中,L’表示碳原子数2~3的亚烷基,R8表示氢原子或甲基。n’为聚醚的平均加成摩尔数,其为2~4的数。
作为成为通式(1)表示的重复单元的来源的单体的具体例子,可以列举丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-甲基甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-乙基甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N,N-二乙基甲基丙烯酰胺、N,N-乙基甲基丙烯酰胺、N,N-乙基甲基甲基丙烯酰胺。
作为成为通式(2)表示的重复单元的来源的单体的具体例子,可以列举:丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸壬酯、丙烯酸癸酯、丙烯酸2-(2-乙基己基氧基乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸庚酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸壬酯、甲基丙烯酸癸酯。
通式(1)表示的重复单元优选含有65~96.7摩尔%,更优选含有70~80摩尔%,特别优选含有74~80摩尔%。通式(2)表示的重复单元优选含有3~30摩尔%,更优选含有20~30摩尔%,特别优选含有20~26摩尔%。
作为成为通式(4)表示的重复单元的来源的单体的具体例子,可以列举:2-丙烯酰基氨基-2-甲基-丙烷磺酸、2-丙烯酰基氨基-2-甲基-丙烷磺酸钠、2-丙烯酰基氨基-2-甲基-丙烷磺酸钾、4-((3-甲基丙烯酰胺丙基)二甲基铵基)丁烷-1-磺基盐、4-((3-丙烯酰胺丙基)二甲基铵基)丁烷-1-磺酸盐、乙烯基醇、丙烯酸、甲基丙烯酸、苯乙烯磺酸钠、二乙二醇单甲醚甲基丙烯酸酯、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、氯化甲基丙烯酰基胆碱(メタクリルコリンクロライド)、甲基丙烯酸3-磺基丙基钾、磷酸2-(甲基丙烯酰氧基)乙酯、二甲基-N-甲基丙烯酰氧基乙基-N-羧甲基-铵甜菜碱、乙烯基膦酸等。
特定的亲水性聚合物(e)优选含有0.3摩尔%~5摩尔%的通式(4)表示的重复单元,进一步优选含有0.3~3摩尔%,更优选含有0.3摩尔%~1.5摩尔%。
通过使保护层中使用的本发明的亲水性聚合物以上述优选范围含有通式(4)表示的重复单元,从而本发明中使用的感光性平版印刷版原版可以得到良好的机上显影性、着墨性和耐刷性。
本发明的亲水性聚合物的基于GPC法的以聚苯乙烯换算值计的重均分子量(Mw)优选为10000~200000的范围,更优选为10000~100000的范围,最优选为10000~30000的范围。
以下示出本发明的亲水性聚合物的具体例子。各重复单元的比率以摩尔百分率记载,亲水性聚合物的Mw均为20000。
特定亲水性聚合物(e)在保护层中的含量,优选为保护层固体成分的40质量%以上。更优选为60质量%以上,特别优选为80质量%以上。在该范围内,着墨性更良好,可提供具有更高耐刷性的平版印刷版,并且可以得到机上显影性更优异的平版印刷版原版。
[化17]
另外,为了提高氧阻断性,保护层中优选如日本特开2005-119273号公报中记载而含有的天然云母、合成云母等无机质的层状化合物(也称为无机质层状化合物)。
另外,保护层中还可以含有用于赋予挠性的增塑剂、用于提高涂布性的表面活性剂、控制表面的滑动性的无机微粒、紫外线吸收剂等公知的添添加物。另外,在保护层中还可以含有图像记录层的说明中记载的增感化剂。
另外,与图像记录层的粘接性、耐伤性,在版的操作方面也是极其重要的。即,如果在亲油性的图像记录层上层叠以水溶性聚合物为主成分的亲水性的保护层,则容易因粘接力不足而产生膜剥离,剥离部分因氧的阻聚而产生膜固化不良等缺陷。对此,为了改善这两层间的粘接性,已经提出了多种方案。例如,日本特公昭54-12215号公报、英国专利申请公开第1303578号说明书中记载了,通过在保护层中混合20~60质量%的丙烯酸系乳液或水难溶性乙烯基吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物等,可以得到充分的粘接性。对于本发明中的保护层,也可以应用这些公知的技术。
对于这种保护层的涂布方法,例如,可以通过美国专利第3458311号说明书、日本特开昭55-49729号公报等中记载的公知方法进行涂布。作为保护层的涂布量,以干燥后的涂布量计,优选为0.01~10g/m2的范围,更优选为0.02~3g/m2的范围,最优选为0.02~1g/m2的范围。
如上所述,得到适用于本发明方法的感光性平版印刷版原版。
[制版方法]
本发明的平版印刷版的制版方法,至少包括对平版印刷版原版进行图像曝光的工序(以下,也称为“曝光工序”)、以及利用油性墨液及水性成分中的至少一者进行显影处理的工序(以下,也称为“显影工序”)。
<曝光工序>
本发明中使用的平版印刷版原版优选使用750nm至1400nm波长的光源进行曝光。作为这种光源,放射红外线的固体激光器和半导体激光器是合适的,特别优选通过使用这些红外线激光器进行扫描曝光而进行图像曝光的方法。曝光装置可以是内面鼓方式、外面鼓方式、平面方式等的任一种。
<显影工序>
本发明中使用的平版印刷版原版,优选在图像曝光后安装到印刷机(更具体而言,印刷机转筒)上,并通过油性墨液及水性成分中的至少一种除去图像记录层的未曝光部而进行显影(机上显影)。
机上显影方法,其特征在于,具有对平版印刷版原版进行图像曝光的工序、和不对曝光后的平版印刷版原版进行任何的显影处理而供给油性墨液及水性成分中的至少一种进行印刷的印刷工序,在该印刷工序的过程中除去平版印刷版原版的未曝光部分。图像状的曝光可以在将平版印刷版原版安装在印刷机上之后,在印刷机上进行,也可以用印版记录机另外进行。在后者的情况下,将曝光后的平版印刷版原版在不经显影处理工序的情况下直接安装在印刷机上。然后,使用该印刷机,供给油性墨液及水性成分中的至少一种直接进行印刷,由此在印刷过程的初期阶段进行机上显影处理,即,除去未曝光区域的图像记录层,随之露出亲水性支承体表面,形成非图像部。作为油性墨液和水性成分,可以使用通常的平版印刷用的印刷墨液和润版液。
此处,最初供给至版面的可以是润版液,也可以是印刷墨液,而从防止润版液被所除去的图像记录层成分污染这一方面考虑,最初优选供给印刷墨液。
如此所述,本发明的平版印刷版原版在胶版印刷机上进行机上显影并且可以直接用于大量的印刷。
另外,显影工序也可以在含有表面活性剂的水溶液中利用自动显影机进行显影。该水溶液中可以含有水溶性树脂。
此外,作为由本发明的平版印刷版原版制造平版印刷版的制版工艺,可以根据需要在曝光前、曝光中、曝光起至显影之间对整面进行加热。通过这样的加热,该图像记录层中的图像形成反应得以促进,可产生灵敏度和耐刷性提高、灵敏度稳定化这样的优点。此外,出于提高图像强度、耐刷性的目的,对显影后的图像进行整面后加热或整面曝光也是有效的。通常显影前的加热优选在150℃以下的温和的条件下进行。温度过高时,会产生未曝光部发生固化等问题。显影后的加热使用非常强的条件。通常为100~500℃的范围。温度低时,无法得到充分的图像强化作用,过高的情况下,会产生支承体的劣化、图像部热分解这样的问题。
实施例
以下,通过实施例详细地说明本发明,但本发明并不限定于此。需要说明的是,在高分子化合物中,除了特别规定的情况以外,分子量均为基于GPC法的以聚苯乙烯换算值计的质量平均摩尔质量(Mw),重复单元的比率为摩尔百分率。
[改性纤维素的合成例]
配方:将纤维素10.0g、氢氧化钠1.2g、以及N-乙基吡咯烷酮35.5g加入到具备搅拌装置和冷却管的烧瓶中,将内温设定为90℃。然后,一边注意温度上升,一边滴加丁烷磺内酯4.0g,滴加后在90℃下搅拌12小时进行反应,由此合成下表1中记载的用于实施例1中的改性纤维素。
通过同样的方法,合成在其他例中使用的改性纤维素。
[实施例1~5]
1.平版印刷版原版的制作
(1)支承体的制作
为了除去厚0.3mm的铝板(材质JIS A1050)表面的轧制油,使用10质量%铝酸钠水溶液在50℃下实施30秒脱脂处理后,使用3个毛径(毛径)0.3mm的束状植毛式尼龙刷和中值径25μm的浮石-水悬浮液(比重1.1g/cm3)对铝板表面进行砂目化后,用水进行充分洗涤。将该板在45℃的25质量%氢氧化钠水溶液中浸渍9秒进行蚀刻,水洗后,进一步于60℃在20质量%硝酸中浸渍20秒,进行水洗。这时的砂目化表面的蚀刻量约为3g/cm3
接着,使用60Hz的交流电压连续地进行电化学性粗面化处理。此时的电解液为1质量%硝酸水溶液(含有0.5质量%的铝离子)、液温为50℃。就交流电源波形而言,使用电流值由零达到峰值所需的时间TP为0.8毫秒且duty比为1∶1、具有梯形波形的方波交流电,以碳电极作为对电极进行电化学粗面化处理。辅助阳极应用铁氧体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2,从电源流出的电流的5%被分流至辅助阳极。对于硝酸电解中的电量,铝板为阳极时的电量为175C/dm2。然后,通过喷淋进行水洗。
接着,使用0.5质量%盐酸水溶液(包含0.5质量%铝离子)、液温为50℃的电解液,在铝板为阳极时的电量为50C/dm2的条件下,通过与硝酸电解相同的方法进行电化学粗面化处理,然后,通过喷淋进行水洗。
接着,将15质量%硫酸(包含0.5质量%铝离子)作为电解液、以电流密度15A/dm2在该板上设置2.5g/m2的直流阳极氧化皮膜,然后进行水洗、干燥,制作支承体(1)。
然后,为了确保非图像部的亲水性,使用2.5质量%的3号硅酸钠水溶液在60℃下对支承体(1)实施10秒硅酸盐处理,然后进行水洗,得到支承体(2)。Si的附着量为10mg/m2。使用直径2μm的针测定该基板的中心线平均粗糙度(Ra),结果为0.51μm。
(2)底涂层的形成
接着,在上述支承体(2)上涂布下述底涂层用涂布液(1),使干燥涂布量为20mg/m2,制作具有用于以下实验的底涂层的支承体。
<底涂层用涂布液(1)>
[化18]
(3)图像记录层的形成
通过棒涂法在如上形成的底涂层上涂布下述组成的图像记录层涂布液(1),然后在100℃下进行60秒的烘箱干燥,形成干燥涂布量为1.0g/m2的图像记录层。
图像记录层涂布液(1)是在即将涂布前混合下述感光液(1)和微凝胶液(1)并进行搅拌而得到的。
<感光液(1)>
<微凝胶液(1)>
·微凝胶(1)    2.640g
·蒸馏水       2.425g
上述的粘合剂聚合物(1)、红外线吸收剂(1)、自由基产生剂(1)、鏻化合物(1)、低分子亲水性化合物(1)、含铵基的聚合物、氟系表面活性剂(1)、以及有机硼酸盐(A)的结构如下所示。
[化19]
[化20]
-微凝胶(1)的合成-
<微凝胶的合成>
作为油相成分,将三羟甲基丙烷和二甲苯二异氰酸酯的加成物(三井化学(株)制,TAKENATE D-110N)10g、季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药(株)制,SR444)3.15g、和烷基苯磺酸盐(竹本油脂(株)制,PIONIN A-41C)0.1g溶解于乙酸乙酯17g中。作为水相成分,制备聚乙烯基醇((株)Kuraray制PVA-205)的4重量%水溶液40g。混合油相成分和水相成分,并使用均化器以12000rpm将其乳化10分钟。将所得的乳化物添加到蒸馏水25g中,在室温下搅拌30分钟后,在50℃下搅拌3小时。使用蒸馏水进行稀释,使如此得到的微凝胶液的固体成分浓度为15质量%,将其作为上述微凝胶。通过光散射法测定微凝胶的平均粒径,结果平均粒径为0.2μm。
<保护层的形成>
通过棒涂法在平版印刷版原版的图像记录层上进一步涂布下述组成的保护层涂布液(1),然后在120℃下进行60秒的烘箱干燥,形成干燥涂布量为0.15g/m2的保护层,制作实施例1~5的平版印刷版原版。
<保护层涂布液(1)>
(无机质层状化合物分散液(1)的制备)
向离子交换水193.6g中添加合成云母SOMASIF ME-100(Co-OpChemical(株)制)6.4g,使用均化器将其分散至平均粒径(激光散射法)达到3μm。得到的分散粒子的长径比为100以上。
[比较例1]
使用相同质量的表1中记载的乙基纤维素代替磺酸改性纤维素,除此以外,与实施例1同样制作,得到比较例1的平版印刷版原版。
[比较例2]
将0.30g的磺酸改性纤维素置换为0.30g的上述粘合剂聚合物(1),除此以外,与实施例1同样制作,得到比较例2的平版印刷版原版。
[实施例6~18]
根据实施例1的上述图像记录层的形成中记载的方法,在上述支承体(2)上涂布下述感光液(2),得到具有干燥涂布量为1.0g/m2的图像记录层的实施例6~18的平版印刷版原版。
<感光液(2)>
上述组成中以商品名记载的化合物如下所述。
·IRGACURE 250:(4-甲氧基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘鎓=六氟磷酸盐(75质量%碳酸亚丙酯溶液)
·SR-399:二季戊四醇五丙烯酸酯
·BYK 336:改性二甲基聚硅氧烷共聚物(25质量%二甲苯/甲氧基丙基乙酸酯溶液)
·ELVACITE 4026:高枝化聚甲基丙烯酸甲酯(10质量%2-丁酮溶液)
[化21]
(聚合物微粒水分散液(1)的制造)
在1000ml的四口烧瓶中安装搅拌机、温度计、滴液漏斗、氮气导入管、回流冷凝器,导入氮气进行脱氧,同时加入聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯(PEGMA乙二醇的平均重复单元为50)10g、蒸馏水200g和正丙醇200g,加热至内温达到70℃。接着,经1小时滴加预先混合的苯乙烯(St)10g、丙烯腈(AN)80g和2,2’-偶氮二异丁腈0.8g的混合物。滴加结束后直接持续反应5小时,然后添加2,2’-偶氮二异丁腈0.4g,使内温上升至80℃。接着,经6小时添加0.5g的2,2’-偶氮二异丁腈。在合计进行20小时反应的阶段中,聚合物化进行了98%以上,得到以质量比计PEGMA/St/AN=10/10/80的聚合物微粒水分散液(1)。该聚合物微粒的粒径分布在粒径150nm处具有极大值。
此处,粒径分布是通过拍摄聚合物微粒的电子显微镜照片,在照片上测定总计5000个微粒的粒径,将得到的粒径测定值的最大值到0之间以对数标度分为50份,绘制各粒径的出现频度而求出的。需要说明的是,对于非球形粒子而言,将具有与照片上的粒子面积相同的粒子面积的球形粒子的粒径值作为粒径。
[实施例19、20]
使用表1中记载的磺化多糖类(结构参照下述内容;下述式中,n表示括号内的重复单元的重复数)代替磺酸改性纤维素,除此以外,与实施例6同样制作,分别得到实施例19、20的平版印刷版原版。
[化22]
[比较例3]
使用以固体成分计相同质量的上述ELVACITE 4026代替磺酸改性纤维素,除此以外,与实施例6同样制作,得到比较例3的平版印刷版原版。
[比较例4~7]
使用表1中记载的多糖类代替磺酸改性纤维素,除此以外,与实施例6同样制作,分别得到比较例4~7的平版印刷版原版。
<平版印刷版原版的评价>
(i)机上显影性
利用搭载有红外线半导体激光器的富士胶片(株)制的LuxelPLATESETTER T-6000III,在外面鼓转速1000rpm、激光功率70%、分辨率2400dpi的条件下对得到的平版印刷版原版进行曝光。使曝光图像含有实地图像以及20μm墨点FM加网(FMスクリーン)的50%网点图表。
对于得到的曝光后原版不进行显影处理,将其安装在(株)小森Corporation制印刷机LITHRONE 26的印版滚筒上。使用Ecolity-2(富士胶片(株)制)/自来水=2/98(容量比)的润版液和Space Color Fusion G(N)黑色墨液(DIC graphics(株)制),通过LITHRONE 26的标准自动印刷启动方法供给润版液和墨液,以每小时10000张的印刷速度在100张特菱铜版纸(TOKUBISHI ART)(76.5kg)上进行印刷。
测量图像记录层的未曝光部在印刷机上的机上显影完成、并且达到墨液未转印到非图像部的状态所需的印刷用纸张数,将其作为机上显影性。
(ii)耐刷性
进行上述刚涂布后的机上显影性的评价后,继续进行印刷。随着印刷张数的增加,图像记录层慢慢地磨耗,因此印刷物上的墨液浓度降低。利用Gretag浓度计测量印刷物的FM加网的50%网点的网点面积率,并将所得值比印刷第100页的测量值降低5%时的印刷张数作为最终印刷张数,评价耐刷性。
以上的评价结果示于表1。
[表1]
表1
*TBA+=四丁基铵阳离子
由以上内容可知,使用具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类的实施例1~20,与未使用该多糖类的比较例1~7相比,维持了显影后平版印刷版的耐刷性,并且可以得到良好的机上显影性。
产业上的可利用性
根据本发明,可以提供一种维持了显影后平版印刷版的耐刷性,并且可以得到良好的显影性的平版印刷版原版以及使用其的平版印刷版的制版方法。
虽然参照特定的实施方式对本发明进行了详细地说明,但在不脱离本发明的主旨和范围的情况下可以进行各种各样的变更、修正,这对本领域技术人员来说是显而易见的。
本申请基于2012年09月26日申请的日本专利申请(日本特愿2012-213071),并且其内容作为参考被引入至本申请中。

Claims (5)

1.一种平版印刷版原版,其在支承体上具有图像记录层,所述图像记录层可以通过在图像曝光后在印刷机上供给印刷墨液和润版液中的至少任一种除去未曝光部而形成图像,
所述图像记录层含有红外线吸收剂、聚合引发剂、聚合性化合物以及具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,所述具有由磺酸基或其盐形成的基团的多糖类具有下述通式(A)表示的结构,
-O-L-SO3 -X+  通式(A)
其中,L表示亚乙基或亚丙基,X+表示氢离子、碱金属离子或铵离子。
3.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,所述多糖类为具有由磺酸基或其盐形成的基团的纤维素。
4.根据权利要求2所述的平版印刷版原版,多糖类为具有下述通式(1)表示的重复单元的、具有由磺酸基或其盐形成的基团的纤维素,
通式1
在此,R各自独立地表示氢原子、烷基、羟基烷基、羧基烷基、或-L-SO3 -X+,n表示2以上的整数,L和X+分别与所述通式(A)中的L和X+同义,
并且,所述通式(1)表示的重复单元的3个R中,表示-L-SO3 -X+的R的个数、即取代度为0.3~2.5。
5.一种平版印刷版的制版方法,通过将权利要求1~4中任一项所述的平版印刷版原版进行图像状曝光后安装于印刷机,并且供给印刷墨液和润版液中的至少任一种的方法进行机上显影处理,或者通过将权利要求1~4中任一项所述的平版印刷版原版安装于印刷机后进行图像状曝光后,供给印刷墨液和润版液中的至少任一种的方法进行机上显影处理。
CN201380050337.7A 2012-09-26 2013-08-19 平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法 Expired - Fee Related CN104684735B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012213071 2012-09-26
JP2012-213071 2012-09-26
PCT/JP2013/072112 WO2014050359A1 (ja) 2012-09-26 2013-08-19 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104684735A true CN104684735A (zh) 2015-06-03
CN104684735B CN104684735B (zh) 2017-05-03

Family

ID=50387770

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380050337.7A Expired - Fee Related CN104684735B (zh) 2012-09-26 2013-08-19 平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9535323B2 (zh)
EP (1) EP2902214B1 (zh)
JP (1) JP5786099B2 (zh)
CN (1) CN104684735B (zh)
BR (1) BR112015006131A2 (zh)
WO (1) WO2014050359A1 (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107921807A (zh) * 2015-07-30 2018-04-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及有机‑无机杂化粒子
CN110563853A (zh) * 2019-09-12 2019-12-13 山东大学 一种磺酸纤维素纳米晶及其制备方法和应用
CN110678335A (zh) * 2017-05-31 2020-01-10 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、聚合物粒子及组合物
CN111103759A (zh) * 2018-10-26 2020-05-05 乐凯华光印刷科技有限公司 一种低化学处理热敏版及其制备方法
CN111683820A (zh) * 2018-01-31 2020-09-18 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
CN112512828A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112930266A (zh) * 2018-10-31 2021-06-08 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN113382870A (zh) * 2019-01-31 2021-09-10 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN113474177A (zh) * 2019-01-31 2021-10-01 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114051459A (zh) * 2019-06-28 2022-02-15 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160259243A1 (en) * 2015-03-03 2016-09-08 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
EP3991987A4 (en) * 2019-06-28 2022-09-14 FUJIFILM Corporation PRECURSOR OF A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE WITH PRINTING DEVELOPMENT, METHOD OF MAKING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01227141A (ja) * 1988-02-26 1989-09-11 Hercules Inc 光重合可能な組成物
JPH02294646A (ja) * 1989-05-10 1990-12-05 Mitsubishi Kasei Corp 感光性平版印刷版
JPH11174667A (ja) * 1997-12-09 1999-07-02 Asahi Chem Ind Co Ltd 光重合性樹脂組成物及び積層体
US20060257783A1 (en) * 2005-05-10 2006-11-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
CN1972803A (zh) * 2004-06-17 2007-05-30 伊斯曼柯达公司 具有抗溶剂的聚合粘合剂的可成像元件

Family Cites Families (107)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (zh) 1950-12-06
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
BE606888A (zh) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
ZA6807938B (zh) 1967-12-04
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2347784C3 (de) 1972-09-27 1978-11-23 E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. (V.St.A.) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
JPS5549729B2 (zh) 1973-02-07 1980-12-13
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH01303578A (ja) 1988-06-01 1989-12-07 Toshiba Corp 画像変換装置
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2988756B2 (ja) 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH05158230A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
WO1994017452A1 (en) 1993-01-20 1994-08-04 Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
DE69623140T2 (de) 1995-10-24 2003-03-27 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindender Entwicklung
DE69517174T2 (de) 1995-10-24 2000-11-09 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09227601A (ja) 1996-02-23 1997-09-02 Shin Etsu Chem Co Ltd スルホン酸基含有セルロース誘導体の製造法
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3839552B2 (ja) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
DE69812871T2 (de) 1998-01-23 2004-02-26 Agfa-Gevaert Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4092055B2 (ja) 2000-02-09 2008-05-28 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP3449342B2 (ja) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP4319363B2 (ja) 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP4414607B2 (ja) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 ラジカル重合性化合物
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP3989270B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 光重合性組成物
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP4299032B2 (ja) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
US7183038B2 (en) 2003-07-22 2007-02-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4815113B2 (ja) 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4351933B2 (ja) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4460986B2 (ja) 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5172097B2 (ja) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4393408B2 (ja) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP4905770B2 (ja) * 2005-05-10 2012-03-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び該原版を用いた平版印刷版の作製方法
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5170960B2 (ja) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷方法
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5238170B2 (ja) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007249036A (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP4796890B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4826918B2 (ja) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 光重合性組成物
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
JP5376844B2 (ja) 2007-06-21 2013-12-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
EP2006091B1 (en) * 2007-06-22 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2383118B1 (en) 2010-04-30 2013-10-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
JP5572576B2 (ja) 2010-04-30 2014-08-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2610067B1 (en) 2010-08-27 2014-11-26 FUJIFILM Corporation Master planographic printing plate for on-press development, and plate-making method using said master planographic printing plate
JP5789448B2 (ja) 2010-08-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01227141A (ja) * 1988-02-26 1989-09-11 Hercules Inc 光重合可能な組成物
JPH02294646A (ja) * 1989-05-10 1990-12-05 Mitsubishi Kasei Corp 感光性平版印刷版
JPH11174667A (ja) * 1997-12-09 1999-07-02 Asahi Chem Ind Co Ltd 光重合性樹脂組成物及び積層体
CN1972803A (zh) * 2004-06-17 2007-05-30 伊斯曼柯达公司 具有抗溶剂的聚合粘合剂的可成像元件
US20060257783A1 (en) * 2005-05-10 2006-11-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107921807A (zh) * 2015-07-30 2018-04-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及有机‑无机杂化粒子
CN110678335B (zh) * 2017-05-31 2021-11-16 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、聚合物粒子及组合物
US11590751B2 (en) 2017-05-31 2023-02-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, polymer particle, and composition
CN110678335A (zh) * 2017-05-31 2020-01-10 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、聚合物粒子及组合物
CN111683820A (zh) * 2018-01-31 2020-09-18 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
CN111683820B (zh) * 2018-01-31 2022-06-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
CN112512828B (zh) * 2018-07-30 2022-12-27 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512828A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN111103759A (zh) * 2018-10-26 2020-05-05 乐凯华光印刷科技有限公司 一种低化学处理热敏版及其制备方法
CN111103759B (zh) * 2018-10-26 2023-06-06 乐凯华光印刷科技有限公司 一种低化学处理热敏版及其制备方法
CN112930266A (zh) * 2018-10-31 2021-06-08 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112930266B (zh) * 2018-10-31 2023-02-28 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN113382870A (zh) * 2019-01-31 2021-09-10 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN113474177A (zh) * 2019-01-31 2021-10-01 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
US11635701B2 (en) 2019-01-31 2023-04-25 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor, method of preparing planographic printing plate, and planographic printing method
CN113474177B (zh) * 2019-01-31 2023-09-19 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN113382870B (zh) * 2019-01-31 2023-10-31 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114051459A (zh) * 2019-06-28 2022-02-15 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN110563853A (zh) * 2019-09-12 2019-12-13 山东大学 一种磺酸纤维素纳米晶及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP5786099B2 (ja) 2015-09-30
JPWO2014050359A1 (ja) 2016-08-22
US20150198878A1 (en) 2015-07-16
WO2014050359A1 (ja) 2014-04-03
CN104684735B (zh) 2017-05-03
US20170017157A1 (en) 2017-01-19
BR112015006131A2 (pt) 2019-11-19
EP2902214B1 (en) 2017-09-27
EP2902214A1 (en) 2015-08-05
US9535323B2 (en) 2017-01-03
US10048588B2 (en) 2018-08-14
EP2902214A4 (en) 2016-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104684735A (zh) 平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法
CN104703809B (zh) 平版印刷版原版及制版方法
CN102529310B (zh) 平版印刷版原版和平版印刷方法
CN106661338B (zh) 显色组合物、平版印刷版原版、平版印刷版的制版方法及显色剂
CN103282211B (zh) 平版印刷版原版和平版印刷方法
JP5690645B2 (ja) 平版印刷版原版、その製版方法、及び、新規高分子化合物。
CN102442049B (zh) 平版印刷版原版及其制版方法
BR112019017946B1 (pt) Método para produção de uma chapa de impressão litográfica do tipo revelação em máquina
CN103430096A (zh) 平版印刷版原版、其制版方法以及多价异氰酸酯化合物
CN104619512A (zh) 平版印刷版原版及制版方法
CN103068583B (zh) 机上显影型平版印刷版原版和使用该原版的制版方法
CN105190436A (zh) 红外线感光性显色组合物、红外线固化性显色组合物、平版印刷版原版和制版方法
CN102653158B (zh) 平版印刷版原版及其制版方法
CN103358749B (zh) 平版印刷版原版
JP5448882B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2012211938A (ja) 重合性組成物及び平版印刷版原版
CN104159976B (zh) 发色性组合物、发色性固化组合物、平版印刷版原版及制版方法、以及发色性化合物
JP2011245846A (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
CN103415808B (zh) 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法
JP5439282B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
CN102378696A (zh) 平版印刷版原版
JP2012088695A (ja) 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法
JP2011213113A (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
CN110366567A (zh) 固化性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170503

Termination date: 20200819