BR112016007982B1

BR112016007982B1 - Revestidor rotativo

Info

Publication number: BR112016007982B1
Application number: BR112016007982-5A
Authority: BR
Inventors: Jerry L. Koenig Ii; Willard Beamer; Lex Eric Pace
Original assignee: Transitions Optical, Inc
Priority date: 2013-10-11
Filing date: 2014-10-03
Publication date: 2022-05-10
Also published as: BR112016007982A2; EP3055370A1; TW201527510A; CN105637416A; KR20160068907A; BR112016007978A2; EP3055123A2; JP2016540625A; KR101871611B1; CA2925594A1; CA2925536A1; NZ718864A; CA2925594C; ZA201602068B; BR112016007979A2; CA2925541A1; KR20160068906A; WO2015054041A3; WO2015054041A2; AU2014332287A1

Abstract

revestidor rotativo. é descrito um revestidor rotativo que pode ser usado para aplicação de composições de revestimento múltiplas sobre um substrato óptico. o revestidor rotativo inclui um recipiente de revestidor configurado para coletar excesso de material de revestimento expelido de um substrato óptico que estiver sendo revestido, um mandril giratório configurado para receber e girar o substrato óptico no recipiente durante o revestimento, uma pluralidade de reservatórios de revestimento, cada qual contendo um material de revestimento, e uma plataforma de reservatório de revestimento indexável contendo a pluralidade de reservatórios e configurada para indexar um reservatório selecionado em uma posição dispensadora acima do recipiente do revestidor. o revestidor rotativo pode incluir ou ter a ele associada pelo menos uma estação de cura, em que cada estação de cura é independentemente configurada para curar pelo menos parcialmente pelo menos um material de revestimento aplicado. cada estação de cura pode incluir pelo menos uma de uma estação de cura térmica, estação de cura por uv, e/ou uma estação de cura por ir.

Description

Campo técnico

[0001] A presente invenção refere-se a revestidores rotativos, como um revestidor rotativo que possui pelo menos uma estação ou linha de cura integrada para aplicar revestimentos múltiplos a um substrato óptico, em uma sequência que é selecionada de uma pluralidade de sequências possíveis.

Histórico da Invenção

[0002] Processos de revestimento por rotação e máquinas de revestimento por rotação associadas, geralmente denominadas, revestidores rotativos, são tipicamente usados para fornecer um revestimento uniforme sobre um substrato. Processos de revestimento por rotação são usados para formar substratos revestidos, como lentes, inclusive lentes ópticas.

[0003] Os revestidores rotativos existentes são tipicamente usados em uma linha de produção para aplicação de um tipo ou classe simples de material de revestimento, sendo seguidos frequentemente na linha de produção por uma estação de cura pré-configurada, como um forno de cura térmica ou uma estação de cura por UV, ou uma estação de cura por IR. O tipo e as configurações associados com a estação de cura depende do tipo de material de revestimento que é aplicado na estação de revestimento por rotação. Isso resulta na dificuldade em alternar rapidamente a linha de produção para a aplicação de materiais de revestimento diferentes, tais como substratos e/ou produtos finais diferentes, já que geralmente o reservatório de material de revestimento e o conjunto de bocal dispensador devem ser purgados e limpos para acomodar a troca do material de revestimento. Outra dificuldade encontrada refere-se à estação de cura, que pode não ser apropriada para curar outras composições de revestimento.

[0004] Seria desejável desenvolver novos conjuntos de revestimento por rotação que pudessem acomodar composições de revestimento diferentes. Seria também desejável que esses conjuntos de revestimento por rotação recentemente desenvolvidos pudessem acomodar uma pluralidade de composições de revestimento diferentes.

Sumário da Invenção

[0005] De acordo com a presente invenção, é provido um revestidor rotativo que compreende: (a) um recipiente de revestidor configurado para coletar excesso de material de revestimento expelido de um substrato óptico que estiver sendo revestido; (b) um mandril giratório configurado para receber o substrato óptico dentro do recipiente do revestidor e configurado para girar o substrato óptico durante revestimento; (c) uma pluralidade de reservatórios de revestimento, na qual cada reservatório contém uma composição de revestimento (de material) para revestir seletivamente o substrato óptico; e (d) uma plataforma de reservatório de revestimento indexável contendo a pluralidade de reservatórios de revestimento, que é configurada para indexar um reservatório de revestimento selecionado em uma posição dispensadora acima do recipiente do revestidor. O revestidor rotativo pode, com algumas modalidades, ser usado com o substrato óptico.

[0006] De acordo com a presente invenção, é adicionalmente provido um revestidor rotativo que compreende: (a) um recipiente de revestidor configurado para coletar excesso de material de revestimento expelido de um substrato óptico que estiver sendo revestido; (b) um mandril giratório configurado para receber o substrato óptico dentro do recipiente do revestidor e que é configurado para girar o substrato óptico durante revestimento; (c) pelo menos um reservatório de revestidor, em que cada reservatório contém uma composição (ou material) de revestimento para seletivamente revestir o substrato óptico; e (d) cada reservatório de revestimento inclui um barril alongado contendo um pistão móvel para dispensar uma composição de revestimento do reservatório de revestimento. Com algumas modalidades, cada reservatório de revestimento dispensa uma composição de revestimento através de um orifício dispensador desprovido de válvula, posicionado na extremidade distal do barril.

[0007] De acordo com a presente invenção, é adicionalmente provido um revestidor rotativo que compreende: (a) recipiente de revestidor configurado para coletar excesso de material de revestimento expelido de um substrato óptico que estiver sendo revestido; (b) um mandril giratório configurado para receber o substrato óptico dentro do recipiente do revestidor e que é configurado para girar o substrato óptico durante revestimento; (c) uma pluralidade de reservatórios de revestimento, na qual cada reservatório contém uma composição de revestimento (de material) para revestir seletivamente o substrato óptico; e (d) pelo menos uma estação de cura distinta, em que cada estação de cura distinta é independentemente configurada para seletivamente e pelo menos parcialmente curar pelo menos uma composição de revestimento aplicada ao substrato óptico. Com algumas modalidades, cada estação de cura distinta independentemente inclui pelo menos um de: (i) uma estação de cura térmica; (ii) uma estação de cura por UV; (iii) uma estação de cura por IR; e (iv) combinações de pelo menos dois de (i) a (iv).

[0008] Os atributos que caracterizam a presente invenção são apontados com particularidade nas reivindicações, que são anexadas a e fazem parte da presente revelação. Essas e outras características da invenção, suas vantagens operacionais e os objetos específicos obtidos com seu uso são entendidos de forma mais completa a partir da descrição detalhada a seguir, onde modalidades não restritivas da invenção são ilustradas e descritas.

Breve descrição dos desenhos

[0009] A Figura 1 é uma vista em perspectiva representativa de um revestidor rotativo de acordo com algumas modalidades do método da presente invenção.

[0010] A Figura 2 é uma vista plana esquemática representativa de uma modalidade modificada do revestidor rotativo da Figura 1;

[0011] A Figura 3 é uma vista em corte representativa de uma estação de lavagem/secagem do revestidor rotativo da Figura 1;

[0012] A Figura 4 é uma vista em corte representativa de uma plataforma de reservatório de revestimento indexável contendo uma pluralidade de reservatórios de revestimento e uma unidade dispensadora do revestidor rotativo da Figura 1;

[0013] A Figura 5 é vista em corte representativa de reservatório de revestimento do revestidor rotativo da Figura 1; e

[0014] A Figura 6 é uma vista em corte representativa de uma estação de cura do revestidor rotativo da Figura 1;

[0015] Os números similares nas Figuras 1-6 referem-se aos mesmos componentes e elementos, conforme o caso, salvo se definido de outra forma.

[0016]

Descrição detalhada da Invenção

[0017] Os termos “óptico”, “opticamente límpido” e termos similares, como usados na presente invenção, significam que o material especificado (como um substrato, filme, revestimento, etc) exibem um valor de transmissão de luz (transmite luz incidente) de ao menos 4 por cento, e exibe um valor de opacidade inferior a 0,5 por cento) quando medido a 550 nanômetros, por exemplo, com um instrumento Haze Gard Plus.

[0018] Conforme usado na presente invenção, o termo “oftálmico” significa pertinente a ou associado ao olho e visão. Conforme usado na presente invenção, o termo “substrato oftálmico” significa um substrato, tal como uma lente, que é oftálmica. Conforme aqui utilizado, o termo “lente” e “lentes” significa e abrange, pelo menos, lentes individuais, pares de lente, lentes parcialmente formadas (ou semiacabadas), lentes completamente formadas (ou acabadas), e lentes em bruto. Exemplos de substratos oftálmicos, artigos ou elementos incluem, embora não se restrinjam a lentes corretivas e não corretivas, inclusive lentes monofocais ou multifocais, que podem ser lentes multifocais sementadas ou não segmentadas (tal como, embora não restritas a lentes bifocais, lentes trifocais, e lentes progressivas), bem como outros elementos usados para corrigir, proteger ou melhorar (cosmeticamente ou de outra forma) a visão, inclusive, embora sem restrição, lentes de contato, lentes intraoculares, lentes de aumento, lentes protetoras, visores protetores, e anteparos protetores.

[0019] Conforme aqui utilizado, o termo “transparente”, como usado em relação a um substrato, filme, material e/ou revestimento, significa que o substrato indicado (tal como revestimento, filme e/ou material) tem a propriedade de transmitir luz sem disseminação apreciável, de modo que os objetos situados mais além sejam visivelmente observáveis.

[0020] Conforme aqui utilizado, o termo “revestimento” significa um filme suportado derivado de uma composição de revestimento escoável que pode opcionalmente ter uma espessura uniforme, e que especificamente exclui folhas poliméricas. Em contrapartida, como usado na presente invenção, o termo “folha” significa um filme pré-formado que tem uma espessura geralmente uniforme e que é capaz de autossuporte. Uma folha tem duas superfícies opostas, na qual pelo menos uma superfície da mesma pode ter sobre ela dispostas uma ou mais camadas (inclusive as camadas de revestimento). Como usado na presente invenção, os termos “camada” e “filme” abrangem, cada um, os dois revestimentos (tal como uma camada de revestimento ou um filme de revestimento) e folhas e uma camada pode incluir uma combinação de camadas separadas, inclusive subcamadas e/ou sobrecamadas. De acordo com algumas modalidades, e como usado na presente invenção, o termo “revestimento” significa, no contexto apropriado, o processo de aplicar uma composição de revestimento (ou material) ao substrato para formar um revestimento (ou camada de revestimento).

[0021] Como usado na presente invenção, os termos “cura/curar” “curado” e termos relacionados, significam que pelo menos uma porção dos componentes polimerizáveis e/ou reticuláveis que formam uma composição curável são, pelo menos parcialmente, polimerizados e/ou reticulados. De acordo com algumas modalidades, o grau de reticulação pode variar de 5% a 100% de reticulação completa. De acordo com algumas outras modalidades, o grau de reticulação pode variar de 30% a 95%, tal como de 35% a 95%, ou de 50% a 95%, ou de 50% a 85% de reticulação completa. O grau de reticulação pode variar entre qualquer combinação dos valores mínimos e máximos citados, inclusive os valores citados.

[0022] Como usado na presente invenção, os artigos “um/uma” e “o/a” incluem referentes no plural, salvo se inequívoca e expressamente restritos a um único referente.

[0023] Salvo indicação em contrário, todas as faixas e relações aqui descritas devem ser entendidas como abrangendo todas e quaisquer subfaixas ou subrrelações nelas incluídas. Por exemplo, uma faixa ou relação citada de “1 a 10” deve ser considerada como incluindo todas e quaisquer subfaixas entre (e inclusive) o valor mínimo de 1 e o valor máximo de 10; ou seja, todas as subfaixas ou relações/razões que iniciem com um valor mínimo de 1 ou mais e que terminem com um valor máximo de 10 ou menos, tal como, embora não restritas a 1 a 6,1, 3,5 a 7,8 e 5,5 a 10.

[0024] Salvo indicação em contrário, todos os números que expressam dimensões, propriedades físicas, e assim por diante, usados no relatório e reivindicações, devem ser entendidos como modificados em todos os casos pelo termo “cerca de”.

[0025] Como usado na presente invenção, o termo “sem válvula” significa isento de válvula (que não inclui uma válvula).

[0026] Como usado na presente invenção, o revestidor rotativo que pode ser usado em conjunto com algumas modalidades do método da presente invenção é também designado como um revestidor rotativo flexível para finalidades que incluem, embora não se restrinjam a indicar a flexibilidade que o revestidor rotativo pode proporcionar em relação a aplicar uma pluralidade de composições de revestimento em uma sequência que pode ser selecionada de uma pluralidade de sequências de aplicação de revestimento.

[0027] Como usado na presente invenção, o termo “IR” significa infravermelho, como radiação infravermelha.

[0028] Como usado na presente invenção, o termo “UV” significa ultravioleta, como radiação ultravioleta.

[0029] As várias modalidades e exemplos da presente invenção, como apresentados na presente invenção, devem ser entendidos como ilustrativos e não restritivos da presente invenção com respeito ao seu escopo.

[0030] Com referência não restritiva aos desenhos, a Figura 1 é uma vista em perspectiva representativa de um revestidor rotativo flexível 10 que inclui, ou tem a ele associado, estações de cura integradas, para seletivamente aplicar revestimentos múltiplos a um substrato óptico, de acordo com algumas modalidades da presente invenção. Com referência à Figura 2, é ilustrada uma vista plana esquemática representativa de uma modalidade modificada do revestidor rotativo 10 da Figura 1.

[0031] O revestidor rotativo flexível 10, como descrito na presente invenção e de acordo com algumas modalidades, provê uma máquina de revestimento rotativo de baixo custo e em pequena escala (tal como, produzindo até 100 substratos ópticos revestidos por hora) que pode incluir uma estação de pré-tratamento de superfície (tal como, embora não restrita a uma estação de pré-tratamento por plasma) que limpa, reveste (utilizando um ou mais dos revestimentos múltiplos e combinações de revestimentos) e que utiliza um ou mais de vários métodos de cura diferentes (tais como aparelhos de cura por UV, IR e/ou por cura térmica) ou suas combinações. O revestidor rotativo da presente invenção pode, com algumas modalidades, ser operado com a formação de correntes de resíduo e/ou materiais de resíduo mínimos.

[0032] O revestidor rotativo usado da presente invenção pode ter quaisquer dimensões adequadas, que podem, com algumas modalidades, ser apropriadamente adaptadas ao espaço, tal como um recinto, no qual o revestidor rotativo é instalado para operação. Com algumas modalidades, o revestidor rotativo, incluindo um compartimento, um painel de controle e um filtro (como um filtro de ar particulado de alta eficiência ou filtro HEPA) tem uma largura de 0,76 metro (m) a 1,52 m (2,5 a 5 pés) ou de 0,91m a 1,37m (3 a 4,5 pés); um comprimento de 0,91 m a 3,66 m (3 a 12 pés) ou de 0,91 m a 3,05 m (3 a 10 pés0, ou de 1,22 m a 2,13 m (4 a 7 pés); e uma altura de3 1,83 a 3,05 m (6 a 10 pés) ou de 2,13 m a 2,74 m (7 a 9 pés).

[0033] O revestidor rotativo flexível 10 pode, com algumas modalidades, ser usado para revestir uma variedade de substratos, tais como, e embora não restritos a substratos ópticos. Exemplos de substratos ópticos que podem ser revestidos com o revestidor rotativo da presente invenção incluem, embora não se restrinjam a lentes plano, lentes de grau, que, em cada caso, pode ser lentes acabadas, lentes não acabadas, ou lentes em bruto. De acordo com algumas outras modalidades, as lentes revestidas com o método da presente invenção possuem um diâmetro de 50-85 mm com curvaturas posteriores variadas (tal como de ^ base até base 10) . Para referência, uma lente acabada é uma lente que tem a superfície frontal e traseira da lente formada (geralmente através de esmerilhamento e polimento) até atingir o contorno desejado, ao passo que uma lente semiacabada terá apenas uma superfície acabada (por exemplo, topo ou frontal). Tanto as lentes acabadas como as não acabadas passam por processamento adicional, tal como revestimento com material fotocrômico, revestimentos rígidos, camadas corantes/matizantes, camadas planarizantes (geralmente classificadas como camadas de revestimento que proporcionam propriedades ópticas, estéticas ou protetoras), bem como bordeamento para ajustar o formato desejado ou outro processamento para acoplamento a uma armação ou estrutura de suporte.

[0034] O substrato óptico que é pré-tratado e revestido com o método da presente invenção pode, com algumas modalidades, ser formado de e correspondentemente incluir materiais orgânicos, materiais inorgânicos, ou combinações dos mesmos (por exemplo, materiais compósito).

[0035] Exemplos de materiais orgânicos que podem ser usados como substratos ópticos, de acordo com várias modalidades da presente invenção, incluem materiais poliméricos, tais como homopolímeros e copolímeros, preparados com monômeros e misturas de monômeros revelados na patente americana No. 5.962.617 e patente americana No. 5.658.501 da coluna 15, linha 28 à coluna 16, linha 17. Por exemplo, tais materiais poliméricos podem ser materiais termoplásticos ou termofixos, podem ser transparentes ou opticamente claros, e podem ter qualquer índice de refração exigido. Exemplos desses monômeros e polímeros incluem: monômeros de poliol(alil carbonato), por exemplo, carbonatos de alil diglicol, como dietileno glicol bis(alil carbonato), monômero este que é comercializado sob a marca CR-39 pela PPG Industries, Inc; polímeros de poliureia-poliuretano (poliureia-uretano) que são preparados, por exemplo, mediante reação de um pré- polímero de poliuretano e um agente de cura de diamina, uma composição para um tal polímero vendido sob a marca TRIVEX pela PPG Industries, Inc.; monômero de carbonato com terminação poliol(met)acriloíla; monômeros de dimetacrilato de dietileno glicol; monômeros de metacrilato de fenol etoxilado; monômeros de diisopropenil benzeno; monômeros de triacilato de trimetilol propano etoxilado; monômeros de bismetacrilato de etileno glicol; monômeros de bismetacrilato de poli(etileno glicol); monômeros de acrilato de uretano; poli(dimetacrilato de bisfenol A etoxilado); poli(acetato de vinila); poli(álcool vinílico); poli(cloreto de vinila); poli(cloreto de vinilideno); polietileno; polipropileno; poliuretanos; politiouretanos; policarbonatos termoplásticos, como a resina de ligada a carbonato derivada de bisfenol A e fosgênio, um desse material comercializado sob a marca LEXA; poliésteres, como o material comercializado sob a marca MYLAR; poli(tereftalato de etileno); polivinil butiral; poli(metacrilato de metila), como o material comercializado sob a marca PLEXIGAS, e polímeros preparados reagindo-se isocianatos polifuncionais com politióis ou monômeros de poliepiussulfeto, homopolimerizados ou co- e/ou terpolimerizados com politióis, poliisocianatos, poliisotiocianatos, e monômeros opcional e etilenicamente insaturados ou monômeros de vinila contendo aromático halogenado. São também previstos copolímeros de tais monômeros e misturas dos polímeros e copolímeros descritos com outros polímeros, por exemplo, para formar copolímeros em bloco ou produtos reticulados interpenetrantes.

[0036] Com algumas modalidades da presente invenção, o substrato óptico pode ser um substrato oftálmico. Exemplos de materiais orgânicos apropriados para uso na formação de substratos oftálmicos incluem polímeros reconhecidos no estado da técnica que são úteis como substratos oftálmicos, como resinas ópticas orgânicas que são usadas no preparo de moldes opticamente límpidos para aplicações ópticas, como lentes oftálmicas.

[0037] Exemplos de materiais inorgânicos que podem ser usados como substratos ópticos com algumas modalidades da presente invenção incluem vidros, minerais, cerâmicas e metais. Com algumas modalidades, o substrato óptico pode incluir vidro. Em outras modalidades, o substrato óptico pode ter uma superfície refletiva, por exemplo, um substrato cerâmico polido, substrato metálico ou substrato mineral. Em outras modalidades, um revestimento ou camada refletivo(a) (por exemplo, uma camada metálica, como uma camada de prata) pode ser depositada ou de outra forma aplicada a uma superfície de um substrato inorgânico ou orgânico para torná- la refletiva ou para aumentar sua refletividade.

[0038] Substratos ópticos que podem ser usados com o método, de acordo com algumas modalidades da presente invenção, podem também incluir substratos não coloridos, coloridos, linearmente polarizantes, circularmente polarizantes, elipticamente polarizantes, fotocrômicos, ou coloridos-fotocrômicos. Conforme utilizado com referência a substratos ópticos, o termo “não colorido” significa substratos ópticos que são essencialmente livres de adições de agente colorantes (tais como corantes) e que possuem um espectro de absorção para radiação visível que varia substancialmente em resposta à radiação actínica. Além disso, com referência a substratos ópticos, o termo “colorido” significa substratos que possuem uma adição de agente corante (como corantes convencionais) e um espectro de absorção para radiação visível que não varia significativamente em resposta à radiação actínica.

[0039] Como usado na presente invenção, o termo “circularmente polarizante” com referência a substratos ópticos, refere-se a substratos ópticos que são adaptados para polarizar circularmente a radiação eletromagnética. Como usado na presente invenção, o termo “elipticamente polarizante” com referência a substratos ópticos refere-se a substratos ópticos que são adaptados para elipticamente polarizar a radiação eletromagnética. Além disso, conforme aqui utilizado, com referência a substratos ópticos, o termo “fotocrômico-colorido” significa substratos ópticos contendo uma adição de agente corante, bem como um material fotocrômico e que tem um espectro de absorção para radiação visível que varia em resposta à radiação pelo menos actínica. Assim, por exemplo, um substrato colorido-fotocrômico pode ter uma primeira característica de cor do agente corante e uma segunda característica de cor da combinação do agente corante e do material fotocrômico, quando exposto à radiação actínica.

[0040] Com algumas modalidades, uma etapa inicial no uso do revestidor rotativo 10, de acordo com algumas modalidades da presente invenção, envolve carregar (vide referência ou etapa 12 da Figura 2) os substratos ópticos em uma câmara de tratamento de superfície, como uma câmara de plasma 14. O tratamento de superfície por plasma conduzido dentro da câmara 14 pode ser selecionado de um ou mais métodos de tratamento de superfície por plasma reconhecido no estado da técnica incluindo, embora não restritos a, tratamento corona, tratamento por plasma atmosférico, tratamento por pressão atmosférica, tratamento por plasma e chama e/ou tratamento químico por plasma. Com algumas modalidades, o tratamento de superfície conduzido em câmara 14 é um tratamento por plasma de oxigênio. A etapa de carga 12 permite que um operador inspecione visualmente os substratos ópticos (ou lentes) quanto a defeitos ou danos antes que o processo seja iniciado. Se for visualizada alguma sujidade, o operador poderá limpar as lentes manualmente antes da colocação na câmara de plasma 14, onde serão submetidas a tratamento por plasma. A etapa de limpeza manual pode, com algumas modalidades, ser conduzida com ar deionizado. Com algumas modalidades alternativas, o operar pode limpar as lentes, conforme necessário, com um de vários agentes de limpeza, como álcool (tal como isopropanol), ou isopropanol aquoso, ou um detergente aquoso.

[0041] O processo de tratamento de superfície envolve, com algumas modalidades, tratar a superfície do substrato óptico para promover umedecimento e melhorar a adesão de um revestimento que será posteriormente aplicado a e formado sobre a mesma. A câmara 14, com algumas modalidades, inclui uma série de suportes de substrato óptico engatados à borda para permitir tratamento máximo de superfície dos substratos ópticos na câmara 14. A câmara 14, com algumas modalidades, é operada sob condições de atmosfera reduzida, e correspondentemente o tratamento de superfície é conduzido como uma operação de processo em batelada na câmara 14.

[0042] Tratamentos por plasma, incluindo tratamentos corona, fornecem um método limpo e eficiente de alterar as propriedades de superfície do substrato óptico, tal como aumentar a aspereza e/ou alterar quimicamente uma ou mais superfícies da mesma, sem alterar as propriedades volumétricas do substrato óptico. Com algumas modalidades, um ou mais gases inertes (tais como, embora não restritos a argônio e/ou nitrogênio) e/ou um ou mais gases reativos (tal como, embora não restritos a oxigênio, CO e/ou CO2) podem ser usados como o gás na câmara 14 do qual o plasma é formado. Gases inertes, com algumas modalidades, tornam áspera a superfície de substratos ópticos. Gases reativos, como oxigênio, com algumas modalidades, podem tanto tornar áspera como quimicamente alterar a superfície exposta ao plasma, por exemplo, formando grupos hidroxila e/ou carboxila sobre a superfície tratada.

[0043] Com algumas modalidades, o uso de oxigênio no processo de tratamento de superfície por plasma pode fornecer um grau eficaz de aspereza física e modificação química da superfície do substrato óptico, que pode melhorar a adesão sem afetar desfavoravelmente outras propriedades, como propriedades óticas, do substrato óptico. Ar atmosférico pode também ser usado para formar o gás de plasma, e, com algumas modalidades, é um gás reativo. A extensão da aspereza superficial e/ou modificação química é, com algumas modalidades, uma função do gás de plasma e das condições operacionais da câmara 14, incluindo o período de tempo do tratamento de superfície. Com algumas modalidades, os substratos ópticos são expostos a um tratamento de superfície por plasma durante 1 a 5 minutos, tal como na câmara 14, que resulta na formação de substratos ópticos com tratamento de superfície que são adicionalmente processados em um revestidor rotativo 10. O tratamento de superfície dos substratos ópticos na câmara 14 pode também remover contaminantes estranhos presentes na superfície dos mesmos. A presença de certos contaminantes de superfície pode, com algumas modalidades, indesejavelmente reduzir a energia superficial da superfície do substrato óptico. Uma alta energia superficial, que pode ocorrer após remoção dos contaminantes de superfície, promove o umedecimento do revestimento, com algumas modalidades.

[0044] Após o tratamento de superfície por plasma na câmara 14, os substratos ópticos de superfície tratada são removidos na etapa 16 e podem ser opcionalmente submetidos à inspeção visual e/ou automatizada antes da colocação sobre uma unidade de carga 20 do revestidor rotativo 10. Os substratos ópticos são encaminhados ao longo de uma trajetória de percurso 22 sobre a unidade de carga 20, que pode ser obtida por meio de um transportador, tal como uma esteira transportadora. Os substratos ópticos são encaminhados ao longo de uma trajetória de percurso 22, até que engatem uma bolsa de posicionamento 24. A unidade de carga 20 enfileira os substratos ópticos e evita que os substratos ópticos danifiquem uns aos outros (tal como por engatamento, atrito ou choque entre eles) enquanto ao mesmo tempo sequencialmente apresenta e introduz cada substrato óptico individual na bolsa de posicionamento 24. As bordas da bolsa de posicionamento 24 são configuradas, tal como inclinadas, para posicionar cada substrato óptico individual em uma posição pré-selecionada (tal como posição ou local centralizado) em relação à largura da bolsa de posicionamento. A bolsa de posicionamento 24 também inclui, com algumas modalidades, pelo menos um (tal como pelo menos dois) sensores de proximidade (tal como sensores de ruptura de feixe 26) que identificam a borda anterior e/ou a borda posterior de cada substrato óptico individual, e faz com que o transportador pare quando o substrato óptico é detectado e determinado para que seja adequadamente posicionado (tal como centralizado) dentro da bolsa de posicionamento 24.

[0045] A bolsa de posicionamento 24 permite que o revestidor rotativo 10 seja automatizado com um braço robótico de apanhar e colocar 18 (mostrado somente na Figura 1). O braço robótico 18 engata o substrato óptico de forma a manter uma posição central conhecida do substrato óptico, tal como na faixa de cerca de 2 mm, em todas as etapas do processo conduzidas no revestidor rotativo 10. A posição central conhecida da lente óptica pode ser, dessa forma, mantida como resultado de uma combinação de precisão de braço robótico 18 e posicionamento inicial apropriado do substrato óptico pela e dentro da bolsa de posicionamento 24, com algumas modalidades. O uso de um braço robótico de apanhar e colocar 18 permite que o revestidor rotativo 10 seja totalmente automatizado dentro do envoltório do braço robótico 18, e minimiza danos, tal como marcação, às superfícies do substrato óptico, em comparação com um processo manual, tal como um processo totalmente manual.

[0046] O substrato óptico pode estar úmido ou seco quando apanhado pelo braço robótico 18. Com algumas modalidades, quando úmido, o substrato óptico inclui uma ou mais camadas de revestimento úmidas sobre a mesma que não são duras, tal como pegajosa e/ou não curada. Com algumas outras modalidades, quando seco, o substrato óptico é livre de camadas de revestimento ou inclui uma ou mais camadas de revestimento seco que são duras (e não pegajosas), tal como sob cura. De acordo com algumas modalidades, uma porção inferior dos elementos de pega do braço robótico 18 engata e fixa o substrato óptico durante a pega em estado úmido do mesmo (quando o substrato óptico está úmido). Com outras modalidades adicionais, as porções superiores dos elementos de pega do braço robótico 18 engatam e fixam a lente durante a pega em estado seco do mesmo (quando o substrato óptico está seco).

[0047] A colocação na etapa 12 para dentro da câmara 14 e a remoção da câmara 14 na etapa 16 podem, cada qual, ser automatizadas com um braço robótico de apanhar e colocar, que movimenta a bolsa de posicionamento (ou outro mecanismo de posicionamento) a montante da câmara 14, com algumas modalidades. O uso de um operador na câmara 14 permite a inspeção visual dos substratos ópticos tanto antes da colocação na e como após a remoção da câmara 14, e permite a supervisão e controle humano sobre o revestidor rotativo 10 durante sua operação, com as mesmas modalidades. Os procedimentos e equipamentos de inspeção automatizados do estado da técnica podem ser usados para inspecionar os substratos ópticos antes e/ou após seu tratamento na câmara 14 juntamente com ou em lugar da inspeção manual dos mesmos, com algumas modalidades.

[0048] O braço robótico 18 movimenta o substrato óptico na etapa 28 para uma estação de lavagem e secagem opcional 30, mostrada na Figura 3. Com algumas modalidades, o braço robótico 18 coloca o substrato óptico sobre um mandril a vácuo giratório 40’ com algumas modalidades, dentro da estação de lavagem e secagem 30. O mandril giratório 40’ é programável e pode girar a altas velocidades, tais como até 4.000 rpm, com algumas modalidades. Após fixar o substrato óptico sobre o mandril giratório 40’, um topo 32 é deslizado para uma posição fechada alinhando bocais de pulverização de água a alta pressão 34 com o substrato óptico mantido sobre um mandril giratório 40’. Os bocais de pulverização de água a alta pressão 34 são inclinados em relação à superfície, inclusive a borda, do substrato óptico mantido sobre o mandril a vácuo giratório 40’ para fins de limpar o substrato óptico, com algumas modalidades. Desta forma, toda superfície superior e borda do substrato óptico tratado com plasma podem ser limpos, por exemplo, com água deionizada sob condições de pressão elevada, tal como de cerca de 1.000 p si, com algumas modalidades. O mandril giratório 40’ pode girar durante a lavagem por pulverização para garantir limpeza uniforme da superfície do substrato óptico. Os parâmetros de lavagem, como a pressão de líquido, tempo de lavagem, e velocidade de rotação podem ser programáveis e podem variar com base em parâmetros, tais como tipo e/ou tamanho do substrato óptico, tratamento por plasma, e/ou processos de revestimento posteriores.

[0049] Após lavagem, o substrato óptico pode, com algumas modalidades, ser secado na estação 30 através de um ou mais métodos que incluem, embora não se restrinjam a rotação a alta velocidade do mandril giratório 40’ e/ou bocal(ais) de ar 36 de alta velocidade que podem ser bocais de ar filtrado. Os parâmetros de secagem podem ser programados de forma similar aos associados com os parâmetros de lavagem, com algumas modalidades.

[0050] Após lavagem e secagem na estação 30, o topo 32 é deslizado para uma posição aberta, o braço robótico 18 reengata o substrato óptico sobre o mandril giratório 40’ e o braço robótico 18 movimenta o substrato óptico na etapa 48 para o mandril giratório 40 no recipiente do revestidor 50, que pode ser um mandril a vácuo giratório 40 com algumas modalidades. O mandril giratório 40 é configurado para receber o substrato óptico dentro do recipiente do revestidor 50 e configurado para girar o substrato óptico durante o revestimento, cuja velocidade e sincronização podem variar, dependendo de parâmetros que incluem, embora não se restrinjam ao revestimento e substrato óptico.

[0051] O recipiente do revestidor 50 é configurado para coletar: excesso de material de revestimento expelido do substrato óptico que é aplicado no mesmo; e/ou expelido durante a purga dos reservatórios 80 conforme discutido mais adiante na presente invenção; e/ou materiais de limpeza que são periodicamente usados para limpar o recipiente do revestidor 50 (tal como no final da semana, ou do dia, ou do turno). O revestidor giratório 10 da presente invenção é eficaz como sistema de circuito aberto para produção em pequena escala, com algumas modalidades. Sistema de circuito aberto significa que os materiais coletados não precisam ser recirculados e, assim, o material coletado do recipiente do revestidor 50 pode ser removido através de um dreno não mostrado, e não precisa ser segregado ou processado para reuso. Um sistema de circuito aberto permite a troca eficiente dos materiais de revestimento distintos, com algumas modalidades.

[0052] O revestidor rotativo 10 da presente invenção inclui, com algumas modalidades, uma plataforma de reservatório de revestimento indexável 60 contendo uma pluralidade de reservatórios de revestimento 80. A plataforma de reservatório de revestimento indexável 60 é configurada para indexar um reservatório selecionado 80 em uma posição dispensadora sobre o recipiente do revestidor 50, para quer o reservatório 80 possa ser dispensado com uma unidade dispensadora 70 na posição dispensadora, como mostrado na Figura 4. A unidade dispensadora 70 é engatável com o reservatório de revestimento selecionado 80 na posição de dispensação para dispensar uma quantidade selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento do reservatório de revestimento engatado e selecionado 80.

[0053] A plataforma de reservatório de revestimento indexável 60 é um carrossel giratório contendo posições circunferenciais distintas, sendo que cada posição circunferencial distinta recebe, de forma reversiva, um da pluralidade de reservatórios de revestimento descartáveis 80. O carrossel pode, com algumas modalidades, incluir oito ou dez estações. O carrossel pode ter outros números de posições para reservatórios 80, com algumas outras modalidades, tais como, embora não restritas a dezoito ou vinte estações. O carrossel giratório, conforme mostrado, representa um modalidade eficiente de formar e operar a plataforma de reservatório de revestimento indexável 60. Outras disposições de indexação porém, podem ser usadas de acordo com o revestidor rotativo da presente invenção. Para fins de ilustração não restritiva, uma estante ou linha de reservatórios linearmente móvel 80 pode ser usada para formar a plataforma 60, sem limite no número de reservatórios distintos 80 que podem estar presentes nessa disposição. O motor que gira a plataforma 60 pode usar uma variedade de mecanismos de alinhamento conhecidos no estado da técnica, tal como o mecanismo de trava detentora por ação de mola, para garantir que os reservatórios retidos 80 sejam movidos para posições indexadas precisas e predeterminadas, de modo que o reservatório 80 fique na posição dispensadora abaixo e alinhada com a unidade dispensadora 70.

[0054] A Figura 5 é uma vista em corte representativa de um reservatório de revestimento individual 80 do revestidor rotativo flexível 10. Cada reservatório de revestimento 80 inclui um barril alongado 82 contendo um pistão móvel 84 para dispensar material de revestimento do reservatório de revestimento 80, e no qual o avanço de pistão móvel 84 do reservatório de revestimento selecionado 80 na posição dispensadora dispensa material de revestimento do reservatório de revestimento selecionado 80. Com algumas modalidades e com referência adicional à Figura 5, cada reservatório de revestimento 80 é formado como uma seringa plástica descartável e, assim, cada reservatório de revestimento 80 dispensa revestimento através de um orifício dispensador desprovido de válvula 86, posicionado na extremidade distal do barril. Seringas plásticas estão disponíveis comercialmente e são particularmente bastante adequadas para formar reservatórios 80 devido às características de dispensação precisas associadas às mesmas. Tampas (não mostradas) na superfície traseira e através do orifício 86 podem ser usadas para transporte de reservatórios cheios 80, com algumas modalidades. As tampas podem também ser reaplicadas para remoção e armazenamento de reservatórios 80, com algumas outras modalidades.

[0055] Com algumas modalidades, o barril 82 de cada reservatório 80 permite a impressão de sinais de identificação de fácil leitura e/ou legíveis por máquina sobre o substrato óptico, tais como, embora não restritos a códigos de barra, códigos QR e/ou códigos matriz. Os sinais de identificação legíveis por máquina podem incluir informações relacionadas à identificação de revestimento, parâmetros de revestimento associados com um material de revestimento específico, e/ou o tipo de substrato óptico, com algumas modalidades. Os parâmetros de revestimento podem incluir, com algumas modalidades, um ou mais de: a dosagem unitária de material de revestimento para um dado substrato (tal como de 0,2 ml a 0,6 ml para revestimento de lente convencional); a taxa de dispensação; padrão de dispensação (tal como, iniciar no centro do substrato mantido no mandril a vácuo e mover para fora, vice-versa, ou alguma outra posição dispensadora variada); a velocidade do mandril a vácuo 40 (às vezes designada velocidade de propagação); e/ou tempo de rotação (também designado tempo de propagação).

[0056] O orifício estreito 86 do reservatório 80 (com algumas modalidades em combinação com o pistão móvel 84) permite que o material de revestimento seja mantido no reservatório 80 e dispensado na ausência de uma válvula. Com algumas modalidades, o dispensador de reservatório desprovido de válvula 80 elimina substancialmente (exceto para gotejamento/gota (“drip/drop”) de purga simples) a escorva que é necessária para outros dispensadores de revestidor rotativo e que reduz muito a quantidade de resíduo formado durante a operação do revestidor rotativo 10.

[0057] A unidade dispensadora 70 inclui uma haste 72 alinhada com o reservatório selecionado 80 na posição dispensadora e é configurada para seletivamente avançar o pistão móvel 84 do reservatório de revestimento selecionado 80 na posição dispensadora para dispensar uma quantidade unitária selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento do reservatório de revestimento selecionado engatado 80. Com algumas modalidades, a haste 70 é um parafuso, tal como um parafuso alongado. Com algumas modalidades, a quantidade unitária selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento dispensada é de 0,2 mL a 4 mL, ou de 0,2 a 1 mL, ou de 0,2 mL a 0,6 mL. A quantidade unitária inclui uma quantidade de revestimento e uma quantidade de purga (tal como uma gota) e pode variar dependendo de parâmetros, inclusive, porém não restritos ao material de revestimento, características de substrato, a espessura desejada de revestimento e o protocolo de revestimento.

[0058] Com algumas modalidades, o reservatório de revestimento selecionado 80 tem nele uma quantidade de material de revestimento que é menor que a quantidade necessária para revestir dois substratos ópticos, porém maior que a necessária para revestir um substrato óptico simples (isto é, menor que duas quantidades unitárias). Essa quantidade restante de material de revestimento (isto é, menor que duas quantidades unitárias) pode, com algumas modalidades, ser: (i) expelida do reservatório de revestimento 80 para descarte, tal como em um receptáculo ou dreno de descarte; ou (ii) dispensada do reservatório de revestimento 80 sobre um substrato óptico simples. Após expelir ou dispensar a quantidade restante de material de revestimento, o reservatório 80 fica vazio e substancialmente livre de material de revestimento, e pode ser descartado como resíduo sólido, com algumas modalidades.

[0059] A unidade dispensadora 70, com algumas modalidades, inclui um motor 200, tal como um motor de passo linear ou similar, para avançar com precisão o pistão móvel 84 de um reservatório de revestimento selecionado para dispensar do mesmo uma quantidade predeterminada de material de revestimento. A unidade dispensadora 70 também detecta, com algumas modalidades, a posição do pistão 84, através da haste 72 ou outro dispositivo, tanto antes como após uso, de modo que a quantidade de material de revestimento residente em cada reservatório específico 80 possa ser calculada e rastreada pelo revestidor rotativo 10. A unidade dispensadora 70 ergue a haste 72 para fora do barril 82 para permitir a indexação do carrossel da plataforma 60 e a seleção de um reservatório diferente 80, com algumas modalidades. Um reservatório que se movimenta e sai da posição dispensadora não estará vazio, mas terá material de revestimento remanescente para uso seletivo posterior, com algumas modalidades.

[0060] De acordo com algumas modalidades da presente invenção, a haste 72 é uma haste fixa e o motor é móvel, tal como verticalmente móvel, juntamente com a haste 72. O motor pode incluir uma extensão (não mostrada) que engata de forma confinante o pistão 84. O movimento controlável do motor, tal como o verticalmente para baixo, ao longo da haste fixa serve para acionar o pistão de acionamento 84 para dentro do reservatório 80, que resulta na dispensação de uma quantidade selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento desde o orifício 86, com algumas modalidades.

[0061] Em operação, a plataforma de reservatório de revestimento indexável 60, os reservatórios 80, e a unidade 70 são móveis como uma unidade, mostrada esquematicamente em 78, pelo menos entre: (i) uma posição de purga, onde o reservatório de revestimento selecionado 80 na posição dispensadora está acima do recipiente do revestidor 50, mas não está acima do substrato óptico ou lente; e (ii) para pelo menos uma posição dispensadora, sendo que o reservatório de revestimento selecionado na posição dispensadora acima do recipiente do revestidor está acima do substrato óptico. O recipiente do revestidor 50 pode ser construído para incluir um canal ou extensão que se estende até um ponto alinhado com a posição de purga. Na posição de purga, o pistão móvel 84 é avançado pela haste 72 da unidade 70 para dispensar uma gota de purga mínima do material de revestimento para limpar a superfície externa do menisco do material de revestimento no orifício 86 distal do reservatório sem válvula 80. A superfície externa do menisco pode ser exposta ao ar durante o não uso do material de revestimento em um determinado reservatório 80, o que pode resultar em oxidação e/ou incrustação do menisco, exigindo, desta forma, a purga do mesmo. Uma única gota é suficiente para escorvar o sistema de distribuição de material de revestimento mediante purga da porção possivelmente não homogênea do material de revestimento do orifício 86, com algumas modalidades. Após a gota de purga inicial, a plataforma de reservatório de revestimento indexável 60, os reservatórios 80, e a unidade 70 são móveis como unidade única, mostrada esquematicamente em 78, para pelo menos uma posição dispensadora na qual o reservatório de revestimento selecionado 80 na posição dispensadora acima do recipiente de revestidor 50 está acima do substrato óptico.

[0062] Com algumas modalidades, o orifício 86 é dimensionado de modo que o material de revestimento dentro do barril 82 de reservatório 80 não escoe para fora do mesmo, na ausência do pistão móvel 84 nele sendo posicionado (ou movido) dentro do barril 82 na direção do orifício 86. Com algumas modalidades, o orifício 86 é circular e tem um diâmetro igual ou menor que 3,18 mm (1/8 polegada).

[0063] O movimento 78 do reservatório dispensador selecionado 80 permite que o revestidor rotativo 10 acomode uma variedade de protocolos de dispensação para revestir o substrato óptico sobre mandril giratório 40 dentro do recipiente do revestidor 50. Com algumas modalidades, o material de revestimento do reservatório dispensador selecionado 80 pode ser dispensado sobre o substrato óptico no centro e/ou em uma ou mais posições de um lado a outro da superfície do substrato óptico (tal como em uma linha, espiral e/ou círculos concêntricos, de um lado a outro/sobre a superfície superior do substrato óptico) e então o mandril giratório 40 é engatado para girar o material de revestimento aplicado e formar uma camada de revestimento com espessura substancialmente uniforme. De acordo com algumas modalidades adicionais, simultaneamente com a rotação do mandril giratório 40, o material de revestimento do reservatório dispensador selecionado 80 é dispensado sobre o substrato óptico no centro e/ou em uma ou mais posições selecionadas de um lado a outro da superfície do substrato óptico para formar um revestimento uniforme. Qualquer combinação desses protocolos de dispensação e rotação pode ser usada com o revestidor rotativo 10. Adicionalmente, a taxa de dispensação e a velocidade de rotação podem também ser alteradas durante todo o processo, com algumas modalidades. A dispensação e/ou rotação intermitentes do mandril a vácuo pode ser usada em algumas modalidades. Os protocolos de dispensação são, com algumas modalidades, baseados em parâmetros que incluem, com base em parâmetros que incluem, mas não se restringem à composição de substrato e/ou ao tratamento de superfície do mesmo, do material de revestimento aplicado e/ou dos parâmetros de revestimento final desejado.

[0064] A plataforma indexável 60 permite que o revestidor rotativo 10 aplique uma camada de revestimento simples ou camadas de revestimento múltiplas sobre o substrato óptico sem remover a lente do mandril giratório 40. Com algumas modalidades e para fins de ilustração não restritiva, em um primeiro estágio, uma primeira camada de revestimento é aplicada com o uso de um reservatório selecionado 80, e então o carrossel é indexado, de modo que em um segundo estágio, um segundo material de revestimento seja aplicado sobre a primeira camada de revestimento de um reservatório distinto/separado 80. A indexação do carrossel pode ser feita com a plataforma 60 movida para além do alinhamento dos reservatórios 80 com o substrato óptico, de modo que nenhum pingo (gotejamento) da bandeja dos reservatórios intermediários 80 interfira com o protocolo de revestimento desejado, e para que no segundo estágio o segundo material de revestimento possa ser adequadamente purgado antes de ser dispensado sobre o substrato óptico. Os dois ou mais estágios de revestimento permitem que o revestidor rotativo da presente invenção, aplique e forme numerosas combinações de camadas de revestimento empilhadas, nas quais cada camada de revestimento da mesma possui composição igual ou diferente e/ou espessura igual ou diferente em relação a uma camada de revestimento adjacente (ou confinante).

[0065] De acordo com algumas modalidades da presente invenção, o revestidor rotativo inclui ou possui, integrado ao mesmo, pelo menos uma estação de cura distinta (como as estações de cura 92, 94 e 96) para seletiva e independentemente curar (tal como parcialmente curar) cada revestimento aplicado ao substrato óptico. O revestidor rotativo inclui ou tem nele integrado, com algumas modalidades adicionais, uma pluralidade de estações de cura distintas (tais como duas ou mais estações de cura, tais como as estações de cura 92, 94 e 96) para seletiva e independentemente curar (tal como pelo menos parcialmente curar) cada revestimento aplicado ao substrato óptico. Após a aplicação do material de revestimento desejado no recipiente de revestimento 50, o braço robótico 18 reengata o substrato óptico e o movimenta, na etapa 88, para uma estação de cura designada (92, 94 ou 96). Com algumas modalidades da presente invenção, cada estação de cura inclui independentemente pelo menos uma de: (i) uma estação de cura térmica 96; (ii) uma estação de cura por UV 94; (iii) uma estação de cura por IR 92; e (iv) combinações de pelo menos duas de (i), (ii) e (iii).

[0066] A Figura 6 é uma vista em corte representativa de uma estação de cura por UV 94 do revestidor rotativo flexível 10 mostrando uma gaveta deslizante com uma peça retendo um mandril giratório 40” (que pode ser um mandril a vácuo giratório 40” com algumas modalidades) para recepção seletiva de um substrato óptico desejado a ser curado. Um espelho refletor côncavo ou inclinado 203 contorna o mandril giratório 40” para ajudar ou melhorar na cura da borda. Com um substrato óptico revestido sobre o mandril giratório 40” da estação de cura por UV 94, a gaveta é fechada e um obturador aberto para expor o substrato óptico revestido à luz UV (tal como de uma lâmpada de mercúrio ou de haleto metálico) dentro da estação de cura por UV 94. O mandril giratório 40” pode girar a velocidades baixas dentro da estação de cura por UV 94 para ajudar a garantir uma cura uniforme, com algumas modalidades. O tempo de cura dentro da estação de cura por UV 94 pode variar dependendo, por exemplo, do revestimento específico. A estação de cura por IR 92 pode ter uma construção similar à da estação de cura por UV 94, mas inclui uma fonte de IR apropriada. O tempo de cura dentro da estação de cura por IR 92 pode também variar, dependendo, por exemplo, do revestimento específico. Cada estação de cura, com algumas modalidades, pode incluir na mesma uma atmosfera selecionada de uma atmosfera inerte (tal como, embora não restrita a argônio e/ou nitrogênio), e/ou uma atmosfera reativa (tal como, embora não restrita a oxigênio, CO e/ou CO2).

[0067] A estação de cura térmica 96, com algumas modalidades, é acompanhada com um transportador 98 e uma área de descarga ou acúmulo 100. Na estação de cura térmica, os substratos ópticos a serem termicamente curados são colocados sobre o transportador de entrada, tal como lado a lado, sobre o transportador 98. A velocidade do transportador é selecionada de modo que os substratos ópticos revestidos tenham uma exposição à temperatura desejada dentro da estação de cura 96. O forno da estação de cura térmica 96 pode, com algumas modalidades, ser um forno elétrico e/ou um forno a gás (como um forno a gás natural). Os tempos de cura e os perfis de temperatura podem variar dependendo, por exemplo, do revestimento que deve ser curado. Com algumas modalidades, os substratos ópticos revestidos são expostos a uma temperatura de 115°-135°C por 20-40 minutos, tal como de 30 minutos a 125°C por 30 minutos, dentro da estação de cura térmica. Após cura pelo menos parcial, os substratos ópticos revestidos são encaminhados para uma área de acúmulo 100 projetada para acomodar um número desejado de substratos ópticos sem toque de bordas entre si (tal como, embora não restrito até 30 substratos ópticos revestidos), com algumas modalidades.

[0068] Com algumas modalidades, o transportador 98 em conjunto com o braço robótico 18 é usado para egresso de substratos ópticos revestidos pelo menos parcialmente curados da estação de cura por IR e/ou da estação de cura por UV. Com algumas modalidades, um transportador de saída separado (não mostrado) é usado para contornar a estação de cura térmica 96 com a finalidade de entregar os substratos ópticos revestidos para a área de acúmulo 100.

[0069] De acordo com algumas outras modalidades, um substrato óptico pode ser lavado, e então revestido, e então lavado novamente, e então posteriormente revestido com o mesmo material de revestimento igual ou diferente antes da cura. Com algumas modalidades adicionais, um substrato óptico revestido e curado pode ser devolvido de uma estação de cura (92, 94 ou 96) para: (i) a estação de lavagem e secagem; e/ou (ii) o recipiente do revestidor 50 para aplicação ao mesmo de um material de revestimento subsequente. Um substrato óptico pode, com algumas modalidades, ser movido da área de acúmulo 100 para a unidade de carga 20 para a posterior aplicação ao mesmo ou um ou mais materiais de revestimento.

[0070] O revestidor rotativo da presente invenção pode, com algumas modalidades, ser usado na produção de substratos ópticos, com cada um tendo independentemente a mesma pilha de revestimento ou uma pilha de revestimento diferente formada sobre o mesmo. O revestidor rotativo da presente invenção pode ser operado de forma a produzir o mínimo de resíduos, com algumas modalidades. O revestidor rotativo da presente invenção pode, com algumas modalidades, ser pelo menos parcialmente automatizado, e opcionalmente incorporado em sistemas de rastreamento e controle de produto reconhecido no estado da técnica.

[0071] A presente invenção foi descrita com referência a detalhes específicos de modalidades específicas da mesma. Esses detalhes não devem ser interpretados como restrições ao escopo da invenção, exceto na medida em que estejam incluídos nas reivindicações anexas.

Claims

1. Revestidor rotativo, caracterizado pelo fato de compreender: (a) um recipiente de revestidor (50) configurado para coletar excesso de material de revestimento expelido de um substrato óptico que estiver sendo revestido; (b) um mandril giratório (40) configurado para receber o substrato óptico dentro do recipiente do revestidor (50) e configurado para girar o substrato óptico durante revestimento; (c) uma pluralidade de reservatórios de revestimento (80), cada reservatório (80) contendo material de revestimento para revestir seletivamente o substrato óptico; e (d) uma plataforma de reservatório de revestimento indexável (60) contendo a pluralidade de reservatórios de revestimento (80) e configurada para indexar um reservatório de revestimento selecionado (80) em uma posição dispensadora acima do recipiente do revestidor (50), sendo que a plataforma de reservatório de revestimento indexável (60) compreende ainda uma unidade dispensadora (70) na posição dispensadora, sendo que a unidade dispensadora (70) é engatável com o reservatório de revestimento selecionado (80) na posição dispensadora para dispensar uma quantidade selecionada de material de revestimento do reservatório de revestimento selecionado engatado (80), sendo que cada reservatório de revestimento (80) compreende um pistão móvel (84) para dispensar o material de revestimento do reservatório de revestimento (80), e sendo que a unidade dispensadora (70) é configurada para avançar o pistão móvel (84) do reservatório de revestimento selecionado (80) na posição dispensadora para dispensar uma quantidade selecionada de material de revestimento do reservatório de revestimento selecionado engatado (80).

2. Revestidor, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de a unidade dispensadora (70) compreender um motor que é configurado para avançar o pistão móvel de dito reservatório de revestimento selecionado (80), na posição dispensadora, para dispensar dita quantidade selecionada de material de revestimento, o motor sendo, preferivelmente, um motor de passo linear.

3. Revestidor, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de a plataforma de reservatório de revestimento indexável (60) ser: - um carrossel giratório compreendendo uma pluralidade de posições circunferenciais distintas, sendo que cada posição circunferencial distinta é configurada para receber, de forma reversível, um da pluralidade de reservatórios de revestimento (80), ou - móvel como uma unidade de: (i) uma posição de purga, onde o reservatório de revestimento selecionado (80) na posição dispensadora acima do recipiente do revestidor (50) não está acima do substrato óptico; para (ii) pelo menos uma posição dispensadora, sendo que o reservatório de revestimento selecionado (80) na posição dispensadora acima do recipiente do revestidor (50) está acima do substrato óptico.

4. Revestidor, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de cada reservatório de revestimento (80) compreender um barril alongado (82) que contém o pistão móvel (84) para dispensar material de revestimento do reservatório de revestimento (80), sendo que, preferivelmente, cada reservatório de revestimento (80) dispensa o material de revestimento através de um orifício dispensador desprovido de válvula (86), posicionado em uma extremidade distal do barril (82), ou ser uma seringa plástica descartável.

5. Revestidor, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o revestidor rotativo (10) ser integrado com pelo menos uma estação de cura (92, 94, 96), por exemplo, uma pluralidade de estações de cura (92, 94, 96), onde cada estação de cura (92, 94, 96)é independentemente configurada para curar, pelo menos parcialmente, pelo menos um material de revestimento aplicado ao substrato óptico.

6. Revestidor, de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de cada estação de cura (92, 94, 96) diferente compreender independentemente pelo menos uma de (i) uma estação de cura térmica (96), (ii) uma estação de cura por UV (94), (iii) uma estação de cura por IR (92), e (iv) combinações de pelo menos duas de (i), (ii) e (iii), opcionalmente, compreender ainda um braço robótico de colocação (18) configurado para mover cada substrato óptico entre o mandril giratório (40) com o recipiente do revestidor (50) e cada estação de cura (92, 94, 96).

7. Revestidor, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de compreender o braço robótico de colocação (18) e compreender ainda uma bolsa de posicionamento de entrada (24) que posiciona o substrato óptico para engatamento com o braço robótico (18), sendo que dita bolsa de posicionamento de entrada (24) é engatável com o substrato óptico antes do engatamento inicial do substrato óptico com o braço robótico (18), o revestidor rotativo (10) opcionalmente compreendendo ainda uma estação de lavagem e secagem (30), sendo que dita estação de lavagem e secagem (30) é configurada seletivamente lavar e secar cada substrato óptico, e acessível através do braço robótico (18).