JP2003185820A - 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 材料の屈折率変化を簡易な方法で行うととも
に、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しか
もその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや
光学材料を与えることができる感放射線性屈折率変化性
組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）重合性化合物、（Ｂ）重合性化合
物（Ａ）の重合体よりも屈折率が低い非重合性化合物お
よび（Ｃ）感放射線重合開始剤を含有する感放射線性屈
折率変化性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性屈折率
変化性組成物、屈折率パターンの形成方法、屈折率パタ
ーンおよび光学材料に関する。さらに詳しくは光エレク
トロニクスやディスプレイ分野に応用される新規な感放
射線性屈折率変化性組成物、屈折率パターン形成方法、
屈折率パターンおよび光学材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】マルチメディア社会といわれる現在、異
なる屈折率領域から構成される屈折率分布型光学成形体
の需要は極めて大きい。そのような例として情報伝達を
担う光ファイバーは勿論、周期的な屈折率変化を有する
光回折格子、屈折率の異なる部位によって情報が書き込
まれた光メモリ、微細な屈折率パターンを有する光集積
回路等の光結合素子、光制御素子、光変調素子および光
伝送素子が挙げられる。

【０００３】なお、ここで屈折率分布型光学成形体と
は、ＧＩ型光ファイバー等のような成形体中で屈折率が
連続的に分布している場合（以下、ＧＲＩＮ光学成形体
という）と、光回折格子、ＳＩ型光導波路等のように屈
折率の分布形状が不連続的な場合の両方をいう。

【０００４】ＧＲＩＮ光学成形体は、次世代の光学成形
体として注目されている。例えば、光ファイバーのコア
の中心軸から周辺部へ放物線状に屈折率を減少させたＧ
Ｉ型光ファイバーは大容量の情報伝送を可能とし、ま
た、レンズ中で屈折率が連続的に変化したＧＲＩＮレン
ズは、平面でも屈折力を持つことや、球面収差を生じな
い等の特長を生かし、コピー機などに用いる読み取りレ
ンズ、ファイバー同士をつなぐ球状レンズ、あるいはマ
イクロレンズなどに応用される。

【０００５】上述のようなＧＲＩＮ光学成形体の製造方
法としては、これまで数多くの提案がなされている。例
えば低分子あるいはモノマーをポリマー中に分散させ、
その濃度を連続的に分布させることによってＧＩ型光フ
ァイバーを得る方法が特開平９−１３３８１３号公報、
特開平８−３３６９１１号公報、特開平８−３３７６０
９号公報、特開平３−１９２３１０号公報、特開平５−
６０９３１号公報、ＷＯ９３／１９５０５国際公開特許
公報およびＷＯ９４／０４９４９国際公開特許公報に開
示されている。また、特開昭６２−２５７０５号は屈折
率および反応比の異なる２種類以上のビニルモノマーを
光で共重合させることによりＧＩ型のロッド状光学成形
体あるいは光ファイバーを得ることを開示している。さ
らに特開平７−５６０２６号公報は光反応性の官能基を
有する重合体Ａを形成し、Ａより低屈折率である化合物
ＢをＡの中に拡散させ、Ｂの濃度分布を形成した後、光
でＡとＢを反応させ屈折率分布を得る方法を開示してい
る。

【０００６】また無機材料についてのＧＲＩＮ光学成形
体の製造方法もいくつか提案されており、例えばケイ素
や鉛などを主成分とするロッド状のガラスに高屈折率の
タリウムを加え、低屈折率のカリウムを含む溶融液に浸
漬し、イオン交換によりカリウムの濃度分布を形成させ
てＧＩ型ロッドとする方法である。

【０００７】ＧＲＩＮレンズは、上述の方法を、短いロ
ッドつまりレンズ状の光学成形体について適用すれば同
様に得ることができる。あるいは上述の方法で作成した
ＧＩ型ロッドを輪切りにしてもよい。

【０００８】また前述した光回折格子、光集積回路等の
ような屈折率の微細なパターンを有する光学成形体の製
造方法としては、光照射により成形体中に光化学反応を
誘起させ、それに伴う屈折率変化を得るという技術が知
られている。例えば、無機材料の場合、ゲルマニウムを
ドープしたガラスに光照射し、屈折率を変化させて光回
折格子を作製する方法などが挙げられる。また、有機材
料においては、フォトクロミック反応あるいはフォトブ
リーチングとして知られており、光化学反応活性な低分
子をポリマー中に分散させた材料にレーザー光を照射す
ることによって屈折率変化を誘起し、光回折格子とする
技術が特開平７−９２３１３号公報などで開示されてい
る。さらに最近では、この技術をＧＲＩＮ光学成形体の
製造に応用することが特開平９−１７８９０１号公報に
よって提案されている。この方法は成形体に照射した光
が吸収されて強度が弱くなるのを利用し、照射に対して
深さ方向に連続的な屈折率分布を付与するものである。

【０００９】しかしながら、上記した従来の材料で得ら
れる屈折率分布は、その最大屈折率差がせいぜい０．０
０１〜０．０２程度であり、光学損失の防止や回路の誤
作動の抑制といった目的のために、さらに大幅な屈折率
分布を持たせることが難しい。

【００１０】また、一旦屈折率分布を形成した後、屈折
率を変化させるために使用した波長付近の光が通過する
条件下で使用すると、徐々に屈折率の変化を引き起こし
劣化してしまう現象を防止することはできなかった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記した実情に鑑みてなされたものである。

【００１２】すなわち、本発明の目的は、材料の屈折率
変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率
差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によ
らずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることが
できる感放射線性屈折率変化性組成物を提供することに
ある。本発明の他の目的は、本発明の上記組成物から屈
折率パターンを形成する方法を提供することにある。本
発明のさらに他の目的は、本発明の上記方法により製造
した屈折率パターンあるいは光学材料を提供することに
ある。本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明
から明らかになろう。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、第１に、（Ａ）重合性化合
物、（Ｂ）重合性化合物（Ａ）の重合体よりも屈折率が
低い非重合性化合物および（Ｃ）感放射線重合開始剤を
含有することを特徴とする、感放射線性屈折率変化性組
成物により達成される。

【００１４】本発明の上記目的および利点は、第２に、
（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）重合性化合物（Ａ）の重合
体よりも屈折率が低い非重合性化合物、（Ｃ）感放射線
分解剤を含有する感放射線性屈折率変化性組成物にパタ
ーンマスクを介して放射線を照射することを特徴とす
る、屈折率パターン形成方法によって達成される。

【００１５】本発明の上記目的および利点は、第３に、
上記屈折率パターン形成方法によって形成された屈折率
パターンによって達成される。本発明の上記目的および
利点は、第４に、上記屈折率パターン形成方法によって
形成された光学材料によって達成される。

【００１６】なお、本発明において、「屈折率パター
ン」とは、屈折率の異なる領域から構成される屈折率分
布型材料を意味する。また、屈折率の大小は、波長６３
３ｎｍ、室温で測定した屈折率を比較して決定した。以
下、本発明の屈折率パターン形成方法に使用する屈折率
変化材料の各成分について詳細に説明する。

【００１７】（Ａ）重合性化合物 本発明で使用する（Ａ）重合性化合物は、酸、塩基、ま
たはラジカルにより重合または反応する公知の化合物が
何ら制限なく使用でき、その重合体屈折率は、好ましく
は１．４５〜１．９であり、より好ましくは１．５〜
１．９である。（Ａ）成分として用いられる重合性化合
物は一般的には単量体であるが、その分子量は特に制限
されず、オリゴマー程度の分子量を有していてもよい。
また、分子内に二重結合などの重合性の官能基を２つ以
上もつ化合物も好ましく使用できる。

【００１８】感放射線分解剤から発生する酸、塩基、ま
たはラジカルにより重合および反応する化合物として
は、分子内に重合性の官能基、例えばビニル基、エチレ
ンイミン基、エポキシ基、エピスルフィド基、水酸基、
またはオキセタニル基を有する化合物などを挙げること
ができる。

【００１９】かかる化合物としては、例えばビニル芳香
族化合物、ビニルエーテル系化合物、アクリル酸類また
はメタクリル酸類、エポキシ基を有する開環重合性モノ
マー、オキセタン化合物、マレイミド類等を挙げること
ができる。さらなる具体的な代表例としては下記に示さ
れる化合物が挙げられる。

【００２０】ビニル芳香族化合物としては、例えば、ス
チレン、スチレンのα−、ｏ−、ｍ−、ｐ−アルキル、
アルコキシル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シア
ノ、アミド、エステル置換体；スチレンスルフォン酸、
２，４−ジメチルスチレン、パラジメチルアミノスチレ
ン、ビニルベンジルクロライド、ビニルベンズアルデヒ
ド、インデン、１−メチルインデン、アセナフタレン、
ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバ
ゾール、２−ビニルフルオレン等のモノビニル芳香族化
合物、ｏ−，ｍ−およびｐ−ジビニルベンゼン、ｏ−，
ｍ−およびｐ−ジイソプロペニルベンゼン、１，２，４
−トリビニルベンゼン、１，２−ビニル−３，４−ジメ
チルベンゼン、１，３−ジビニルナフタレン、１，３，
５−トリビニルナフタレン、２，４−ジビニルビフェニ
ル、３，５，４’−トリビニルビフェニル、１，２−ジ
ビニル−３，４−ジメチルベンゼン、１，５，６−トリ
ビニル−３，７−ジエチルナフタレン等の多官能ビニル
芳香族化合物などが挙げられる。ジビニルベンゼン、ジ
イソプロペニルベンゼンには、ｏ−，ｍ−，ｐ−の異性
体があり、これら異性体の混合物であるジビニルベンゼ
ン、ジイソプロペニルベンゼンでも事実上満足される。

【００２１】ビニルエーテル系化合物としては、下記の
ものが例示される。メチルビニルエーテル、エチルビニ
ルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチル
ビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルビニルエー
テル、ドデシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエ
ーテル、エチレングリコールブチルビニルエーテル、ト
リエチレングリコールエチルビニルエーテル、２−クロ
ロエチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエ
ーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、アミノプロピ
ルビニルエーテル、２−（ジエチルアミノ）エチルビニ
ルエーテルで代表されるモノアルキルビニルエーテル
類、ベンジルビニルエーテル、フェニルビニルエーテ
ル、パラトリルビニルエーテル、ナフチルビニルエーテ
ルに代表されるモノアリールビニルエーテル類、ブタン
−１，４−ジオールジビニルエーテル、ヘキサン−１，
６−ジオールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサ
ンジメタノールジビニルエーテル、イソフタル酸ジ（４
−ビニロキシ）ブチル、テレフタル酸ジ（４−ビニロキ
シ）ブチル、グルタル酸ジ（４−ビニロキシ）ブチル、
コハク酸ジ（４−ビニロキシ）ブチル、エチレングリコ
ールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニル
エーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテルに
代表されるジビニルエーテル類、トリメチロールプロパ
ントリビニルエーテルに代表されるトリビニルエーテル
類、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテルに代表
されるテトラビニルエーテル類、ブタンジオールモノビ
ニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、シクロ
ヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ヘキサンジ
オールモノビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテ
ル類等を挙げることができる。

【００２２】メタクリル酸類またはアクリル酸類の化合
物としては、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸
またはアクリル酸のメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンチル、ネオペンチル、イソアミルヘキシ
ル、シクロヘキシル、アダマンチル、アリル、プロパギ
ル、フェニル、ナフチル、アントラセニル、アントラキ
ノニル、ピペロニル、サリチル、シクロヘキシル、ベン
ジル、フェネチル、クレシル、グリシジル、１，１，１
−トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフル
オロ−ｎ−プロピル、パーフルオロ−ｉ−プロピル、ト
リフェニルメチル、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］
デカン−８−イル（当該技術分野で「ジシクロペンタニ
ル」といわれている）、クミル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）プロピル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
エチル、フリル、フルフリル等のエステル；メタクリル
酸またはアクリル酸のアニリド、アミド、またはＮ，Ｎ
−ジメチル、Ｎ，Ｎ−ジエチル、Ｎ，Ｎ−ジプロピル、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル、アントラニル等のアミド；エ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロパンジオール
ジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（メタ）
アクリロイルオキシエチルスルフィド、１，４−ビス
［（メタ）アクリロイルチオエチルチオメチル］ベンゼ
ン、ハイドロキノンやビスフェノール類の両末端にエチ
レンオキサイドあるいはプロピレンオキサイドを付加し
た化合物のジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４
−（メタクリロキシエトキシ）フェニル）プロパン、２
−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピル
フタレート、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）
スルフィド、ｐ−ビス（２−メタクリロイルオキシエチ
ルチオ）キシリレン、ｐ−ビス（２−メタクリロイルオ
キシプロピルチオ）キシリレン等の多官能（メタ）アク
リレートなどが挙げられる。

【００２３】エポキシ基を含有する開環重合性モノマー
としては、例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノール
Ａジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグ
リシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジ
ルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポ
キシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シク
ロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘ
キセンオキシド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、
ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメ
チル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシク
ロヘキシル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキ
サンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキ
シシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキシ
ド、エチレングリコールジ（３，４−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタ
ル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２
−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジ
ルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アル
コールに１種又は２種以上のアルキレンオキシドを付加
することにより得られるポリエーテルポリオールのポリ
グリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジ
ルエステル及び脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
又はこれらにアルキレンオキシドを付加することにより
得られるポリエーテルのアルコールのモノグリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。さらに、これら化合物のエポ
キシ環の酸素原子を硫黄原子に置換したチオエポキシ化
合物も用いることができる。

【００２４】オキタセン化合物としては、例えば３−エ
チル−３−メトキシメチルオキセタン、３−エチル−３
−エトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ブトキ
シメチルオキセタン、３−エチル−３−ヘキシルオキシ
メチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチル
オキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン、３−エチル−３−アリルオキシメチルオキセタ
ン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシエチル）オキ
シメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロ
キシ− ３’−フェノキシプロピル）オキシメチルオキ
セタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシ− ３’
−ブトキシプロピル）オキシメチルオキセタン、３−エ
チル−３−［２’−（２’’−エトキシエチル）オキシ
メチル］オキセタン、３−エチル−３−（２’−ブトキ
シエチル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−
ベンジルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルオキシメチル）オキセ
タンなどを挙げることができる。その他にも、３−
（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３
−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−トリフ
ロロメチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオ
キシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（（メ
タ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−
（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−４−トリフロ
ロメチルオキセタンなどの分子内にオキタセニル基と重
合性ビニル基の両方を有する化合物も好適に用いられ
る。マレイミド系モノマーとしては、Ｎ−フェニルマレ
イミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジル
マレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベ
ンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブ
チレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプ
ロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロ
ピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミドを挙
げることができる。

【００２５】その他にも、アクリロニトリル、アクロレ
イン、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリド
ン、ビニルピリジン、酢酸ビニルなどを用いることがで
きる。

【００２６】上記（Ａ）成分として挙げられる全ての化
合物は、その化合物中に含まれる水素原子が例えば塩素
原子、臭素原子、水酸基、メルカプト基、アルコキシ
基、チオアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン
化アルコキシ基、ハロゲン化チオアルキル基、アルキル
チオエステル基、メルカプトアルキル基、アリール基、
アラル基またはシアノ基で置換されていてもよい。

【００２７】上記アルコキシル基は、直鎖状であっても
分岐していてもよく、例えばメトキシ基、エトキシ基、
ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキ
シ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、
ｎ−ヘキシルオキシ基、テキシルオキシ基等を挙げるこ
とができる。

【００２８】上記アルキルチオ基は、直鎖状であっても
分岐鎖状であってもよく、例えばメチルチオ基、エチル
チオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ
−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチ
オ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ネオペ
ンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、テキシルチオ基等
を挙げることができる。

【００２９】上記ハロゲン化アルキル基としては、例え
ばトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘ
プタフルオロプロピル基、クロロメチル基、２−クロロ
エチル基、３−クロロプロピル基、１−クロロメチルエ
チル基、４−クロロブチル基、２−クロロメチルプロピ
ル基、５−クロロペンチル基、３−クロロメチルブチル
基、２−クロロエチルプロピル基、６−クロロヘキシル
基、３−クロロメチルペンチル基、４−クロロメチルペ
ンチル基、２−クロロエチルブチル基、ブロモメチル
基、２−ブロモエチル基、３−ブロモプロピル基、１−
ブロモメチルエチル基、４−ブロモブチル基、２−ブロ
モメチルプロピル基、５−ブロモペンチル基、３−ブロ
モメチルブチル基、２−ブロモエチルプロピル基、６−
ブロモヘキシル基、３−ブロモメチルペンチル基、４−
ブロモメチルペンチル基、２−ブロモエチルブチル基等
を挙げることができる。

【００３０】上記ハロゲン化アルコキシル基としては、
例えばトリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキ
シ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、クロロメトキシ
基、２−クロロエトキシ基、３−クロロプロポキシ基、
１−クロロメチルエトキシ基、４−クロロブトキシ基、
２−クロロメチルプロポキシ基、５−クロロペンチルオ
キシ基、３−クロロメチルブトキシ基、２−クロロエチ
ルプロポキシ基、６−クロロヘキシルオキシ基、３−ク
ロロメチルペンチルオキシ基、４−クロロメチルペンチ
ルオキシ基、２−クロロエチルブトキシ基、ブロモメト
キシ基、２−ブロモエトキシ基、３−ブロモプロポキシ
基、１−ブロモメチルエトキシ基、４−ブロモブトキシ
基、２−ブロモメチルプロポキシ基、５−ブロモペンチ
ルオキシ基、３−ブロモメチルブトキシ基、２−ブロモ
エチルプロポキシ基、６−ブロモヘキシルオキシ基、３
−ブロモメチルペンチルオキシ基、４−ブロモメチルペ
ンチルオキシ基、２−ブロモエチルブトキシ基等を挙げ
ることができる。

【００３１】上記ハロゲン化アルキルチオ基としては、
例えばトリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチ
ルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、クロロメチ
ルチオ基、２−クロロエチルチオ基、３−クロロプロピ
ルチオ基、１−クロロメチルエチルチオ基、４−クロロ
ブチルチオ基、２−クロロメチルプロピルチオ基、５−
クロロペンチルチオ基、３−クロロメチルブチルチオ
基、２−クロロエチルプロピルチオ基、６−クロロヘキ
シルチオ基、３−クロロメチルペンチルチオ基、４−ク
ロロメチルペンチルチオ基、２−クロロエチルブチルチ
オ基、ブロモメチルチオ基、２−ブロモエチルチオ基、
３−ブロモプロピルチオ基、１−ブロモメチルエチルチ
オ基、４−ブロモブチルチオ基、２−ブロモメチルプロ
ピルチオ基、５−ブロモペンチルチオ基、３−ブロモメ
チルブチルチオ基、２−ブロモエチルプロピルチオ基、
６−ブロモヘキシルチオ基、３−ブロモメチルペンチル
チオ基、４−ブロモメチルペンチルチオ基、２−ブロモ
エチルブチルチオ基等を挙げることができる。

【００３２】上記メルカプトアルキル基としては、例え
ばメルカプトメチル基、２−メルカプトエチル基、３−
メルカプトプロピル基、１−メルカプトメチルエチル
基、４−メルカプトブチル基、２−メルカプトメチルプ
ロピル基、５−メルカプトペンチル基、３−メルカプト
メチルブチル基、２−メルカプトエチルプロピル基、６
−メルカプトヘキシル基、３−メルカプトメチルペンチ
ル基、４−メルカプトメチルペンチル基、２−メルカプ
トエチルブチル基等を挙げることができる。

【００３３】上記アリール基としては、例えばフェニル
基、トリル基、キシリル基、クメニル基、１−ナフチル
基等を挙げることができる。上記アラルキル基として
は、例えばベンジル、α−メチルベンジル基、フェネチ
ル基、ナフチルメチル基等を挙げることができる。

【００３４】本発明における（Ａ）重合性化合物として
は、上記に列記したような公知の化合物が何ら制限なく
使用できるが、（Ｂ）成分との屈折率差を大きくする目
的で芳香環やハロゲン原子、硫黄原子を含有する化合物
が好適に用いられる場合がある。

【００３５】本発明における（Ａ）重合性化合物として
は、さらに重合性オリゴマー化合物を使用することもで
きる。

【００３６】上記反応性オリゴマー化合物としては、例
えばエチレン性不飽和結合を有する重合性オリゴマー化
合物、エポキシオリゴマー化合物、チイランオリゴマー
化合物、オキセタンオリゴマー化合物、アルコキシメチ
ル化メラミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウ
リル化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合
物、アルコキシメチル化尿素化合物、イソシアネート化
合物、シアネート化合物、オキサゾリン化合物、オキサ
ジン化合物およびシリル化合物（ハロゲン化シリル化合
物、その他のシリル化合物）等を挙げることができる。

【００３７】上記エチレン性不飽和結合を有する重合性
オリゴマー化合物としては、重合性が良好である点およ
び得られる硬化膜の強度が向上する点から、単官能、２
官能または３官能以上の（メタ）アクリレートが好まし
く、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレートが
とくに好ましく用いられる。

【００３８】上記単官能（メタ）アクリレートとして
は、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル
（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）ア
クリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−
２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。
その市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、
同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（以上、東亞合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２
０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、
同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）が挙げ
られる。

【００３９】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、
１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノキシエタノールフルオレンジアクリレート、２，２−
ビス（４−（（メタ）アクリロキシエトキシ）フェニ
ル）プロパン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル
−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ビス（４−（メ
タ）アクリロイルチオフェニル）スルフィド、ｐ−ビス
（２−（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ）キシリ
レン、ｐ−ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシプロ
ピルチオ）キシリレンなどが挙げられる。その市販品と
しては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４
０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡ
ＹＡＲＡＤＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４
（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３
１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）
製）などが挙げられる。

【００４０】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられる。その市販品としては、例え
ばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
２、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同
Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−１３１０、同Ｍ
−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−
８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−９０５０（以上、東
亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同Ｄ
ＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰ
ＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬
（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、
同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工
業（株）製）などが挙げられる。

【００４１】さらに、本発明で用いられるエチレン性不
飽和結合を有する重合性化合物としては、上記（メタ）
アクリレート化合物のほかにウレタンアクリレート、ウ
レタンアダクト体、ポリエステルアクリレートを好適に
使用することができる。これらのエチレン性不飽和結合
を有する重合性化合物の市販品としてはアロニックスＭ
−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−
１３１０、同Ｍ−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ−８
１００、同Ｍ−８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−９０
５０（以上、東亞合成（株）製）が挙げられる。

【００４２】これらの単官能、２官能または３官能以上
の（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ウレ
タンアダクト体、ポリエステルアクリレートは、単独で
あるいは組み合わせて用いられる。

【００４３】上記エポキシオリゴマー化合物としては、
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型
エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポ
キシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、脂肪族
ポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。

【００４４】これらの市販品として、以下のものを例示
することができる。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と
しては、エピコート１００１、同１００２、同１００
３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１
０、同８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等
を、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコ
ート８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等を、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピコート
１５２、同１５４（以上、油化シェルエポキシ（株）
製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬
（株）製）等を、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、Ｅ
ＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１
０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以上、日本化薬（株）
製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポキシ
（株）製）等を、環式脂肪族エポキシ樹脂としては、Ｃ
Ｙ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ−
ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−
４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６（以
上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工
（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９
２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ
Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日
本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２
（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６
１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング
（株）製）等を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして
は、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エ
ピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等を挙げることが
できる。

【００４５】上記以外にも、例えばビス（β−エポキシ
プロピル）スルフィド、ビス（β−エポキシプロピルチ
オ）メタン、１，２−ビス（β−エポキシプロピルチ
オ）エタン、１，３−ビス（β−エポキシプロピルチ
オ）プロパン、１，２−ビス（β−エポキシプロピルチ
オ）プロパン、１−（β−エポキシプロピルチオ）−２
−（β−エポキシプロピルチオメチル）プロパン、１，
４−ビス（β−エポキシプロピルチオ）ブタン、１，３
−ビス（β−エポキシプロピルチオ）ブタン、１−（β
−エポキシプロピルチオ）−３−（β−エポキシプロピ
ルチオメチル）ブタン、１，５−ビス（β−エポキシプ
ロピルチオ）ペンタン、１−（β−エポキシプロピルチ
オ）−４−（β−エポキシプロピルチオメチル）ペンタ
ン、１，６−ビス（β−エポキシプロピルチオ）ヘキサ
ン、１−（β−エポキシプロピルチオ）−５−（β−エ
ポキシプロピルチオメチル）ヘキサン、１−（β−エポ
キシプロピルチオ）−２−〔（２−β−エポキシプロピ
ルチオエチル）チオ〕エタン、１−（β−エポキシプロ
ピルチオ）−２−［〔２−（２−β−エポキシプロピル
チオエチル）チオエチル〕チオ］エタン、テトラキス
（β−エポキシプロピルチオメチル）メタン、１，１，
１−トリス（β−エポキシプロピルチオメチル）プロパ
ン、１，５−ビス（β−エポキシプロピルチオ）−２−
（β−エポキシプロピルチオメチル）−３−チアペンタ
ン、１，５−ビス（β−エポキシプロピルチオ）−２，
４−ビス（β−エポキシプロピルチオメチル）−３−チ
アペンタン、１−（β−エポキシプロピルチオ）−２，
２−ビス（β−エポキシプロピルチオメチル）−４−チ
アヘキサン、１，５，６−トリス（β−エポキシプロピ
ルチオ）−４−（β−エポキシプロピルチオメチル）−
３−チアヘキサン、１，３および１，４−ビス（β−エ
ポキシプロピルチオ）シクロヘキサン、１，３および
１，４−ビス（β−エポキシプロピルチオメチル）シク
ロヘキサン、ビス〔４−（β−エポキシプロピルチオ）
シクロヘキシル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エ
ポキシプロピルチオ）シクロヘキシル〕プロパン、ビス
〔４−（β−エポキシプロピルチオ）シクロヘキシル〕
スルフィド、２，５−ビス（β−エポキシプロピルチオ
メチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（β−エポ
キシプロピルチオエチルチオメチル）−１，４−ジチア
ン、１，３および１，４−ビス（β−エポキシプロピル
チオ）ベンゼン、１，３および１，４−ビス（β−エポ
キシプロピルチオメチル）ベンゼン、ビス〔４−（β−
エポキシプロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビ
ス〔４−（β−エポキシプロピルチオ）フェニル〕プロ
パン、ビス〔４−（β−エポキシプロピルチオ）フェニ
ル〕スルフィド、ビス〔４−（β−エポキシプロピルチ
オ）フェニル〕スルフォン、４，４’−ビス（β−エポ
キシプロピルチオ）ビフェニル等の含硫エポキシ類、お
よびフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエ
ーテル、３，３，３−トリフロロメチルプロピレンオキ
シド、スチレンオキシド、ヘキサフロロプロピレンオキ
シド、シクロヘキセンオキシド、Ｎ−グリシジルフタル
イミド、（ノナフロロ−Ｎ−ブチル）エポキシド、パー
フロロエチルグリシジルエーテル、エピクロロヒドリ
ン、エピブロモヒドリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリ
ン、３−［２−（パーフロロヘキシル）エトキシ］−
１，２−エポキシプロパン等がエポキシオリゴマー化合
物として好適に使用できる。

【００４６】上記チイランオリゴマー化合物としては、
上記エポキシオリゴマー化合物のエポキシ基を、例えば
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２８，２２９（１９６３）に
示されるようにしてエチレンスルフィド基に置換したも
のを使用することができる。

【００４７】上記オキセタンオリゴマー化合物として
は、例えばビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメト
キシ）メチル〕ベンゼン（商品名「ＸＤＯ」、東亞合成
（株）製）、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメ
トキシ）メチル−フェニル〕メタン、ビス〔（３−エチ
ル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕エ
ーテル、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル−フェニル〕プロパン、ビス〔（３−エチル
−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕スル
ホン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル−フェニル〕ケトン、ビス〔（３−エチル−
３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ヘキサ
フロロプロパン、トリ〔（３−エチル−３−オキセタニ
ルメトキシ）メチル〕ベンゼン、テトラ〔（３−エチル
−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン等を挙
げることができる。

【００４８】上記アルコキシメチル化メラミン化合物、
アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物、アルコキ
シメチル化グリコールウリル化合物およびアルコキシメ
チル化尿素化合物は、それぞれメチロール化メラミン化
合物、メチロール化ベンゾグアナミン化合物、メチロー
ル化グリコールウリル化合物およびメチロール化尿素化
合物のメチロール基をアルコキシメチル基に変換するこ
とにより得られる。このアルコキシメチル基の種類につ
いては特に限定されるものではなく、例えばメトキシメ
チル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブト
キシメチル基等とすることができる。

【００４９】これらの市販品としては、例えばサイメル
３００、同３０１、同３０３、同３７０、同３２５、同
３２７、同７０１、同２６６、同２６７、同２３８、同
１１４１、同２７２、同２０２、同１１５６、同１１５
８、同１１２３、同１１７０、同１１７４、同ＵＦＲ６
５、同３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、
ニカラックＭｘ−７５０、同Ｍｘ−０３２、同Ｍｘ−７
０６、同Ｍｘ−７０８、同Ｍｘ−４０、同Ｍｘ−３１、
同Ｍｓ−１１、同Ｍｗ−３０（以上、三和ケミカル
（株）製）等を挙げることができる。

【００５０】上記イソシアネート化合物としては、例え
ばフェニレン−１，３−ジイソシアネート、フェニレン
−１，４−ジイソシアネート、１−メトキシフェニレン
−２，４−ジイソシアネート、１−メチルフェニレン−
２，４−ジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシ
アネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３
−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジ
イソシアネート、ビフェニレン−４，４’−ジイソシア
ネート、３，３’−ジメトキシビフェニレン−４，４’
−ジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニレン
−４，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−
２，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，
４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメトキシジフェ
ニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−
ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネー
ト、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、シクロブ
チレン−１，３−ジイソシアネート、シクロペンチレン
−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，
３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，４−ジ
イソシアネート、１−メチルシクロヘキシレン−２，４
−ジイソシアネート、１−メチルシクロヘキシレン−
２，６−ジイソシアネート、１−イソシアネート−３，
３，５−トリメチル−５−イソシアネートメチルシクロ
ヘキサン、シクロヘキサン−１，３−ビス（メチルイソ
シアネート）、シクロヘキサン−１，４−ビス（メチル
イソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ジシ
クロヘキシルメタン−２，４’−ジイソシアネート、ジ
シクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、
エチレンジイソシアネート、テトラメチレン−１，４−
ジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシ
アネート、ドデカメチレン−１，１２−ジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネートメチルエステル等や、これ
らの有機ジイソシアネートの化学量論的過剰量と２官能
性活性水素含有化合物との反応により得られる両末端イ
ソシアネートプレポリマー等を挙げることができる。

【００５１】また、場合により上記ジイソシアネートと
ともに、例えばフェニル−１，３，５−トリイソシアネ
ート、ジフェニルメタン−２，４，４’−トリイソシア
ネート、ジフェニルメタン−２，５，４’−トリイソシ
アネート、トリフェニルメタン−２，４’，４”−トリ
イソシアネート、トリフェニルメタン−４，４’，４”
−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４，
２’，４’−テトライソシアネート、ジフェニルメタン
−２，５，２’，５’−テトライソシアネート、シクロ
ヘキサン−１，３，５−トリイソシアネート、シクロヘ
キサン−１，３，５−トリス（メチルイソシアネー
ト）、３，５−ジメチルシクロヘキサン−１，３，５−
トリス（メチルイソシアネート）、１，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン−１，３，５−トリス（メチルイソ
シアネート）、ジシクロヘキシルメタン−２，４，２’
−トリイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−２，
４，４’−トリイソシアネート等の３官能以上の有機ポ
リイソシアネートや、これらの３官能以上の有機ポリイ
ソシアネートの化学量論的過剰量と２官能以上の多官能
性活性水素含有化合物との反応により得られる末端イソ
シアネートプレポリマー等を併用してもよい。

【００５２】上記オキサゾリン化合物としては、２，
２’−ビス（２−オキサゾリン）、４−フラン−２−イ
ルメチレン−２−フェニル−４Ｈ−オキサゾール−５−
オン、１，４−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサゾ
リル）ベンゼン、１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２
−オキサゾリル）ベンゼン、２，３−ビス（４−イソプ
ロペニル−２−オキサゾリン−２−イル）ブタン、２，
２’−ビス−４−ベンジル−２−オキサゾリン、２，６
−ビス（イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル）
ピリジン、２，２’−イソプロピリデンビス（４−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン）、２，２’−イソプ
ロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、
２，２’−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
オキサゾリン）、２，２’−メチレンビス（４−フェニ
ル−２−オキサゾリン）等が挙げられる。

【００５３】上記オキサジン化合物としては、２，２’
−ビス（２−オキサジン）、４−フラン−２−イルメチ
レン−２−フェニル−４Ｈ−オキサジル−５−オン、
１，４−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサジル）ベ
ンゼン、１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサ
ジル）ベンゼン、２，３−ビス（４−イソプロペニル−
２−オキサジン−２−イル）ブタン、２，２’−ビス−
４−ベンジル−２−オキサジン、２，６−ビス（イソプ
ロピル−２−オキサジン−２−イル）ピリジン、２，
２’−イソプロピリデンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−オキサジン）、２，２’−イソプロピリデンビス
（４−フェニル−２−オキサジン）、２，２’−メチレ
ンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサジン）、
２，２’−メチレンビス（４−フェニル−２−オキサジ
ン）等が挙げられる。

【００５４】上記ハロゲン化シリル化合物としては、テ
トラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨード
シラン、トリクロロブロモシラン、ジクロロジブロモシ
ラン等のテトラハロゲノシラン類、メチルトリクロロシ
ラン、メチルジクロロブロモシラン、シクロヘキシルト
リクロロシラン等のモノアルキルトリハロゲノシラン
類、フェニルトリクロロシラン、ナフチルトリクロロシ
ラン、４−クロロフェニルトリクロロシラン、フェニル
ジクロロブロモシラン等のモノアリールトリハロゲノシ
ラン類、フェノキシトリクロロシラン、フェノキシジク
ロロブロモシラン等のモノアリールオキシトリハロゲノ
シラン類、メトキシトリクロロシラン、エトキシトリク
ロロシラン等のモノアルコキシトリハロゲノシラン類、
ジメチルジクロロシラン、メチル（エチル）ジクロロシ
ラン、メチル（シクロヘキシル）ジクロロシラン等のジ
アルキルジハロゲノシラン類、メチル（フェニル）ジク
ロロシラン等のモノアルキルモノアリールジハロゲノシ
ラン類、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジハ
ロゲノシラン類、ジフェノキシジクロロシラン等のジア
リールオキシジハロゲノシラン類、メチル（フェノキ
シ）ジクロロシラン等のモノアルキルモノアリールオキ
シジハロゲノシラン類、フェニル（フェノキシ）ジクロ
ロシラン等のモノアリールモノアリールオキシジハロゲ
ノシラン類、ジエトキシジクロロシラン等のジアルコキ
シジハロゲノシラン類、メチル（エトキシ）ジクロロシ
ラン等のモノアルキルモノアルコキシジクロロシラン
類、フェニル（エトキシ）ジクロロシラン等のモノアリ
ールモノエトキシジクロロシラン類、トリメチルクロロ
シラン、ジメチル（エチル）クロロシラン、ジメチル
（シクロヘキシル）クロロシラン等のトリアルキルモノ
ハロゲノシラン類、ジメチル（フェニル）クロロシラン
等のジアルキルモノアリールモノハロゲノシラン類、メ
チル（ジフェニル）クロロシラン等のモノアルキルジア
リールモノハロゲノシラン類、トリフェノキシクロロシ
ラン等のトリアリールオキシモノハロゲノシラン類、メ
チル（ジフェノキシ）クロロシラン等のモノアルキルジ
アリールオキシモノハロゲノシラン類、フェニル（ジフ
ェノキシ）クロロシラン等のモノアリールジアリールオ
キシモノハロゲノシラン類、ジメチル（フェノキシ）ク
ロロシラン等のジアルキルモノアリールオキシモノハロ
ゲノシラン類、ジフェニル（フェノキシ）クロロシラン
等のジアリールモノアリールオキシモノハロゲノシラン
類、メチル（フェニル）（フェノキシ）クロロシラン等
のモノアルキルモノアリールモノアリールオキシモノハ
ロゲノシラン類、トリエトキシクロロシラン等のトリエ
トキシモノハロゲノシラン類、およびテトラクロロシラ
ンの２〜５量体等の上記化合物のオリゴマー等が挙げら
れる。

【００５５】上記その他のシリル化合物としては、ヘキ
サメチルジシラザン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラ
ン、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミ
ド、ジエチルアミノトリメチルシラン、トリメチルシラ
ノール、ヘキサメチルジシロキサン、クロルメチルジメ
チルエトキシシラン、アセチルトリフェニルシラン、エ
トキシトリフェニルシラン、トリフェニルシラノール、
トリエチルシラノール、トリプロピルシラノール、トリ
ブチルシラノール、ヘキサエチルジシロキサン、トリメ
チルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリ
エチルメトキシシラン、トリエチルエトキシラン、アセ
トキシエチルジメチルクロロシラン、１，３−ビス（ヒ
ドロキシブチル）テトラメチルジシロキサン、１，３−
ビス（ヒドロキシプロピル）テトラメチルジシロキサ
ン、γ−アミノプロピルメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエ
チル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−ジ
ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイ
ドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（Ｎ−ビニルベ
ンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン・塩酸塩、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、トリメチルクロロシラン、ヘキサメチルジ
シラザン、Ｎ−トリメチルシリルイミダゾール、ビス
（トリメチルシリル）ウレア、トリメチルシリルアセト
アミド、ビストリメチルシリルアセトアミド、トリメチ
ルシリルイソシアネート、トリメチルメトキシシラン、
トリメチルエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ｔ−ブチルジメチル
クロロシラン、ｔ−ブチルジフェニルクロロシラン、ト
リイソプロピルクロロシラン、ｎ−プロピルトリメトキ
シシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシ
ルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラ
ン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、１，６−ビ
ス（トリメトキシシリル）ヘキサン、ジメチルシリルジ
イソシアネート、メチルシリルトリイソシアネート、フ
ェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、およびフェニルシリルトリイソシアネート等が挙げ
られる。

【００５６】反応性オリゴマー化合物としては、上記に
記したような公知の化合物が何ら制限なく使用でき、使
用する（Ｂ）成分の屈折率に応じて好ましい屈折率を有
するものを任意に選択できるが、（Ｂ）成分との屈折率
差を大きくする目的で芳香環や硫黄原子を含有する化合
物が好適に用いられる場合がある。

【００５７】本発明における（Ａ）重合性化合物は、１
ｔｏｒｒ（１３３．３Ｐａ）における沸点が、好ましく
は１６０℃以下、より好ましくは１３０℃以下、である
化合物が少なくとも２０重量％含有されることが好まし
い。２０重量％未満では、大きい屈折率差を与える組成
物とならない場合がある。

【００５８】前記した（Ａ）重合性化合物の中の反応性
オリゴマー化合物以外の例示化合物のうち、ビニル芳香
族化合物およびビニルエーテル系化合物および（メタ）
アクリル酸系化合物は１ｔｏｒｒにおける沸点が１６０
℃以下の重合性化合物を好適に提供する。

【００５９】一方、（Ａ）重合性化合物として、反応性
オリゴマー化合物を併用することにより、本発明の方法
により形成された屈折率パターンの強度が向上する。
（Ａ）成分として列記したこれらの化合物は単独で、あ
るいは２種以上を一緒に用いることができる。

【００６０】（Ｂ）非重合性化合物 本発明に用いられる（Ｂ）成分は、酸または塩基または
ラジカルに対して安定であり、好ましくは光学的に透明
性が高い材料である。（Ｂ）成分の屈折率は、用途によ
り好ましい値に任意に設定および調節することができ
る。化合物（Ｂ）の屈折率ｎ_Bは、重合性化合物（Ａ）
の重合体の屈折率ｎ_Aより小さく、特に下記数式（１）
の関係を満たすものが特に好ましい。 ｎ_A−ｎ_B≧０．０５ ．．．（１） 非重合性化合物（Ｂ）はバインダー性重合体すなわち化
合物（Ａ）のバインダーとなる性能を備えた重合体であ
ることができる。

【００６１】（Ｂ）バインダー性重合体としては、例え
ばアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、シリコン
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリシロキサ
ン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ビニ
ルエーテル系樹脂、ビニルエステル系樹脂などが挙げら
れる。使用する化合物（Ａ）の重合体の屈折率に依存し
て、用いられる好ましい（Ｂ）バインダー性重合体を任
意に選択することができる。特に化合物（Ａ）の重合体
との屈折率差を大きくする目的や、光路長の長いものの
伝達損失を低減する目的において、上記樹脂類の水素原
子をフッ素原子に置換した（Ｂ）バインダー性重合体が
好適に用いられる場合がある。

【００６２】（Ｂ）バインダー性重合体のさらなる具体
例としては、下記重合体を挙げることができる。なお、
カッコ内の数字はｄ線による屈折率の値である。

【００６３】例えば、ポリビニリデンフルオライド
（１．４２）、ポリジメチルシロキサン（１．４３）、
ポリトリフルオロエチルメタクリレート（１．４４）、
ポリオキシプロピレン（１．４５）、ポリビニルイソブ
チルエーテル（１．４５）、ポリビニルエチルエーテル
（１．４５）、ポリオキシエチレン（１．４６）、ポリ
ビニルブチルエーテル（１．４６）、ポリビニルペンチ
ルエーテル（１．４６）、ポリビニルヘキシルエーテル
（１．４６）、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）
（１．４６〜１．４７）、セルロースアセテートブチレ
ート（１．４６〜１．４９）、ポリ（４−フルオロ−２
−トリフルオロメチルスチレン）（１．４６）、ポリビ
ニルオクチルエーテル（１．４６）、ポリ（ビニル２−
エチルヘキシルエーテル）（１．４６）、ポリビニルデ
シルエーテル（１．４６）、ポリ（２−メトキシエチル
アクリレート）（１．４６）、ポリブチルアクリレート
（１．４６）、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレート）
（１．４６）、ポリビニルドデシルエーテル（１．４
６）、ポリ（３−エトキシプロピルアクリレート）
（１．４７）、ポリオキシカルボニルテトラメチレン
（１．４７）、ポリビニルプロピオネート（１．４
７）、ポリビニルアセテート（１．４７）、ポリビニル
メチルエーテル（１．４７）、ポリエチルアクリレート
（１．４７）、エチレン−ビニルアセテート共重合体
（１．４７〜１．５０）、（８０％〜２０％ビニルアセ
テート）セルロースプロピオネート（１．４７〜１．４
９）、セルロースアセテートプロピオネート（１．４
７）、ベンジルセルロース（１．４７〜１．５８）、フ
ェノール−フォルムアルデヒド樹脂（１．４７〜１．７
０）、セルローストリアセテート（１．４７〜１．４
８）、ポリビニルメチルエーテル（アイソタクティッ
ク）（１．４７）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリ
レート）（１．４７）、ポリ（２−エトキシエチルアク
リレート）（１．４７）、ポリメチルアクリレート
（１．４７〜１．４８）、ポリイソプロピルメタクリレ
ート（１．４７）、ポリ（１−デセン）（１．４７）、
ポリプロピレン（アタクティック，密度０．８５７５ｇ
／ｃｍ³）（１．４７）、ポリ（ビニルｓｅｃ−ブチル
エーテル）（アイソタクティック）（１．４７）、ポリ
ドデシルメタクリレート（１．４７）、ポリオキシエチ
レンオキシスクシノイル（１．４７）、（ポリエチレン
スクシネート）ポリテトラデシルメタクリレート（１．
４７）、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰＲ−ゴ
ム）（１．４７〜１．４８）、ポリヘキサデシルメタク
リレート（１．４８）、ポリビニルフォルメート（１．
４８）、ポリ（２−フルオロエチルメタクリレート）
（１．４８）、ポリイソブチルメタクリレート（１．４
８）、エチルセルロース（１．４８）、ポリビニルアセ
タール（１．４８〜１．５０）、セルロースアセテート
（１．４８〜１．５０）、セルローストリプロピオネー
ト（１．４８〜１．４９）、ポリオキシメチレン（１．
４８）、ポリビニルブチラール（１．４８〜１．４
９）、ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート）（１．４
８）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）（１．４
８）、ポリエチリデンジメタクリレート（１．４８）、
ポリ（２−エトキシエチルメタクリレート）（１．４
８）、ポリオキシエチレンオキシマレオイル（１．４
８）、（ポリエチレンマレート）ポリ（ｎ−プロピルメ
タクリレート）（１．４８）、ポリ（３，３，５−トリ
メチルシクロヘキシルメタクリレート）（１．４９）、
ポリエチルメタクリレート（１．４９）、ポリ（２−ニ
トロ−２−メチルプロピルメタクリレート）（１．４
９）、ポリトリエチルカルビニルメタクリレート（１．
４９）、ポリ（１，１−ジエチルプロピルメタクリレー
ト）（１．４９）、ポリメチルメタクリレート（１．４
９）、ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン）（１．
４９）、ポリビニルアルコール（１．４９〜１．５
３）、

【００６４】ポリエチルグリコレートメタクリレート
（１．４９）、ポリ（３−メチルシクロヘキシルメタク
リレート）（１．４９）、ポリ（シクロヘキシルα−エ
トキシアクリレート）（１．５０）、メチルセルロース
（低粘度）（１．５０）、ポリ（４−メチルシクロヘキ
シルメタクリレート）（１．５０）、ポリデカメチレン
グリコールジメタクリレート（１．５０）、ポリウレタ
ン（１．５０〜１．６０）、ポリ（１，２−ブタジエ
ン）（１．５０）、ポリビニルフォルマール（１．５
０）、ポリ（２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチ
レン）（１．５０）、セルロースニトレート（１．５０
〜１．５１）、ポリ（ｓｅｃ−ブチルα−クロロアクリ
レート）（１．５０）、ポリ（２−ヘプチル−１，３−
ブタジエン）（１．５０）、ポリ（エチルα−クロロア
クリレート）（１．５０）、ポリ（２−イソプロピル−
１，３ブタジエン（１．５０）、ポリ（２−メチルシク
ロヘキシルメタクリレート）（１．５０）、ポリプロピ
レン（密度０．９０７５ｇ／ｃｍ³）（１．５０）、ポ
リイソブテン（１．５１）、ポリボルニルメタクリレー
ト（１．５１）、ポリ（２−ｔ−ブチル−１，３−ブタ
ジエン）（１．５１）、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート（１．５１）、ポリシクロヘキシルメタクリ
レート（１．５１）、ポリ（シクロヘキサンジオール−
１，４−ジメタクリレート）（１．５１）、

【００６５】ブチルゴム（未加硫）（１．５１）、ポリ
テトラハイドロフルフリルメタクリレート）（１．５
１）、グッタペルカ（β）（１．５１）、ポリエチレン
アイオノマー（１．５１）、ポリオキシエチレン（高分
子量）（１．５１〜１．５４）、ポリエチレン（密度
０．９１４ｇ／ｃｍ³）（１．５１）、（密度０．９４
〜０．９４５ｇ／ｃｍ³）（１．５２〜１．５３）、
（密度０．９６５ｇ／ｃｍ³）（１．５５）、ポリ（１
−メチルシクロヘキシルメタクリレート）（１．５
１）、ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）
（１．５１）、ポリビニルクロロアセテート（１．５
１）、ポリブテン（アイソタクティック）（１．５
１）、ポリビニルメタクリレート（１．５１）、ポリ
（Ｎ−ブチル−メタクリルアミド）（１．５１）、グッ
タペルカ（α）（１．５１）、テルペン樹脂（１．５
２）、ポリ（１，３−ブタジエン）（１．５２）、セラ
ック（１．５１〜１．５３）、ポリ（メチルα−クロロ
アクリレート）（１．５２）、ポリ（２−クロロエチル
メタクリレート）（１．５２）、ポリ（２−ジエチルア
ミノエチルメタクリレート）（１．５２）、ポリ（２−
クロロシクロヘキシルメタクリレート）（１．５２）、
ポリ（１，３−ブタジエン）（３５％シス；５６％トラ
ンス １．５１８０；７％１，２−含有量）、天然ゴム
（１．５２）、ポリアリルメタクリレート（１．５
２）、

【００６６】ポリビニルクロライド＋４０％ジオクチル
フタレート（１．５２）、ポリアクリロニトリル（１．
５２）、ポリメタクリロニトリル（１．５２）、ポリ
（１，３−ブタジエン）（シス型リッチ）（１．５
２）、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体（１．５
２）、ポリメチルイソプロペニルケトン（１．５２）、
ポリイソプレン（１．５２）、ポリエステル樹脂リジッ
ド（約５０％スチレン）（１．５２〜１．５４）、ポリ
（Ｎ−（２−メトキシエチル）メタクリルアミド）
（１．５２）、ポリ（２，３−ジメチルブタジエン）
（メチルゴム）（１．５３）、ビニルクロライド−ビニ
ルアセテート共重合体（９５／５〜９０／１０）（１．
５３〜１．５４）、ポリアクリックアシド（１．５
３）、ポリ（１，３−ジクロロプロピルメタクリレー
ト）（１．５３）、ポリ（２−クロロ−１−（クロロメ
チル）エチルメタクリレート）（１．５３）、ポリアク
ロレイン（１．５３）、ポリ（１−ビニル−２−ピロリ
ドン）（１．５３）、塩酸化ゴム（１．５３〜１．５
５）、ナイロン６；ナイロン６，６；ナイロン６，１０
（成型体）（１．５３）、ブタジエン−スチレン共重合
体（約３０％スチレン）（１．５３）、ブロック共重合
体ポリ（シクロヘキシルα−クロロアクリレート）
（１．５３）、ポリ（２−クロロエチルα−クロロアク
リレート）（１．５３）、ブタジエン−スチレン共重合
体（約７５／２５）（１．５４）、ポリ（２−アミノエ
チルメタクリレート）（１．５４）、ポリフルフリルメ
タクリレート（１．５４）、ポリブチルメルカプチルメ
タクリレート（１．５４）、ポリ（１−フェニル−Ｎ−
アミルメタクリレート）（１．５４）、ポリ（Ｎ−メチ
ル−メタクリルアミド）（１．５４）、セルロース
（１．５４）、ポリビニルクロライド（１．５４〜１．
５５）、ウレアフォルムアルデヒド樹脂（１．５４〜
１．５６）、ポリ（ｓｅｃ−ブチルα−ブロモアクリレ
ート）（１．５４）、ポリ（シクロヘキシルα−ブロモ
アクリレート）（１．５４）、ポリ（２−ブロモエチル
メタクリレート）（１．５４）、ポリジヒドロアビエチ
ン酸（１．５４）、ポリアビエチン酸（１．５４６）、
ポリエチルメルカプチルメタクリレート（１．５５）、
ポリ（Ｎ−アリルメタクリルアミド）（１．５５）、ポ
リ（１−フェニルエチルメタクリレート）（１．５
５）、ポリビニルフラン（１．５５）、ポリ（２−ビニ
ルテトラヒドロフラン）（１．５５）、ポリ（ビニルク
ロライド）＋４０％トリクレジルフォスフェート（１．
５５）、ポリ（ｐ−メトキシベンジルメタクリレート）
（１．５５）、ポリイソプロピルメタクリレート（１．
５５）、ポリ（ｐ−イソプロピルスチレン）（１．５
５）、ポリクロロプレン（１．５５〜１．５６）、ポリ
（オキシエチレン−α−ベンゾエート−ω−メタクリレ
ート）（１．５６）、ポリ（ｐ，ｐ’−キシリレニルジ
メタクリレート）（１．５６）、ポリ（１−フェニルア
リルメタクリレート）（１．５６）、ポリ（ｐ−シクロ
ヘキシルフェニルメタクリレート）（１．５６）、ポリ
（２−フェニルエチルメタクリレート）（１．５６）、
ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１
−プロピル（１．５６）、ポリ（１−（ｏ−クロロフェ
ニル）エチルメタクリレート）（１．５６）、

【００６７】スチレン−無水マレイン酸共重合体（１．
５６）、ポリ（１−フェニルシクロヘキシルメタクリレ
ート）（１．５６）、ポリ（オキシカルボニロキシ−
１，４−フェニレン−１，３−ジメチル−ブチリデン−
１，４−フェニレン）（１．５７）、ポリ（メチルα−
ブロモアクリレート）（１．５７）、ポリベンジルメタ
クリレート（１．５７）、ポリ（２−（フェニルスルフ
ォニル）エチルメタクリレート）（１．５７）、ポリ
（ｍ−クレジルメタクリレート）（１．５７）、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体（約７５／２５）（１．
５７）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニ
レンイソブチリデン−１，４−フェニレン）（１．５
７）、ポリ（ｏ−メトキシフェニルメタクリレート）
（１．５７）、ポリフェニルメタクリレート（１．５
７）、ポリ（ｏ−クレジルメタクリレート）（１．５
７）、ポリジアリルフタレート（１．５７）、ポリ
（２，３−ジブロモプロピルメタクリレート）（１．５
７）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレ
ン−１−メチル−ブチリデン−１，４−フェニレン）
（１．５７）、ポリ（オキシ−２，６−ジメチルフェニ
レン）（１．５８）、ポリオキシエチレンオキシテレフ
タロイル（アモルファス）（１．５８）、ポリエチレン
テレフタレート（１．５１〜１．６４）、ポリビニルベ
ンゾエート（１．５８）、ポリ（オキシカルボニロキシ
−１，４−フェニレンブチリデン−１，４−フェニレ
ン）（１．５８）、

【００６８】ポリ（１，２−ジフェニルエチルメタクリ
レート）（１．５８）、ポリ（ｏ−クロロベンジルメタ
クリレート）（１．５８）、ポリ（オキシカルボニロキ
シ−１，４−フェニレン−ｓｅｃ−ブチリデン−１，４
−フェニレン）（１．５８）、ポリオキシペンタエリス
リトロキシフタロイル）（１．５８）、ポリ（ｍ−ニト
ロベンジルメタクリレート）（１．５８）、ポリ（オキ
シカルボニロキシ−１，４−フェニレンイソプロピリデ
ン−１，４−フェニレン）（１．５９）、ポリ（Ｎ−
（２−フェニルエチル）メタクリルアミド）（１．５
９）、ポリ（４−メトキシ−２−メチルスチレン）
（１．５９）、ポリ（ｏ−メチルスチレン）（１．５
９）、ポリスチレン（１．５９）、ポリ（オキシカルボ
ニロキシ−１，４−フェニレンシクロヘキシリデン−
１，４−フェニレン）（１．５９）、ポリ（ｏ−メトキ
シスチレン）（１．５９）、ポリジフェニルメチルメタ
クリレート（１．５９）、ポリ（オキシカルボニロキシ
−１，４−フェニレンエチリデン−１，４−フェニレ
ン）（１．５９）、ポリ（ｐ−ブロモフェニルメタクリ
レート）（１．６０）、ポリ（Ｎ−ベンジルメタクリル
アミド）（１．６０）、ポリ（ｐ−メトキシスチレン）
（１．６０）、ポリビニリデンクロライド（１．６０〜
１．６３）、ポリスルフィド（“Ｔｈｉｏｋｏｌ”）
（１．６〜１．７）、ポリ（ｏ−クロロジフェニルメチ
ルメタクリレート）（１．６０）、ポリ（オキシカルボ
ニロキシ−１，４−（２，６−ジクロロ）フェニレン−
イソプロピリデン−１，４−（２，６−ジクロロ）フェ
ニレン）（１．６１）、ポリ（オキシカルボニロキシビ
ス（１，４−（３，５−ジクロロフェニレン）））ポリ
ペンタクロロフェニルメタクリレート（１．６１）、ポ
リ（ｏ−クロロスチレン）（１．６１）、ポリ（フェニ
ルα−ブロモアクリレート）（１．６１）、

【００６９】ポリ（ｐ−ジビニルベンゼン）（１．６
２）、ポリ（Ｎ−ビニルフタルイミド）（１．６２）、
ポリ（２，６−ジクロロスチレン）（１．６２）、ポリ
（β−ナフチルメタクリレート）（１．６３）、ポリ
（α−ナフチルカルビニルメタクリレート）（１．６
３）、ポリサルホン（１．６３）、ポリ（２−ビニルチ
オフェン）（１．６４）、ポリ（α−ナフチルメタクリ
レート）（１．６４）、ポリ（オキシカルボニロキシ−
１，４−フェニレンジフェニル−メチレン−１，４−フ
ェニレン）（１．６５）、ポリビニルフェニルスルフィ
ド（１．６６）、ブチルフェノールフォルムアルデヒド
樹脂（１．６６）、ウレア−チオウレア−フォルムアル
デヒド樹脂（１．６６）、ポリビニルナフタレン（１．
６８）、ポリビニルカルバゾール（１．６８）、ナフタ
レン−フォルムアルデヒド樹脂（１．７０）、フェノー
ル−フォルムアルデヒド樹脂（１．７０）、ポリペンタ
ブロモフェニルメタクリレート（１．７１）等が挙げら
れる。

【００７０】これらのうち、ｄ線屈折率が１．６以下で
あるものが好ましく、１．５以下であるものがさらに好
ましい。（Ｂ）非重合性化合物、特にバインダー性重合
体の重量平均分子量は、好ましくは１００〜５００，０
００であり、より好ましくは１００〜２００，０００で
ある。

【００７１】非重合性化合物（Ｂ）としては、さらに下
記式（１）で表される化合物の加水分解物およびその縮
合物が同様に用いられる。 Ｒ¹ _nＳｉ（ＯＲ²）_4-n ・・・・・・（１） （ここで、Ｒ¹およびＲ²は、同一でも異なっていてもよ
く、それぞれ１価の有機基でありそしてｎは０〜２の整
数である。）

【００７２】上記式（１）において１価の有機基として
は、例えばアルキル基、脂環式基、アリール基、アリル
基、グリシジル基などを挙げることができる。アルキル
基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基などが挙げられる。アルキル基の好ましい炭素
数は１〜５である。これらのアルキル基は鎖状でも、分
岐していてもよく、さらに水素原子がフッ素原子などの
ハロゲン原子で置換されていてもよい。脂環式基として
は、例えばシクロヘキシル基、ノルボルニル基等を挙げ
ることができる。また、アリール基としては、例えばフ
ェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。ま
た、上記式（１）においてｎが０、または１のものを使
用することが好ましい。

【００７３】上記式（１）で表される化合物の具体例と
しては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチル
トリイソプロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシ
シラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチル
トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキ
シシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキ
シシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチ
ルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノ
キシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プ
ロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プ
ロポキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキシシラ
ン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロ
ピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノ
キシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプ
ロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリ−ｎ−プ
ロポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、イソプロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、イソプロ
ピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、イソプロピルトリ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、イソプロピルトリフェノ
キシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチ
ルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキ
シシラン、ｎ−ブチルトリイソプロポキシシラン、ｎ−
ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅ
ｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルイソト
リエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−プロポキ
シシラン、ｓｅｃ−ブチルトリイソプロポキシシラン、
ｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブ
チルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルト
リ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリフ
ェノキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリメトキシシラ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔｅｒｔ−
ブチル−ｎ−プロポキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ
イソプロポキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｎ−ブ
トキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキ
シシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
シラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリフェノキシシラン、シク
ロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエ
トキシシラン、シクロヘキシルトリ−ｎ−プロポキシシ
ラン、シクロヘキシルトリイソプロポキシシラン、シク
ロヘキシルトリ−ｎ−ブトキシシラン、シクロヘキシル
トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、シクロヘキシルトリ−
ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、シクロヘキシルトリフェノ
キシシラン、ノルボルニルトリメトキシシラン、ノルボ
ルニルトリエトキシシラン、ノルボルニルトリ−ｎ−プ
ロポキシシラン、ノルボルニルトリイソプロポキシシラ
ン、ノルボルニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ノルボル
ニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ノルボルニルトリ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ノルボルニルトリフェノ
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルト
リエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラ
ン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリ
−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキ
シシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、
フェニルトリフェノキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プ
ロポキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジ
メチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチルジ−ｓｅｃ−
ブトキシシラン、ジメチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラ
ン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ−ｎ−
プロポキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、
ジエチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチルジ−ｓｅｃ
−ブトキシシラン、ジエチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシ
ラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−ｎ−プロピル
ジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラ
ン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−
ｎ−プロピルジイソプロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピ
ルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｔｅｒｔ−
ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジフェノキシシラ
ン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピル
ジエトキシシラン、ジイソプロピルジ−ｎ−プロポキシ
シラン、ジイソプロピルジイソプロポキシシラン、ジイ
ソプロピルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジイソプロピルジ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジイソプロピルジ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシシラン、ジイソプロピルジフェノキシシラ
ン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル
ジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ
シラン、ジ−ｎ−ブチルジイソプロポキシシラン、ジ−
ｎ−ブチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジフェノキシシラ
ン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ
−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ
−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジイソプロポ
キシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ
−ｓｅｃ−ブチルジフェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルジメトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエト
キシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ
シラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジイソプロポキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルジフェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジエトキシ
シラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−プロポキシシラ
ン、ジシクロヘキシルジイソプロポキシシラン、ジシク
ロヘキシルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジシクロヘキシル
ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジシクロヘキシルジ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシシラン、ジシクロヘキシルジフェノキ
シシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシシラン、ジ
ノルボルニルジエトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジノルボルニルジイソプロ
ポキシシラン、ジノルボルニルジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジノルボルニルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジノ
ルボルニルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジノルボル
ニルジフェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−
プロポキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシラ
ン、ジフェニルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニルジ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニルジ−ｔｅｒｔ−
ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビ
ニルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン等を挙げることがで
きる。また、これらの水素原子の一部または全部がフッ
素原子に置換された化合物が挙げられる。これらのアル
キルアルコキシシランは１種または２種以上で用いられ
る。

【００７４】上記式（１）で表される化合物のうち、Ｒ
¹とＲ²がアルキル基でありそしてｎ＝１のアルキルトリ
アルコキシシランが特に好ましい。このうち、メチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシランが好まし
い。さらに、メチルトリメトキシシランおよび／または
メチルトリエトキシシランを全アルキルアルコキシシラ
ンの７０ｍｏｌ％以上の割合で使用すると、より耐熱性
と屈折率のバランスがとれた硬化物が得られる。加水分
解物およびその縮合物は、ポリスチレン換算重量平均分
子量が５００〜１００，０００であるものが好ましい。

【００７５】（Ｂ）成分として、上記式（１）で示され
る化合物の加水分解物およびその縮合物の加水分解反
応、縮合反応は、下記の如く、水および適宜の触媒の存
在下で行われる。具体的には、上記式（１）で表される
化合物を適当な有機溶媒中に溶解し、この溶液中に水を
断続的にあるいは連続的に添加する。このとき、触媒
は、予め有機溶媒中に溶解または分散しておいてもよ
く、添加される水中に溶解または分散しておいてもよ
い。また、加水分解反応および縮合反応を行うための温
度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは１５〜
８０℃である。

【００７６】上記式（１）で表される化合物の、加水分
解および縮合を行うための水としては、イオン交換水を
用いることが好ましい。また、水の使用量は、上記式
（１）で表される化合物が有するＲ¹Ｏ−で表される基
の合計１モル当たり、０．２５〜３モルとなる量、特に
０．３〜２．５モルとなる量が好ましい。

【００７７】上記式（１）で表される化合物の加水分解
および縮合を行うための触媒としては、例えば金属キレ
ート化合物、有機酸、無機酸、有機塩基、無機塩基など
が用いられうる。

【００７８】触媒として用いられる金属キレート化合物
の具体例としては、トリエトキシ・モノ（アセチルアセ
トナート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセ
チルアセトナート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モ
ノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−ブトキ
シ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｓｅ
ｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、
トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チ
タン、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタ
ン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナー
ト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセ
トナート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチル
アセトナート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス
（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）チタン、モノエトキシ・
トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−プ
ロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モ
ノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）
チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセト
ナート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（ア
セチルアセトナート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・ト
リス（アセチルアセトナート）チタン、テトラキス（ア
セチルアセトナート）チタン、トリエトキシ・モノ（エ
チルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ
・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｉ−
プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、
トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）
チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセト
アセテート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチ
ルアセトアセテート）チタン、ジエトキシ・ビス（エチ
ルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビ
ス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｉ−プロポ
キシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ
−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、
ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテー
ト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトア
セテート）チタン、モノエトキシ・トリス（エチルアセ
トアセテート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス
（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｉ−プロポ
キシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ
−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チ
タン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセト
アセテート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エ
チルアセトアセテート）チタン、テトラキス（エチルア
セトアセテート）チタン、モノ（アセチルアセトナー
ト）トリス（エチルアセトアセテート）チタン、ビス
（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテー
ト）チタン、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エ
チルアセトアセテート）チタン等のチタンキレート化合
物；

【００７９】トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナー
ト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセ
チルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキ
シ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ
−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコ
ニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセ
トナート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ
（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジエトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−
プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウ
ム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナー
ト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチル
アセトナート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・
ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｔ−
ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウ
ム、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジ
ルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチル
アセトナート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・
トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−
ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコ
ニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルア
セトナート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリ
ス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトラキス
（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリエトキシ
・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ
−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジ
ルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセ
トアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モ
ノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジル
コニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトア
セテート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（エチルア
セトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・
ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ
−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコ
ニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテ
ート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エ
チルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキ
シ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モ
ノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコ
ニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセト
アセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・ト
リス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−
ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジル
コニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルア
セトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・
トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テト
ラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ
（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテ
ート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナート）ビ
ス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリス
（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテー
ト）ジルコニウム等のジルコニウムキレート化合物；

【００８０】トリス（アセチルアセトナート）アルミニ
ウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム
等のアルミニウムキレート化合物などを挙げることがで
きる。

【００８１】触媒として用いられる有機酸の具体例とし
ては、例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン
酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、
デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリット酸、
アラキドン酸、ミキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレ
イン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、サ
リチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、
ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ
酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエ
ン酸、酒石酸等を挙げることができる。

【００８２】触媒として用いられる無機酸の具体例とし
ては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸等を挙
げることができる。

【００８３】触媒として用いられる有機塩基の具体例と
しては、例えばピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロ
リジン、ピペリジン、ピコリン、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシ
クロオクラン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロ
ウンデセン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド等を挙げることができる。

【００８４】触媒として用いられる無機塩基としては、
例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム等を挙げること
ができる。これらの中では、金属キレート化合物、有機
酸または無機酸を触媒として用いることが好ましく、よ
り好ましく用いられるのはチタンキレート化合物または
有機酸である。

【００８５】これらの化合物は１種単独であるいは２種
以上組み合わせて触媒として用いることができる。ま
た、触媒の使用量は、ＳｉＯ₂に換算して上記式（１）
で表される化合物１００重量部に対して、好ましくは、
０．００１〜１０重量部、より好ましくは０．０１〜１
０重量部の範囲である。

【００８６】さらに、上記式（１）で表される化合物の
加水分解および縮合を行った後、残存する水分、およ
び、反応副生成物として生ずるアルコール類の除去処理
を行うことが好ましい。

【００８７】非重合性重合体（Ｂ）としては、さらに下
記式（２）で表されるラダー型ポリシルセスキオキサ
ン、その加水分解物およびその加水分解物の縮合物が好
適に用いられる。

【００８８】

【化１】

【００８９】（ここで、Ｒ³は１価の有機基であり、Ｒ⁴
は水素原子または１価の有機基でありそして、Ｒ³およ
びＲ⁴は同一でも異なっていてもよい。またｎは分子量
に対応する正の整数である。）

【００９０】上記式（２）において１価の有機基として
は、例えばアルキル基、脂環式基、アリール基、アリル
基、グリシジル基などを挙げることができる。ここでア
ルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基などが挙げられる。好ましいアルキル基の炭素数は
１〜５である。これらのアルキル基は鎖状でも、分岐し
ていてもよい。脂環式基としては、例えばシクロヘキシ
ル基、ノルボルニル基等を挙げることができる。アリー
ル基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、トリル
基などを挙げることができる。さらにこれらアルキル
基、アリール基、アリル基、グリシジル基の水素原子
は、フッ素原子などのハロゲン原子で置換されていても
よい。

【００９１】上記式（２）で表される構造を有する化合
物の製造方法は、例えば特開昭５６−１５７８８５号公
報、特開昭５７−４０５２６号公報、特開昭５８−６９
２１７号公報等に開示されている。これらの市販品とし
ては、ＧＲ−１００、ＧＲ−６５０、ＧＲ−９０８、Ｇ
Ｒ−９５０（以上、昭和電工（株）製）等を挙げること
ができる。

【００９２】上記式（２）で表される化合物の加水分解
反応および縮合反応は、上記式（１）で示される化合物
の加水分解／縮合反応の反応条件と類似の条件（触媒、
水、反応温度）を適用することができる。これら上記式
（２）で表される化合物、その加水分解物および縮合物
の重量平均分子量はポリスチレン換算で５００〜５０
０，０００であるものが好ましく、５００〜３００，０
００であるものがより好ましく用いられる。

【００９３】（Ｂ）成分は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の
合計１００重量部に対して、１０重量部から９５重量部
であることが好ましく、１０重量部から９０重量部であ
ることがより好ましく、２０重量部から９０重量部であ
ることがさらに好ましく、２０重量部から７０重量部で
あるのが特に好ましい。（Ｂ）成分が１０重量部以下の
場合、屈折率変化材料が脆くなりやすく、９０重量部以
上の場合では得られる屈折率差が小さくなりやすい。

【００９４】（Ｃ）感放射線重合開始剤 本発明に用いられる（Ｃ）感放射線重合開始剤は、例え
ば感放射線性酸発生剤、または感放射線性塩基発生剤、
または感放射線性ラジカル発生剤であることができる。
この場合、（Ａ）重合性化合物として酸反応性化合物を
使用するときには（Ｃ）感放射線性分解剤としては感放
射線性酸発生剤を使用し、（Ａ）重合性化合物として塩
基反応性化合物を使用するときには（Ｃ）感放射線性分
解剤としては感放射線性塩基発生剤を使用し、（Ａ）重
合性化合物としてラジカル反応性化合物を使用するとき
には（Ｃ）感放射線性分解剤としては感放射線性ラジカ
ル発生剤を使用することが好ましい。

【００９５】上記感放射線性酸発生剤としては、例えば
トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨー
ドニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四ア
ンモニウム塩類、スルホン酸エステル類等を用いること
ができる。

【００９６】上記トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類
としては、例えば２，４，６−トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ク
ロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（２−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（３−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メ
トキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（３−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチ
オフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３
−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−β
−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（３，４，５−トリメトキシ−β−
スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メ
チルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２
−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−
メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−
（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニ
ル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン等が挙げられる。

【００９７】上記ジアリールヨードニウム塩類として
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−
ジフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウ
ムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ジ
フェニルヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオ
ロメチルフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホス
ホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、
４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニ
ウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニ
ルフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフル
オロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニ
ルヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）
ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム
ヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボ
レート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニ
ウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセ
テート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムブチルトリス（２，
６−ジフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキシルトリス（ｐ
−クロロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）ヨードニウムヘキシルトリス（３−トリ
フルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。

【００９８】上記トリアリールスルホニウム塩類として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルト
リス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、トリフ
ェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニ
ル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキシルトリ
ス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−
メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオ
ロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニ
ルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジ
フェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メ
トキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエン
スルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボ
レート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム
ヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−
メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリ
ス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−
フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルス
ルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロ
アセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスル
ホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチ
オフェニルジフェニルスルホニウムブチルトリス（２，
６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−
クロロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフル
オロメチルフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−
ナフタレニル）ジメチルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチル
スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−ヒドロ
キシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレ
ニル）ジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホ
ナート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチル
スルホニウムトリフルオロアセテート、４−ヒドロキシ
−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニ
ル）ジメチルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフ
ルオロフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフ
タレニル）ジメチルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−
クロロフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフ
タレニル）ジメチルスルホニウムヘキシルトリス（３−
トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられ
る。

【００９９】上記第四アンモニウム塩類としては、例え
ばテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、
テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、テトラメチルアンモニウムトリフルオロメタンス
ルホナート、テトラメチルアンモニウムトリフルオロア
セテート、テトラメチルアンモニウム−ｐ−トルエンス
ルホナート、テトラメチルアンモニウムブチルトリス
（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチ
ルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）
ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス
（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、テトラ
ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブ
チルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、テトラ
ブチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、テト
ラブチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナー
ト、テトラブチルアンモニウムトリフルオロアセテー
ト、テトラブチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、テトラブチルアンモニウムブチルトリス（２，６
−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラブチルアンモ
ニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレー
ト、テトラブチルアンモニウムヘキシルトリス（３−ト
リフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルトリメ
チルアンモニウムテトラフルオロボレート、ベンジルト
リメチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ベンジルトリメチルアンモニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモニウムト
リフルオロアセテート、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム−ｐ−トルエンスルホナート、ベンジルトリメチルア
ンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニ
ル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキシ
ルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルト
リメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオ
ロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニ
ルアンモニウムテトラフルオロボレート、ベンジルジメ
チルフェニルアンモニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフル
オロアルセネート、ベンジルジメチルフェニルアンモニ
ウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジルジメチ
ルフェニルアンモニウムトリフルオロアセテート、ベン
ジルジメチルフェニルアンモニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチ
ルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベ
ンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス
（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフ
ェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロ
メチルフェニル）ボレート、Ｎ−シンナミリデンエチル
フェニルアンモニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−シ
ンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキサフルオ
ロホスホネート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルア
ンモニウムヘキサフルオロアルセネート、Ｎ−シンナミ
リデンエチルフェニルアンモニウムトリフルオロメタン
スルホナート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアン
モニウムトリフルオロアセテート、Ｎ−シンナミリデン
エチルフェニルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナー
ト、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムブ
チルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキシ
ルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、Ｎーシンナ
ミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス
（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げ
られる。

【０１００】上記スルホン酸エステル類としては、例え
ばα−ヒドロキシメチルベンゾイン−ｐ−トルエンスル
ホン酸エステル、α−ヒドロキシメチルベンゾイン−ト
リフルオロメタンスルホン酸エステル、α−ヒドロキシ
メチルベンゾイン−メタンスルホン酸エステル、ピロガ
ロール−トリ（ｐ−トルエンスルホン酸）エステル、ピ
ロガロール−トリ（トリフルオロメタンスルホン酸）エ
ステル、ピロガロール−トリメタンスルホン酸エステ
ル、２，４−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン
酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−トリフルオロ
メタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル
−メタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジ
ル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、２，６−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスル
ホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−トリフル
オロメタンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベン
ジル−メタンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベ
ンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸エステル、２−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホ
ン酸エステル、２−ニトロベンジル−トリフルオロメタ
ンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−メタンス
ルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−１，２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４−ニト
ロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、４−ニ
トロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステ
ル、４−ニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、
４−ニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミ
ド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ
ナフタルイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステ
ル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−メタンスルホン酸
エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３
−ジカルボキシイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステ
ル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカ
ルボキシイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステ
ル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカ
ルボキシイミド−メタンスルホン酸エステル、２，４，
６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）
エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸エステル等が挙げられる。

【０１０１】これらの化合物のうち、トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン類としては、２−（３−クロロフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチ
リル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イ
ル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−
イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−
２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジンまたは２−（４−メト
キシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン；ジアリールヨードニウム塩類として
は、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナー
ト、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフ
ルオロメタンスルホナートまたは４−メトキシフェニル
フェニルヨードニウムトリフルオロアセテート；トリア
リールスルホニウム塩類としては、トリフェニルスルホ
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニル
スルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフ
ェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウ
ムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニル
ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナー
トまたは４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニ
ウムトリフルオロアセテート；

【０１０２】第四アンモニウム塩類としては、テトラメ
チルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフ
ェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシル
トリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチル
アンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモ
ニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボ
レート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシ
ルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジ
メチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリ
フルオロメチルフェニル）ボレート；スルホン酸エステ
ル類としては、２，６−ジニトロベンジル−ｐ−トルエ
ンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−ト
リフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ
ナフタルイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ
−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンスル
ホン酸エステルをそれぞれ好ましいものとして挙げるこ
とができる。

【０１０３】上記感放射線性塩基発生剤としては、特開
平４−３３０４４４号公報、「高分子」ｐ２４２−２４
８、４６巻６号（１９９７年）、米国特許第５，６２
７，０１０号公報等に記載されているものが好適に用い
られる。しかしながら、機能として放射線の照射により
塩基が発生すればこれらに限定されない。

【０１０４】また、本発明における好ましい感放射線性
塩基発生剤としては、例えばトリフェニルメタノール、
ベンジルカルバメートおよびベンゾインカルバメート等
の光活性なカルバメート；Ｏ−カルバモイルヒドロキシ
ルアミド、Ｏ−カルバモイルオキシム、アロマティック
スルホンアミド、アルファーラクタムおよびＮ−（２−
アリルエチニル）アミド等のアミドならびにその他のア
ミド；オキシムエステル、α−アミノアセトフェノン、
コバルト錯体等を挙げることができる。

【０１０５】感放射線性塩基発生剤の例としては、例え
ば下記式（３）〜（１３）で表される化合物が挙げられ
る。

【０１０６】

【化２】

【０１０７】（ここでＲ⁵は、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオ
アルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペ
リジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ア
リール基、フッ素原子、塩素原子または臭素原子であ
り、ｋは０〜３の整数であり、Ｒ⁶は水素原子、炭素数
１〜６のアルキル基またはアリール基でありそしてＲ⁷
およびＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基、アリール基もしくはベンジル基であるかあ
るいはＲ⁷とＲ⁸は互いに結合してそれらが結合している
窒素原子と一緒になって炭素数５〜６の環状構造を形成
してもよい。）

【０１０８】

【化３】

【０１０９】（ここでＲ⁹は、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオ
アルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペ
リジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基また
はアリール基であり、Ｒ¹⁰は水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基またはアリール基でありそしてＲ¹¹およびＲ
¹²はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル
基、アリール基もしくはベンジル基であるかあるいはＲ
¹¹とＲ¹²は互いに結合してそれらが結合している窒素原
子と一緒になって炭素数５〜６の環状構造を形成しても
よい。）

【０１１０】

【化４】

【０１１１】（ここでＲ¹³は炭素数１〜６のアルキル基
またはアリール基でありそしてＲ¹⁴およびＲ¹⁵はそれぞ
れ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アリー
ル基もしくはベンジル基であるかあるいはＲ¹⁴とＲ¹⁵は
互いに結合してそれらが結合している窒素原子と一緒に
なって炭素数５〜６の環状構造を形成していてもよ
い。）

【０１１２】

【化５】

【０１１３】（ここでＲ¹⁶およびＲ¹⁷はそれぞれ独立に
炭素数１〜６のアルキル基またはアリール基である。）

【０１１４】

【化６】

【０１１５】（ここでＲ¹⁸、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は、それぞ
れ独立に炭素数１〜６のアルキル基またはアリール基で
ある。）

【０１１６】

【化７】

【０１１７】（ここでＲ²¹は、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオ
アルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペ
リジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基また
はアリール基であり、Ｒ²²は水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基またはアリール基でありそしてＲ²³、Ｒ²⁴お
よびＲ²⁵はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のア
ルキル基、アリール基またはベンジル基である。）

【０１１８】

【化８】

【０１１９】（ここでＲ²⁶は、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオ
アルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペ
リジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基また
はアリール基であり、Ｒ²⁷およびＲ²⁸はそれぞれ独立に
水素原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、フェノキ
シ基、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子またはアリール基でありそしてＲ²⁹および
Ｒ³⁰はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキ
ル基、アリール基もしくはベンジル基であるかあるいは
Ｒ²⁹とＲ³⁰は互いに結合してそれらが結合している窒素
原子と一緒になって炭素数５〜６の環状構造を形成して
いてもよい。）

【０１２０】

【化９】

【０１２１】（ここでＲ³¹およびＲ³²はそれぞれ独立に
炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ
基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジ
アルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、メルカプト基またはアリール基であり、Ｒ³³〜Ｒ
³⁶はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、メルカプト基、
シアノ基、フェノキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはアリール基であ
りそしてＡ¹はモノアルキルアミン、ピペラジン、芳香
族ジアミンまたは脂肪族ジアミンの１個または２個の窒
素原子に結合する２個の水素原子を除いて生ずる二価の
原子団である。）

【０１２２】

【化１０】

【０１２３】（ここでＲ³⁷およびＲ³⁸はそれぞれ独立に
炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ
基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジ
アルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、メルカプト基またはアリール基であり、Ｒ³⁹およ
びＲ⁴⁰はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、メルカプト
基、シアノ基、フェノキシ基、炭素数１〜６のアルキル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはアリール基
であり、Ｒ⁴¹〜Ｒ⁴⁴はそれぞれ独立に水素原子、炭素数
１〜６のアルキル基、アリール基もしくはベンジル基で
あるかあるいはＲ ⁴¹とＲ⁴²およびＲ⁴³とＲ⁴⁴とは、互い
に結合してそれらが結合している窒素原子と一緒になっ
て炭素数５〜６の環状構造を形成していても良く、Ａ²
は炭素数１〜６のアルキレン基、シクロヘキシレン基、
フェニレン基または単結合である。）

【０１２４】

【化１１】

【０１２５】（ここでＲ⁴⁵〜Ｒ⁴⁷はそれぞれ独立に水素
原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜６
のアルキル基、炭素数１〜６のアルケニル基、炭素数１
〜６のアルキニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基また
はアリール基である。）

【０１２６】

【化１２】

【０１２７】（ここでＬは、アンモニア、ピリジン、イ
ミダゾール、エチレンジアミン、トリメチレンジアミ
ン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、プロピレンジアミン、１，２−シクロヘキサンジア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミンおよびジエチ
レントリアミンよりなる群から選ばれる少なくとも一種
の配位子であり、ｍは２〜６の整数であり、Ｒ⁴⁸はアリ
ール基でありそしてＲ⁴⁹は炭素数１〜１８のアルキル基
である。）

【０１２８】上記式（３）〜（１３）の全てにおいて、
アルキル基とは直鎖状、分岐鎖状、環状であることがで
きる。またアリール基とは、ビニル基、プロピレニル基
などのアルケニル基；アセチレニル基などのアルキニル
基；フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基をも包
括しており、またこれらの水素原子がフッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カル
ボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジ
ド基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基またはチオア
ルキル基に置換されたものも含むものとする。

【０１２９】これらの感放射線性塩基発生剤のうち、２
−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフ
ェニルメタノール、ｏ−カルバモイルヒドロキシルアミ
ド、ｏ−カルバモイルオキシム、［［（２，６−ジニト
ロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミ
ン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニ
ル］ヘキサン１，６−ジアミン、４−（メチルチオベン
ゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタン、（４−
モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチル
アミノプロパン、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩ
Ｉ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェ
ニル）−ブタノン等が好ましいものとして挙げられる。

【０１３０】上記感放射線性ラジカル発生剤としては、
例えばベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン類；ベ
ンゾインなどのアシロイン類；ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどのアシロインエーテル類；チオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４，４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノ
ン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン、α，α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなど
のアセトフェノン類；アントラキノン、１，４−ナフト
キノンなどのキノン類；フェナシルクロライド、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジンなどのハロゲン化合物；２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサ
イド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホ
スフィンオキサイドなどのアシルホスフィンオキサイ
ド；およびジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどの過酸化
物が挙げられる。

【０１３１】これら感放射線ラジカル重合開始剤の市販
品としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３
６９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、同
８１９、同１０００、同２９５９、同１４９、同１８０
０、同１８５０、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７３、同１１１
６、同２９５９、同１６６４、同４０４３（以上、チバ
・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＫＡＹＡＣＵＲ
Ｅ−ＤＥＴＸ 、同ＭＢＰ、同 ＤＭＢＩ 、同 ＥＰ
Ａ、同 ＯＡ（以上、日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲ
Ｅ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ Ｃｏ．Ｌ
ＴＤ 製）、ＴＲＩＧＯＮＡＬＰ１（ＡＫＺＯ Ｃｏ．
ＬＴＤ 製）、ＳＡＮＤＯＲＡＹ １０００（ＳＡＮＤ
ＯＺ Ｃｏ．ＬＴＤ 製）、ＤＥＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ
Ｃｏ．ＬＴＤ 製）、ＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、
同 ＩＴＸ、同 ＥＰＤ（以上、ＷＡＲＤ ＢＬＥＫＩ
ＮＳＯＰ Ｃｏ．ＬＴＤ 製）等が挙げられる。

【０１３２】また、これら感放射線ラジカル重合開始剤
は感放射線増感剤を併用することによって、高感度の感
放射線性樹脂組成物を得ることも可能である。

【０１３３】上記（Ｃ）感放射線重合開始剤は、感放射
線性酸発生剤および塩基発生剤の場合、（Ａ）重合性化
合物と（Ｂ）非重合性化合物の合計１００重量部に対し
て、０．０１重量部以上用いることが好ましく、０．０
５重量部以上用いることがさらに好ましい。（Ｃ）成分
が０．０１重量部以下の場合、照射光に対する感度が低
下しやすくなる。上限値は好ましくは３０重量部、より
好ましくは２０重量部である。

【０１３４】感放射線性ラジカル発生剤は、（Ａ）重合
性化合物と（Ｂ）非重合性化合物の合計１００重量部に
対して、好ましくは１〜５０重量部、より好ましくは５
から３０重量部含有される。（Ｃ）感放射線性ラジカル
発生剤が１重量部以下の場合、照射光に対する感度が低
下しやすくなる。

【０１３５】＜その他の成分＞本発明で使用する屈折率
変化性組成物には、本発明の目的を損なわない限りにお
いて、その他の添加剤が含有されていてもよい。このよ
うな添加剤としては、紫外線吸収剤、増感剤、界面活性
剤、耐熱性改良剤、接着助剤等が挙げられる。

【０１３６】上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベン
ゾトリアゾ−ル類、サリシレ−ト類、ベンゾフェノン
類、置換アクリロニトリル類、キサンテン類、クマリン
類、フラボン類、カルコン類化合物等の紫外線吸収剤が
挙げられる。具体的にはチバ・スペシャルティ−・ケミ
カルズ社製のチヌビン２３４（２−（２−ヒドロキシ−
３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾ−ル）、チヌビン５７１（ヒド
ロキシフェニルベンゾトリアゾ−ル誘導体）、チヌビン
１１３０（メチル−３−（３−ｔ−ブチル−５−（２Ｈ
−ベンゾトリアゾ−ル−２−イル）−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネ−ト−ポリエチレングリコ−ル（分
子量３００）との縮合物）、１，７−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−メトキシフェニ）−１，６−ヘプタジエン−
３，５−ジオン、ジベンジリデンアセトンなどがある。

【０１３７】紫外線吸収剤を添加することにより、本発
明の屈折率変化性組成物における放射線照射部の表面か
らの深さが深くなるにつれ（Ｃ）成分からの酸、塩基ま
たはラジカルの発生量を徐々に減少させることができ、
ＧＲＩＮ形成手段として有用である。これらの紫外線吸
収剤の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１０
０重量部に対して、好ましくは３０重量部以下、より好
ましくは２０重量部以下である。

【０１３８】上記増感剤としては、例えば３−位および
／または７−位に置換基を有するクマリン類、フラボン
類、ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン
類、カルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポ
ルフィリン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アン
トラセン類等を用いることができる。

【０１３９】増感剤の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）
成分の合計１００重量部に対して、好ましくは３０重量
部以下、より好ましくは２０重量部以下である。また、
上記界面活性剤は、塗布性の改善例えばストリエーショ
ンの防止や、現像性の改良を行うために添加することが
できる。

【０１４０】界面活性剤としては、例えばポリオキシエ
チレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリ
ルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等の
ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエ
チレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリー
ルエーテル類、ポリエチレングリコールジラウレート、
ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレ
ングリコールジアルキルエステル類の如きノニオン系界
面活性剤；エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同Ｅ
Ｆ３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファック
Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３（以上、大日本イン
キ工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３
１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡ
Ｇ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ
−１０２、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０
５、ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）等の商品名
で市販されている弗素系界面活性剤；オルガノシロキサ
ンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、アク
リル酸系またはメタクリル酸系（共）重合体ポリフロー
Ｎｏ．５７、９５（共栄社化学（株）製）等の商品名で
市販されているその他の界面活性剤を用いることができ
る。

【０１４１】これらの界面活性剤の使用割合は、（Ａ）
成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、好ま
しくは２重量部以下、より好ましくは１重量部以下であ
る。また、上記接着助剤は、基板との密着性を改良する
ために添加することができ、シランカップリング剤等が
好ましく用いられる。

【０１４２】上記耐熱性改良剤としては、多価アクリレ
ート等の不飽和化合物などを添加することができる。さ
らに、本発明で使用する屈折率変化材料においては、必
要に応じて、帯電防止剤、保存安定剤、ハレーション防
止剤、消泡剤、顔料、熱酸発生剤等を添加することもで
きる。

【０１４３】＜屈折率パターンの形成＞本発明におい
て、上記の屈折率変化性組成物を用いることにより、例
えば次のようにして屈折率パターンを形成することがで
きる。

【０１４４】先ず、屈折率変化性組成物を、例えばその
固形分の濃度が５〜７０重量％となるよう溶剤に溶解ま
たは分散し、組成物を調製する。必要に応じて孔径０．
１〜１０μｍ程度のフィルターで濾過した後に使用して
もよい。その後、この組成物をシリコンウェハー等の基
板の表面に塗布し、プレベークを行うことにより溶剤を
除去して屈折率変化性組成物の塗膜を形成する。次い
で、形成された塗膜に、例えばパターンマスクを介し
て、その一部に対して放射線照射処理を行い、次いで加
熱を行うことにより屈折率変化性組成物の放射線照射部
と放射線未照射部での屈折率差が形成される。

【０１４５】放射線の照射により（Ｃ）成分の感放射線
重合開始剤から酸、塩基、またはラジカルが生成され、
この酸、塩基またはラジカルが（Ａ）成分の重合または
反応を開始する。この放射線未照射部の（Ａ）成分は放
射線照射後の加熱時に逃散する。その結果、放射線照射
部と放射線未照射部との間に屈折率の差が生じることに
なる。

【０１４６】本発明に使用される屈折率変化性組成物を
含有する溶液を調製するための溶媒としては、上記
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および任意に添加されるその他
の添加剤の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しない
ものが用いられる。

【０１４７】具体的には、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ブタノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの
アルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル
類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルア
セテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール
類；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレン
グリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロ
ピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルな
どのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールプロピルエーテルアセテートプロピレングリ
コールブチルエーテルアセテート、などのプロピレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレング
リコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレン
グリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピ
レングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル
−２−ペンタノンなどのケトン類；

【０１４８】および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒド
ロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ
酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、
乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピ
オン酸プロチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、
２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ
酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピ
ル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキ
シ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブ
チル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、
プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブト
キシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プ
ロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン
酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メト
キシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸
ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキ
シプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロ
ピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシ
プロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシ
プロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシ
プロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メ
チル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチ
ル、などのエステル類；トリフルオロメチルベンゼン、
１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ヘキサ
フルオロベンゼン、ヘキサフルオロシクロヘキサン、ペ
ルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロメチ
ルシクロヘキサン、オクタフルオロデカリン、１，１，
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンなど
のフッ素原子含有溶媒が挙げられる。

【０１４９】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のしやすさから、アルコール
類、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類および
ジエチレングリコール類が好ましく用いられる。

【０１５０】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。

【０１５１】本発明で使用される屈折率変化性組成物
は、放射線を照射するにあたり、用途を考慮した上で各
種形状に成形される。例えばロッド状、ファイバー状、
長板状、球状、フィルム状、レンズ状などが挙げられる
がこれに限定されるものではない。その成形方法につい
ても通常用いられる方法を用いることができる。例えば
射出成形、圧縮成形、ブロー成形、押し出し、箱枠内重
合法、削り出し法、引き延ばし法、加熱冷却法、ＣＶＤ
蒸着法、焼結法、スキャン法などが挙げられる。また光
学成形体の用途によってはスピンコート法、スリット
法、バーコート法、溶媒キャスト法、ＬＢ法、スプレー
法、ロールコート法、凸版印刷法、スクリーン印刷法等
も用いることができる。

【０１５２】この成形処理において加熱処理（以下、
「プレベーク」という。）を行なうのが好ましい。その
加熱条件は、本発明の材料の配合組成、各添加剤の種類
等により変わるが、好ましくは３０〜２００℃、より好
ましくは４０〜１５０℃であり、ホットプレートやオー
ブン、赤外線などを使用して加熱することができる。

【０１５３】放射線照射処理に使用される放射線として
は、波長３６５ｎｍのｉ線、４０４ｎｍのｈ線、４３６
ｎｍのｇ線、キセノンランプ等の広域波長光源等の紫外
線、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、波長１
９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シン
クロトロン放射線等のＸ線あるいは電子線等の荷電粒子
線、可視光およびこれらの混合線等が挙げられる。これ
らのうち、紫外光および可視光が好ましい。照度として
は照射波長などにもよるが、０．１ｍＷ／ｃｍ ²〜１０
０ｍＷ／ｃｍ²とすることが最も反応効率が良く好まし
い。これらの放射線は、パターンマスクを介して照射す
ることで、感放射線性屈折率変化材料をパターニングす
ることが可能である。パターニング精度としては、使用
する光源などにも影響を受けるが、０．２μｍ程度の解
像性をもつ屈折率変化分布の光学部品の製造が可能であ
る。

【０１５４】本発明では、露光後に加熱処理（放射線照
射後ベーク（ＰＥＢ））を行うのが好ましい。その加熱
には、上記プレベークと同様な装置が使用でき、その条
件は任意に設定することができる。好ましい加熱温度は
３０〜１５０℃であり、より好ましくは３０〜１３０℃
である。また、放射線未照射部の（Ａ）成分が常圧下で
の加熱により完全に逃散しない場合は、減圧下での加熱
を行うことができる。これにより効果的に屈折率パター
ンを形成することができる。

【０１５５】さらに、放射線未照射部に残存する（Ｃ）
成分などを分解し、材料の安定性をさらに高めるために
再露光処理を行うことができる。

【０１５６】再露光処理は、例えば、屈折率を変化させ
る工程で用いた放射線と同様の波長の放射線を、同様の
露光量にてパターン全面に照射することで実施できる。

【０１５７】所望によりさらに加熱処理を行うことによ
り材料の安定性をさらに高めることができる。このとき
の加熱には材料成形時のプレベ−クと同様な装置が使用
でき、その条件は任意に設定することができる。また、
本発明によれば、本発明の屈折率パターン形成法は、上
記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分からなる屈
折率変化性組成物にパターンマスクを介して放射線を照
射し、次いで現像液で処理することによっても実施する
ことができる。

【０１５８】上記現像において現像液の種類は、（Ａ）
成分および任意に添加される触媒を溶解し、（Ａ）成分
より生成する重合体および（Ｂ）成分を溶解しないもの
が好ましい。このような現像液を選択すれば、得られる
屈折率パターンの表面に荒れが生ずることがない。

【０１５９】このような現像液としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸
ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水など
の無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミン
などの第一級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロ
ピルアミンなどの第二級アミン類；トリエチルアミン、
メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドンなどの第
三級アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノ
ールアミンなどのアルコールアミン類；テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、コリンなどの第四級アンモニウム塩；ピロ
ール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．
３．０］−５−ノナンなどの環状アミン類のアルカリ類
からなるアルカリ水溶液を用いることができる。また、
メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール等のアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等
のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等
のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチ
ルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル等の
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピ
レングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレング
リコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレン
グリコールブチルエーテルプロピオネート等のプロピレ
ングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ
−ヘプタン、ｎ−オクタンなどの脂肪族炭化水素類；メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルアミルケトン、４−ヒドロキシ−４−
メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオ
ン酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブ
チル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒ
ドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−３−メ
チルブタン酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢
酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メト
キシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸ブ
チル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシ
プロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシ
プロピオン酸ブチルなどのエステル類などの有機溶媒を
現像液として用いることもできる。これらの溶剤の中
で、水、アルコール類、グリコールエーテル類、および
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類が好
ましく用いられる。

【０１６０】現像時間は、通常３０〜１８０秒間であ
り、また現像の方法は液盛り法、ディッピング法などの
いずれでもよい。現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行
い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基
板上の水分を除去し、屈折率パターンが形成される。

【０１６１】さらに、放射線未照射部に残存する（Ｃ）
成分などを分解し、材料の安定性をさらに高めるために
再露光処理を行うことができる。なお、上記安定化処理
を含む屈折率パターン形成法について記載のない事項
は、前述の屈折率パターン形成法について記載の事項が
そのままあるいは当業者に自明の変更の下で適用される
と理解されるべきである。

【０１６２】放射線未照射部に残存していた（Ａ）重合
性化合物は上記加熱により除去され、好ましくは空孔を
形成する。

【０１６３】上記のようにして種々の方法により形成さ
れた本発明の屈折率パターンは、好ましくは放射線照射
部（第１領域）の屈折率の方が放射線未照射部（第２領
域）の屈折率より大きくなる。この差は、本発明に用い
る屈折率変化性組成物中の（Ａ）成分と（Ｂ）成分の種
類と含有量を調整することにより、任意に調整でき、例
えば屈折率差の最大値を０．０２より大きい値とするこ
とができる。

【０１６４】本発明の屈折率パターンは、放射線未照射
部に空隙を有しているかあるいは有していない。また、
放射線未照射部が空隙を有する場合には、その空隙率は
好ましくは１０〜９９．９％、より好ましくは１５〜９
９．９％、特に好ましくは２０〜９９．９％である。

【０１６５】また、本発明の屈折率パターンは、前述の
ように屈折率を変化させるために使用した波長付近の光
が通過する条件下で使用しても、屈折率の変化が引き起
こされることがなく、劣化することがないため、光エレ
クトロニクスやディスプレイ分野に使用される光学材料
として極めて有用である。

【０１６６】本発明の屈折率パターンは、充分に大きな
屈折率差を有し、しかも形成された屈折率差は光、熱に
対して安定であることから、光エレクトロニクスやディ
スプレイ分野に使用される光学材料として極めて有用で
ある。本発明の屈折率パターンは、その他フォトアレ
イ、レンズ各種、フォトカプラ、フォトインタラプタ、
偏光ビームスプリッタ、ホログラム、シングルモード／
マルチモード等光ファイバ、バンドルファイバ、ライト
ガイド各種、単芯／多芯／光電気結合等光コネクタ、光
アイソレータ、偏光子、フォトダイオード／フォトトラ
ンジスタ／フォトＩＣ／ＣＣＤイメージセンサ／ＣＭＯ
Ｓイメージセンサ／光ファイバセンサ、光ファイバジャ
イロ等光センサ各種、ＣＤ／ＬＤ／ＰＤ／ＤＶＤ等光デ
ィスク各種、光スイッチ各種、導波路、光学式タッチパ
ネル、回折格子、導光板、光拡散板、反射防止板、光学
封止材等の光学部品に用いられる。

【０１６７】＜光学部品の製造方法＞感光性屈折率変化
性組成物は光を照射するにあたり、用途を考慮した上で
各種形状に成形される。

【０１６８】例えばロッド状、ファイバー状、長板状、
球状、フィルム状、レンズ状などが挙げられるがこれに
限定されるものではない。その成形方法についても通常
用いられる方法を用いることができ、例えば射出成形、
圧縮成形、ブロー成形、押し出し、箱枠内重合法、削り
出し法、引き延ばし法、加熱冷却法、ＣＶＤ蒸着法、焼
結法、スキャン法などが挙げられる。また光学成形体の
用途によってはスピンコート法、スリット法、バーコー
ト法、溶媒キャスト法、ＬＢ法、スプレー法、ロールコ
ート法、凸版印刷法、スクリーン印刷法等も用いること
ができる。

【０１６９】光照射処理に使用される光としては、波長
３６５ｎｍのｉ線、４０４ｎｍのｈ線、４３６ｎｍのｇ
線、キセノンランプ等の広域波長光源等の紫外線、波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、波長１９３ｎｍ
のＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロ
ン放射線等のＸ線あるいは電子線等の荷電粒子線、可視
光およびこれらの混合線等が挙げられる。これらのう
ち、紫外光および可視光が好ましい。照度としては照射
波長などにもよるが、０．１ｍＷ／ｃｍ²〜１００ｍＷ
／ｃｍ²とすることが最も反応効率が良く好ましい。こ
れらの放射線は、パターンマスクを介して照射すること
で、感放射線性屈折率変化性組成物をパターニングする
ことが可能である。パターニング精度としては、使用す
る光源など影響を受けるが、０．２μｍ程度の解像性を
もつ屈折率変化分布の光学部品の製造が可能である。

【０１７０】本発明においては、露光後に加熱処理（以
下、「露光後ベーク」という。）を行なうのが好まし
い。その加熱条件は、本発明の材料の配合組成、各添加
剤の種類等により変わるが、好ましくは３０〜２００
℃、より好ましくは４０〜１５０℃であり、ホットプレ
ートやオーブン、赤外線などを使用して加熱することが
できる。また放射線未照射部の（Ａ）成分の除去には、
上記同様、減圧下での加熱や現像液を用いることもでき
る。

【０１７１】本発明の光学部品の屈折率分布における最
大屈折率と最小屈折率の差は、前述のようにその用途に
応じて任意に設定することができるが、例えば０．０２
以上とすることができ、必要に応じて０．０３以上、さ
らに０．０５以上、０．０８以上とすることができる。

【０１７２】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１７３】また、以下において、重合体のポリスチレ
ン換算重量平均分子量は、昭和電工（株）製のＧＰＣク
ロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１を用いて測定した。

【０１７４】（Ｂ）成分の合成例 合成例１ １Ｌの三つ口フラスコにテトラメトキシシラン１５．２
２ｇ、メチルトリメトキシラン２７．２４ｇをエチレン
グリコールエチルメチルエーテル１００ｇに入れて溶解
させ、得られた混合溶液をマグネチックスターラにより
撹拌しながら６０℃に加温した。これに、イオン交換水
５．２０ｇを混合溶液に１時間かけて連続的に添加し
た。そして、６０℃で４時間反応させた後、得られた反
応液を室温まで冷却した。その後、反応副生成物である
メタノール９．２０ｇを反応液から減圧留去した。得ら
れた重合体（Ｂ−１）の溶液の固形分濃度は３３．２％
であり、重合体の重量平均分子量は２，２００であっ
た。

【０１７５】合成例２ 内容積１．５Ｌの電磁撹拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル５００
ｇ、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）５７．２ｇ、ヒド
ロキシブチルビニルエーテル（ＨＢＶＥ）１０．２ｇお
よび過酸化ラウロイル３ｇを仕込み、ドライアイスーメ
タノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系
内の酸素を除去した。次いでヘキサフルオロプロピレン
（ＨＦＰ）１４６ｇを仕込み、昇温を開始した。オート
クレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は５．
３ｋｇｆ／ｃｍ²を示した。その後、６０℃で２０時間
撹拌下に反応を継続し、圧力が１．５ｋｇｆ／ｃｍ²に
低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止さ
せた。室温に達した後、未反応モノマーを放出しオート
クレーブを開放、固形分濃度２８．１％のポリマー溶液
を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポ
リマーを析出させた後、メタノールにて洗浄、５０℃に
て真空乾燥を行い１９３ｇの含フッ素共重合体を得た。
得られた重合体（Ｂ−２）の重量平均分子量は１７，０
００であった。

【０１７６】合成例３ ５００ｍｌの三つ口フラスコに、２，２’−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）８ｇ、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル２００ｇを仕込んだ。引き
続きメタクリル酸２０ｇ、メタクリル酸グリシジル３０
ｇ、メタクリル酸ペンタフロロエチル５０ｇを仕込み窒
素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を
７０℃に上昇させ、この温度を３時間保持し重合体（Ｂ
−３）の溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度
は３１．０％であり、重合体の重量平均分子量は１２，
０００であった。

【０１７７】合成例４ １Ｌの三つ口フラスコにメチルトリメトキシラン５０ｇ
をとり、１−エトキシ−２−プロパノール１００ｇを加
えて溶解させ、得られた混合溶液をマグネチックスター
ラにより撹拌しながら６０℃に加温した。これに、イオ
ン交換水１９．８５ｇを１時間かけて連続的に添加し
た。そして、６０℃で４時間反応させた後、得られた反
応液を室温まで冷却した。

【０１７８】その後、反応副生成物であるメタノールを
反応液から減圧留去し、溶液の固形分濃度が２０重量％
となるまで濃縮し、化合物（Ｂ−４）を含有する溶液を
得た。この化合物（Ｂ−４）の重量平均分子量は８，０
００であった。

【０１７９】実施例１ （Ａ）成分としてジビニルベンゼン４０重量部、（Ｂ）
成分としてメチルトリメトキシシランとテトラメトキシ
シランの混合物（重量比５５：５）の共縮合物（分子量
２，０００）６０重量部、（Ｃ）成分として２−（４−
メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン３重量部とを全体の固形分濃度が
２０重量％になるようにジエチレングリコールエチルメ
チルエーテルに溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブ
ランフィルターで濾過し、感光性屈折率変化性組成物を
含有する溶液を調製した。

【０１８０】＜塗膜の形成＞シリコン基板上にスピンナ
ーを用いて、上記溶液を塗布した後、９０℃で２分間ホ
ットプレート上でプリベークして膜厚１．０μｍの塗膜
を形成した。 ＜屈折率パターンの形成＞得られた塗膜に、ＮＳＲ１５
０５ｉ６Ａ縮小投影露光機（（株）ニコン製、ＮＡ＝
０．４５，λ＝３６５ｎｍ）により最適焦点深度で露光
量７０ｍＪ／ｃｍ²にて光照射処理を行い、屈折率変化
性組成物の放射線照射部と未照射部での屈折率差を形成
した。ついで、０．５Ｔｏｒｒまで減圧した状態でホッ
トプレート上、１００℃で２分間露光後ベークを実施
し、常圧に戻した後さらにオーブンにて２００℃で１０
分間加熱した。

【０１８１】＜屈折率の測定＞室温におけるシリコン基
板上での露光部、未露光部の屈折率を、Ａｕｔｏ ＥＬ
ＩＶ ＮＩＲ ＩＩＩ（ルドルフリサーチ社製）エリ
プソメーターを用いて６３３ｎｍで測定した。結果を表
１に示す。 ＜透明性の評価＞シリコン基板の代わりにガラス基板
「コーニング１７３７（コーニング社製）」を用いた以
外は上記と同様に実施し、表面に感光性屈折率変化性組
成物を形成したガラス基板を得た。

【０１８２】次いで、得られたガラス基板の透過率を分
光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所
製）」を用いて４００〜８００ｎｍの波長で測定した。
このとき最低透過率が９５％を超える場合、透過率は良
好であり、それ以下の場合は不良といえる。結果を表１
に示す。

【０１８３】実施例２ 光照射処理における露光量を２５０ｍＪ／ｃｍ²とした
他は実施例１と同様に実施し、屈折率と透明性を評価し
た。結果を表１に示す。

【０１８４】実施例３ （Ｂ）成分として、ラダー型ポリシルセスキオキサンＧ
Ｒ−６５０（昭和電工（株）製）６０重量部を用いた以
外は実施例１と同様にして評価を行った。結果は表１に
まとめた。

【０１８５】実施例４ （Ａ）成分としてジビニルベンゼン６５重量部を用い、
（Ｂ）成分としてメチルトリメトキシシランの縮合物
（分子量２，０００）３５重量部を用いた以外は実施例
１と同様にして評価を行った。結果は表１にまとめた。

【０１８６】実施例５ （Ａ）成分としてベンジルメタクリレート５０重量部お
よびビス（４−アクリロイルチオフェニル）スルフィド
４０重量部、（Ｂ）成分として重合体（Ｂ−３）を含有
する溶液（重合体（Ｂ−３）５０重量部（固形分）に相
当）と、（Ｃ）成分として２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１
−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９；チバ・スペシャル
ティー・ケミカルズ社製）２５重量部とを、全体の固形
分濃度が２０重量％になるようにジエチレングリコール
エチルメチルエーテルに溶解させた後、孔径０．２μｍ
のメンブランフィルターで濾過し、感光性屈折率変化性
組成物を含有する溶液を調製した。＜塗膜の形成＞、＜
屈折率の測定＞、および＜透明性の評価＞は実施例１と
同様に行い、＜屈折率パターンの形成＞のみ以下のよう
に行った。結果は表１にまとめた。

【０１８７】＜屈折率パターンの形成＞得られた塗膜
に、ＮＳＲ１５０５ｉ６Ａ縮小投影露光機（（株）ニコ
ン製、ＮＡ＝０．４５，λ＝３６５ｎｍ）により最適焦
点深度で露光量１００ｍＪ／ｃｍ ²にて光照射処理を行
い、屈折率変化性組成物の放射線照射部と未照射部での
屈折率差を形成した。次いで、０．５Ｔｏｒｒまで減圧
した状態でホットプレート上で１００℃で２分間露光後
ベークを行った後、さらにイソプロパノールで２５℃で
６０秒間現像し、純水で１分間流水洗浄した。最後にオ
ーブンにて２００℃で１０分間加熱した。

【０１８８】実施例６ （Ｂ）成分として、重合体（Ｂ−１）を含有する溶液
（重合体（Ｂ−１）５０重量部（固形分）に相当）を用
いた以外は実施例５と同様にして評価を行った。結果は
表１にまとめた。

【０１８９】実施例７ （Ａ）成分として、ベンジルメタクリレート４０重量部
およびビニルナフタレン２０重量部およびビス（４−ア
クリロイルチオフェニル）スルフィド４０重量部、
（Ｂ）成分として重合体（Ｂ−３）を含有する溶液（重
合体（Ｂ−３）４０重量部（固形分）に相当）を用いた
以外は実施例５と同様にして評価を行った。結果は表１
にまとめた。

【０１９０】実施例８ （Ｃ）成分として、２−メチル−１［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７；チバ・スペシャルティー
・ケミカルズ社製）３０重量部、２，４−ジエチルチオ
キサントン３重量部を用い、＜屈折率パターンの形成＞
における放射線照射量を表１に記載の通りとした以外は
実施例５と同様にして評価を行った。結果は表１にまと
めた。

【０１９１】実施例９ （Ａ）成分として、テレフタル酸ジ（４−ビニロキシ）
ブチル６０重量部およびテトラキス（β−エポキシプロ
ピルチオメチル）メタン３０重量部、（Ｂ）成分として
重合体（Ｂ−４）を含有する溶液（重合体（Ｂ−４）４
０重量部（固形分）に相当）、（Ｃ）成分として４−フ
ェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロメタンスルホネート３重量部とを、全体の固形分濃度
が２０重量％になるようにジエチレングリコールエチル
メチルエーテルに溶解させた後、孔径０．２μｍのメン
ブランフィルターで濾過し、感光性屈折率変化性組成物
を含有する溶液を調製した。＜塗膜の形成＞、＜屈折率
の測定＞、および＜透明性の評価＞は実施例１と同様に
行い、＜屈折率パターンの形成＞における放射線照射量
と露光後ベークの温度を表１に記載の通りとした以外は
実施例５と同様に行った。結果は表１にまとめた。

【０１９２】実施例１０ （Ｂ）成分として重合体（Ｂ−２）を含有する溶液（重
合体（Ｂ−２）４０重量部（固形分）に相当）を用いた
以外は実施例９と同様にして評価を行った。結果は表１
にまとめた。

【０１９３】実施例１１ （Ｃ）成分として、ジフェニルヨードニウムトリフルオ
ロアセテート１重量部を用い、＜屈折率パターンの形成
＞における放射線照射量を表１に記載の通りとした以外
は実施例９と同様にして評価を行った。結果は表１にま
とめた。

【０１９４】実施例１２ （Ａ）成分として、テレフタル酸ジ（４−ビニロキシ）
ブチル６０重量部およびビス〔（３−エチル−３−オキ
セタニルメトキシ）メチル−フェニル〕スルホン３０重
量部を用いた以外は実施例９と同様にして評価を行っ
た。結果は表１にまとめた。

【０１９５】

【表１】

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１４年７月３１日（２００２．７．３
１）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００７３】上記式（１）で表される化合物の具体例と
しては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチル
トリイソプロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシ
シラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチル
トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキ
シシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキ
シシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチ
ルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノ
キシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プ
ロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プ
ロポキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキシシラ
ン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロ
ピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノ
キシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプ
ロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリ−ｎ−プ
ロポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、イソプロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、イソプロ
ピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、イソプロピルトリ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、イソプロピルトリフェノ
キシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチ
ルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキ
シシラン、ｎ−ブチルトリイソプロポキシシラン、ｎ−
ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅ
ｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルイソト
リエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−プロポキ
シシラン、ｓｅｃ−ブチルトリイソプロポキシシラン、
ｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブ
チルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルト
リ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリフ
ェノキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリメトキシシラ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔｅｒｔ−
ブチル−ｎ−プロポキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ
イソプロポキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｎ−ブ
トキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキ
シシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
シラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリフェノキシシラン、シク
ロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエ
トキシシラン、シクロヘキシルトリ−ｎ−プロポキシシ
ラン、シクロヘキシルトリイソプロポキシシラン、シク
ロヘキシルトリ−ｎ−ブトキシシラン、シクロヘキシル
トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、シクロヘキシルトリ−
ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、シクロヘキシルトリフェノ
キシシラン、ノルボルニルトリメトキシシラン、ノルボ
ルニルトリエトキシシラン、ノルボルニルトリ−ｎ−プ
ロポキシシラン、ノルボルニルトリイソプロポキシシラ
ン、ノルボルニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ノルボル
ニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ノルボルニルトリ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ノルボルニルトリフェノ
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルト
リエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラ
ン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリ
−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキ
シシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、
フェニルトリフェノキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プ
ロポキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジ
メチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチルジ−ｓｅｃ−
ブトキシシラン、ジメチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラ
ン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ−ｎ−
プロポキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、
ジエチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチルジ−ｓｅｃ
−ブトキシシラン、ジエチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシ
ラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−ｎ−プロピル
ジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラ
ン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−
ｎ−プロピルジイソプロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピ
ルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｔｅｒｔ−
ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジフェノキシシラ
ン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピル
ジエトキシシラン、ジイソプロピルジ−ｎ−プロポキシ
シラン、ジイソプロピルジイソプロポキシシラン、ジイ
ソプロピルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジイソプロピルジ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジイソプロピルジ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシシラン、ジイソプロピルジフェノキシシラ
ン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル
ジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ
シラン、ジ−ｎ−ブチルジイソプロポキシシラン、ジ−
ｎ−ブチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジフェノキシシラ
ン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ
−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ
−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジイソプロポ
キシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ
−ｓｅｃ−ブチルジフェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルジメトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエト
キシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ
シラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジイソプロポキシシラ
ン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルジフェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジエトキシ
シラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−プロポキシシラ
ン、ジシクロヘキシルジイソプロポキシシラン、ジシク
ロヘキシルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジシクロヘキシル
ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジシクロヘキシルジ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシシラン、ジシクロヘキシルジフェノキ
シシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシシラン、ジ
ノルボルニルジエトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジノルボルニルジイソプロ
ポキシシラン、ジノルボルニルジ−ｎ−ブトキシシラ
ン、ジノルボルニルジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジノ
ルボルニルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジノルボル
ニルジフェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−
プロポキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシラ
ン、ジフェニルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニルジ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニルジ−ｔｅｒｔ−
ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン、γ−トリフルオロプロピルトリエトキシシ
ラン等を挙げることができる。また、これらの水素原子
の一部または全部がフッ素原子に置換された化合物が挙
げられる。これらのアルキルアルコキシシランは１種ま
たは２種以上で用いられる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００８１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００８１】触媒として用いられる有機酸の具体例とし
ては、例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン
酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、
デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリット酸、
アラキドン酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ス
テアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、サリチル酸、
安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン
酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石
酸等を挙げることができる。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００９８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００９８】上記トリアリールスルホニウム塩類として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルト
リス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、トリフ
ェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニ
ル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキシルトリ
ス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−
メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオ
ロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニ
ルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジ
フェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メ
トキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエン
スルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボ
レート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム
ヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−
メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリ
ス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−
フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルス
ルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロ
アセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスル
ホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチ
オフェニルジフェニルスルホニウムブチルトリス（２，
６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−
クロロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフル
オロメチルフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−
ナフタレニルジメチルスルホニウムテトラフルオロボレ
ート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスル
ホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−ヒドロキシ
−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジ
メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、
４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウ
ムトリフルオロアセテート、４−ヒドロキシ−１−ナフ
タレニルジメチルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスル
ホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）
ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチル
スルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボ
レート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルス
ルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフ
ェニル）ボレート等が挙げられる。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１３６

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１３６】上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベン
ゾトリアゾ−ル類、サリシレ−ト類、ベンゾフェノン
類、置換アクリロニトリル類、キサンテン類、クマリン
類、フラボン類、カルコン類化合物等の紫外線吸収剤が
挙げられる。具体的にはチバ・スペシャルティ−・ケミ
カルズ社製のチヌビン２３４（２−（２−ヒドロキシ−
３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾ−ル）、チヌビン５７１（ヒド
ロキシフェニルベンゾトリアゾ−ル誘導体）、チヌビン
１１３０（メチル−３−（３−ｔ−ブチル−５−（２Ｈ
−ベンゾトリアゾ−ル−２−イル）−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネ−ト−ポリエチレングリコ−ル（分
子量３００）との縮合物）、１，７−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−メトキシフェニル）−１，６−ヘプタジエン
−３，５−ジオン、ジベンジリデンアセトンなどがあ
る。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１４７

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１４７】具体的には、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ブタノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの
アルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル
類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルア
セテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール
類；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレン
グリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロ
ピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルな
どのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールプロピルエーテルアセテートプロピレングリ
コールブチルエーテルアセテート、などのプロピレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレング
リコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレン
グリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピ
レングリコールアルキルエーテルプロピオネート類；ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メ
チル−２−ペンタノンなどのケトン類；

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１５９

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１５９】このような現像液としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸
ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水など
の無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミン
などの第一級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロ
ピルアミンなどの第二級アミン類；トリエチルアミン、
メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドンなどの第
三級アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノ
ールアミンなどのアルコールアミン類；テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、コリンなどの第四級アンモニウム塩；ピロ
ール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．
３．０］−５−ノナンなどの環状アミン類のアルカリ類
からなるアルカリ水溶液を用いることができる。また、
メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール等のアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等
のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等
のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチ
ルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル等の
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピ
レングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレング
リコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレング
リコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレン
グリコールブチルエーテルプロピオネート等のプロピレ
ングリコールアルキルエーテルプロピオネート類；トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタンなどの脂肪族炭化水素類；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブ
チルケトン、メチルアミルケトン、４−ヒドロキシ−４
−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプ
ロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オン酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸
ブチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−３−
メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ
酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メ
トキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸
ブチル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキ
シプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシ
プロピオン酸ブチルなどのエステル類などの有機溶媒を
現像液として用いることもできる。これらの溶剤の中
で、水、アルコール類、グリコールエーテル類、および
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類が好
ましく用いられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 今野 圭二 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA11 AB14 AC01 AD01 BC13 BC42 BH05 2H049 AA02 AA06 AA12 AA33 AA43 4J026 AA11 AA16 AA17 AA26 AA31 AA37 AA38 AA44 AA45 AA68 AB02 AB07 AB17 AB28 AB34 AB40 AB44 AB46 BA04 BA05 BA06 BA08 BA15 BA16 BA17 BA24 BA25 BA26 BA27 BA28 BA50 BB01 BB02 DB02 DB06 DB11 DB36 FA05 4J036 AA01 FB03 FB05 FB09 FB10 FB11 FB13 FB15 FB16 GA01 GA02 GA03 GA04 GA26 HA01 JA05 JA09

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）重合性化合物、（Ｂ）重合性化合
   物（Ａ）の重合体よりも屈折率が低い非重合性化合物、
   および（Ｃ）感放射線重合開始剤を含有することを特徴
   とする、感放射線性屈折率変化性組成物。
2. 【請求項２】 放射線照射部の屈折率が放射線未照射部
   の屈折率と最大差で０．０２以上となる、請求項１に記
   載の組成物。
3. 【請求項３】 非重合性化合物（Ｂ）の屈折率ｎ_Bが、
   重合性化合物（Ａ）の重合体の屈折率ｎ_Aと下記式
   （１）： ｎ_A−ｎ_B≧０．０５・・・・・・（１） の関係にある、請求項１〜２のいずれかに記載の組成
   物。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の感放射線性屈折率変化
   性組成物に放射線を照射することを特徴とする、屈折率
   変化方法。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の感放射線性屈折率変化
   性組成物にパターンを介して放射線を照射することを特
   徴とする、屈折率パターン形成方法。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の方法により形成された
   屈折率パターン。
7. 【請求項７】 請求項５に記載の方法に形成された屈折
   率パターンを有する光学材料。