JP2005325344A - 導波路組成物およびそれより形成された導波路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(RSiO1.5)の単位を有し、式中、Rは、置換または非置換の有機基、および複数の官能性末端基であるポリマーを含む組成物が提供される。第1の成分が、活性化によって、乾燥状態の組成物の溶解性を変化させるために提供される。第2の成分は、エポキシド、オキセタン、ビニルエーテル、およびそれらの組み合わせから選択される複数の官能基を含有する。第2の成分は、活性化前および活性化後の乾燥状態の組成物の可撓性を改善するのに有効な量で存在する。可撓性光導波路、可撓性光導波路の形成方法、および可撓性光導波路を含む電子デバイスも提供される。
【選択図】なし
Description
39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、48.5重量%のフェニル−メチル−ジメチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして35:65重量%)、7.5%の1,4ブタンジオールのジグリシジルエーテル、4.99重量%のアミンブロックされたドデシルフェニルスルホネート、および0.01重量%のダウシルウェットL−7604シリコーン系油を混合することによって、第1のクラッディング層組成物を形成する。この組成物を、プリント配線板の製造に一般に使用されるような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシ積層体上に、厚さ50μmまでローラーコーティングする。この組成物を、対流式オーブンにおいて空気中90℃で45分間乾燥させる。この第1のクラッドがコーティングされた基体を180℃で1.5時間加熱する。
この第1のクラッディング層に、実施例1で使用したのと同じ組成物および手順を用いてコーティングし、導波路コア構造を形成する。
(クラッド(2)層)
50重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、40.99重量%のフェニル−メチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして40:60重量%)、4重量%の3,3−ジメチルオキセタン、5重量%のトリフェニルスルホニウムトリフルオロメチルサルフェート、および0.01重量%のダウシルウェットL−7604シリコーン系油を混合することによって、第1のクラッディング層組成物を形成する。この組成物を、2000rpmで6インチの二酸化ケイ素がコーティングされたシリコンウエハ上にスピンコーティングして、空気中において、ホットプレート上90℃で2分間、厚さ8μmまでソフトベークする。この組成物を800mJに露光し、ホットプレート上で90℃で2分間加熱する。この組成物を、空気中において、ホットプレート上200℃で10分間ハードベークする。
この第1のクラッディング層に、実施例2で使用したものと同じ組成物および手順を用いてコーティングし、導波路コア構造を形成する。
ソフトベーク後の第2のクラッディング層の厚さが10μmであることを除けば、第1のクラッディング層の形成に使用したものと同じ組成物および手順を使用して、パターン形成されたコア構造および第1のクラッディング層の上に第2のクラッディング層組成物を形成する。可撓性光導波路が得られることが期待される。
39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、46重量%のフェニル−メチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして50:50重量%)、10%のトリメチロールプロパントリビニルエーテル、4.99重量%のアミンブロックされたドデシルフェニルスルホネート、および0.01重量%のダウシルウェットL−7604シリコーン系油を混合することによって、第1のクラッディング層組成物を形成する。この組成物を、プリント配線板の製造に一般に使用されるような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシ積層体上に、厚さ50μmまでローラーコーティングする。この組成物を、対流式オーブンにおいて空気中90℃で45分間乾燥させる。この第1のクラッドがコーティングされた基体を、180℃で1時間加熱する。
この第1のクラッディング層に、実施例3において使用したのとと同じ組成物および手順を用いてコーティングし、導波路コア構造を形成する。
ソフトベーク後の第2のクラッディング層の厚さが60μmであることを除けば、第1のクラッディング層の形成に使用したものと同じ組成物および手順を使用して、パターン形成されたコア構造および第1のクラッディング層の上に第2のクラッディング層組成物を形成する。可撓性光導波路が得られることが期待される。
39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、46重量%のフェニル−メチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして50:50重量%)、10%のヒドロキシ末端ポリジフェニルシロキサン、4.99重量%のアミンブロックされたドデシルフェニルスルホネート、および0.01重量%のダウシルウェットL−7604シリコーン系油を混合することによって、第1のクラッディング層組成物を形成する。この組成物を、プリント配線板の製造に一般に使用されるような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシ積層体上に、厚さ50μmまでローラーコーティングする。この組成物を、対流式オーブンにおいて空気中90℃で45分間乾燥させる。この第1のクラッドがコーティングされた基体を、180℃で1時間加熱する。
この第1のクラッディング層に、実施例4と同じ組成物および手順を用いてコーティングし、導波路コア構造を形成する。
ソフトベーク後の第2のクラッディング層の厚さが60μmとなることを除けば、第1のクラッディング層の形成に使用したものと同じ組成物および手順を用いて、パターン形成されたコア構造および第1のクラッディング層の上に第2のクラッディング層組成物を形成する。可撓性光導波路が得られることが期待される。
4 クラッディング層
6 コア層
6’コア構造
8 マスク
10 第2のクラッディング層
12 Y接合部
Claims (10)
- 組成物であって:
式(RSiO1.5)の単位を含むポリマーであって、式中、Rは、置換または非置換の有機基、および複数の官能性末端基であるポリマーと;
活性化によって、乾燥状態の該組成物の溶解性を変化させる第1の成分と;
エポキシド、オキセタン、ビニルエーテル、およびそれらの組み合わせから選択される複数の官能基を含有する第2の成分と、
を含み、
該第2の成分は、活性化前および活性化後の乾燥状態の該組成物の可撓性を改善するのに有効な量で存在する、組成物。 - 該第2の成分が、置換および非置換のアルキルおよびアリール炭化水素、エーテル、アクリレート、ノボラック、ナノ粒子、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリケトン、フラーレン、POSSケイ素、ならびにそれらの組み合わせ、から選択される材料を含む請求項1記載の組成物。
- 該第2の成分がポリエポキシドである請求項1記載の組成物。
- 前記ポリマーが式(R1SiO1.5)の単位をさらに含み、式中、R1が置換または非置換のアルキル基であり、かつRが置換または非置換のアリール基である請求項1〜3のいずれか1項記載の組成物。
- 乾燥状態の該組成物が水性現像可能である請求項1〜4のいずれか1項記載の組成物。
- コアとクラッドとを含む可撓性光導波路であって、コアおよび/またはクラッドが組成物から形成され、該組成物が:
式(RSiO1.5)の単位を含むポリマーであって、式中、Rは、置換または非置換の有機基、および複数の官能性末端基であるポリマーと;
活性化によって、乾燥状態の該組成物の溶解性を変化させる第1の成分と;
エポキシド、オキセタン、ビニルエーテル、およびそれらの組み合わせから選択される複数の官能基を含有する第2の成分と、
を含み、
第2の成分が、活性化前および活性化後の乾燥状態の該組成物の可撓性を改善するのに有効な量で存在する、可撓性光導波路。 - 該第2の成分が、置換および非置換のアルキルおよびアリール炭化水素、エーテル、アクリレート、ノボラック、ナノ粒子、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリケトン、フラーレン、POSSケイ素、ならびにそれらの組み合わせ、から選択される材料を含む請求項6記載の可撓性光導波路。
- 該第2の成分がポリエポキシドである請求項6記載の可撓性光導波路。
- 該ポリマーが式(R1SiO1.5)の単位をさらに含み、式中、R1が置換または非置換のアルキル基であり、かつRが置換または非置換のアリール基である請求項6〜8のいずれか1項記載の組成物。
- コアとクラッドとを含む可撓性光導波路の形成方法であって、
(a)請求項1〜5のいずれか1項記載の組成物から基体上に層を形成する工程と、
(b)該層の少なくとも一部を活性化させる工程と
を含み、該層がコアまたはクラッド層である方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006036898A (ja) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Jsr Corp | 光硬化性組成物及びそれを用いた光導波路 |
JP2008266629A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Nippon Shokubai Co Ltd | 樹脂組成物及び光学部材 |
JP2009249467A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Nippon Shokubai Co Ltd | 樹脂組成物、光学材料、及び、光学部材 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7072564B2 (en) * | 2003-11-25 | 2006-07-04 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Waveguide compositions and waveguides formed therefrom |
JP5102428B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2012-12-19 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 |
US7373060B2 (en) * | 2005-02-28 | 2008-05-13 | Chisso Corporation | Optical waveguide using polymer composed of silsesquioxane derivative |
US20070202435A1 (en) * | 2005-12-29 | 2007-08-30 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Methods of forming optical waveguides |
KR101423167B1 (ko) * | 2006-07-13 | 2014-07-25 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 가요성 광도파로 및 광-전기 복합배선판용 적층판 |
JP5018307B2 (ja) | 2006-09-26 | 2012-09-05 | 富士通株式会社 | レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
US7867689B2 (en) * | 2007-05-18 | 2011-01-11 | International Business Machines Corporation | Method of use for photopatternable dielectric materials for BEOL applications |
US8470516B2 (en) * | 2007-05-18 | 2013-06-25 | International Business Machines Corporation | Method of forming a relief pattern by e-beam lithography using chemical amplification, and derived articles |
US7496263B2 (en) * | 2007-06-07 | 2009-02-24 | Fujifilm Manfacturing U.S.A. Inc. | Thermosetting optical waveguide coating |
US20080305255A1 (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-11 | Fujifilm Manufacturing U.S.A. Inc. | Optical waveguide coating |
US9011752B2 (en) * | 2008-03-03 | 2015-04-21 | Nokia Corporation | Electromagnetic wave transmission lines using magnetic nanoparticle composites |
KR101690159B1 (ko) | 2008-12-10 | 2016-12-27 | 다우 코닝 코포레이션 | 변환가능한 반사방지 코팅 |
EP2376584B1 (en) * | 2008-12-10 | 2014-07-16 | Dow Corning Corporation | Wet-etchable antireflective coatings |
EP2373722A4 (en) | 2008-12-10 | 2013-01-23 | Dow Corning | SILSESQUIOXAN RESINS |
JP4748229B2 (ja) * | 2009-02-16 | 2011-08-17 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器 |
US9080077B2 (en) | 2009-12-21 | 2015-07-14 | Dow Corning Corporation | Methods for fabricating flexible waveguides using alkyl-functional silsesquioxane resins |
CN102207621B (zh) * | 2010-03-29 | 2013-08-07 | 成都易生玄科技有限公司 | 光线分流开关的方法 |
JP5308398B2 (ja) * | 2010-05-11 | 2013-10-09 | 日東電工株式会社 | 光導波路形成用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路 |
TW201319170A (zh) | 2011-05-25 | 2013-05-16 | Dow Corning | 在溶劑顯影期間增強膜保留和黏附之含有環氧官能化矽氧烷寡聚物的環氧官能化的可輻射固化組合物 |
US8871425B2 (en) * | 2012-02-09 | 2014-10-28 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Low dielectric photoimageable compositions and electronic devices made therefrom |
CN110361604B (zh) * | 2019-07-23 | 2021-08-13 | 北京无线电计量测试研究所 | 电场探测量子组件和制备方法以及量子场强传感器 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06148895A (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-27 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
JPH06273936A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-09-30 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物およびこれを使用したパターン形成方法 |
JPH07258604A (ja) * | 1995-02-21 | 1995-10-09 | Toray Ind Inc | 光学材料および光学材料用コーティング組成物 |
JPH10246960A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物、およびこれを使用したパターン形成方法 |
JP2001083342A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-30 | Jsr Corp | 光導波路形成用組成物、光導波路の形成方法、および光導波路 |
JP2001288364A (ja) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Jsr Corp | 放射線硬化性組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法 |
WO2003010603A1 (fr) * | 2001-07-24 | 2003-02-06 | Jsr Corporation | Composition radiosensible de type positif et procede de formation d'un motif |
JP2003048984A (ja) * | 2001-03-29 | 2003-02-21 | Shipley Co Llc | ウェーブガイドおよび組成物 |
JP2003185820A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法 |
JP2003185860A (ja) * | 2001-12-17 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 光導波路形成用放射線硬化性組成物および光導波路 |
JP2004185000A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 導波路を形成する方法及びそれから形成される導波路 |
JP2004184999A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | フォトイメージャブル導波路組成物及びそれから形成される導波路 |
JP2005154715A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57168246A (en) | 1981-04-09 | 1982-10-16 | Fujitsu Ltd | Formation of negative pattern |
JPS6025061B2 (ja) | 1981-12-02 | 1985-06-15 | 日立化成工業株式会社 | 感光性シリコ−ン樹脂組成物 |
JPS63279245A (ja) | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Fujitsu Ltd | ネガ型レジスト組成物 |
FR2656617A1 (fr) * | 1989-12-28 | 1991-07-05 | Thomson Csf | Procede de synthese de polysilsesquioxanes et applications des produits contenus. |
EP0464614B1 (en) * | 1990-06-25 | 1999-09-29 | Matsushita Electronics Corporation | A composition having sensitivity to light or radiation |
US5457003A (en) * | 1990-07-06 | 1995-10-10 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Negative working resist material, method for the production of the same and process of forming resist patterns using the same |
JPH04271306A (ja) | 1991-02-27 | 1992-09-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | プラスチック光伝送体 |
JPH04366958A (ja) | 1991-06-14 | 1992-12-18 | Oki Electric Ind Co Ltd | 放射線感応性樹脂組成物 |
US5262280A (en) * | 1992-04-02 | 1993-11-16 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions |
JP3273519B2 (ja) | 1992-12-04 | 2002-04-08 | 日本電信電話株式会社 | ポリシロキサン系光導波路の製造方法 |
JPH06256523A (ja) | 1993-03-02 | 1994-09-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 遷移金属元素を含むポリシロキサンおよびそれを用いた光導波路 |
JPH08176444A (ja) * | 1994-10-26 | 1996-07-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高分子光学材料及びこれを用いた光導波路 |
TW397936B (en) * | 1994-12-09 | 2000-07-11 | Shinetsu Chemical Co | Positive resist comosition based on a silicone polymer containing a photo acid generator |
JP3724004B2 (ja) | 1995-03-28 | 2005-12-07 | 東レ株式会社 | 熱硬化性組成物、その製造方法およびカラーフィルタ |
JP3204359B2 (ja) | 1995-04-28 | 2001-09-04 | 日本電信電話株式会社 | フレキシブル高分子光導波路 |
JPH08327842A (ja) | 1995-05-29 | 1996-12-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路 |
US5972516A (en) * | 1996-02-29 | 1999-10-26 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing optical waveguide using siloxane polymer, and optoelectronic hybrid substrate using the optical waveguide |
JPH10148729A (ja) | 1996-11-21 | 1998-06-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高分子光導波路コア部のリッジ・パターン形成方法 |
US6144795A (en) * | 1996-12-13 | 2000-11-07 | Corning Incorporated | Hybrid organic-inorganic planar optical waveguide device |
JP3571482B2 (ja) | 1997-03-13 | 2004-09-29 | 日本電信電話株式会社 | 口径変換用高分子光導波路パターン形成方法 |
US5962067A (en) * | 1997-09-09 | 1999-10-05 | Lucent Technologies Inc. | Method for coating an article with a ladder siloxane polymer and coated article |
US6054253A (en) * | 1997-10-10 | 2000-04-25 | Mcgill University-The Royal Institute For The Advancement Of Learning | Solvent-assisted lithographic process using photosensitive sol-gel derived glass for depositing ridge waveguides on silicon |
US6087064A (en) * | 1998-09-03 | 2000-07-11 | International Business Machines Corporation | Silsesquioxane polymers, method of synthesis, photoresist composition, and multilayer lithographic method |
JP3133039B2 (ja) * | 1998-10-05 | 2001-02-05 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パターン形成方法 |
US6537723B1 (en) * | 1998-10-05 | 2003-03-25 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Photosensitive composition for manufacturing optical waveguide, production method thereof and polymer optical waveguide pattern formation method using the same |
US6187505B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-02-13 | International Business Machines Corporation | Radiation sensitive silicon-containing resists |
US7035518B2 (en) * | 2001-04-13 | 2006-04-25 | Hitachi Cable, Ltd. | Polymer waveguides and process for producing the same |
TW594416B (en) * | 2001-05-08 | 2004-06-21 | Shipley Co Llc | Photoimageable composition |
US6751396B2 (en) * | 2001-12-26 | 2004-06-15 | Lucent Technologies Inc. | Integrated optical devices and method of fabrication therefor |
JP3952149B2 (ja) | 2002-02-06 | 2007-08-01 | 信越化学工業株式会社 | 光導波路形成用材料及び光導波路の製造方法 |
JP4205368B2 (ja) | 2002-06-11 | 2009-01-07 | 株式会社Adeka | 光学材料用硬化性組成物 |
US6856745B2 (en) * | 2002-07-02 | 2005-02-15 | Lucent Technologies Inc. | Waveguide and applications therefor |
US7031591B2 (en) * | 2002-07-18 | 2006-04-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Optical waveguide, forming material and making method |
JP4143835B2 (ja) | 2002-07-18 | 2008-09-03 | 信越化学工業株式会社 | 光導波路形成材料、それを用いた光導波路及び光導波路の製造方法 |
DE10240105B4 (de) * | 2002-08-30 | 2005-03-24 | Infineon Technologies Ag | Herstellung organischer elektronischer Schaltkreise durch Kontaktdrucktechniken |
US7072564B2 (en) * | 2003-11-25 | 2006-07-04 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Waveguide compositions and waveguides formed therefrom |
-
2005
- 2005-04-09 DE DE602005001341T patent/DE602005001341T2/de active Active
- 2005-04-09 DE DE602005014984T patent/DE602005014984D1/de active Active
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- 2005-04-12 KR KR1020050030192A patent/KR101183269B1/ko active IP Right Grant
- 2005-04-13 JP JP2005115424A patent/JP2005325344A/ja active Pending
- 2005-04-14 US US11/105,979 patent/US7072565B2/en active Active
- 2005-04-14 CN CNB2005100666155A patent/CN100378468C/zh active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06148895A (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-27 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
JPH06273936A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-09-30 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物およびこれを使用したパターン形成方法 |
JPH07258604A (ja) * | 1995-02-21 | 1995-10-09 | Toray Ind Inc | 光学材料および光学材料用コーティング組成物 |
JPH10246960A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物、およびこれを使用したパターン形成方法 |
JP2001083342A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-30 | Jsr Corp | 光導波路形成用組成物、光導波路の形成方法、および光導波路 |
JP2001288364A (ja) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Jsr Corp | 放射線硬化性組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法 |
JP2003048984A (ja) * | 2001-03-29 | 2003-02-21 | Shipley Co Llc | ウェーブガイドおよび組成物 |
WO2003010603A1 (fr) * | 2001-07-24 | 2003-02-06 | Jsr Corporation | Composition radiosensible de type positif et procede de formation d'un motif |
JP2003185860A (ja) * | 2001-12-17 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 光導波路形成用放射線硬化性組成物および光導波路 |
JP2003185820A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法 |
JP2004185000A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 導波路を形成する方法及びそれから形成される導波路 |
JP2004184999A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | フォトイメージャブル導波路組成物及びそれから形成される導波路 |
JP2005154715A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006036898A (ja) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Jsr Corp | 光硬化性組成物及びそれを用いた光導波路 |
JP4639685B2 (ja) * | 2004-07-26 | 2011-02-23 | Jsr株式会社 | 光硬化性組成物及びそれを用いた光導波路 |
JP2008266629A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Nippon Shokubai Co Ltd | 樹脂組成物及び光学部材 |
JP2009249467A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Nippon Shokubai Co Ltd | 樹脂組成物、光学材料、及び、光学部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100378468C (zh) | 2008-04-02 |
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