JP2005154715A - 導波路組成物およびこれから形成された導波路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(RSiO1.5)(式中、Rは置換または非置換有機基である)の単位、および複数の官能性末端基を有するポリマーに、活性化の時に乾燥状態にある組成物の溶解性を変えるために供給される第一成分およびヒドロキシ、アミノ、チオール、スルホネートエステル、カルボキシレートエステル、シリルエステル、無水物、アジリジン、メチロールメチル、シリルエーテル、およびこれらの組合わせから選択される複数の官能基を含んでいる第二成分を含む組成物であって、この第二成分は、活性化の前後に乾燥状態にある組成物の柔軟性を改良するのに効果的な量で存在する。
【選択図】なし
Description
この出願は、2003年11月25日に出願された米国仮出願番号第60/524,820号の35U.S.C.§119(e)に基づく特典を請求している。この特許の内容全体が、参照して本明細書に組込まれる。
クラッド層組成物は、40.61重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、53.47重量%のフェニル−メチル−ジメチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして49:49:2重量%)、5.35重量%のポリテトラヒドロフラン、0.56重量%のアミンブロックドデシルフェニルスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合物として組合わせて形成した。この組成物を、ナンバー80ドローダウンバーを用いて機械的にスクラビングされた銅ラミネート上にコーティングした。このラミネートを、オーブン中で90℃において30分間乾燥し、オーブン中で180℃において1時間ハードベークした。
35.75重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、56.44重量%のフェニル−メチル−ジメチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして49:49:2重量%)、6.24重量%のポリテトラヒドロフラン、1.56重量%のジフェニルナフチルスルホニウムペルフルオロブタンスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合して形成されたコア組成物で、クラッド層をコーティングした。このコーティングされたラミネートをオーブン中で90℃において30分間乾燥させた。必要とされている導波路を画定するアートワークを、組成物上に直接載せた。このアートワークは、様々な寸法および形状の導波路、例えば長さ2〜14cm、幅15〜50μmの線状、分岐状、および湾曲形状の導波路を形成するためのパターンを含んでいた。このコーティングされたラミネートを、500mJで露光し、90℃において15分間オーブン中に置いた。ついでこのコーティングされたラミネートを、30秒間37.8℃に保持された0.7N水酸化ナトリウム現像液中で浸漬した。ついでこのコーティングされたラミネートを脱イオン水中でリンスし、乾燥した。このコーティングされたラミネートを、オーブン中で60分間200℃に加熱した。この導波路を、1/16インチ直径のマンドレル上で折り曲げた。ベースラミネートは亀裂したが、クラッドおよびコア層は、目視検査を基準にした場合亀裂しなかった。
第一クラッド層組成物は、39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、48.5重量%のフェニル−メチル−ジメチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして35:65重量%)、7.5重量%のジヒドロキシ末端ポリエチレンオキシド、4.99重量%のアミンブロックドデシルフェニルスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合物として組合わせて形成する。この組成物を、プリント配線板製造に通常用いられているような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシラミネート上に50μmの厚さにローラーコーティングする。ついでこの組成物を、対流式オーブン中で90℃において45分間空気中で乾燥させる。この第一クラッドコーティングされた基体を、180℃で1.5時間加熱する。
第一クラッド層を、実施例2のコア組成物でコーティングし、実施例2に記載されているようにパターン化し、硬化する。
ソフトベーク後の第二クラッド層の厚さが60μmであること以外、第一クラッド層の形成に用いられたのと同じ組成物および手順を用いて、第二クラッド層組成物を、パターン化コアおよび第一クラッド層の上に形成する。柔軟性光導波路が形成されると予想される。
第一クラッド層組成物は、50重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、40.99重量%のフェニル−メチル−シルセスキオキサン(ポリマーを基準にして40:60重量%)、4重量%のポリテトラヒドロフラン、5重量%のトリフェニルスルホニウムトリフルオロメチルスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合物として組合わせて形成する。この組成物を、6インチの二酸化ケイ素コーティングされたシリコンウエハー上に2,000rpmでスピンコーティングし、ホットプレート上で90℃において2分間空気中で8μmの厚さにソフトベークする。この組成物を800mJに露光し、ホットプレート上で90℃において2分間加熱する。ついでこの組成物を、ホットプレート上で200℃において10分間空気中でハードベークする。
第一クラッド層を、実施例3のコア組成物でコーティングし、実施例3に記載されているようにパターン化し、硬化する。
ソフトベーク後の第二クラッド層の厚さが10μmであること以外、第一クラッド層の形成に用いられたのと同じ組成物および手順を用いて、第二クラッド層組成物を、パターン化コアおよび第一クラッド層の上に形成する。柔軟性光導波路が形成されると予想される。
第一クラッド層組成物は、39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、56重量%のフェニル−メチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして50:50重量%)、10重量%のジヒドロキシ末端ポリプロピレングリコール、4.99重量%のアミンブロックドデシルフェニルスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合物として組合わせて形成する。この組成物を、プリント配線板製造に通常用いられているような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシラミネート上に50μmの厚さにローラーコーティングする。ついでこの組成物を、対流式オーブン中で90℃において45分間空気中で乾燥させる。この第一クラッドコーティングされた基体を、180℃で1時間加熱する。
第一クラッド層を、実施例4のコア組成物でコーティングし、実施例4に記載されているようにパターン化し、硬化する。
ソフトベーク後の第二クラッド層の厚さが60μmであること以外、第一クラッド層の形成に用いられたのと同じ組成物および手順を用いて、第二クラッド層組成物を、パターン化コアおよび第一クラッド層の上に形成する。柔軟性光導波路が形成されると予想される。
第一クラッド層組成物は、39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、56重量%のフェニル−メチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして50:50重量%)、10重量%のジヒドロキシ末端ポリプロピレングリコール、4.99重量%のアミンブロックドデシルフェニルスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合物として組合わせて形成する。この組成物を、プリント配線板製造に通常用いられているような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシラミネート上に50μmの厚さにローラーコーティングする。ついでこの組成物を、対流式オーブン中で90℃において45分間空気中で乾燥させる。この第一クラッドコーティングされた基体を、180℃で1時間加熱する。
第一クラッド層を、実施例5のコア組成物でコーティングし、実施例5に記載されているようにパターン化し、硬化する。
ソフトベーク後の第二クラッド層の厚さが60μmであること以外、第一クラッド層の形成に用いられたのと同じ組成物および手順を用いて、第二クラッド層組成物を、パターン化コアおよび第一クラッド層の上に形成する。柔軟性光導波路が形成されると予想される。
第一クラッド層組成物は、39重量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、56重量%のフェニル−メチルシルセスキオキサン(ポリマーを基準にして50:50重量%)、10重量%のジヒドロキシ末端ポリプロピレングリコール、4.99重量%のアミンブロックドデシルフェニルスルフェート、および0.01重量%のダウ・シルウエットL−7604シリコーンベース油を混合物として組合わせて形成する。この組成物を、プリント配線板製造に通常用いられているような24インチ×36インチ(61cm×91.4cm)エポキシラミネート上に50μmの厚さにローラーコーティングする。ついでこの組成物を、対流式オーブン中で90℃において45分間空気中で乾燥させる。この第一クラッドコーティングされた基体を、180℃で1時間加熱する。
第一クラッド層を、実施例6のコア組成物でコーティングし、実施例6に記載されているようにパターン化し、硬化する。
ソフトベーク後の第二クラッド層の厚さが60μmであること以外、第一クラッド層の形成に用いられたのと同じ組成物および手順を用いて、第二クラッド層組成物を、パターン化コアおよび第一クラッド層の上に形成する。柔軟性光導波路が形成されると予想される。
4 第一クラッド層
6 構造
6’ コア構造
8 マスク
10 第二クラッド層
12 Y接合部
Claims (10)
- 式(RSiO1.5)(式中、Rは置換または非置換有機基である)の単位、および複数の官能性末端基を含んでいるポリマー;
活性化の時に乾燥状態にある組成物の溶解性を変えるための第一成分;および
ヒドロキシ、アミノ、チオール、スルホネートエステル、カルボキシレートエステル、シリルエステル、無水物、アジリジン、メチロールメチル、シリルエーテル、およびこれらの組合わせから選択される複数の官能基を含んでいる第二成分であって、活性化の前後に乾燥状態にある組成物の柔軟性を改良するのに効果的な量で存在する第二成分、
を含む組成物。 - このポリマーが、式(R1SiO1.5)(式中、R1は、置換または非置換有機基であり、Rとは異なる)の単位をさらに含む、請求項1記載の組成物。
- 第二成分が、置換および非置換アルキルおよびアリール炭化水素、エーテル、アクリレート、ノボラック、ナノ粒子、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリケトン、フラーレン、POSSシリコン、およびこれらの組合わせから選択される物質を含んでいる、請求項1または2記載の組成物。
- この第二成分がポリオールである、請求項1または2記載の組成物。
- この第二成分がポリエーテル−ジオールである、請求項1または2記載の組成物。
- 乾燥状態にあるこの組成物が、水性現像可能である、請求項1〜5のいずれか1項記載の組成物。
- コアおよびクラッドを含む柔軟性光導波路であって、このコアおよび/またはクラッドが、請求項1〜6のいずれか1項記載の組成物から形成されている、前記柔軟性光導波路。
- コアおよびクラッドを含んでいる柔軟性光導波路の形成方法であって、
(a)請求項1〜6のいずれか1項記載の組成物から基体上に層を形成する工程;および
(b)該層の少なくとも一部分を活性化する工程であって、該層がコアまたはクラッド層である工程、
を含む方法。 - 請求項8記載の方法であって、
層がコア層であり、さらに、
当該方法が、
工程(b)として、(b)コア層の一部分を活性化する工程を含み、かつ、
(c)コア層を現像してコア構造を形成する工程をさらに含むものである、
請求項8記載の方法。 - 請求項8記載の方法であって、
層が第一クラッド層であり、さらに、
当該方法が、
(c)(a)の組成物と同一かまたは異なるものである、(a)に規定されているものとしての第二の組成物から、クラッド層上にコア層を形成する工程;
(d)コア層の一部分を活性化する工程;
(e)コア層を現像してコア構造を形成する工程;および
(f)(a)および/または(c)の組成物と同一かまたは異なるものである、(a)に規定されているものとしての第三組成物から、コア構造上に第二クラッド層を形成する工程、をさらに含む、請求項8記載の方法。
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