JPH11189437A - ラダー・シロキサンポリマによる製品の被覆方法及び被覆された製品 - Google Patents
ラダー・シロキサンポリマによる製品の被覆方法及び被覆された製品Info
- Publication number
- JPH11189437A JPH11189437A JP25489298A JP25489298A JPH11189437A JP H11189437 A JPH11189437 A JP H11189437A JP 25489298 A JP25489298 A JP 25489298A JP 25489298 A JP25489298 A JP 25489298A JP H11189437 A JPH11189437 A JP H11189437A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oligomer
- coating
- coating composition
- product
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/105—Organic claddings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/24—Coatings containing organic materials
- C03C25/40—Organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
- C08K5/5317—Phosphonic compounds, e.g. R—P(:O)(OR')2
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2913—Rod, strand, filament or fiber
- Y10T428/2933—Coated or with bond, impregnation or core
- Y10T428/2962—Silane, silicone or siloxane in coating
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ラダー・シロキサンポリマによる製品の被膜
方法及び被覆された製品。 【解決手段】 高い機械的熱安定性を有する被膜を生じ
るシロキサンを基本とする被膜組成物で、製品を被覆す
る方法を提供する。この方法により、焼きなまし前に、
被膜の熔球生成を防止しながら、商業的に許容できる速
度の使用が可能になる。一例を示すと製品は約２０００
ｃｐ又はそれ以下の初期粘性を有する第１のメチルシル
セキオキサン・オリゴマー、約４０，０００ないし約９
０，０００ｃｐの初期粘性を有する第２のメチルシルセ
キオキサン・オリゴマー、低級脂肪族ケトンの粘性低下
添加物及び触媒を含む組成物で、被覆される。
方法及び被覆された製品。 【解決手段】 高い機械的熱安定性を有する被膜を生じ
るシロキサンを基本とする被膜組成物で、製品を被覆す
る方法を提供する。この方法により、焼きなまし前に、
被膜の熔球生成を防止しながら、商業的に許容できる速
度の使用が可能になる。一例を示すと製品は約２０００
ｃｐ又はそれ以下の初期粘性を有する第１のメチルシル
セキオキサン・オリゴマー、約４０，０００ないし約９
０，０００ｃｐの初期粘性を有する第２のメチルシルセ
キオキサン・オリゴマー、低級脂肪族ケトンの粘性低下
添加物及び触媒を含む組成物で、被覆される。
Description
【０００１】
【本発明の分野】本発明は被膜、より具体的には、シロ
キサンを含む被膜に係る。
キサンを含む被膜に係る。
【０００２】
【関連技術の記述】加熱されたガラスプリフォーム又は
ガラス融体から引かれたガラス光ファイバは、引かれた
ファイバの表面に欠陥が無い限り、良好な強度を示す。
従って、典型的な場合、熱可塑性又は液体供給焼きなま
し可能ポリマを基本とする樹脂で形成される保護被膜
は，通常ファイバが引かれた直後、ファイバと他の表面
が接触する前に、ファイバに供給される。典型的な場
合、ファイバは流体ポリマを通過させる。流体ポリマは
被膜するために、モノマー中又は溶媒中に希釈されてお
り、通過させるのは、たとえば米国特許第４，２６４，
６４９号に述べられているような延伸カップを用いるこ
とによる。長時間、温度がたとえば１７５℃を越える用
途で用いる光ファイバは、そのような温度で機械的に安
定な被膜、すなわち高い機械的熱安定性を有する被膜を
必要とする。従来の紫外線焼きなましアクリル酸樹脂
は、約１００℃以下の温度でのみ、安全に使用できる。
それより高い温度に対しては、溶媒を基本とするポリイ
ミド被膜がしばしば用いられる。しかし、ポリマの溶解
度が低いため、たとえば１０μｍよりはるかに薄い、薄
い被膜のみが、被膜組成中にファイバを通す毎に形成さ
れる。一般に、約１０ないし約５０μｍ厚が望ましいた
め、適当な厚さのポリイミドを得るためには、たとえば
順次延伸カップを通すといった繰り返し通過が必要であ
る。更に、溶融を基本としたポリイミド被膜の引張り速
度は、被覆されたファイバがスプール上に巻けるように
なる前に、溶媒を除去し、イミド化反応を完了させるた
め、約０．１ｍ／秒に制限される。そのような制約は商
業生産の条件と両立しない。なぜなら、引張り速度が遅
く、引張りカップを何度も通過させる必要性のため、プ
ロセスは複雑になり、生産性が下り、価格が上昇するか
らである。
ガラス融体から引かれたガラス光ファイバは、引かれた
ファイバの表面に欠陥が無い限り、良好な強度を示す。
従って、典型的な場合、熱可塑性又は液体供給焼きなま
し可能ポリマを基本とする樹脂で形成される保護被膜
は，通常ファイバが引かれた直後、ファイバと他の表面
が接触する前に、ファイバに供給される。典型的な場
合、ファイバは流体ポリマを通過させる。流体ポリマは
被膜するために、モノマー中又は溶媒中に希釈されてお
り、通過させるのは、たとえば米国特許第４，２６４，
６４９号に述べられているような延伸カップを用いるこ
とによる。長時間、温度がたとえば１７５℃を越える用
途で用いる光ファイバは、そのような温度で機械的に安
定な被膜、すなわち高い機械的熱安定性を有する被膜を
必要とする。従来の紫外線焼きなましアクリル酸樹脂
は、約１００℃以下の温度でのみ、安全に使用できる。
それより高い温度に対しては、溶媒を基本とするポリイ
ミド被膜がしばしば用いられる。しかし、ポリマの溶解
度が低いため、たとえば１０μｍよりはるかに薄い、薄
い被膜のみが、被膜組成中にファイバを通す毎に形成さ
れる。一般に、約１０ないし約５０μｍ厚が望ましいた
め、適当な厚さのポリイミドを得るためには、たとえば
順次延伸カップを通すといった繰り返し通過が必要であ
る。更に、溶融を基本としたポリイミド被膜の引張り速
度は、被覆されたファイバがスプール上に巻けるように
なる前に、溶媒を除去し、イミド化反応を完了させるた
め、約０．１ｍ／秒に制限される。そのような制約は商
業生産の条件と両立しない。なぜなら、引張り速度が遅
く、引張りカップを何度も通過させる必要性のため、プ
ロセスは複雑になり、生産性が下り、価格が上昇するか
らである。
【０００３】たとえば、交差結合が可能な基本的にポリ
（ジメチルシリコーン）といったシロキサンバックボー
ンをもつ材料が、高温用の被覆光ファイバに用いられて
きた。しかし、シリコーン被膜は固く、ガラスファイバ
への固着性が悪く、機械的強度が低い。シロキサン・ラ
ダーポリマ（はしご段に似た交差結合をもつ二重シロキ
サン鎖のプリカーサである有機シルセキオキサン）も、
高温用被膜に用いられてきた。たとえば、ホンジョー
（Ｈｏｎｊｏ）らの米国特許第５，０５２，７７９号及
びバグレー（Ｂａｇｌｅｙ）らの米国特許第４，８３
５，０５７号を参照のこと。有機シルセキオキサンは典
型的な場合、トリエトキシシランである有機トリアルコ
キシランの加水分解及び凝縮を注意深く制御することに
より作られる。得られるシラノール群は他のシラノール
群又は残ったシリルエトキシ群と凝縮し、シロキサン結
合を形成し、水又はアルコールが除かれる。凝縮は典型
的な場合、たとえば約１００ないし約１５０℃の温度に
加熱すること及び酸又は塩基を添加することにより加速
される。
（ジメチルシリコーン）といったシロキサンバックボー
ンをもつ材料が、高温用の被覆光ファイバに用いられて
きた。しかし、シリコーン被膜は固く、ガラスファイバ
への固着性が悪く、機械的強度が低い。シロキサン・ラ
ダーポリマ（はしご段に似た交差結合をもつ二重シロキ
サン鎖のプリカーサである有機シルセキオキサン）も、
高温用被膜に用いられてきた。たとえば、ホンジョー
（Ｈｏｎｊｏ）らの米国特許第５，０５２，７７９号及
びバグレー（Ｂａｇｌｅｙ）らの米国特許第４，８３
５，０５７号を参照のこと。有機シルセキオキサンは典
型的な場合、トリエトキシシランである有機トリアルコ
キシランの加水分解及び凝縮を注意深く制御することに
より作られる。得られるシラノール群は他のシラノール
群又は残ったシリルエトキシ群と凝縮し、シロキサン結
合を形成し、水又はアルコールが除かれる。凝縮は典型
的な場合、たとえば約１００ないし約１５０℃の温度に
加熱すること及び酸又は塩基を添加することにより加速
される。
【０００４】ホンジョー（Ｈｏｎｊｏ）らの特許に述べ
られているように、シロキサンラダー材料は、通常溶液
中に約５，０００ないし約１０，０００の分子量をもつ
固体シルセキオキサン・ポリマの溶液として、ファイバ
に供給され、溶媒を蒸発させた後、熱的に焼きなまされ
る。シルセキオキサンとともに溶媒を用いることについ
ても、バグレー（Ｂａｇｌｅｙ）らの特許に述べられて
いる。メトキシ又はエトキシ置換シランが通常シルセキ
オキサンのプリカーサとして用いられるが、前者の方が
反応性に富む。シロキサンバックボーン上の付属群は、
しばしばメチル又はフェニルである。シルセキオキサン
はシリコーンより強く、より固着性の被膜を形成し、一
般に望ましい機械的熱安定性をもつ。しかし、上で述べ
たシルセキオキサン被膜は、たとえば許容できる気泡の
ない良質の被膜を得るために、０．５ｍ／秒以下のゆっ
くりした引張り速度を必要とする。たとえば、バグレー
（Ｂａｇｌｅｙ）らの特許において、引張り速度は比較
的薄い１２μｍの被膜を得るのに２０ｍ／分（約０．３
ｍ／秒）であった。上述のように、そのような引張り速
度は商業用には遅すぎる。典型的な場合、特に高温用光
ファイバの場合、約１ｍ／秒又はそれ以上の引張り速度
が、許容できると考えられる。
られているように、シロキサンラダー材料は、通常溶液
中に約５，０００ないし約１０，０００の分子量をもつ
固体シルセキオキサン・ポリマの溶液として、ファイバ
に供給され、溶媒を蒸発させた後、熱的に焼きなまされ
る。シルセキオキサンとともに溶媒を用いることについ
ても、バグレー（Ｂａｇｌｅｙ）らの特許に述べられて
いる。メトキシ又はエトキシ置換シランが通常シルセキ
オキサンのプリカーサとして用いられるが、前者の方が
反応性に富む。シロキサンバックボーン上の付属群は、
しばしばメチル又はフェニルである。シルセキオキサン
はシリコーンより強く、より固着性の被膜を形成し、一
般に望ましい機械的熱安定性をもつ。しかし、上で述べ
たシルセキオキサン被膜は、たとえば許容できる気泡の
ない良質の被膜を得るために、０．５ｍ／秒以下のゆっ
くりした引張り速度を必要とする。たとえば、バグレー
（Ｂａｇｌｅｙ）らの特許において、引張り速度は比較
的薄い１２μｍの被膜を得るのに２０ｍ／分（約０．３
ｍ／秒）であった。上述のように、そのような引張り速
度は商業用には遅すぎる。典型的な場合、特に高温用光
ファイバの場合、約１ｍ／秒又はそれ以上の引張り速度
が、許容できると考えられる。
【０００５】このように、高い熱安定性、すなわち高温
で機械的安定性をもち、許容しうる引張り速度で供給で
きるシロキサンを基本とする被膜が望ましい。
で機械的安定性をもち、許容しうる引張り速度で供給で
きるシロキサンを基本とする被膜が望ましい。
【０００６】
【本発明の要約】本発明により、シロキサンを基本とす
る被膜組成物で、製品を被覆する方法が明らかになり、
得られる被膜は、望ましい熱機械安定性を示す。（機械
的熱安定性というのは、たとえば１月以上といった長期
間露出した後、材料がその機械的強度を保ち、約１５０
倍ないし約４００倍の倍率の範囲で光学顕微鏡を通して
見た時、亀裂の拡大が見られない温度をさす。）この方
法ではまた、商業的により許容できる被覆速度が使用で
き、一方焼きなまし前に、被膜に熔球が生じる。
る被膜組成物で、製品を被覆する方法が明らかになり、
得られる被膜は、望ましい熱機械安定性を示す。（機械
的熱安定性というのは、たとえば１月以上といった長期
間露出した後、材料がその機械的強度を保ち、約１５０
倍ないし約４００倍の倍率の範囲で光学顕微鏡を通して
見た時、亀裂の拡大が見られない温度をさす。）この方
法ではまた、商業的により許容できる被覆速度が使用で
き、一方焼きなまし前に、被膜に熔球が生じる。
【０００７】一実施例において、製品は約２０００ｃｐ
又はそれ以下の初期粘性をもつ第１のメチルシルセキオ
キサン（methylsilsequioxane）・オリゴマー、約４
０，０００ないし約９０，０００ｃｐの初期粘性をもつ
第２のメチルシルセキオキサン、低級脂肪族ケトンの粘
性低下添加物及び触媒を含む組成で被覆される。驚いた
ことに、シロキサン・オリゴマーの全重量に基づいて、
たとえば約１ないし約６重量パーセントといった低級脂
肪族ケトンが少量存在することにより、シルセキオキサ
ン組成物に独特の粘性低下効果を生じさせることが実現
できた。たとえば、シルセキオキサン組成は本質的な量
の（たとえばシロキサン・オリゴマーの全重量に基づい
て、５０重量パーセント以上）高い粘性の液体メチルシ
ルセキオキサンを含んだ。（本発明の目的のためには、
オリゴマーは液体のように流れる部分的に反応した材料
を示す。初期粘性というのは、混合物中に含まれる前、
何らかの溶媒又は分散剤が存在しない時のオリゴマーの
粘性を意味する。ここで用いる粘性値は、約２５℃の温
度における粘性を意味する。低級脂肪族ケトンは、５を
越えない炭素原子を含むケトンと定義され、本発明の目
的のためには、シクロペンタンも含む。）
又はそれ以下の初期粘性をもつ第１のメチルシルセキオ
キサン（methylsilsequioxane）・オリゴマー、約４
０，０００ないし約９０，０００ｃｐの初期粘性をもつ
第２のメチルシルセキオキサン、低級脂肪族ケトンの粘
性低下添加物及び触媒を含む組成で被覆される。驚いた
ことに、シロキサン・オリゴマーの全重量に基づいて、
たとえば約１ないし約６重量パーセントといった低級脂
肪族ケトンが少量存在することにより、シルセキオキサ
ン組成物に独特の粘性低下効果を生じさせることが実現
できた。たとえば、シルセキオキサン組成は本質的な量
の（たとえばシロキサン・オリゴマーの全重量に基づい
て、５０重量パーセント以上）高い粘性の液体メチルシ
ルセキオキサンを含んだ。（本発明の目的のためには、
オリゴマーは液体のように流れる部分的に反応した材料
を示す。初期粘性というのは、混合物中に含まれる前、
何らかの溶媒又は分散剤が存在しない時のオリゴマーの
粘性を意味する。ここで用いる粘性値は、約２５℃の温
度における粘性を意味する。低級脂肪族ケトンは、５を
越えない炭素原子を含むケトンと定義され、本発明の目
的のためには、シクロペンタンも含む。）
【０００８】本発明により、より高い粘性のメチルシル
セキオキサン・オリゴマーを用いることによって、表面
張力により加わる熔球に対する組成の抵抗が増し、低粘
性メチルシルセキオキサン・オリゴマーと粘性低下添加
物の存在により、良好な被覆速度が得られるという望ま
しい結果が得られる。この方法は特に光ファイバの被覆
に有用である。光ファイバは３ｍ／秒の速度で１回引い
た後、２０−３０μｍ厚のメチルシルセキオキサン被覆
で、被覆された。厚さ及び速度は、高温耐性ファイバの
商業用に許容できる。
セキオキサン・オリゴマーを用いることによって、表面
張力により加わる熔球に対する組成の抵抗が増し、低粘
性メチルシルセキオキサン・オリゴマーと粘性低下添加
物の存在により、良好な被覆速度が得られるという望ま
しい結果が得られる。この方法は特に光ファイバの被覆
に有用である。光ファイバは３ｍ／秒の速度で１回引い
た後、２０−３０μｍ厚のメチルシルセキオキサン被覆
で、被覆された。厚さ及び速度は、高温耐性ファイバの
商業用に許容できる。
【０００９】別の実施例において、本発明により、メチ
ルシルセキオキサンのみ（ここでは全メチルと呼ぶ）で
形成された被膜より、高温用に適した修正されたメチル
シルセキオキサン組成で、製品を被覆する方法が明らか
になる。（修正という用語は、ジメチル又はフェニル付
属群の存在を示す。）この第２の実施例に従うと、製品
は修正されたメチルシルセキオキサン・オリゴマー、低
級脂肪族ケトン粘性低下添加物及び適度に強いプロト酸
（非過フッ素添加カルボン酸より強いが、スルホン酸よ
り弱い）触媒を含む組成で被覆される。修正されたオリ
ゴマーは付属群比Ａ：Ｂ：Ｃで特徴づけられ、Ａはメチ
ル付属群の割合を表わし、約１３ないし約６７で、Ｂは
ジメチル付属群の割合を表わし、約０ないし約３３で、
Ｃはフェニル付属群の割合を表わし、約１０ないし約８
０（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＝１００）である。（付属群は１ないし
２つの炭素を基本とした群、たとえばメチル、ジメチ
ル、フェニルが付属したシリコン原子を含む部分であ
る。）焼きなまし速度は、修正メチルシルセキオキサン
の具体的な付属群比及び具体的な被膜組成物に強く依存
する。
ルシルセキオキサンのみ（ここでは全メチルと呼ぶ）で
形成された被膜より、高温用に適した修正されたメチル
シルセキオキサン組成で、製品を被覆する方法が明らか
になる。（修正という用語は、ジメチル又はフェニル付
属群の存在を示す。）この第２の実施例に従うと、製品
は修正されたメチルシルセキオキサン・オリゴマー、低
級脂肪族ケトン粘性低下添加物及び適度に強いプロト酸
（非過フッ素添加カルボン酸より強いが、スルホン酸よ
り弱い）触媒を含む組成で被覆される。修正されたオリ
ゴマーは付属群比Ａ：Ｂ：Ｃで特徴づけられ、Ａはメチ
ル付属群の割合を表わし、約１３ないし約６７で、Ｂは
ジメチル付属群の割合を表わし、約０ないし約３３で、
Ｃはフェニル付属群の割合を表わし、約１０ないし約８
０（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＝１００）である。（付属群は１ないし
２つの炭素を基本とした群、たとえばメチル、ジメチ
ル、フェニルが付属したシリコン原子を含む部分であ
る。）焼きなまし速度は、修正メチルシルセキオキサン
の具体的な付属群比及び具体的な被膜組成物に強く依存
する。
【００１０】メチル及びフェニル付属群が存在すること
により、全メチルシルセキオキサンより良好な亀裂耐性
が得られ、粘性低下添加物及び適度に強いプロト酸触媒
により、有用な被膜速度が得られる。この実施例を用い
ると、約２ｍ／秒にも及ぶ速度の１回の引張りで、約１
７５℃まで熱機械安定性を示す約２０−３０μｍ厚の光
ファイバ被膜を得ることが可能である。この引張り速度
は典型的な場合、得られる高温ファイバに許容できる。
により、全メチルシルセキオキサンより良好な亀裂耐性
が得られ、粘性低下添加物及び適度に強いプロト酸触媒
により、有用な被膜速度が得られる。この実施例を用い
ると、約２ｍ／秒にも及ぶ速度の１回の引張りで、約１
７５℃まで熱機械安定性を示す約２０−３０μｍ厚の光
ファイバ被膜を得ることが可能である。この引張り速度
は典型的な場合、得られる高温ファイバに許容できる。
【００１１】第３の実施例において、より高温用被膜を
得ることが可能である。この方法は加水分解及び凝縮の
前に、メチルトリエトキシシラン・モノマーを、先に部
分的に加水分解し、凝縮させたジメチルジエトキシシラ
ンと混合することにより作られた修正されたメチルシル
セキオキサン・オリゴマーを含む被膜を供給する工程を
含む。必要に応じて、フェニルトリエトキシシラン・モ
ノマーを部分的に加水分解させたジメチルジエトキシシ
ランに添加し、フェニルトリエトキシシランを部分的に
加水分解させることが可能である。
得ることが可能である。この方法は加水分解及び凝縮の
前に、メチルトリエトキシシラン・モノマーを、先に部
分的に加水分解し、凝縮させたジメチルジエトキシシラ
ンと混合することにより作られた修正されたメチルシル
セキオキサン・オリゴマーを含む被膜を供給する工程を
含む。必要に応じて、フェニルトリエトキシシラン・モ
ノマーを部分的に加水分解させたジメチルジエトキシシ
ランに添加し、フェニルトリエトキシシランを部分的に
加水分解させることが可能である。
【００１２】この第３の実施例により、凝縮ポリマ中に
メチルシロキシ群の大きな塊ができる可能性が減少でき
る。そのように減少することは望ましい。なぜなら、メ
チルシロキシ群が過度に交差結合すると、比較的悪い機
械的熱安定性をもつ固い分子構造ができやすく、そのこ
とは被膜が亀裂を生じやすいことから、明らかである。
この実施例のプロセスから形成された分子構造におい
て、メチルシロキシ群の交差結合は減少し、ジメチルシ
ロキシ群は交差結合間の可塑剤部分として働く。フェニ
ル付属群は交差結合網密度を減らすことにより、衝撃耐
性、熱安定性を増し、構造の全体的な柔軟性に寄与す
る。この柔軟な分子構造は、比較的高い温度に耐えるこ
とができる。たとえば、２０：６０：２０の付属群比を
もつオリゴマーから形成された被膜は、２００℃を越え
る温度に、亀裂を生ずることなく、約１月耐えることが
できた。加えて、約１ｍ／秒もの引張り速度により、光
ファイバ上に約２０μｍ厚の被膜が生成できる。やは
り、この引張り速度は、典型的な場合、得られる高温用
ファイバに対し、商業的に許容できる。
メチルシロキシ群の大きな塊ができる可能性が減少でき
る。そのように減少することは望ましい。なぜなら、メ
チルシロキシ群が過度に交差結合すると、比較的悪い機
械的熱安定性をもつ固い分子構造ができやすく、そのこ
とは被膜が亀裂を生じやすいことから、明らかである。
この実施例のプロセスから形成された分子構造におい
て、メチルシロキシ群の交差結合は減少し、ジメチルシ
ロキシ群は交差結合間の可塑剤部分として働く。フェニ
ル付属群は交差結合網密度を減らすことにより、衝撃耐
性、熱安定性を増し、構造の全体的な柔軟性に寄与す
る。この柔軟な分子構造は、比較的高い温度に耐えるこ
とができる。たとえば、２０：６０：２０の付属群比を
もつオリゴマーから形成された被膜は、２００℃を越え
る温度に、亀裂を生ずることなく、約１月耐えることが
できた。加えて、約１ｍ／秒もの引張り速度により、光
ファイバ上に約２０μｍ厚の被膜が生成できる。やは
り、この引張り速度は、典型的な場合、得られる高温用
ファイバに対し、商業的に許容できる。
【００１３】
【本発明の詳細な記述】一実施例において、本発明によ
り、メチルシルセキオキサン・オリゴマーで製品を被覆
する方法が実現される。この方法は被膜組成を製品に配
置し、被膜を焼きなます工程を含む。被膜組成物は約２
０００又はそれより小さい初期粘性をもつ第１のメチル
シルセキオキサン・オリゴマー、約４０，０００ないし
約９０，０００ｃｐの初期粘性をもつ第２のメチルシル
セキオキサン・オリゴマー、低級脂肪族ケトンの粘性低
下添加剤及び触媒の混合物を含む。被膜組成物全体の粘
性は、約２，０００ないし約２０，０００ｃｐが有利で
ある。この粘性は許容しうる速い速度で供給でき、しか
しなお熔球耐性をもつ被膜を得るのに有用である。製品
は、光ファイバであることが有利である。種々の形状の
金属製品もまた本発明に従い被覆されることが可能であ
る。
り、メチルシルセキオキサン・オリゴマーで製品を被覆
する方法が実現される。この方法は被膜組成を製品に配
置し、被膜を焼きなます工程を含む。被膜組成物は約２
０００又はそれより小さい初期粘性をもつ第１のメチル
シルセキオキサン・オリゴマー、約４０，０００ないし
約９０，０００ｃｐの初期粘性をもつ第２のメチルシル
セキオキサン・オリゴマー、低級脂肪族ケトンの粘性低
下添加剤及び触媒の混合物を含む。被膜組成物全体の粘
性は、約２，０００ないし約２０，０００ｃｐが有利で
ある。この粘性は許容しうる速い速度で供給でき、しか
しなお熔球耐性をもつ被膜を得るのに有用である。製品
は、光ファイバであることが有利である。種々の形状の
金属製品もまた本発明に従い被覆されることが可能であ
る。
【００１４】第１の低粘性メチルシルセキオキサン・オ
リゴマーは典型的な場合、溶媒のない液体である。被膜
組成物中の全シロキサン・オリゴマーの重量に基づい
て、約１０ないし２０重量パーセントの範囲の量で、被
膜組成物中に存在するのが有利である。第２の高粘性メ
チルシルセキオキサン・オリゴマーも典型的な場合、溶
媒のない液体である。第２のメチルシルセキオキサン・
オリゴマーは、被膜組成中のシロキサン・オリゴマーの
全重量に基づいて、約８０ないし約９０重量パーセント
の範囲で存在するのが有利である。
リゴマーは典型的な場合、溶媒のない液体である。被膜
組成物中の全シロキサン・オリゴマーの重量に基づい
て、約１０ないし２０重量パーセントの範囲の量で、被
膜組成物中に存在するのが有利である。第２の高粘性メ
チルシルセキオキサン・オリゴマーも典型的な場合、溶
媒のない液体である。第２のメチルシルセキオキサン・
オリゴマーは、被膜組成中のシロキサン・オリゴマーの
全重量に基づいて、約８０ないし約９０重量パーセント
の範囲で存在するのが有利である。
【００１５】低級脂肪族ケトン粘性低下添加物は、オリ
ゴマー、特に第２の高粘性オリゴマーの粘性を下げる揮
発性成分である。（揮発性というのは、熱焼きなましの
初期の段階で、薄いポリマ被膜から容易に除去できる材
料を示す。）添加物は典型的な場合、全シロキサン・オ
リゴマーの重量に基づいて、約１ないし約６重量パーセ
ントの範囲の量存在する。添加物がアセトンであると有
利である。
ゴマー、特に第２の高粘性オリゴマーの粘性を下げる揮
発性成分である。（揮発性というのは、熱焼きなましの
初期の段階で、薄いポリマ被膜から容易に除去できる材
料を示す。）添加物は典型的な場合、全シロキサン・オ
リゴマーの重量に基づいて、約１ないし約６重量パーセ
ントの範囲の量存在する。添加物がアセトンであると有
利である。
【００１６】触媒はメチルシルセキオキサン・オリゴマ
ーが凝縮して、ラダーシロキサン構造になるのを加速す
る。触媒は全シロキサン・オリゴマーの重量に基づい
て、約０．５ないし約６重量パーセントの範囲の量で存
在するのが有利である。触媒がオクタン酸亜鉛であると
有利である。凝縮反応を加速するために、金属ソープを
用いることが可能である。適当な金属の例には、銅、コ
バルト、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、マンガ
ン及びバナジウムが含まれる。有用な触媒というのは、
一般にシェルフライフと焼きなまし速度（それは通常反
比例する）間のバランスを表わす。たとえば、ルイス酸
−アミン複合体のようなエポキシの潜在的焼きなましに
用いられる触媒は、本発明において許容しうる特性を供
するとは考えられない。
ーが凝縮して、ラダーシロキサン構造になるのを加速す
る。触媒は全シロキサン・オリゴマーの重量に基づい
て、約０．５ないし約６重量パーセントの範囲の量で存
在するのが有利である。触媒がオクタン酸亜鉛であると
有利である。凝縮反応を加速するために、金属ソープを
用いることが可能である。適当な金属の例には、銅、コ
バルト、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、マンガ
ン及びバナジウムが含まれる。有用な触媒というのは、
一般にシェルフライフと焼きなまし速度（それは通常反
比例する）間のバランスを表わす。たとえば、ルイス酸
−アミン複合体のようなエポキシの潜在的焼きなましに
用いられる触媒は、本発明において許容しうる特性を供
するとは考えられない。
【００１７】被膜組成物の作成において、触媒の添加に
より、局所的なオリゴマー凝縮が起りうる。そのような
局所的凝縮の可能性を下げるため、混合前にオリゴマー
と触媒を、希釈することが有利である。溶媒の除去後、
比較的低濃度で溶媒が残る時、溶媒が粘性低下添加物と
して機能できる低級脂肪族ケトンであると有利である。
作成の一方法は、（ａ）体積の約２倍に、溶媒中に第１
のオリゴマーを希釈し、（ｂ）別に第２のオリゴマーを
溶媒中に希釈し、（ｃ）触媒をその体積の約２０倍にな
るよう溶媒中に希釈し、（ｄ）第１のオリゴマー溶液、
第２のオリゴマー溶液及び触媒溶液を混合するものであ
る。次に、溶媒を除去す。もし、溶媒を粘性低下添加物
として用いるなら、所望の量を組成物中に残すのが有利
である。組成物を作成する他のプロセスも可能である。
より、局所的なオリゴマー凝縮が起りうる。そのような
局所的凝縮の可能性を下げるため、混合前にオリゴマー
と触媒を、希釈することが有利である。溶媒の除去後、
比較的低濃度で溶媒が残る時、溶媒が粘性低下添加物と
して機能できる低級脂肪族ケトンであると有利である。
作成の一方法は、（ａ）体積の約２倍に、溶媒中に第１
のオリゴマーを希釈し、（ｂ）別に第２のオリゴマーを
溶媒中に希釈し、（ｃ）触媒をその体積の約２０倍にな
るよう溶媒中に希釈し、（ｄ）第１のオリゴマー溶液、
第２のオリゴマー溶液及び触媒溶液を混合するものであ
る。次に、溶媒を除去す。もし、溶媒を粘性低下添加物
として用いるなら、所望の量を組成物中に残すのが有利
である。組成物を作成する他のプロセスも可能である。
【００１８】任意の適当な方法により、製品に被膜組成
物を供給する。製品が光ファイバの場合、組成は上述の
ように、従来の延伸カップを用いて供給するのが有利で
ある。被膜は一般的に加熱である任意の適当な方法で焼
きなまされ、焼きなましという用語は、機械的な堅固さ
をもち、不溶性の粘性のない材料の形成をさす。メチル
シルセキオキサン被膜組成物は、焼きなますと、澄んだ
固着性のラダーシロキサン被膜になる。
物を供給する。製品が光ファイバの場合、組成は上述の
ように、従来の延伸カップを用いて供給するのが有利で
ある。被膜は一般的に加熱である任意の適当な方法で焼
きなまされ、焼きなましという用語は、機械的な堅固さ
をもち、不溶性の粘性のない材料の形成をさす。メチル
シルセキオキサン被膜組成物は、焼きなますと、澄んだ
固着性のラダーシロキサン被膜になる。
【００１９】本実施例のプロセスを用いると、１ｍ／秒
以上、３ｍ／秒を越えると有利である速度で、引張りカ
ップを用いて、光ファイバ上にメチルシルセキオキサン
被膜組成物を凝縮させ、１回の引張りの後、少なくとも
約２０μｍの厚さの焼きなまし後の被膜厚を得ることが
できる。全てのメチルシルセクオキサン被覆の機械的熱
安定性限度は以下の実施例１のように１５０℃以下であ
る。約３ｍ／秒の引張り速度は、ファイバの望ましい温
度耐性と、そのような引張り速度を含むプロセスの費用
が両立し、許容できる。
以上、３ｍ／秒を越えると有利である速度で、引張りカ
ップを用いて、光ファイバ上にメチルシルセキオキサン
被膜組成物を凝縮させ、１回の引張りの後、少なくとも
約２０μｍの厚さの焼きなまし後の被膜厚を得ることが
できる。全てのメチルシルセクオキサン被覆の機械的熱
安定性限度は以下の実施例１のように１５０℃以下であ
る。約３ｍ／秒の引張り速度は、ファイバの望ましい温
度耐性と、そのような引張り速度を含むプロセスの費用
が両立し、許容できる。
【００２０】本発明の第２の実施例は、付属ジメチル及
び付属フェニル群を含む被膜の供給を含む。具体的に
は、製品は修正されたメチルシルセキオキサン・オリゴ
マー、上述の低級脂肪族ケトン粘性低下添加物、適当に
強いプロト酸の触媒の混合物を含む組成で被覆される。
フェニル付属群を含むことにより、酸化安定性が増し、
交差結合網密度が減少し、柔軟性が増し、更に熱衝撃感
受性が減少する傾向がある。典型的な場合、これらのオ
リゴマーは所望の量のメチルトリエトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン及びフェニルトリエトキシシラン
と必要な量の水を混合し、凝縮させることにより作成さ
れる。置換フェニルを用いることも可能である。
び付属フェニル群を含む被膜の供給を含む。具体的に
は、製品は修正されたメチルシルセキオキサン・オリゴ
マー、上述の低級脂肪族ケトン粘性低下添加物、適当に
強いプロト酸の触媒の混合物を含む組成で被覆される。
フェニル付属群を含むことにより、酸化安定性が増し、
交差結合網密度が減少し、柔軟性が増し、更に熱衝撃感
受性が減少する傾向がある。典型的な場合、これらのオ
リゴマーは所望の量のメチルトリエトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン及びフェニルトリエトキシシラン
と必要な量の水を混合し、凝縮させることにより作成さ
れる。置換フェニルを用いることも可能である。
【００２１】３３：３３：３０ラダーシルセキオキサン
の構造例を以下に示す。（Φはフェニル群を表わす。）
他の付属群分布も可能である。
の構造例を以下に示す。（Φはフェニル群を表わす。）
他の付属群分布も可能である。
【化１】 構造はジメチルシロキシ群で分離された無秩序な間隔の
分布を含み、フェニル群を有することになり、更に過度
に軟らかくすることなく、網密度が減らせる。フェニル
又はジメチル付属群の存在により、以下の例で示される
ように、被膜の焼きなまし速度（すなわち凝縮速度）が
遅くなる傾向があり、従って触媒の選択に影響を与え
る。
分布を含み、フェニル群を有することになり、更に過度
に軟らかくすることなく、網密度が減らせる。フェニル
又はジメチル付属群の存在により、以下の例で示される
ように、被膜の焼きなまし速度（すなわち凝縮速度）が
遅くなる傾向があり、従って触媒の選択に影響を与え
る。
【００２２】この実施例では、Ａ：Ｂ：Ｃの付属群比を
特徴とするオリゴマーを用い、Ａは単一メチルである付
属群の割合を表わし、典型的な場合、約１３ないし約６
７で、Ｂはジメチルである付属群の割合を表わし、典型
的な場合約０ないし約６７で、Ｃはフェニルである付属
群の割合を表わし、典型的な場合約１０ないし約８０で
ある。（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＝１００（あるいは付属群が等しく
分布するなら９９））所望の比は適当な量のメチルトリ
エトキシシラン・モノマー、ジメチルジエトキシシラン
・モノマー及びフェニルトリエトキシシラン・モノマー
を含むことにより得られる。オリゴマーは約１００ない
し約４０００ｃｐの粘性をもつ液体で、組成の重量に基
づいて、約８８ないし約９８重量パーセントの範囲の量
含むと有利である。粘性低下添加物は典型的な場合、シ
ロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、約１ないし約
６重量パーセントの範囲の量存在する。添加物がアセト
ンであると有利である。
特徴とするオリゴマーを用い、Ａは単一メチルである付
属群の割合を表わし、典型的な場合、約１３ないし約６
７で、Ｂはジメチルである付属群の割合を表わし、典型
的な場合約０ないし約６７で、Ｃはフェニルである付属
群の割合を表わし、典型的な場合約１０ないし約８０で
ある。（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＝１００（あるいは付属群が等しく
分布するなら９９））所望の比は適当な量のメチルトリ
エトキシシラン・モノマー、ジメチルジエトキシシラン
・モノマー及びフェニルトリエトキシシラン・モノマー
を含むことにより得られる。オリゴマーは約１００ない
し約４０００ｃｐの粘性をもつ液体で、組成の重量に基
づいて、約８８ないし約９８重量パーセントの範囲の量
含むと有利である。粘性低下添加物は典型的な場合、シ
ロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、約１ないし約
６重量パーセントの範囲の量存在する。添加物がアセト
ンであると有利である。
【００２３】適度に強いプロト酸触媒は、シロキサン・
オリゴマーの重量に基づいて、約０．５ないし約６重量
パーセントの範囲の量存在するのが有利である。酸がＰ
ＰＡであると有利である。適度に強いプロト酸はフェニ
ル付属群が存在する時、許容できる焼きなまし速度を得
るのに有用で、シェルフライフと焼きなまし速度間の許
容できるバランスを表わす。
オリゴマーの重量に基づいて、約０．５ないし約６重量
パーセントの範囲の量存在するのが有利である。酸がＰ
ＰＡであると有利である。適度に強いプロト酸はフェニ
ル付属群が存在する時、許容できる焼きなまし速度を得
るのに有用で、シェルフライフと焼きなまし速度間の許
容できるバランスを表わす。
【００２４】第１の実施例の場合と同様、触媒の添加
中、局所的なオリゴマー凝縮の可能性を下げるために、
混合前にオリゴマーと触媒を溶媒で希釈するのが有用で
ある。オリゴマーとともに用いる溶媒が粘性低下添加物
で、所望の量の添加物が、混合後の組成中に残るのが有
利である。
中、局所的なオリゴマー凝縮の可能性を下げるために、
混合前にオリゴマーと触媒を溶媒で希釈するのが有用で
ある。オリゴマーとともに用いる溶媒が粘性低下添加物
で、所望の量の添加物が、混合後の組成中に残るのが有
利である。
【００２５】上述のように、被膜組成物を製品に供給
し、焼きなます。この実施例を用いると、１ｍ／秒を越
える速度、２ｍ／秒を越えると有利である速度で引張り
カップを用いて、光ファイバ上に被膜組成物を分配さ
せ、焼きなまし、１回の引張り後、少なくとも約２０μ
ｍの焼きなまし後被膜厚を得ることが可能である。３
３：３３：３３オリゴマーを用いた被膜の機械的熱安定
性は、約１７５℃である。
し、焼きなます。この実施例を用いると、１ｍ／秒を越
える速度、２ｍ／秒を越えると有利である速度で引張り
カップを用いて、光ファイバ上に被膜組成物を分配さ
せ、焼きなまし、１回の引張り後、少なくとも約２０μ
ｍの焼きなまし後被膜厚を得ることが可能である。３
３：３３：３３オリゴマーを用いた被膜の機械的熱安定
性は、約１７５℃である。
【００２６】本発明の第３の実施例において、方法はあ
る比率の付属群を有し、２００℃以上の温度で、亀裂を
生じることなく１月以上耐えることができる被膜を供給
することができる。メチル、ジメチル及びフェニル付属
群を含むシルセキオキサン・オリゴマーの周知の商業的
な形成方法は、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン及びフェニルトリエトキシシラン・モノ
マー及び必要量の水を混合し、次に凝縮を進めるため、
反応物を加熱することである。この商業的な方法は、ほ
とんどの反応性モノマーであるメチルトリエトキシシラ
ンを部分的に加水分解させ、その後加水分解した物質
を、それ自身又はメチルトリエトキシシランと凝縮させ
るものであることは、従来知られていなかった。周知の
方法により、このようにメチルシロキシ群間の多量の交
差結合を有する材料の塊が得られ、良好な熱機械安定性
を示す比較的固い分子構造が生成する。メチルエトキシ
シラン・モノマーの添加前に、ジメチルエトキシシラン
を部分的に加水分解する時、メチルシロキシ群をジメチ
ルシロキシ群のシラノール群と組合わせることは、別の
メチルシロキシ群との組合せより好ましいことが認識さ
れた。従って、得られる構造において、メチルシロキシ
群の交差結合は減少し、ジメチルシロキサン群は交差結
合間の可塑化要素として働く。フェニル付属群が存在す
る時、過度に軟化させることなく、交差結合網密度を減
らすことにより、分子の全体的な柔軟性に寄与する。
る比率の付属群を有し、２００℃以上の温度で、亀裂を
生じることなく１月以上耐えることができる被膜を供給
することができる。メチル、ジメチル及びフェニル付属
群を含むシルセキオキサン・オリゴマーの周知の商業的
な形成方法は、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン及びフェニルトリエトキシシラン・モノ
マー及び必要量の水を混合し、次に凝縮を進めるため、
反応物を加熱することである。この商業的な方法は、ほ
とんどの反応性モノマーであるメチルトリエトキシシラ
ンを部分的に加水分解させ、その後加水分解した物質
を、それ自身又はメチルトリエトキシシランと凝縮させ
るものであることは、従来知られていなかった。周知の
方法により、このようにメチルシロキシ群間の多量の交
差結合を有する材料の塊が得られ、良好な熱機械安定性
を示す比較的固い分子構造が生成する。メチルエトキシ
シラン・モノマーの添加前に、ジメチルエトキシシラン
を部分的に加水分解する時、メチルシロキシ群をジメチ
ルシロキシ群のシラノール群と組合わせることは、別の
メチルシロキシ群との組合せより好ましいことが認識さ
れた。従って、得られる構造において、メチルシロキシ
群の交差結合は減少し、ジメチルシロキサン群は交差結
合間の可塑化要素として働く。フェニル付属群が存在す
る時、過度に軟化させることなく、交差結合網密度を減
らすことにより、分子の全体的な柔軟性に寄与する。
【００２７】従って、この実施例に従うと、被膜組成物
は製品に供給され、組成物はメチルトリエトキシシラン
・モノマーと先に部分的に加水分解された（以後階段状
添加と呼ぶ）ジメチルジエトキシシラン・モノマーを混
合することにより製造されたシルセキオキサン・オリゴ
マーを含む。ジメチルジエトキシシランの事前加水分解
を行う代りに、あらかじめ形成されたジメチルシロキサ
ン短鎖を使うことができる。（短鎖というのは、たとえ
ば３６０−４５０という比較的低い分子量をもつ直線状
ポリジメチルシロキサン鎖をさす。）もし必要なら、部
分的に加水分解したフェニルトリエトキシシラン・モノ
マー又はジメチルシロキサン短鎖とフェニルトリエトキ
シシラン・モノマーを混合し、このフェニルトリエトキ
シシラン・モノマーも部分的に加水分解することが可能
である。被覆すべき製品が光ファイバなら有利である。
は製品に供給され、組成物はメチルトリエトキシシラン
・モノマーと先に部分的に加水分解された（以後階段状
添加と呼ぶ）ジメチルジエトキシシラン・モノマーを混
合することにより製造されたシルセキオキサン・オリゴ
マーを含む。ジメチルジエトキシシランの事前加水分解
を行う代りに、あらかじめ形成されたジメチルシロキサ
ン短鎖を使うことができる。（短鎖というのは、たとえ
ば３６０−４５０という比較的低い分子量をもつ直線状
ポリジメチルシロキサン鎖をさす。）もし必要なら、部
分的に加水分解したフェニルトリエトキシシラン・モノ
マー又はジメチルシロキサン短鎖とフェニルトリエトキ
シシラン・モノマーを混合し、このフェニルトリエトキ
シシラン・モノマーも部分的に加水分解することが可能
である。被覆すべき製品が光ファイバなら有利である。
【００２８】更に、この実施例で低分子量ジメチルシロ
キサン鎖を形成するか含むことは、全体の交差結合密度
を減らすのに有用であるが、添加したトリエトキシシラ
ン・モノマーとの反応に使えるシラノール群の数が減る
ことが認識された。このように、メチルトリエトキシシ
ラン・モノマーと水を、部分的に加水分解したジメチル
ジエトキシシラン（又はジメチルシロキシ短鎖）に同時
に添加すると、メチルシロキシ群中に、豊富なオリゴマ
ーセグメントが形成される確率が実際に増加した。その
ようなセグメントは著しく交差結合した亀裂に強い領域
を形成するであろう。より高い数のジメチル群を含むこ
とにより、そのような著しい交差結合が形成される可能
性は、減少することがわかった。具体的には、約５０な
いし約６０のジメチル群の割合（すなわちＢ値）は、以
下の例２で示されるように、望ましい安定性を得る上
で、有用であることがわかった。約６０以上のＢ値をも
つオリゴマーは典型的な場合、作るのが困難である。
キサン鎖を形成するか含むことは、全体の交差結合密度
を減らすのに有用であるが、添加したトリエトキシシラ
ン・モノマーとの反応に使えるシラノール群の数が減る
ことが認識された。このように、メチルトリエトキシシ
ラン・モノマーと水を、部分的に加水分解したジメチル
ジエトキシシラン（又はジメチルシロキシ短鎖）に同時
に添加すると、メチルシロキシ群中に、豊富なオリゴマ
ーセグメントが形成される確率が実際に増加した。その
ようなセグメントは著しく交差結合した亀裂に強い領域
を形成するであろう。より高い数のジメチル群を含むこ
とにより、そのような著しい交差結合が形成される可能
性は、減少することがわかった。具体的には、約５０な
いし約６０のジメチル群の割合（すなわちＢ値）は、以
下の例２で示されるように、望ましい安定性を得る上
で、有用であることがわかった。約６０以上のＢ値をも
つオリゴマーは典型的な場合、作るのが困難である。
【００２９】付属群比Ａ：Ｂ：Ｃ（メチル：ジメチル：
フェニル）で記述されるように、シルセキオキサン・オ
リゴマーは約１３ないし約６７のＡ値、０以上約６０ま
でのＢ値、０以上約３３までのＣ値をもつと有利であ
る。Ａが約１０ないし約３０、Ｂが約４０ないし約６
０、Ｃが約１０ないし約３０であると、更に有利であ
る。
フェニル）で記述されるように、シルセキオキサン・オ
リゴマーは約１３ないし約６７のＡ値、０以上約６０ま
でのＢ値、０以上約３３までのＣ値をもつと有利であ
る。Ａが約１０ないし約３０、Ｂが約４０ないし約６
０、Ｃが約１０ないし約３０であると、更に有利であ
る。
【００３０】第３の実施例の被膜組成の有用な粘性範囲
は、約１０００ないし約４０００ｃｐである。作製条件
を選ぶことにより、有用な粘性をもつオリゴマーをこの
第３の実施例のプロセスで作ることは可能である。作製
条件はたとえば、モノマーの部分的な凝縮に用いられる
水の量、凝縮させる温度、オリゴマー溶液の温度で、粘
性低下添加物が常に必要というのではないように選択す
る。しかし、熔球耐性をもつ高粘性オリゴマーが使用で
きるよう、低脂肪族ケトン粘性低下添加物を含めること
は有利である。粘性低下添加物がアセトンで、シロキサ
ン・オリゴマーの重量に基づいて、約１ないし約６重量
パーセントの範囲の量であると有利である。凝縮反応を
促進するため、特に製品が光ファイバである場合、触媒
を添加することも有用である。触媒がオクタン酸亜鉛
（フェニルは存在しない）又はＰＰＡ（フェニルを含む
オリゴマーに対し望ましい焼きなまし速度を得るのに有
用）であると有利で、シロキサン・オリゴマーの重量に
基づいて、約１ないし約６重量パーセントの範囲の量存
在するのが有利である。
は、約１０００ないし約４０００ｃｐである。作製条件
を選ぶことにより、有用な粘性をもつオリゴマーをこの
第３の実施例のプロセスで作ることは可能である。作製
条件はたとえば、モノマーの部分的な凝縮に用いられる
水の量、凝縮させる温度、オリゴマー溶液の温度で、粘
性低下添加物が常に必要というのではないように選択す
る。しかし、熔球耐性をもつ高粘性オリゴマーが使用で
きるよう、低脂肪族ケトン粘性低下添加物を含めること
は有利である。粘性低下添加物がアセトンで、シロキサ
ン・オリゴマーの重量に基づいて、約１ないし約６重量
パーセントの範囲の量であると有利である。凝縮反応を
促進するため、特に製品が光ファイバである場合、触媒
を添加することも有用である。触媒がオクタン酸亜鉛
（フェニルは存在しない）又はＰＰＡ（フェニルを含む
オリゴマーに対し望ましい焼きなまし速度を得るのに有
用）であると有利で、シロキサン・オリゴマーの重量に
基づいて、約１ないし約６重量パーセントの範囲の量存
在するのが有利である。
【００３１】上述のように一度オリゴマーが作られた
ら、被膜組成物は任意の適当な方法で作成される。その
ような方法の１つは、溶媒で触媒を希釈し、触媒とオリ
ゴマーを混合し、溶媒を取り除くことである。もし溶媒
が粘性低下添加物として働ける材料なら、所望の量の添
加物が組成中に残る。
ら、被膜組成物は任意の適当な方法で作成される。その
ような方法の１つは、溶媒で触媒を希釈し、触媒とオリ
ゴマーを混合し、溶媒を取り除くことである。もし溶媒
が粘性低下添加物として働ける材料なら、所望の量の添
加物が組成中に残る。
【００３２】この実施例の被膜組成物は、以下で述べる
ように、任意の適当な方法で製品に供給され、焼きなま
された。
ように、任意の適当な方法で製品に供給され、焼きなま
された。
【００３３】本発明のこの第３の実施例のプロセスを用
いると、約１ｍ／秒の速度で延伸カップを用いて、光フ
ァイバ上に被覆組成物を分配し、１回の引張りで少なく
とも約２０μｍの焼きなまし後の厚さを得ることが可能
である。以下の実施例２に示されるように、オリゴマー
の付属群比が約２０：６０：２０である被膜は、亀裂を
生じることなく、約１月間、２００℃以上の温度に耐え
ることができる。
いると、約１ｍ／秒の速度で延伸カップを用いて、光フ
ァイバ上に被覆組成物を分配し、１回の引張りで少なく
とも約２０μｍの焼きなまし後の厚さを得ることが可能
である。以下の実施例２に示されるように、オリゴマー
の付属群比が約２０：６０：２０である被膜は、亀裂を
生じることなく、約１月間、２００℃以上の温度に耐え
ることができる。
【００３４】
【実施例１】手順 表Ｉは評価したシルセキオキサン・オリゴマーを示し、
触媒を含まないオリゴマーの場合の焼きなましの定性的
速度が含まれる。すべてのオリゴマーはＯＩ−ＮＥＧ、
テルード、オハイオ（ＯＨ）から入手した。
触媒を含まないオリゴマーの場合の焼きなましの定性的
速度が含まれる。すべてのオリゴマーはＯＩ−ＮＥＧ、
テルード、オハイオ（ＯＨ）から入手した。
【表Ｉ】 熱処理後のオリゴマーの焼きなましの程度を、ガラスス
ライド上の薄膜の硬さ又は粘性に注意して、定性的に評
価した。最初の試験中、オリゴマーの層（それのみ及び
触媒を含むもの）を６ミル・ドクターブレードで、ガラ
ススライド上に拡散させた。スライドは１４０又は１６
０℃に保たれた通常のオーブン中に置いた。活性な触媒
が少ない場合には、約１８０℃に置いた。焼きなましの
程度は、鉛筆で被膜がはがせる容易さで評価した。結果
は表Ｉに示されている。
ライド上の薄膜の硬さ又は粘性に注意して、定性的に評
価した。最初の試験中、オリゴマーの層（それのみ及び
触媒を含むもの）を６ミル・ドクターブレードで、ガラ
ススライド上に拡散させた。スライドは１４０又は１６
０℃に保たれた通常のオーブン中に置いた。活性な触媒
が少ない場合には、約１８０℃に置いた。焼きなましの
程度は、鉛筆で被膜がはがせる容易さで評価した。結果
は表Ｉに示されている。
【００３５】多くの触媒について、オリゴマーの焼きな
まし速度に対するそれらの効果として評価した。触媒添
加中の局在したオリゴマーの凝縮の確率を減らすため、
混合前にオリゴマー及び触媒を溶媒中に希釈した。典型
的な場合、全メチルシルセキオキサンでは液体の量を測
り、溶媒のないオリゴマー（約２０００ｃｐの粘性をも
つ）をアセトンでその体積の２倍まで希釈した。オリゴ
マーの重量に基づいて、約３−６％の触媒をその体積の
約２０倍のアセトン中に溶解し、樹脂溶液に加えた。次
に、溶媒及び粘性低下添加物の両方として用いたアセト
ンを、４５℃に保たれた水槽を備えた回転蒸発機を用い
て、所望の両まで除去した。第２のより粘性の高いオリ
ゴマーも、組成に添加する前に、アセトンで希釈した。
修正されたメチルシルセキオキサン・オリゴマーで用い
たのと同じプロセスを用いた。（第２のより粘性の高い
オリゴマーを添加したことは除く。）
まし速度に対するそれらの効果として評価した。触媒添
加中の局在したオリゴマーの凝縮の確率を減らすため、
混合前にオリゴマー及び触媒を溶媒中に希釈した。典型
的な場合、全メチルシルセキオキサンでは液体の量を測
り、溶媒のないオリゴマー（約２０００ｃｐの粘性をも
つ）をアセトンでその体積の２倍まで希釈した。オリゴ
マーの重量に基づいて、約３−６％の触媒をその体積の
約２０倍のアセトン中に溶解し、樹脂溶液に加えた。次
に、溶媒及び粘性低下添加物の両方として用いたアセト
ンを、４５℃に保たれた水槽を備えた回転蒸発機を用い
て、所望の両まで除去した。第２のより粘性の高いオリ
ゴマーも、組成に添加する前に、アセトンで希釈した。
修正されたメチルシルセキオキサン・オリゴマーで用い
たのと同じプロセスを用いた。（第２のより粘性の高い
オリゴマーを添加したことは除く。）
【００３６】オリゴマーは２つの方法で、光ファイバに
供給した。ベンチスケール・タワー上の基板として、従
来のように被覆したファイバを最初に評価した。この装
置上で最初に選択した後、より速い焼きなまし方式を、
被覆カップの直下に置いた３つの３フィート・ワイヤ巻
きシリカ管からなるヒータを付け加えることで修正した
空冷で５０グラムの張力を加えた全寸２９フィート引張
りタワー上で試験した。
供給した。ベンチスケール・タワー上の基板として、従
来のように被覆したファイバを最初に評価した。この装
置上で最初に選択した後、より速い焼きなまし方式を、
被覆カップの直下に置いた３つの３フィート・ワイヤ巻
きシリカ管からなるヒータを付け加えることで修正した
空冷で５０グラムの張力を加えた全寸２９フィート引張
りタワー上で試験した。
【００３７】焼きなましていないオリゴマー中のシラノ
ール濃度を増した効果は、（約３ないし約５のｐＨをも
つ）酸性化した水を加えることにより評価した。全メチ
ルオリゴマーに水を加えることによって、ある種のオリ
ゴマーの粘性のある被膜が生じ、一方他の上には硬い泡
のある被膜が生じ、従って停止した。
ール濃度を増した効果は、（約３ないし約５のｐＨをも
つ）酸性化した水を加えることにより評価した。全メチ
ルオリゴマーに水を加えることによって、ある種のオリ
ゴマーの粘性のある被膜が生じ、一方他の上には硬い泡
のある被膜が生じ、従って停止した。
【００３８】被膜損は９５１熱重量分析（ＴＧＡ）モジ
ュールを備えたデュポン９９００熱分析器でモニターし
た。焼きなましたオリゴマーの５−１０ｍｇの試料を１
０゜／分で、６０から５５０℃まで加熱し、一方容器に
は５０ｃｃ／分の流速で、酸素を流した。
ュールを備えたデュポン９９００熱分析器でモニターし
た。焼きなましたオリゴマーの５−１０ｍｇの試料を１
０゜／分で、６０から５５０℃まで加熱し、一方容器に
は５０ｃｃ／分の流速で、酸素を流した。
【００３９】結果 １００％メチルシルセキオキサン：最初の実験は、約２
０００の粘性、４−５％残留エポキシ群及び１２−１４
％ＯＨ群をもつメチルシルセキオキサン・オリゴマーの
エタノール溶液で行った。エタノールは除去し、オリゴ
マーでファイバ上を被覆し、焼きなました。０．４ｍ／
秒のタワー引張り速度で、亀裂のない被膜が得られた。
ＴＧＡ実験により、全メチルオリゴマーは３６９℃で急
速に重量を失い始めることが示された。
０００の粘性、４−５％残留エポキシ群及び１２−１４
％ＯＨ群をもつメチルシルセキオキサン・オリゴマーの
エタノール溶液で行った。エタノールは除去し、オリゴ
マーでファイバ上を被覆し、焼きなました。０．４ｍ／
秒のタワー引張り速度で、亀裂のない被膜が得られた。
ＴＧＡ実験により、全メチルオリゴマーは３６９℃で急
速に重量を失い始めることが示された。
【００４０】少なくとも６時間室温に保ち、適度な作業
時間をとり、オクタン酸亜鉛は全メチルオリゴマーの許
容しうる触媒であることがわかった。
時間をとり、オクタン酸亜鉛は全メチルオリゴマーの許
容しうる触媒であることがわかった。
【００４１】より粘性の高い全メチルオリゴマー、触媒
及び粘性低下添加物は、ライン速度を増す重要な要因で
あることがわかった。具体的には、組成物は６４，００
０ｃｐ及び２，０００ｃｐの粘性を有し、それぞれ６
９：１１の重量比で存在し、被膜組成中のシロキサン・
オリゴマーの重量に基づいて、３重量パーセントのオク
タン酸亜鉛及び３重量パーセントアセトンを含む２つの
メチルシルセキオキサン・オリゴマーから作った。組成
物は焼きなまし、亀裂のない２０−３０μｍ被膜を、
３．３ｍ／秒のライン速度で形成した。１５０℃で１月
間経年変化させた後、被膜中に亀裂が観察された。
及び粘性低下添加物は、ライン速度を増す重要な要因で
あることがわかった。具体的には、組成物は６４，００
０ｃｐ及び２，０００ｃｐの粘性を有し、それぞれ６
９：１１の重量比で存在し、被膜組成中のシロキサン・
オリゴマーの重量に基づいて、３重量パーセントのオク
タン酸亜鉛及び３重量パーセントアセトンを含む２つの
メチルシルセキオキサン・オリゴマーから作った。組成
物は焼きなまし、亀裂のない２０−３０μｍ被膜を、
３．３ｍ／秒のライン速度で形成した。１５０℃で１月
間経年変化させた後、被膜中に亀裂が観察された。
【００４２】修正されたメチルシルセキオキサン：１０
０％メチルシルセキオキサンを、ある程度の付属メチル
群を、フェニルで置き換え、あるいはジメチルシロキサ
ン群を表Ｉに示された付属群比に従い、メチルシルセキ
オキサン・バックボーン中に組込むことにより修正し
た。修正したメチルシルセキオキサンは適当な量のメチ
ルトリエトキシシラン・モノマーを、ジメチルジエトキ
シシラン又はフェニルトリエトキシシラン・モノマーと
ともに水と混合し、凝縮を進めるため反応物を加熱し、
エタノールを蒸留することにより作成した。修正したオ
リゴマーは、反応物の無秩序共重合体であることがわか
った。
０％メチルシルセキオキサンを、ある程度の付属メチル
群を、フェニルで置き換え、あるいはジメチルシロキサ
ン群を表Ｉに示された付属群比に従い、メチルシルセキ
オキサン・バックボーン中に組込むことにより修正し
た。修正したメチルシルセキオキサンは適当な量のメチ
ルトリエトキシシラン・モノマーを、ジメチルジエトキ
シシラン又はフェニルトリエトキシシラン・モノマーと
ともに水と混合し、凝縮を進めるため反応物を加熱し、
エタノールを蒸留することにより作成した。修正したオ
リゴマーは、反応物の無秩序共重合体であることがわか
った。
【００４３】ＴＧＡ実験により、３３：３３：３３及び
１３：１３：７５オリゴマーは、それぞれ４２８℃及び
４９０℃で重量損失を開始したことを示した。
１３：１３：７５オリゴマーは、それぞれ４２８℃及び
４９０℃で重量損失を開始したことを示した。
【００４４】フェニル又はジメチル付属群を有するオリ
ゴマーは、全メチル・オリゴマーより焼きなまししにく
かった。シロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、２
５メチル：７５フェニル・オリゴマーを８重量パーセン
トＰＰＡ触媒とともに焼きなました時、もろい被膜が生
じた。シロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、８重
量パーセントのＰＰＡ触媒を含む（２５：３１：４４の
比で組合せた付属群を有する）３３：３３：３３オリゴ
マー及び２０：０：８０オリゴマーの３：１混合物は、
０．２５ｍ／秒より低い比較的遅い速度で焼きなました
ところ熔球を生じた。溶媒を含まないあらかじめ加水分
解したそれぞれ０：０：１００液体オリゴマー及び１
３：１３：７５オリゴマー、４重量パーセントのＰＰＡ
を含む組成を分離するため、５重量パーセントのフェニ
ルシルセキオキサン固体片樹脂を加えたところ、熔球を
含む被膜が生じ、それは０．２ｍ／秒以下の比較的遅い
速度でのみ焼きなましできた。（重量パーセントはオリ
ゴマーの重量パーセントに基づく。）
ゴマーは、全メチル・オリゴマーより焼きなまししにく
かった。シロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、２
５メチル：７５フェニル・オリゴマーを８重量パーセン
トＰＰＡ触媒とともに焼きなました時、もろい被膜が生
じた。シロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、８重
量パーセントのＰＰＡ触媒を含む（２５：３１：４４の
比で組合せた付属群を有する）３３：３３：３３オリゴ
マー及び２０：０：８０オリゴマーの３：１混合物は、
０．２５ｍ／秒より低い比較的遅い速度で焼きなました
ところ熔球を生じた。溶媒を含まないあらかじめ加水分
解したそれぞれ０：０：１００液体オリゴマー及び１
３：１３：７５オリゴマー、４重量パーセントのＰＰＡ
を含む組成を分離するため、５重量パーセントのフェニ
ルシルセキオキサン固体片樹脂を加えたところ、熔球を
含む被膜が生じ、それは０．２ｍ／秒以下の比較的遅い
速度でのみ焼きなましできた。（重量パーセントはオリ
ゴマーの重量パーセントに基づく。）
【００４５】引張り速度を増し、熔球発生を減らす方法
を決める試みとして、多くの触媒を１３：１３：７５オ
リゴマーと混合した。評価した全金属ソープは３つに分
類された。（１）あらかじめ加水分解したオリゴマーと
あまりにも速く反応し、室温でゲルを形成したもの；
（２）１４０℃、３０秒後に硬い薄膜が形成されるよう
に、凝縮を加速したもの；（３）熱処理後、部分的に焼
きなまされた薄膜のみを生成したもの。グループ（１）
はＳｎ、Ｓｂ及びＢｉソープから成る。グループ（２）
はオクタン酸亜鉛及びカルボン酸鉄のみを含んだ。これ
ら２つのソープは室温に保ち、たとえば１４０℃といっ
た高温で、硬い薄膜にオリゴマーを焼きなました。残り
の触媒はグループ（３）で、以下の順に活性度が減少し
た：Ｃｕ＞Ｃｏ＞Ｎｉ＞Ｍｏ＞Ｃｒ＞Ｚｒ＞Ｍｎ＝Ｖ。
１３：１３：７５オリゴマーとともに用いたオクタン酸
亜鉛の量は、オリゴマーの重量に基づいて、約３重量パ
ーセント又はそれ以下に制限すべきことがわかった。量
をより多くすると、凝縮が好ましくないほど遅くなり、
ベンチスケール引張りタワー上で、焼きなまされない被
膜が生じた。
を決める試みとして、多くの触媒を１３：１３：７５オ
リゴマーと混合した。評価した全金属ソープは３つに分
類された。（１）あらかじめ加水分解したオリゴマーと
あまりにも速く反応し、室温でゲルを形成したもの；
（２）１４０℃、３０秒後に硬い薄膜が形成されるよう
に、凝縮を加速したもの；（３）熱処理後、部分的に焼
きなまされた薄膜のみを生成したもの。グループ（１）
はＳｎ、Ｓｂ及びＢｉソープから成る。グループ（２）
はオクタン酸亜鉛及びカルボン酸鉄のみを含んだ。これ
ら２つのソープは室温に保ち、たとえば１４０℃といっ
た高温で、硬い薄膜にオリゴマーを焼きなました。残り
の触媒はグループ（３）で、以下の順に活性度が減少し
た：Ｃｕ＞Ｃｏ＞Ｎｉ＞Ｍｏ＞Ｃｒ＞Ｚｒ＞Ｍｎ＝Ｖ。
１３：１３：７５オリゴマーとともに用いたオクタン酸
亜鉛の量は、オリゴマーの重量に基づいて、約３重量パ
ーセント又はそれ以下に制限すべきことがわかった。量
をより多くすると、凝縮が好ましくないほど遅くなり、
ベンチスケール引張りタワー上で、焼きなまされない被
膜が生じた。
【００４６】焼きなまし速度に対する付属群の効果は、
引張りタワー上で焼きなまされた被膜が得られるライン
速度を決めることにより評価した。６７：３３：０オリ
ゴマー及びオリゴマーの重量に基づいて、３重量パーセ
ントのオクタン酸亜鉛を含む組成で、約１．２５−１．
５ｍ／秒のライン速度が得られた。６７：０：３３オリ
ゴマーの場合、オリゴマーの重量に基づいて３重量パー
セントＰＰＡでは、約２ｍ／秒のライン速度で熔球生成
被膜が生じた。全メチル又は６７：３３：０オリゴマー
に、オリゴマーの重量に基づいて、３重量パーセントＰ
ＰＡを加えたところ、室温でただちに凝縮した。
引張りタワー上で焼きなまされた被膜が得られるライン
速度を決めることにより評価した。６７：３３：０オリ
ゴマー及びオリゴマーの重量に基づいて、３重量パーセ
ントのオクタン酸亜鉛を含む組成で、約１．２５−１．
５ｍ／秒のライン速度が得られた。６７：０：３３オリ
ゴマーの場合、オリゴマーの重量に基づいて３重量パー
セントＰＰＡでは、約２ｍ／秒のライン速度で熔球生成
被膜が生じた。全メチル又は６７：３３：０オリゴマー
に、オリゴマーの重量に基づいて、３重量パーセントＰ
ＰＡを加えたところ、室温でただちに凝縮した。
【００４７】５０：０：５０オリゴマー及び（オリゴマ
ーの重量に基づいて）３％ＰＰＡを含む組成で、引張り
タワー上で約２ｍ／秒のライン速度が得られた。４０：
２０：４０オリゴマーで同じライン速度を得るために
は、オリゴマーの重量に基づいて、６重量パーセントＰ
ＰＡが必要であった。全フェニル・オリゴマーは３３：
３３：３３オリゴマー３部及びオリゴマーの重量に基づ
いて、８重量パーセントＰＰＡと混合した時、引張りタ
ワー上で焼きなまされた被膜を得るために、約０．２ｍ
／秒の引張り速度を必要とした。３３：３３：３３オリ
ゴマーとともに、オリゴマーの重量に基づいて６重量パ
ーセントＰＰＡを用いたところ、得られるライン速度は
約１ｍ／秒に減少した。この速度では、２０μｍ被膜が
供給できた。しかし、焼きなましを完了するために、オ
フライン加熱が必要であった。３３：３３：３３オリゴ
マーから生じた被膜は、約１７５℃の熱的安定性を有し
た。
ーの重量に基づいて）３％ＰＰＡを含む組成で、引張り
タワー上で約２ｍ／秒のライン速度が得られた。４０：
２０：４０オリゴマーで同じライン速度を得るために
は、オリゴマーの重量に基づいて、６重量パーセントＰ
ＰＡが必要であった。全フェニル・オリゴマーは３３：
３３：３３オリゴマー３部及びオリゴマーの重量に基づ
いて、８重量パーセントＰＰＡと混合した時、引張りタ
ワー上で焼きなまされた被膜を得るために、約０．２ｍ
／秒の引張り速度を必要とした。３３：３３：３３オリ
ゴマーとともに、オリゴマーの重量に基づいて６重量パ
ーセントＰＰＡを用いたところ、得られるライン速度は
約１ｍ／秒に減少した。この速度では、２０μｍ被膜が
供給できた。しかし、焼きなましを完了するために、オ
フライン加熱が必要であった。３３：３３：３３オリゴ
マーから生じた被膜は、約１７５℃の熱的安定性を有し
た。
【００４８】
【実施例２】表ＩＩ中のシルセキオキサン・オリゴマー
を、それらを被膜中で使用する場合について評価した。
ＯＩ−ＮＥＧ，トレド、オハイオからオリゴマーを入手
し、約１０００ないし約２０００ｃｐの範囲のオリゴマ
ーを形成するのに十分な条件下で、ＯＩ−ＮＥＧにより
作成した。ＰＰＡ触媒を用いた。表ＩＩはオリゴマーを
作成した方法、被膜に対して行った経時試験及び経時試
験の結果を示す。付属群比に第４の値がある場合（表Ｉ
Ｉ中及び以下の説明）、第４の値はオリゴマーを形成す
る時含まれたジメチルシロキシ短鎖のモル比を示す。
を、それらを被膜中で使用する場合について評価した。
ＯＩ−ＮＥＧ，トレド、オハイオからオリゴマーを入手
し、約１０００ないし約２０００ｃｐの範囲のオリゴマ
ーを形成するのに十分な条件下で、ＯＩ−ＮＥＧにより
作成した。ＰＰＡ触媒を用いた。表ＩＩはオリゴマーを
作成した方法、被膜に対して行った経時試験及び経時試
験の結果を示す。付属群比に第４の値がある場合（表Ｉ
Ｉ中及び以下の説明）、第４の値はオリゴマーを形成す
る時含まれたジメチルシロキシ短鎖のモル比を示す。
【００４９】８６：０：０：１４及び７５：０：０：２
５オリゴマーは、メチルトリエトキシシラン及び上で短
鎖と呼んだ低分子量（３６０−４５０）直線状ポリジメ
チルシロキサン鎖を同時に加水分解することにより作っ
た。２５：５０：２５：０オリゴマーは、メチルトリエ
トキシシラン・モノマー及びフェニルトリエトキシシラ
ン・モノマーを、部分的に加水分解し、オリゴマー化し
たジメチルジエトキシシラン・モノマーに添加すること
により作った。２０：６０：２０：０オリゴマーは、メ
チルトリエトキシシラン・モノマーを、部分的に加水分
解し、オリゴマー化したジメチルジエトキシシラン・モ
ノマー及び部分的に加水分解し、オリゴマー化したフェ
ニルトリエトキシシラン・モノマーに添加することによ
り作った。メチルトリエトキシシラン及びフェニルトリ
エトキシシランを部分的に加水分解したジメチルジエト
キシシランに同時に添加することにより作った３３：３
３：３３：０オリゴマーは、メチルトリエトキシシラン
を部分的に加水分解したフェニルトリエトキシシラン及
び部分的に加水分解したジメチルジエトキシシランに添
加することにより作った３３：３３：３３：０オリゴマ
ーより、速い凝縮速度（８０℃において、オリゴマーの
重量に基づいて、４．５重量パーセントＰＰＡ）を示し
た。焼きなましのより速い３３：３３：３３：０オリゴ
マーのみで、光ファイバ上を被覆した。
５オリゴマーは、メチルトリエトキシシラン及び上で短
鎖と呼んだ低分子量（３６０−４５０）直線状ポリジメ
チルシロキサン鎖を同時に加水分解することにより作っ
た。２５：５０：２５：０オリゴマーは、メチルトリエ
トキシシラン・モノマー及びフェニルトリエトキシシラ
ン・モノマーを、部分的に加水分解し、オリゴマー化し
たジメチルジエトキシシラン・モノマーに添加すること
により作った。２０：６０：２０：０オリゴマーは、メ
チルトリエトキシシラン・モノマーを、部分的に加水分
解し、オリゴマー化したジメチルジエトキシシラン・モ
ノマー及び部分的に加水分解し、オリゴマー化したフェ
ニルトリエトキシシラン・モノマーに添加することによ
り作った。メチルトリエトキシシラン及びフェニルトリ
エトキシシランを部分的に加水分解したジメチルジエト
キシシランに同時に添加することにより作った３３：３
３：３３：０オリゴマーは、メチルトリエトキシシラン
を部分的に加水分解したフェニルトリエトキシシラン及
び部分的に加水分解したジメチルジエトキシシランに添
加することにより作った３３：３３：３３：０オリゴマ
ーより、速い凝縮速度（８０℃において、オリゴマーの
重量に基づいて、４．５重量パーセントＰＰＡ）を示し
た。焼きなましのより速い３３：３３：３３：０オリゴ
マーのみで、光ファイバ上を被覆した。
【００５０】手順 被膜組成物を形成するために、５０ｇのオリゴマーを２
００ｍｌの丸底フラスコに移し、１０ｍｌのアセトン中
に溶解した２．２５ｇのＰＰＡ（オリゴマーの重量に基
づいて４．５パーセント）を、フラスコに添加した。一
相のみが見えるまで、フラスコを振り、次にフラスコを
４５℃に保たれた水槽を備えた回転蒸発器上に置いた。
オリゴマーの重量に基づいて、約３パーセントが組成物
中に残るまで、アセトンの除去を続けた。この量のアセ
トンを含むことにより、オリゴマーの粘度は約５０％減
少した。約３０００ｃｐ以上の粘度を有する被膜組成物
は、引張りタワー上の加圧した延伸カップで用いるには
粘度が高すぎる。
００ｍｌの丸底フラスコに移し、１０ｍｌのアセトン中
に溶解した２．２５ｇのＰＰＡ（オリゴマーの重量に基
づいて４．５パーセント）を、フラスコに添加した。一
相のみが見えるまで、フラスコを振り、次にフラスコを
４５℃に保たれた水槽を備えた回転蒸発器上に置いた。
オリゴマーの重量に基づいて、約３パーセントが組成物
中に残るまで、アセトンの除去を続けた。この量のアセ
トンを含むことにより、オリゴマーの粘度は約５０％減
少した。約３０００ｃｐ以上の粘度を有する被膜組成物
は、引張りタワー上の加圧した延伸カップで用いるには
粘度が高すぎる。
【００５１】被膜組成物の２０μｍ厚の被膜を、実施例
１と同じ引張りタワー上の裸のシリカファイバ上に供給
した。引張りタワーは被覆カップ直下の３つの３フィー
ト長、ワイヤ巻、シリカヒータ管を加えることにより修
正されていた。１ｍ／秒のライン速度を用いた。直径約
８インチの被覆ファイバのゆるいコイルを、その後一
晩、１４０℃の空気を強制的に流したオーブル中につる
した。
１と同じ引張りタワー上の裸のシリカファイバ上に供給
した。引張りタワーは被覆カップ直下の３つの３フィー
ト長、ワイヤ巻、シリカヒータ管を加えることにより修
正されていた。１ｍ／秒のライン速度を用いた。直径約
８インチの被覆ファイバのゆるいコイルを、その後一
晩、１４０℃の空気を強制的に流したオーブル中につる
した。
【００５２】被膜の重量損は９５１又は２９５０熱重量
分析（ＴＧＡ）モジュールを備えたデュポン９９００熱
分析器でモニターした。アルミニウムシート上で１４０
℃オーブン中で一晩焼きなましたオリゴマーの５−１０
ｍｇの試料を、５０ｃｃ／分の流量で酸素を容器中に流
しながら、１０゜／分で６０から５５０℃に加熱した。
分析（ＴＧＡ）モジュールを備えたデュポン９９００熱
分析器でモニターした。アルミニウムシート上で１４０
℃オーブン中で一晩焼きなましたオリゴマーの５−１０
ｍｇの試料を、５０ｃｃ／分の流量で酸素を容器中に流
しながら、１０゜／分で６０から５５０℃に加熱した。
【００５３】経時試験したファイバは４００×の倍率を
もつ光学顕微鏡で調べた。被覆したファイバの強度は、
２点曲げ試験を用いて決めた。曲げ試験は、約１ｍｍ長
のファイバを、１０００μｍ／秒の速度の計算機制御さ
れたステップモーターにより共に保持された２つの平行
平板間に置くことにより行った。測定は室温（約２５
℃）で行った。
もつ光学顕微鏡で調べた。被覆したファイバの強度は、
２点曲げ試験を用いて決めた。曲げ試験は、約１ｍｍ長
のファイバを、１０００μｍ／秒の速度の計算機制御さ
れたステップモーターにより共に保持された２つの平行
平板間に置くことにより行った。測定は室温（約２５
℃）で行った。
【００５４】結果 ７５：０：０：２５及び８６：０：０：１４被膜組成物
のＴＧＡ走査により、酸素中で３５０℃まで加熱するこ
とにより、２重量パーセント以下の損失が示された。
（８０℃における８０：０：０：２０オリゴマーの凝縮
速度は、遅いライン速度が必要なことを示したので、そ
れ以上検討しなかった。）２００℃で５1／2週経時試験
した後、８６：０：０：１４オリゴマーから形成した被
膜は、ファイバの長さだけ延びる長い螺旋状亀裂を有し
た。同じ経時試験後、７５：０：０：２５被膜は円周状
亀裂を有する領域、螺旋状亀裂を有する領域及び亀裂の
ない領域の不規則な亀裂パターンを有した。このこと
は、メチルシロキシ群の不均一な分布を示唆している。
のＴＧＡ走査により、酸素中で３５０℃まで加熱するこ
とにより、２重量パーセント以下の損失が示された。
（８０℃における８０：０：０：２０オリゴマーの凝縮
速度は、遅いライン速度が必要なことを示したので、そ
れ以上検討しなかった。）２００℃で５1／2週経時試験
した後、８６：０：０：１４オリゴマーから形成した被
膜は、ファイバの長さだけ延びる長い螺旋状亀裂を有し
た。同じ経時試験後、７５：０：０：２５被膜は円周状
亀裂を有する領域、螺旋状亀裂を有する領域及び亀裂の
ない領域の不規則な亀裂パターンを有した。このこと
は、メチルシロキシ群の不均一な分布を示唆している。
【００５５】３３：２５：３３：８及び３３：１７：３
３：１７被膜組成物は両方とも、２００℃、５1／2週の
経時試験後亀裂を示したが、前者は後者より亀裂が少な
かった。２１０℃、５０日の、より速く焼きなました３
３：３３：３３オリゴマー被膜ファイバの経時試験で、
多くの規則的な間隔をもつ円周状亀裂が生じた。
３：１７被膜組成物は両方とも、２００℃、５1／2週の
経時試験後亀裂を示したが、前者は後者より亀裂が少な
かった。２１０℃、５０日の、より速く焼きなました３
３：３３：３３オリゴマー被膜ファイバの経時試験で、
多くの規則的な間隔をもつ円周状亀裂が生じた。
【００５６】２５：５０：２５：０オリゴマーから得ら
れた被膜は、改善された特性を示した。２１０℃、５０
日の経時試験後、ファイバの３−４インチの部分は亀裂
がなく、わずかな不規則な間隔の円周状亀裂のみが、顕
微鏡を通して見えた。
れた被膜は、改善された特性を示した。２１０℃、５０
日の経時試験後、ファイバの３−４インチの部分は亀裂
がなく、わずかな不規則な間隔の円周状亀裂のみが、顕
微鏡を通して見えた。
【００５７】２０：６０：２０：０オリゴマーは更に良
好な特性をもつ被膜を生じた。２１０℃、２８日で経時
試験した５本の１０インチファイバの試験では、亀裂は
見られなかった。焼きなましたオリゴマーのＴＧＡ分析
により、３５０℃への加熱で、４．２５パーセントの重
量損失を示した。強度試験は２０：６０：２０：０オリ
ゴマーで被覆した経時試験したファイバ及び経時試験し
ないファイバについて行った。中間損傷歪は経時試験し
ないファイバでは７．７７％、経時試験したファイバで
は７．９２％であった。両方の試料で、与えられた歪に
おける単一モードの分布及び損傷の確率がほぼ全体にあ
ることが観察された。両方の試料で、強度分布は約２％
の実験誤差内で同じであり、このことは経時試験したフ
ァイバ中に亀裂がないことを示している。
好な特性をもつ被膜を生じた。２１０℃、２８日で経時
試験した５本の１０インチファイバの試験では、亀裂は
見られなかった。焼きなましたオリゴマーのＴＧＡ分析
により、３５０℃への加熱で、４．２５パーセントの重
量損失を示した。強度試験は２０：６０：２０：０オリ
ゴマーで被覆した経時試験したファイバ及び経時試験し
ないファイバについて行った。中間損傷歪は経時試験し
ないファイバでは７．７７％、経時試験したファイバで
は７．９２％であった。両方の試料で、与えられた歪に
おける単一モードの分布及び損傷の確率がほぼ全体にあ
ることが観察された。両方の試料で、強度分布は約２％
の実験誤差内で同じであり、このことは経時試験したフ
ァイバ中に亀裂がないことを示している。
【００５８】ここで述べた本発明の具体例及び実施例を
考えると、当業者には他の実施例が明らかであろう。
考えると、当業者には他の実施例が明らかであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エドウィン アーサー チャンドロス アメリカ合衆国 07974 ニュージャーシ ィ，マレイ ヒル，ハンタードン ブウル ヴァード 14 (72)発明者 ヴァレリー ジャンヌ カック アメリカ合衆国 07043 ニュージャーシ ィ，アパー モントクライア，ワーフィー ルド ストリート 45
Claims (45)
- 【請求項１】 製品上に被膜組成物を配置する工程を含
み、被膜組成は約２０００ｃｐ又はそれ未満の初期粘性
を有する第１のメチルシルセキオキサン・オリゴマー及
び約４０，０００ないし約９０，０００ｃｐの初期粘性
を有する第２のメチルシルセキオキサン・オリゴマー、
低級脂肪族ケトンの粘性低下添加物及び触媒を含み、被
膜を焼きなます工程を含む製品の被覆方法。 - 【請求項２】 粘性低下添加物はアセトンである請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 触媒はオクタン酸亜鉛である請求項１記
載の方法。 - 【請求項４】 被膜組成物中の全シロキサン・オリゴマ
ーの重量に基づいて、第１のオリゴマーは約１０ないし
約２０重量パーセントの範囲の量存在し、第２のオリゴ
マーは約８０ないし約９０重量パーセントの範囲の量存
在する請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 粘性低下添加物は、被膜組成物中の全シ
ロキサン・オリゴマーの重量に基づいて、約１ないし約
６重量パーセントの量存在する請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 触媒は被膜組成物中の全シロキサン・オ
リゴマーの重量に基づいて、約０．５ないし約６重量パ
ーセントの範囲の量存在する請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 製品は光ファイバである請求項１記載の
方法。 - 【請求項８】 被膜組成物はそれを含む容器を通して、
ファイバを引くことにより、ファイバ上に配置される請
求項７記載の方法。 - 【請求項９】 容器を１回通した後の焼きなました被膜
の厚さは、少なくとも約２０μｍである請求項８記載の
方法。 - 【請求項１０】 ファイバは少なくとも約１ｍ／秒の速
度で、容器を通して引く請求項９記載の方法。 - 【請求項１１】 速度は少なくとも約３ｍ／秒である請
求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 被膜組成物を製品上に配置する工程を
含み、被膜組成物はメチル、ジメチル及びフェニル付属
群を有するシルセキオキサン・オリゴマー、低級脂肪族
ケトンの粘性低下添加物及び適度に強いプロト酸の触媒
を含み、 被膜組成物を焼きなます工程を含む製品の被覆方法。 - 【請求項１３】 シルセキオキサン・オリゴマーはＡ：
Ｂ：Ｃの付属群比を有し、Ａはメチル付属群を表わし、
約１３ないし約６７の範囲で、Ｂはジメチル付属群を表
わし、約０ないし約３３の範囲で、Ｃはフェニル付属群
を表わし、約１０ないし約８０の範囲である請求項１２
記載の方法。 - 【請求項１４】 粘性低下添加物はアセトンである請求
項１２記載の方法。 - 【請求項１５】 触媒はフェニルホスホン酸である請求
項１２記載の方法。 - 【請求項１６】 オリゴマーは被膜組成物の重量に基づ
いて、約８８ないし約９８重量パーセントの範囲の量存
在する請求項１２記載の方法。 - 【請求項１７】 粘性低下添加物はシロキサン・オリゴ
マーの重量に基づいて、約１ないし約６重量パーセント
の量存在する請求項１２記載の方法。 - 【請求項１８】 触媒はシロキサン・オリゴマーの重量
に基づいて、約０．５ないし約６重量パーセントの範囲
の量存在する請求項１２記載の方法。 - 【請求項１９】 製品は光ファイバである請求項１２記
載の方法。 - 【請求項２０】 被膜組成物は被膜組成物を含む容器を
通して、ファイバを引くことにより、ファイバ上に配置
する請求項１９記載の方法。 - 【請求項２１】 容器を１回通した後の焼きなまされた
被膜の厚さは、少なくとも約２０μｍである請求項２０
記載の方法。 - 【請求項２２】 ファイバは少なくとも約１ｍ／秒の速
度で容器を通して引かれる請求項２１記載の方法。 - 【請求項２３】 速度は少なくとも約２ｍ／秒である請
求項２２記載の方法。 - 【請求項２４】 製品上に被膜組成物を配置する工程を
含み、被膜組成物はメチルトリエトキシシラン・モノマ
ー及び必要に応じてフェニルトリエトキシシラン・モノ
マーを、部分的に加水分解したジメチルジエトキシシラ
ン・モノマー又はジメチルシロキサン短鎖と混合する工
程を含むプロセスにより作製されるシルセキオキサンモ
ノマーよりなり、 被膜を焼きなます工程を含む製品の被覆方法。 - 【請求項２５】 フェニルトリエトキシシラン・モノマ
ーは部分的に加水分解される請求項２４記載の方法。 - 【請求項２６】 シルセキオキサン・オリゴマーはＡ：
Ｂ：Ｃの比率の付属群を有し、Ａはメチル付属群を表わ
し、約１３ないし約６７の範囲で、Ｂはジメチル付属群
を表わし、０以上約６０までの範囲で、Ｃはフェニル付
属群を表わし、０以上約３３までの範囲である請求項２
４記載の方法。 - 【請求項２７】 Ａは約１０ないし約３０、Ｂは約４０
ないし約６０、Ｃは約１０ないし約３０である請求項２
６記載の方法。 - 【請求項２８】 被膜組成物は更に低級脂肪族ケトンの
粘性低下添加物を含む請求項２４記載の方法。 - 【請求項２９】 粘性低下添加物はアセトンである請求
項２８記載の方法。 - 【請求項３０】 被膜組成物は更に、触媒を含む請求項
２４記載の方法。 - 【請求項３１】 触媒はオクタン酸亜鉛及びフェニルホ
スホン酸から選択される請求項３０記載の方法。 - 【請求項３２】 粘性低下添加物は、シロキサン・オリ
ゴマーの重量に基づいて、約１ないし約６重量パーセン
トの量存在する請求項２８記載の方法。 - 【請求項３３】 触媒はシロキサン・オリゴマーの重量
に基づいて、約１ないし約６重量パーセントの量存在す
る請求項３０記載の方法。 - 【請求項３４】 製品は光ファイバである請求項２４記
載の方法。 - 【請求項３５】 被膜組成物はそれを含む容器を通して
ファイバを引くことにより、ファイバ上に配置される請
求項３４記載の方法。 - 【請求項３６】 容器を１回通した後の焼きなまされた
被膜の厚さは、少なくとも約２０μｍである請求項３５
記載の方法。 - 【請求項３７】 ファイバは少なくとも約１ｍ／秒の速
度で、容器を通して引かれる請求項３６記載の方法。 - 【請求項３８】 焼きなまされた被膜は、約２１０℃の
機械的熱安定性を有する請求項３７記載の方法。 - 【請求項３９】 焼きなまされたシルセキオキサン・オ
リゴマーを含み、オリゴマーはメチルトリエトキシシラ
ン・モノマー及び必要に応じてフェニルトリエトキシシ
ラン・モノマーを部分的に加水分解されたジメチルジエ
トキシシラン・モノマー又はジメチルシロキシ短鎖と混
合する工程を含むプロセスにより作製される固着被膜を
含む製品。 - 【請求項４０】 フェニルトリエトキシシラン・モノマ
ーは部分的に加水分解される請求項３９記載の製品。 - 【請求項４１】 シルセキオキサン・オリゴマーはＡ：
Ｂ：Ｃの比率の付属群を有し、Ａはメチル付属群を表わ
し、約１３ないし約６７の範囲で、Ｂはジメチル付属群
を表わし、０以上約６０の範囲で、Ｃはフェニル付属群
を表わし、０以上約３３の範囲である請求項３９記載の
製品。 - 【請求項４２】 Ａは約１０ないし約３０の範囲、Ｂは
約４０ないし約６０の範囲、Ｃは約１０ないし約３０の
範囲である請求項４１記載の製品。 - 【請求項４３】 被膜は、約２１０℃の機械的熱安定性
を有する請求項４２記載の製品。 - 【請求項４４】 製品は光ファイバである請求項３９記
載の製品。 - 【請求項４５】 被膜は少なくとも約２０μｍの厚さを
有する請求項４４記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/926,210 US5962067A (en) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Method for coating an article with a ladder siloxane polymer and coated article |
| US08/926210 | 1997-09-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11189437A true JPH11189437A (ja) | 1999-07-13 |
| JP3481467B2 JP3481467B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=25452899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25489298A Expired - Fee Related JP3481467B2 (ja) | 1997-09-09 | 1998-09-09 | ラダー・シロキサンポリマによる製品の被覆方法及び被覆された製品 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5962067A (ja) |
| EP (3) | EP1111019A3 (ja) |
| JP (1) | JP3481467B2 (ja) |
| DE (1) | DE69801032T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005154715A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5962067A (en) * | 1997-09-09 | 1999-10-05 | Lucent Technologies Inc. | Method for coating an article with a ladder siloxane polymer and coated article |
| EP1190277B1 (en) * | 1999-06-10 | 2009-10-07 | AlliedSignal Inc. | Semiconductor having spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US6268457B1 (en) | 1999-06-10 | 2001-07-31 | Allied Signal, Inc. | Spin-on glass anti-reflective coatings for photolithography |
| KR100371070B1 (ko) * | 1999-12-02 | 2003-02-05 | 한국과학기술연구원 | 폴리지방족방향족실세스퀴옥산 및 그의 제조 방법 |
| KR20000063142A (ko) * | 2000-02-17 | 2000-11-06 | 이응찬 | 폴리오르가노실세스키옥산 제조용 출발물질,폴리오르가노실세스키옥산 및 폴리오르가노실세스키옥산제조방법 |
| US6891237B1 (en) * | 2000-06-27 | 2005-05-10 | Lucent Technologies Inc. | Organic semiconductor device having an active dielectric layer comprising silsesquioxanes |
| US6368400B1 (en) * | 2000-07-17 | 2002-04-09 | Honeywell International | Absorbing compounds for spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US6599995B2 (en) * | 2001-05-01 | 2003-07-29 | Korea Institute Of Science And Technology | Polyalkylaromaticsilsesquioxane and preparation method thereof |
| US6856745B2 (en) * | 2002-07-02 | 2005-02-15 | Lucent Technologies Inc. | Waveguide and applications therefor |
| US6842577B2 (en) * | 2002-12-02 | 2005-01-11 | Shipley Company L.L.C. | Photoimageable waveguide composition and waveguide formed therefrom |
| US7041748B2 (en) * | 2003-01-08 | 2006-05-09 | International Business Machines Corporation | Patternable low dielectric constant materials and their use in ULSI interconnection |
| US20060004169A1 (en) * | 2003-01-10 | 2006-01-05 | Sherwood Walter J Jr | Ceramic-forming polymer material |
| WO2004078866A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-16 | Henkel Corporation | Curable coating compositions |
| US7297731B2 (en) | 2003-03-11 | 2007-11-20 | 3M Innovative Properties Company | Coating dispersions for optical fibers |
| US20050069718A1 (en) * | 2003-09-30 | 2005-03-31 | Voss-Kehl Jessica L. | Printable insulating compositions and printable articles |
| US8053159B2 (en) | 2003-11-18 | 2011-11-08 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
| US7072564B2 (en) * | 2003-11-25 | 2006-07-04 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Waveguide compositions and waveguides formed therefrom |
| EP1586603B1 (en) * | 2004-04-14 | 2007-06-13 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Waveguide compositions and waveguides formed therefrom |
| US8901268B2 (en) | 2004-08-03 | 2014-12-02 | Ahila Krishnamoorthy | Compositions, layers and films for optoelectronic devices, methods of production and uses thereof |
| WO2008048565A1 (en) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Mold release composition and method for producing a rotational molding paint-ready polyurethane |
| KR100834351B1 (ko) * | 2006-11-24 | 2008-06-02 | 제일모직주식회사 | 멀티칩 패키지 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를이용한 멀티칩 패키지 |
| US8642246B2 (en) | 2007-02-26 | 2014-02-04 | Honeywell International Inc. | Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof |
| US8026035B2 (en) * | 2007-03-30 | 2011-09-27 | Cheil Industries, Inc. | Etch-resistant disilane and saturated hydrocarbon bridged silicon-containing polymers, method of making the same, and method of using the same |
| JP2009215344A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Central Glass Co Ltd | 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明材料 |
| US8557877B2 (en) | 2009-06-10 | 2013-10-15 | Honeywell International Inc. | Anti-reflective coatings for optically transparent substrates |
| CN103459027A (zh) * | 2011-03-31 | 2013-12-18 | 道康宁公司 | 包含膦酸酯催化剂的组合物以及制备和使用组合物的方法 |
| US8864898B2 (en) | 2011-05-31 | 2014-10-21 | Honeywell International Inc. | Coating formulations for optical elements |
| US8871425B2 (en) | 2012-02-09 | 2014-10-28 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Low dielectric photoimageable compositions and electronic devices made therefrom |
| WO2015115344A1 (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 住友化学株式会社 | Ｕｖ－ｌｅｄ用ポリシルセスキオキサン系封止材組成物及びそのためのリン酸系触媒の使用 |
| WO2016018918A1 (en) | 2014-07-29 | 2016-02-04 | Ofs Fitel, Llc | Uv-curable silsesquioxane-containing write-through optical fiber coatings for fabrication of optical fiber bragg gratings, and fibers made therefrom |
| DE112016001514B4 (de) * | 2015-03-31 | 2022-10-20 | Nihon Parkerizing Co., Ltd. | Oberflächenbehandlungsmittel für Metallmaterial und Metallmaterial mit Oberflächenbehandlungsbeschichtung |
| EP3194502A4 (en) | 2015-04-13 | 2018-05-16 | Honeywell International Inc. | Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications |
| WO2018142552A1 (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 日立化成株式会社 | 繊維処理用の処理剤、繊維及びその製造方法並びに繊維シートの製造方法 |
| IT201700089398A1 (it) | 2017-08-03 | 2019-02-03 | Freni Brembo Spa | Preforma per la realizzazione di un componente di impianto frenante, costituita in un materiale composito ceramico fibro-rinforzato ottenuto per formatura e pirolisi di un pre-preg |
| US10947412B2 (en) | 2017-12-19 | 2021-03-16 | Honeywell International Inc. | Crack-resistant silicon-based planarizing compositions, methods and films |
| US11015082B2 (en) | 2017-12-19 | 2021-05-25 | Honeywell International Inc. | Crack-resistant polysiloxane dielectric planarizing compositions, methods and films |
| CN111909527B (zh) * | 2019-05-10 | 2021-09-28 | 中国科学院化学研究所 | 可交联的有机硅组合物及反应产物及制备方法和应用 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3453106A (en) * | 1965-06-21 | 1969-07-01 | Owens Illinois Inc | Compositions exhibiting persistent internal polarization where a photoconductive material is dispersed in a polysiloxane resin derived from trifunctional monomers |
| US3450672A (en) * | 1967-01-12 | 1969-06-17 | Gen Electric | Organosilsesquioxanes and a method for making them |
| GB1544065A (en) * | 1976-04-09 | 1979-04-11 | Deere & Co | Check valve and internal stop clip therefor |
| US4264649A (en) | 1979-12-26 | 1981-04-28 | Corning Glass Works | Method for coating optical waveguide filaments |
| JPS56129261A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-09 | Hitachi Ltd | Thin film-forming coating liquid composition |
| JPS6356569A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-11 | Fujitsu Ltd | 耐熱性樹脂塗料 |
| US4835057A (en) | 1987-03-25 | 1989-05-30 | At&T Bell Laboratories | Glass fibers having organosilsesquioxane coatings and claddings |
| US5286572A (en) | 1988-11-28 | 1994-02-15 | International Business Machines Corporation | Planarizing ladder-type silsequioxane polymer insulation layer |
| US4981530A (en) | 1988-11-28 | 1991-01-01 | International Business Machines Corporation | Planarizing ladder-type silsesquioxane polymer insulation layer |
| US5052779A (en) * | 1989-07-31 | 1991-10-01 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Polymer clad optical fiber |
| JP2712817B2 (ja) * | 1990-11-15 | 1998-02-16 | 信越化学工業株式会社 | ポリオルガノシロキサン樹脂の製造方法 |
| JP3272002B2 (ja) * | 1991-09-02 | 2002-04-08 | 昭和電工株式会社 | ポリオルガノシルセスキオキサンの製造方法 |
| US5232548A (en) | 1991-10-29 | 1993-08-03 | International Business Machines Corporation | Discrete fabrication of multi-layer thin film, wiring structures |
| US5224265A (en) | 1991-10-29 | 1993-07-06 | International Business Machines Corporation | Fabrication of discrete thin film wiring structures |
| JPH06200030A (ja) * | 1992-12-29 | 1994-07-19 | Nippon Zeon Co Ltd | シルセスキオキサンポリマーの製造法 |
| DE69535718T2 (de) | 1994-05-27 | 2009-03-19 | Texas Instruments Inc., Dallas | Verbindungsverfahren mit Benutzung eines porösen Isolators zur Reduzierung der Kapazitäten zwischen Leiterbahnen |
| US5534731A (en) | 1994-10-28 | 1996-07-09 | Advanced Micro Devices, Incorporated | Layered low dielectric constant technology |
| US5550405A (en) | 1994-12-21 | 1996-08-27 | Advanced Micro Devices, Incorporated | Processing techniques for achieving production-worthy, low dielectric, low interconnect resistance and high performance ICS |
| JP3542185B2 (ja) * | 1995-02-02 | 2004-07-14 | ダウ コーニング アジア株式会社 | シリコーンレジン、これを含む組成物およびその硬化方法 |
| JPH08245792A (ja) * | 1995-03-10 | 1996-09-24 | Mitsubishi Electric Corp | シリコーンラダーポリマー、シリコーンラダープレポリマーおよびそれらの製造方法 |
| US5804607A (en) | 1996-03-21 | 1998-09-08 | International Business Machines Corporation | Process for making a foamed elastomeric polymer |
| US5726211A (en) | 1996-03-21 | 1998-03-10 | International Business Machines Corporation | Process for making a foamed elastometric polymer |
| US5854131A (en) | 1996-06-05 | 1998-12-29 | Advanced Micro Devices, Inc. | Integrated circuit having horizontally and vertically offset interconnect lines |
| US5773197A (en) | 1996-10-28 | 1998-06-30 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit device and process for its manufacture |
| US5895263A (en) | 1996-12-19 | 1999-04-20 | International Business Machines Corporation | Process for manufacture of integrated circuit device |
| US5883219A (en) | 1997-05-29 | 1999-03-16 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit device and process for its manufacture |
| US5962067A (en) * | 1997-09-09 | 1999-10-05 | Lucent Technologies Inc. | Method for coating an article with a ladder siloxane polymer and coated article |
-
1997
- 1997-09-09 US US08/926,210 patent/US5962067A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-09-01 EP EP20000126681 patent/EP1111019A3/en not_active Withdrawn
- 1998-09-01 EP EP19980306989 patent/EP0902067B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-01 EP EP20000126680 patent/EP1123955A3/en not_active Withdrawn
- 1998-09-01 DE DE1998601032 patent/DE69801032T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-09 JP JP25489298A patent/JP3481467B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-07-11 US US09/352,674 patent/US6251486B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005154715A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69801032T2 (de) | 2002-06-06 |
| EP0902067B1 (en) | 2001-07-04 |
| US5962067A (en) | 1999-10-05 |
| EP1123955A2 (en) | 2001-08-16 |
| EP1123955A3 (en) | 2001-09-26 |
| EP0902067A1 (en) | 1999-03-17 |
| JP3481467B2 (ja) | 2003-12-22 |
| EP1111019A2 (en) | 2001-06-27 |
| US6251486B1 (en) | 2001-06-26 |
| DE69801032D1 (de) | 2001-08-09 |
| EP1111019A3 (en) | 2001-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11189437A (ja) | ラダー・シロキサンポリマによる製品の被覆方法及び被覆された製品 | |
| JP3198926B2 (ja) | 硬化性シリコーン剥離剤組成物及び剥離紙 | |
| CN109880523B (zh) | 一种耐高温低转移有机硅离型剂及其制备方法 | |
| CN105384915B (zh) | 聚亚芳基材料 | |
| JPS5949949B2 (ja) | マグネツトワイヤ−オヒフクスルタメノ スイセイエナメル | |
| JPH10152561A (ja) | ポリボロシロキサンの製造方法、ポリボロシロキサン塗膜及び該塗膜を有する無機絶縁電線 | |
| JP3538328B2 (ja) | 粘着剤組成物およびその製造方法 | |
| JP2001266647A (ja) | 絶縁被覆物及びそれを得るための絶縁塗料 | |
| JP5429968B2 (ja) | ポリオルガノシロキサン組成物およびその硬化体 | |
| US20040198882A1 (en) | Silica-containing coating composition for forming films and method for forming silica-containing films | |
| JPH03115463A (ja) | 剥離紙用シリコーン組成物 | |
| KR20020011575A (ko) | 금속 알콕사이드 실란을 함유하는 열경화성 하드 코팅조성물 | |
| JP2000098899A (ja) | 粘着ラベル | |
| JPS63117074A (ja) | コ−テイング用組成物およびその製造方法 | |
| JPS6338381B2 (ja) | ||
| JP3954450B2 (ja) | 表面被覆された銀およびその製造方法 | |
| JPH07334088A (ja) | ラベルとその焼き付け方法 | |
| KR102387259B1 (ko) | 친수성 유기관능기를 가지는 알콕시 실란화합물 및 이를 이용한 친수성 표면 형성이 가능한 폴리디메틸실록산 유도체 화합물 | |
| JPH04144943A (ja) | 光伝送用ポリマークラッドファイバ | |
| JP4834925B2 (ja) | 電気絶縁用樹脂組成物およびエナメル線 | |
| JP3073893B2 (ja) | 剥離性シリコ−ン組成物 | |
| JPH03126733A (ja) | 無機フィルム | |
| TW202115208A (zh) | 聚醯亞胺膜、聚醯胺酸及含有其的清漆、以及聚醯亞胺積層體及其製造方法 | |
| KR840001870B1 (ko) | 연필의 도장방법 | |
| JPH0680911A (ja) | 電線用絶縁塗料及びこれを用いて形成された絶縁電線 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081010 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091010 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101010 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101010 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121010 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131010 Year of fee payment: 10 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |