JPH09173946A - スピンコーティング装置 - Google Patents
スピンコーティング装置Info
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- JPH09173946A JPH09173946A JP7350109A JP35010995A JPH09173946A JP H09173946 A JPH09173946 A JP H09173946A JP 7350109 A JP7350109 A JP 7350109A JP 35010995 A JP35010995 A JP 35010995A JP H09173946 A JPH09173946 A JP H09173946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- spin coating
- coating material
- gear
- rotary table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトレジスト等の塗布剤を基板の全面に渡
って膜厚を均一にすること。 【解決手段】 スピンドルモータと、スピンドルモータ
の回転シャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テ
ーブル上に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せ
しめる塗布剤供給手段とを有するスピンコーティング装
置であって、基板は、その回転中心軸が重力方向に対し
て所定角度傾斜した状態に保たれて回転せしめられるよ
うにしたスピンコーティング装置。
って膜厚を均一にすること。 【解決手段】 スピンドルモータと、スピンドルモータ
の回転シャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テ
ーブル上に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せ
しめる塗布剤供給手段とを有するスピンコーティング装
置であって、基板は、その回転中心軸が重力方向に対し
て所定角度傾斜した状態に保たれて回転せしめられるよ
うにしたスピンコーティング装置。
Description
【０００１】
【０００１】
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上にフォトレジス
ト等の塗布剤をコーティングするのに用いられるスピン
コーティング装置に関する。
ト等の塗布剤をコーティングするのに用いられるスピン
コーティング装置に関する。
【０００３】
【０００２】
【０００４】
【従来の技術】レーザディスク、コンパクトディスク等
の光ディスクは、図５に示すように鏡面処理されたガラ
ス基板１上にフォトレジスト２を塗布した後、情報信号
に応じて強度変調されたレーザ光をフォトレジスト２面
上に当てて露光し、現像することによって情報信号に応
じたピットを形成し、このピット上をＮｉ等の導電膜３
により覆うことにより、マスターディスクを作成してい
る。
の光ディスクは、図５に示すように鏡面処理されたガラ
ス基板１上にフォトレジスト２を塗布した後、情報信号
に応じて強度変調されたレーザ光をフォトレジスト２面
上に当てて露光し、現像することによって情報信号に応
じたピットを形成し、このピット上をＮｉ等の導電膜３
により覆うことにより、マスターディスクを作成してい
る。
【０００５】このフォトレジスト２層は、約０．１〜
０．２μの厚さにスピンコートされるので、フォトレジ
スト２層の厚さがそのままピットの深さとなり、その深
さが信号の再生に大きな影響を与えるため、記録全面に
渡ってフォトレジスト２の厚さが均一であることが要求
される。
０．２μの厚さにスピンコートされるので、フォトレジ
スト２層の厚さがそのままピットの深さとなり、その深
さが信号の再生に大きな影響を与えるため、記録全面に
渡ってフォトレジスト２の厚さが均一であることが要求
される。
【０００６】
【０００３】図６（ａ）はフォトレジストをガラス基板
に塗布するのに用いられる従来のスピンコーティング装
置を示している。このスピンコーティング装置は、鏡面
処理されたガラス基板１を坦持してスピンドルモータ４
によって回転駆動される回転テーブル５を有している。
回転テーブル５の周辺には作業域を囲むようにスピナー
ボックス６が設けられており、このスピナーボックス６
の上方には案内管７が配設されている。案内管７は、図
示せぬ供給源から供給される液状のフォトレジスト剤を
ガラス基板１上のほぼ内周部にノズル８を介して滴下さ
れる。回転するガラス基板１面上に滴下された、フォト
レジスト剤は回転する時に生じる遠心力によって内周部
から外周部に向かって徐々に広がりガラス基板１面上の
全体を覆うことになる。そして、ガラス基板１に塗布さ
れたフォトレジスト剤は加熱乾燥され、これによりガラ
ス基板１にフォトレジスト層が形成された光ディスク用
原盤が得られる。
に塗布するのに用いられる従来のスピンコーティング装
置を示している。このスピンコーティング装置は、鏡面
処理されたガラス基板１を坦持してスピンドルモータ４
によって回転駆動される回転テーブル５を有している。
回転テーブル５の周辺には作業域を囲むようにスピナー
ボックス６が設けられており、このスピナーボックス６
の上方には案内管７が配設されている。案内管７は、図
示せぬ供給源から供給される液状のフォトレジスト剤を
ガラス基板１上のほぼ内周部にノズル８を介して滴下さ
れる。回転するガラス基板１面上に滴下された、フォト
レジスト剤は回転する時に生じる遠心力によって内周部
から外周部に向かって徐々に広がりガラス基板１面上の
全体を覆うことになる。そして、ガラス基板１に塗布さ
れたフォトレジスト剤は加熱乾燥され、これによりガラ
ス基板１にフォトレジスト層が形成された光ディスク用
原盤が得られる。
【０００７】
【０００４】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したス
ピンコーティング装置では、ガラス基板１の回転中心付
近で遠心力の作用が働かなくなるので、その部分のフォ
トレジスト剤の流動状態が不安定になり、図６（ｂ）又
は（ｃ）に示すように、内外周での膜厚差が大きくなっ
たり、中央部だけが盛上がった状態になり、ガラス基板
１の全面に渡って膜厚を均一にすることが困難であっ
た。
ピンコーティング装置では、ガラス基板１の回転中心付
近で遠心力の作用が働かなくなるので、その部分のフォ
トレジスト剤の流動状態が不安定になり、図６（ｂ）又
は（ｃ）に示すように、内外周での膜厚差が大きくなっ
たり、中央部だけが盛上がった状態になり、ガラス基板
１の全面に渡って膜厚を均一にすることが困難であっ
た。
【０００９】本発明は、上述の事情に鑑みてなされたも
のであり、塗布剤（フォトレジスト剤）の膜厚を全面に
渡って均一にすることができるスピンコーティング装置
を提供することを目的とする。
のであり、塗布剤（フォトレジスト剤）の膜厚を全面に
渡って均一にすることができるスピンコーティング装置
を提供することを目的とする。
【００１０】
【０００５】
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上述した課題を
解決するために、請求項１記載のスピンコーティング装
置は、スピンドルモータと、スピンドルモータの回転シ
ャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル上
に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる塗
布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であっ
て、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定角
度傾斜した状態に保たれて回転せしめられることを特徴
とする。
解決するために、請求項１記載のスピンコーティング装
置は、スピンドルモータと、スピンドルモータの回転シ
ャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル上
に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる塗
布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であっ
て、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定角
度傾斜した状態に保たれて回転せしめられることを特徴
とする。
【００１２】
【０００６】また、請求項２記載のスピンコーティング
装置は、請求項１のスピンコーティング装置において、
塗布剤は、基板の回転中心近傍に滴下されることを特徴
とする。
装置は、請求項１のスピンコーティング装置において、
塗布剤は、基板の回転中心近傍に滴下されることを特徴
とする。
【００１３】
【０００７】また、請求項３記載のスピンコーティング
装置は、請求項１又は２に記載のスピンコーティング装
置において、基板は、塗布剤が滴下される表面は中心穴
のない平面であり、真空吸着により回転テーブルに固定
されていることを特徴とする。
装置は、請求項１又は２に記載のスピンコーティング装
置において、基板は、塗布剤が滴下される表面は中心穴
のない平面であり、真空吸着により回転テーブルに固定
されていることを特徴とする。
【００１４】
【０００８】また、請求項４記載のスピンコーティング
装置は、請求項１乃至３のいずれかに記載のスピンコー
ティング装置において、基板の回転中心軸の重力方向に
対する傾斜角を調整する手段を有することを特徴とす
る。
装置は、請求項１乃至３のいずれかに記載のスピンコー
ティング装置において、基板の回転中心軸の重力方向に
対する傾斜角を調整する手段を有することを特徴とす
る。
【００１５】
【０００９】
【００１６】
【作用】スピンドルモータと、スピンドルモータの回転
シャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル
上に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる
塗布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であ
って、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定
角度傾斜した状態に保たれて回転せしめられるように構
成したので、基板の中心部に滴下された塗布剤は自重に
よって中心部から外周部に向かって拡散し、中心部に塗
布剤が溜まることがないので基板の全面に塗布すること
が可能なスピンコーティング装置が得られる。
シャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル
上に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる
塗布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であ
って、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定
角度傾斜した状態に保たれて回転せしめられるように構
成したので、基板の中心部に滴下された塗布剤は自重に
よって中心部から外周部に向かって拡散し、中心部に塗
布剤が溜まることがないので基板の全面に塗布すること
が可能なスピンコーティング装置が得られる。
【００１７】
【００１０】
【００１８】
【実施例】図１は、本発明の実施例におけるスピンコー
ティング装置の全体を示した構成図である。尚、従来例
と同一の部分には同一の符号を付してある。
ティング装置の全体を示した構成図である。尚、従来例
と同一の部分には同一の符号を付してある。
【００１９】図１において、スピンドルモータ４の回転
シャフトに取付けられた回転テーブル５及びスピンドル
モータ４の本体に取付けられたスピナーボックス６等か
ら構成されるスピンコーティング装置が操作盤９上に固
着されている。この操作盤９には、傾斜角を調整する手
段としての半円状の歯車盤１０が設けられ、この歯車盤
１０には小形の歯車１１が歯合されている。この歯車１
１は、図示せぬパルスモータで駆動され、歯車１１が回
転すると歯車盤１０は歯車１１の回転速度よりも減速さ
れ、少しづつ移動することになり、歯車盤１０に固着さ
れた操作盤９は固定軸１２を支点にして傾斜される。即
ち、操作盤９上に固着されたスピンコーティング装置は
操作盤９が傾くことによって、回転テーブル５自体を必
要とする傾斜角度に設定することができ、よって回転テ
ーブル上に坦持されたガラス基板１はその回転中心軸が
重力方向に対して所定角度θだけ傾斜した状態に保たれ
て回転せしめられることになる。
シャフトに取付けられた回転テーブル５及びスピンドル
モータ４の本体に取付けられたスピナーボックス６等か
ら構成されるスピンコーティング装置が操作盤９上に固
着されている。この操作盤９には、傾斜角を調整する手
段としての半円状の歯車盤１０が設けられ、この歯車盤
１０には小形の歯車１１が歯合されている。この歯車１
１は、図示せぬパルスモータで駆動され、歯車１１が回
転すると歯車盤１０は歯車１１の回転速度よりも減速さ
れ、少しづつ移動することになり、歯車盤１０に固着さ
れた操作盤９は固定軸１２を支点にして傾斜される。即
ち、操作盤９上に固着されたスピンコーティング装置は
操作盤９が傾くことによって、回転テーブル５自体を必
要とする傾斜角度に設定することができ、よって回転テ
ーブル上に坦持されたガラス基板１はその回転中心軸が
重力方向に対して所定角度θだけ傾斜した状態に保たれ
て回転せしめられることになる。
【００２０】
【００１１】このスピンコーティング装置は外側ボック
ス１３に収められ、更に外側ボックス１３の上部には塗
布剤供給手段としての図示せぬ塗布剤供給装置から案内
管７を通して供給され、案内管７の先端に設けられたノ
ズル８の先端から回転テーブル５の中央部に塗布剤が滴
下される。また、回転テーブル５には図示せぬ小さな穴
が数ヵ所設けられていて、図示せぬ真空吸着装置によっ
て、回転テーブル５上に坦持されたガラス基板１を吸引
し、坦持している。尚、ガラス基板は塗布剤が滴下され
る表面が中心穴のない平面となっている。
ス１３に収められ、更に外側ボックス１３の上部には塗
布剤供給手段としての図示せぬ塗布剤供給装置から案内
管７を通して供給され、案内管７の先端に設けられたノ
ズル８の先端から回転テーブル５の中央部に塗布剤が滴
下される。また、回転テーブル５には図示せぬ小さな穴
が数ヵ所設けられていて、図示せぬ真空吸着装置によっ
て、回転テーブル５上に坦持されたガラス基板１を吸引
し、坦持している。尚、ガラス基板は塗布剤が滴下され
る表面が中心穴のない平面となっている。
【００２１】
【００１２】上述のスピンコーティング装置を用いて、
ガラス基板の回転中心軸の重力方向に対する傾斜角度θ
を０°〜３５°の間で変化させて、直径２２０ｍｍのガ
ラス基板上にフォトレジストを滴下してフォトレジスト
層を形成し、その膜厚分布をエリプソメータにより測定
した。
ガラス基板の回転中心軸の重力方向に対する傾斜角度θ
を０°〜３５°の間で変化させて、直径２２０ｍｍのガ
ラス基板上にフォトレジストを滴下してフォトレジスト
層を形成し、その膜厚分布をエリプソメータにより測定
した。
【００２２】膜厚の測定点は図２（ａ）に示すようにガ
ラス基板の円周方向に沿った０°、９０°、１８０°、
２７０°の各角度に対し、夫々半径２０、３０、４０、
５０、６０ｍｍの計２０のポイントとした。図２（ｂ）
にその測定結果を示す。
ラス基板の円周方向に沿った０°、９０°、１８０°、
２７０°の各角度に対し、夫々半径２０、３０、４０、
５０、６０ｍｍの計２０のポイントとした。図２（ｂ）
にその測定結果を示す。
【００２３】
【００１３】図２（ｂ）の測定結果から、装置の傾き
（傾斜角度θ）と半径方向の膜厚バラツキ変化（即ち、
円周方向の各角度０°、９０°、１８０°、２７０°で
の半径２０〜６０ｍｍの膜厚の最大値と最小値との差
（膜厚ＭＡＸ−ＭＩＮ））との関係をグラフ化したもの
を図３に示す。図３から明らかなように装置の傾き（傾
斜角度θ）を大きくしていくと半径方向の膜厚バラツキ
変化が減少していく。
（傾斜角度θ）と半径方向の膜厚バラツキ変化（即ち、
円周方向の各角度０°、９０°、１８０°、２７０°で
の半径２０〜６０ｍｍの膜厚の最大値と最小値との差
（膜厚ＭＡＸ−ＭＩＮ））との関係をグラフ化したもの
を図３に示す。図３から明らかなように装置の傾き（傾
斜角度θ）を大きくしていくと半径方向の膜厚バラツキ
変化が減少していく。
【００２４】
【００１４】また、図２（ｂ）の測定結果から装置の傾
き（傾斜角度θ）と円周方向の膜厚バラツキ変化（即
ち、各半径２０、３０、４０、５０、６０ｍｍでの円周
方向の角度０°、９０°、１８０°、２７０°のポイン
トの膜厚の最大値と最小値の差（膜厚ＭＡＸ−ＭＩ
Ｎ））との関係をグラフ化したものを図４に示す。
き（傾斜角度θ）と円周方向の膜厚バラツキ変化（即
ち、各半径２０、３０、４０、５０、６０ｍｍでの円周
方向の角度０°、９０°、１８０°、２７０°のポイン
トの膜厚の最大値と最小値の差（膜厚ＭＡＸ−ＭＩ
Ｎ））との関係をグラフ化したものを図４に示す。
【００２５】図４から明らかなように装置の傾きを大き
くしていくと円周方向の膜厚バラツキ変化が３０°まで
は増加傾向にあるが、３０°より大きくなると減少傾向
になる。
くしていくと円周方向の膜厚バラツキ変化が３０°まで
は増加傾向にあるが、３０°より大きくなると減少傾向
になる。
【００２６】
【００１５】以上のことから、基板の回転中心軸を重力
方向に対して塗布剤を滴下することにより半径方向の膜
厚バラツキ変化を減少させることができる。これは、ス
ピンコートする際、遠心力が作用しない基板中心部の塗
布剤が自重により必ず外周に向かって流れていくことに
起因するものと考えられる。即ち、本発明によれば、塗
布剤が、ある場合には滞留し、ある場合には流れるとい
った不安定な状態となる領域がなくなり、それによって
塗布剤の膜厚のバラツキを減少させることが可能とな
る。
方向に対して塗布剤を滴下することにより半径方向の膜
厚バラツキ変化を減少させることができる。これは、ス
ピンコートする際、遠心力が作用しない基板中心部の塗
布剤が自重により必ず外周に向かって流れていくことに
起因するものと考えられる。即ち、本発明によれば、塗
布剤が、ある場合には滞留し、ある場合には流れるとい
った不安定な状態となる領域がなくなり、それによって
塗布剤の膜厚のバラツキを減少させることが可能とな
る。
【００２７】
【００１６】尚、スピンコーティング装置の傾斜角度
は、塗布剤の粘度、回転テーブル４の回転速度等に応じ
て適宜設定すれば良い。
は、塗布剤の粘度、回転テーブル４の回転速度等に応じ
て適宜設定すれば良い。
【００２８】また、本発明の実施例において、ガラス基
板にフォトレジスト剤を塗布する方法として説明したが
フォトレジスト剤の塗布に限定されるものではない。
板にフォトレジスト剤を塗布する方法として説明したが
フォトレジスト剤の塗布に限定されるものではない。
【００２９】
【００１７】
【００３０】
【発明の効果】上述したように、基板上に塗布剤をスピ
ンコーティング装置を用いてコーティングする場合、基
板の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜した状
態に保たれて回転せしめることによって基板の中央部に
滴下された塗布剤（フォトレジスト剤）は自重で外周部
の方向に流出されるので、塗布剤の膜厚を全面に渡って
均一にすることができる。
ンコーティング装置を用いてコーティングする場合、基
板の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜した状
態に保たれて回転せしめることによって基板の中央部に
滴下された塗布剤（フォトレジスト剤）は自重で外周部
の方向に流出されるので、塗布剤の膜厚を全面に渡って
均一にすることができる。
【図１】本発明の実施例によるスピンコーティング装置
の全体を示した構成図。
の全体を示した構成図。
【図２】角傾斜角に対し、所定の半径及び円周方向の位
置の膜厚を測定した結果を示す図。
置の膜厚を測定した結果を示す図。
【図３】ガラス基板の傾斜角度と半径方向の塗布剤の膜
厚のバラツキ変化の関係を示す図。
厚のバラツキ変化の関係を示す図。
【図４】ガラス基板の傾斜角度と円周方向の塗布剤のバ
ラツキ変化の関係を示す図。
ラツキ変化の関係を示す図。
【図５】光ディスク用原盤の製造工程を示す図。
【図６】従来例におけるスピンコーティング装置の構造
図。
図。
１・・・ガラス基板 ２・・・フォトレジスト ３・・・導電膜 ４・・・スピンドルモータ ５・・・回転テーブル ６・・・スピナーボックス ７・・・案内管 ８・・・ノズル ９・・・操作盤 １０・・歯車盤 １１・・歯車 １２・・固定軸 １３・・外側ボックス
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年１２月１６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上にフォトレジス
ト等の塗布剤をコーティングするのに用いられるスピン
コーティング装置に関する。
ト等の塗布剤をコーティングするのに用いられるスピン
コーティング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザディスク、コンパクトディスク等
の光ディスクは、図５に示すように鏡面処理されたガラ
ス基板１上にフォトレジスト２を塗布した後、情報信号
に応じて強度変調されたレーザ光をフォトレジスト２面
上に当てて露光し、現像することによって情報信号に応
じたピットを形成し、このピット上をＮｉ等の導電膜３
により覆うことにより、マスターディスクを作成してい
る。このフォトレジスト２層は、約０．１〜０．２μの
厚さにスピンコートされるので、フォトレジスト２層の
厚さがそのままピットの深さとなり、その深さが信号の
再生に大きな影響を与えるため、記録全面に渡ってフォ
トレジスト２の厚さが均一であることが要求される。
の光ディスクは、図５に示すように鏡面処理されたガラ
ス基板１上にフォトレジスト２を塗布した後、情報信号
に応じて強度変調されたレーザ光をフォトレジスト２面
上に当てて露光し、現像することによって情報信号に応
じたピットを形成し、このピット上をＮｉ等の導電膜３
により覆うことにより、マスターディスクを作成してい
る。このフォトレジスト２層は、約０．１〜０．２μの
厚さにスピンコートされるので、フォトレジスト２層の
厚さがそのままピットの深さとなり、その深さが信号の
再生に大きな影響を与えるため、記録全面に渡ってフォ
トレジスト２の厚さが均一であることが要求される。
【０００３】図６（ａ）はフォトレジストをガラス基板
に塗布するのに用いられる従来のスピンコーティング装
置を示している。このスピンコーティング装置は、鏡面
処理されたガラス基板１を坦持してスピンドルモータ４
によって回転駆動される回転テーブル５を有している。
回転テーブル５の周辺には作業域を囲むようにスピナー
ボックス６が設けられており、このスピナーボックス６
の上方には案内管７が配設されている。案内管７は、図
示せぬ供給源から供給される液状のフォトレジスト剤を
ガラス基板１上のほぼ内周部にノズル８を介して滴下さ
れる。回転するガラス基板１面上に滴下された、フォト
レジスト剤は回転する時に生じる遠心力によって内周部
から外周部に向かって徐々に広がりガラス基板１面上の
全体を覆うことになる。そして、ガラス基板１に塗布さ
れたフォトレジスト剤は加熱乾燥され、これによりガラ
ス基板１にフォトレジスト層が形成された光ディスク用
原盤が得られる。
に塗布するのに用いられる従来のスピンコーティング装
置を示している。このスピンコーティング装置は、鏡面
処理されたガラス基板１を坦持してスピンドルモータ４
によって回転駆動される回転テーブル５を有している。
回転テーブル５の周辺には作業域を囲むようにスピナー
ボックス６が設けられており、このスピナーボックス６
の上方には案内管７が配設されている。案内管７は、図
示せぬ供給源から供給される液状のフォトレジスト剤を
ガラス基板１上のほぼ内周部にノズル８を介して滴下さ
れる。回転するガラス基板１面上に滴下された、フォト
レジスト剤は回転する時に生じる遠心力によって内周部
から外周部に向かって徐々に広がりガラス基板１面上の
全体を覆うことになる。そして、ガラス基板１に塗布さ
れたフォトレジスト剤は加熱乾燥され、これによりガラ
ス基板１にフォトレジスト層が形成された光ディスク用
原盤が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したス
ピンコーティング装置では、ガラス基板１の回転中心付
近で遠心力の作用が働かなくなるので、その部分のフォ
トレジスト剤の流動状態が不安定になり、図６（ｂ）又
は（ｃ）に示すように、内外周での膜厚差が大きくなっ
たり、中央部だけが盛上がった状態になり、ガラス基板
１の全面に渡って膜厚を均一にすることが困難であっ
た。本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであ
り、塗布剤（フォトレジスト剤）の膜厚を全面に渡って
均一にすることができるスピンコーティング装置を提供
することを目的とする。
ピンコーティング装置では、ガラス基板１の回転中心付
近で遠心力の作用が働かなくなるので、その部分のフォ
トレジスト剤の流動状態が不安定になり、図６（ｂ）又
は（ｃ）に示すように、内外周での膜厚差が大きくなっ
たり、中央部だけが盛上がった状態になり、ガラス基板
１の全面に渡って膜厚を均一にすることが困難であっ
た。本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであ
り、塗布剤（フォトレジスト剤）の膜厚を全面に渡って
均一にすることができるスピンコーティング装置を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上述した課題を
解決するために、請求項１記載のスピンコーティング装
置は、スピンドルモータと、スピンドルモータの回転シ
ャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル上
に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる塗
布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であっ
て、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定角
度傾斜した状態に保たれて回転せしめられることを特徴
とする。
解決するために、請求項１記載のスピンコーティング装
置は、スピンドルモータと、スピンドルモータの回転シ
ャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル上
に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる塗
布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であっ
て、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定角
度傾斜した状態に保たれて回転せしめられることを特徴
とする。
【０００６】また、請求項２記載のスピンコーティング
装置は、請求項１のスピンコーティング装置において、
塗布剤は、基板の回転中心近傍に滴下されることを特徴
とする。
装置は、請求項１のスピンコーティング装置において、
塗布剤は、基板の回転中心近傍に滴下されることを特徴
とする。
【０００７】また、請求項３記載のスピンコーティング
装置は、請求項１又は２に記載のスピンコーティング装
置において、基板は、塗布剤が滴下される表面は中心穴
のない平面であり、真空吸着により回転テーブルに固定
されていることを特徴とする。
装置は、請求項１又は２に記載のスピンコーティング装
置において、基板は、塗布剤が滴下される表面は中心穴
のない平面であり、真空吸着により回転テーブルに固定
されていることを特徴とする。
【０００８】また、請求項４記載のスピンコーティング
装置は、請求項１乃至３のいずれかに記載のスピンコー
ティング装置において、基板の回転中心軸の重力方向に
対する傾斜角を調整する手段を有することを特徴とす
る。
装置は、請求項１乃至３のいずれかに記載のスピンコー
ティング装置において、基板の回転中心軸の重力方向に
対する傾斜角を調整する手段を有することを特徴とす
る。
【０００９】
【作用】スピンドルモータと、スピンドルモータの回転
シャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル
上に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる
塗布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であ
って、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定
角度傾斜した状態に保たれて回転せしめられるように構
成したので、基板の中心部に滴下された塗布剤は自重に
よって中心部から外周部に向かって拡散し、中心部に塗
布剤が溜まることがないので基板の全面に塗布すること
が可能なスピンコーティング装置が得られる。
シャフトに取付けられた回転テーブルと、回転テーブル
上に坦持された基板と、基板上に塗布剤を滴下せしめる
塗布剤供給手段とを有するスピンコーティング装置であ
って、基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定
角度傾斜した状態に保たれて回転せしめられるように構
成したので、基板の中心部に滴下された塗布剤は自重に
よって中心部から外周部に向かって拡散し、中心部に塗
布剤が溜まることがないので基板の全面に塗布すること
が可能なスピンコーティング装置が得られる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の実施例におけるスピンコー
ティング装置の全体を示した構成図である。尚、従来例
と同一の部分には同一の符号を付してある。図１におい
て、スピンドルモータ４の回転シャフトに取付けられた
回転テーブル５及びスピンドルモータ４の本体に取付け
られたスピナーボックス６等から構成されるスピンコー
ティング装置が操作盤９上に固着されている。この操作
盤９には、傾斜角を調整する手段としての半円状の歯車
盤１０が設けられ、この歯車盤１０には小形の歯車１１
が歯合されている。この歯車１１は、図示せぬパルスモ
ータで駆動され、歯車１１が回転すると歯車盤１０は歯
車１１の回転速度よりも減速され、少しづつ移動するこ
とになり、歯車盤１０に固着された操作盤９は固定軸１
２を支点にして傾斜される。即ち、操作盤９上に固着さ
れたスピンコーティング装置は操作盤９が傾くことによ
って、回転テーブル５自体を必要とする傾斜角度に設定
することができ、よって回転テーブル上に坦持されたガ
ラス基板１はその回転中心軸が重力方向に対して所定角
度θだけ傾斜した状態に保たれて回転せしめられること
になる。
ティング装置の全体を示した構成図である。尚、従来例
と同一の部分には同一の符号を付してある。図１におい
て、スピンドルモータ４の回転シャフトに取付けられた
回転テーブル５及びスピンドルモータ４の本体に取付け
られたスピナーボックス６等から構成されるスピンコー
ティング装置が操作盤９上に固着されている。この操作
盤９には、傾斜角を調整する手段としての半円状の歯車
盤１０が設けられ、この歯車盤１０には小形の歯車１１
が歯合されている。この歯車１１は、図示せぬパルスモ
ータで駆動され、歯車１１が回転すると歯車盤１０は歯
車１１の回転速度よりも減速され、少しづつ移動するこ
とになり、歯車盤１０に固着された操作盤９は固定軸１
２を支点にして傾斜される。即ち、操作盤９上に固着さ
れたスピンコーティング装置は操作盤９が傾くことによ
って、回転テーブル５自体を必要とする傾斜角度に設定
することができ、よって回転テーブル上に坦持されたガ
ラス基板１はその回転中心軸が重力方向に対して所定角
度θだけ傾斜した状態に保たれて回転せしめられること
になる。
【００１１】このスピンコーティング装置は外側ボック
ス１３に収められ、更に外側ボックス１３の上部には塗
布剤供給手段としての図示せぬ塗布剤供給装置から案内
管７を通して供給され、案内管７の先端に設けられたノ
ズル８の先端から回転テーブル５の中央部に塗布剤が滴
下される。また、回転テーブル５には図示せぬ小さな穴
が数ヵ所設けられていて、図示せぬ真空吸着装置によっ
て、回転テーブル５上に坦持されたガラス基板１を吸引
し、坦持している。尚、ガラス基板は塗布剤が滴下され
る表面が中心穴のない平面となっている。
ス１３に収められ、更に外側ボックス１３の上部には塗
布剤供給手段としての図示せぬ塗布剤供給装置から案内
管７を通して供給され、案内管７の先端に設けられたノ
ズル８の先端から回転テーブル５の中央部に塗布剤が滴
下される。また、回転テーブル５には図示せぬ小さな穴
が数ヵ所設けられていて、図示せぬ真空吸着装置によっ
て、回転テーブル５上に坦持されたガラス基板１を吸引
し、坦持している。尚、ガラス基板は塗布剤が滴下され
る表面が中心穴のない平面となっている。
【００１２】上述のスピンコーティング装置を用いて、
ガラス基板の回転中心軸の重力方向に対する傾斜角度θ
を０゜〜３５゜の間で変化させて、直径２２０ｍｍのガ
ラス基板上にフォトレジストを滴下してフォトレジスト
層を形成し、その膜厚分布をエリプソメータにより測定
した。膜厚の測定点は図２（ａ）に示すようにガラス基
板の円周方向に沿った０゜、９０゜、１８０゜、２７０
゜の各角度に対し、夫々半径２０、３０、４０、５０、
６０ｍｍの計２０のポイントとした。図２（ｂ）にその
測定結果を示す。
ガラス基板の回転中心軸の重力方向に対する傾斜角度θ
を０゜〜３５゜の間で変化させて、直径２２０ｍｍのガ
ラス基板上にフォトレジストを滴下してフォトレジスト
層を形成し、その膜厚分布をエリプソメータにより測定
した。膜厚の測定点は図２（ａ）に示すようにガラス基
板の円周方向に沿った０゜、９０゜、１８０゜、２７０
゜の各角度に対し、夫々半径２０、３０、４０、５０、
６０ｍｍの計２０のポイントとした。図２（ｂ）にその
測定結果を示す。
【００１３】図２（ｂ）の測定結果から、装置の傾き
（傾斜角度θ）と半径方向の膜厚バラツキ変化（即ち、
円周方向の各角度０゜、９０゜、１８０゜、２７０゜で
の半径２０〜６０ｍｍの膜厚の最大値と最小値との差
（膜厚ＭＡＸ−ＭＩＮ））との関係をグラフ化したもの
を図３に示す。図３から明らかなように装置の傾き（傾
斜角度θ）を大きくしていくと半径方向の膜厚バラツキ
変化が減少していく。
（傾斜角度θ）と半径方向の膜厚バラツキ変化（即ち、
円周方向の各角度０゜、９０゜、１８０゜、２７０゜で
の半径２０〜６０ｍｍの膜厚の最大値と最小値との差
（膜厚ＭＡＸ−ＭＩＮ））との関係をグラフ化したもの
を図３に示す。図３から明らかなように装置の傾き（傾
斜角度θ）を大きくしていくと半径方向の膜厚バラツキ
変化が減少していく。
【００１４】また、図２（ｂ）の測定結果から装置の傾
き（傾斜角度θ）と円周方向の膜厚バラツキ変化（即
ち、各半径２０、３０、４０、５０、６０ｍｍでの円周
方向の角度０゜、９０゜、１８０゜、２７０゜のポイン
トの膜厚の最大値と最小値の差（膜厚ＭＡＸ−ＭＩ
Ｎ））との関係をグラフ化したものを図４に示す。図４
から明らかなように装置の傾きを大きくしていくと円周
方向の膜厚バラツキ変化が３０゜までは増加傾向にある
が、３０゜より大きくなると減少傾向になる。
き（傾斜角度θ）と円周方向の膜厚バラツキ変化（即
ち、各半径２０、３０、４０、５０、６０ｍｍでの円周
方向の角度０゜、９０゜、１８０゜、２７０゜のポイン
トの膜厚の最大値と最小値の差（膜厚ＭＡＸ−ＭＩ
Ｎ））との関係をグラフ化したものを図４に示す。図４
から明らかなように装置の傾きを大きくしていくと円周
方向の膜厚バラツキ変化が３０゜までは増加傾向にある
が、３０゜より大きくなると減少傾向になる。
【００１５】以上のことから、基板の回転中心軸を重力
方向に対して塗布剤を滴下することにより半径方向の膜
厚バラツキ変化を減少させることができる。これは、ス
ピンコートする際、遠心力が作用しない基板中心部の塗
布剤が自重により必ず外周に向かって流れていくことに
起因するものと考えられる。即ち、本発明によれば、塗
布剤が、ある場合には滞留し、ある場合には流れるとい
った不安定な状態となる領域がなくなり、それによって
塗布剤の膜厚のバラツキを減少させることが可能とな
る。
方向に対して塗布剤を滴下することにより半径方向の膜
厚バラツキ変化を減少させることができる。これは、ス
ピンコートする際、遠心力が作用しない基板中心部の塗
布剤が自重により必ず外周に向かって流れていくことに
起因するものと考えられる。即ち、本発明によれば、塗
布剤が、ある場合には滞留し、ある場合には流れるとい
った不安定な状態となる領域がなくなり、それによって
塗布剤の膜厚のバラツキを減少させることが可能とな
る。
【００１６】尚、スピンコーティング装置の傾斜角度
は、塗布剤の粘度、回転テーブル４の回転速度等に応じ
て適宜設定すれば良い。また、本発明の実施例におい
て、ガラス基板にフォトレジスト剤を塗布する方法とし
て説明したがフォトレジスト剤の塗布に限定されるもの
ではない。
は、塗布剤の粘度、回転テーブル４の回転速度等に応じ
て適宜設定すれば良い。また、本発明の実施例におい
て、ガラス基板にフォトレジスト剤を塗布する方法とし
て説明したがフォトレジスト剤の塗布に限定されるもの
ではない。
【００１７】
【発明の効果】上述したように、基板上に塗布剤をスピ
ンコーティング装置を用いてコーティングする場合、基
板の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜した状
態に保たれて回転せしめることによって基板の中央部に
滴下された塗布剤（フォトレジスト剤）は自重で外周部
の方向に流出されるので、塗布剤の膜厚を全面に渡って
均一にすることができる。
ンコーティング装置を用いてコーティングする場合、基
板の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜した状
態に保たれて回転せしめることによって基板の中央部に
滴下された塗布剤（フォトレジスト剤）は自重で外周部
の方向に流出されるので、塗布剤の膜厚を全面に渡って
均一にすることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小坂 浩之 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 橘田 五六 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 栗山 和己 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 スピンドルモータと、 前記スピンドルモータの回転シャフトに取付けられた回
転テーブルと、 前記回転テーブル上に坦持された基板と、 前記基板上に塗布剤を滴下せしめる塗布剤供給手段とを
有するスピンコーティング装置であって、 前記基板は、その回転中心軸が重力方向に対して所定角
度傾斜した状態に保たれて回転せしめられることを特徴
とするスピンコーティング装置。 - 【請求項２】 前記塗布剤は、前記基板の回転中心近傍
に滴下されることを特徴とする請求項１記載のスピンコ
ーティング装置。 - 【請求項３】 前記基板は、前記塗布剤が滴下される表
面は中心穴のない平面であり、 真空吸着により前記回転テーブルに固定されていること
を特徴とする請求項１又は２に記載のスピンコーティン
グ装置。 - 【請求項４】 前記基板の回転中心軸の重力方向に対す
る傾斜角を調整する手段を有することを特徴とする請求
項１乃至３のいずれかに記載のスピンコーティング装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7350109A JPH09173946A (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | スピンコーティング装置 |
| US08/766,591 US5766354A (en) | 1995-12-22 | 1996-12-12 | Spin-coating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7350109A JPH09173946A (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | スピンコーティング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09173946A true JPH09173946A (ja) | 1997-07-08 |
Family
ID=18408299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7350109A Pending JPH09173946A (ja) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | スピンコーティング装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5766354A (ja) |
| JP (1) | JPH09173946A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104998783A (zh) * | 2014-04-21 | 2015-10-28 | 中集集团集装箱控股有限公司 | 集装箱水平涂装装置及方法 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3336898B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2002-10-21 | 三菱電機株式会社 | シリコンウエハ表面の不純物回収方法およびその装置 |
| US6352747B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-03-05 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Spin and spray coating process for curved surfaces |
| US20040202793A1 (en) * | 2003-04-08 | 2004-10-14 | Harper Bruce M. | Dip-spin coater |
| CN101615576B (zh) * | 2004-07-19 | 2012-07-04 | 三星电子株式会社 | 基板处理设备及使用其的基板处理方法 |
| JP4464763B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2010-05-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像装置及び現像方法 |
| JP2006095452A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | スピンコート製膜法 |
| DE102006007446B3 (de) * | 2006-02-17 | 2007-08-02 | Stangl Semiconductor Equipment Ag | Vorrichtung und Verfahren zum gleichmäßigen Beschichten von Substraten |
| KR20080009579A (ko) * | 2006-07-24 | 2008-01-29 | 삼성전자주식회사 | 식각 장치 및 방법 |
| US7856939B2 (en) * | 2006-08-28 | 2010-12-28 | Transitions Optical, Inc. | Recirculation spin coater with optical controls |
| JP4725589B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2011-07-13 | ソニー株式会社 | 複合微粒子の製造装置及び製造方法 |
| WO2012056473A1 (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | Envision Scientific Private Limited | Method and system for coating substrates |
| US10442053B2 (en) * | 2012-02-27 | 2019-10-15 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Method for handling a lens |
| EP2682194A1 (de) * | 2012-07-05 | 2014-01-08 | Singulus Stangl Solar GmbH | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln einer Oberfläche eines Substrats mit einer Flüssigkeit |
| EP2891906A4 (en) * | 2012-08-31 | 2016-05-11 | Hoya Corp | METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL LENS |
| EP2891905A4 (en) * | 2012-08-31 | 2016-05-25 | Hoya Corp | METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL LENS |
| CN103324038A (zh) * | 2013-06-25 | 2013-09-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显影装置及显影方法 |
| JP6426724B2 (ja) | 2013-10-11 | 2018-11-21 | トランジションズ オプティカル， インコーポレイテッド | アロファネート保護コーティングを有するフォトクロミック光学物品およびその製造のためのプロセス |
| KR20210001493A (ko) * | 2019-06-28 | 2021-01-06 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치의 제조 설비 |
| US11742231B2 (en) * | 2019-10-18 | 2023-08-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Movable wafer holder for film deposition chamber having six degrees of freedom |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6354725A (ja) * | 1986-08-25 | 1988-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | スピンコ−テイング方法及びその装置 |
| JPH0666255B2 (ja) * | 1989-05-02 | 1994-08-24 | 三菱電機株式会社 | スピン塗布装置及び方法 |
-
1995
- 1995-12-22 JP JP7350109A patent/JPH09173946A/ja active Pending
-
1996
- 1996-12-12 US US08/766,591 patent/US5766354A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104998783A (zh) * | 2014-04-21 | 2015-10-28 | 中集集团集装箱控股有限公司 | 集装箱水平涂装装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5766354A (en) | 1998-06-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040511 |