JPH01159080A

JPH01159080A - 回転塗布装置

Info

Publication number: JPH01159080A
Application number: JP31739687A
Authority: JP
Inventors: Norio Moriyama; 森山　徳生
Original assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Current assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date: 1987-12-17
Filing date: 1987-12-17
Publication date: 1989-06-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、半導体基板上に液状塗布膜を形成するための
回転塗布装置に係り、特に、半導体装置製造工程の一つ
であるホトリソ工程において、感光性樹脂（ホトレジス
ト）を塗布する回転塗布装置に関するものである。

（従来の技術）従来、このような分野の技術としては、例えば、以下に
示されるものがあった。

第３図はかかる従来のホトレジスト塗布装置の斜視図、
第４図はそのホトレジスト塗布装置の素材基板の斜視図
、第５図は第４図のＡ部断面図、第６図は第４図のＢ部
断面図である。

これらの図に示すように、ホトレジスト膜を形成する素
材基板（以下、単に基板という）３は塗布器の回転ステ
ージ２上に真空吸着などの方法で！！載置固定れ、滴下
ノズル１より少量のホトレジストが基板３上に滴下供給
される。その後、回転ステージ２に結合した軸５を介し
て、モータ６を高速回転（数千ｒｐｍ程度）させること
によって、基板３上のホトレジストを遠心力により均一
に塗布する。なお、４はケースである。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、以上述べた従来の方法によると、例えば
、第４図に示すように、基板３の半径方向に直交する方
向にパターン７が形成され、その上にホトレジストが塗
布され、回転ステージ２が高速で回転する場合、ホトレ
ジスト膜に作用する遠心力によりホトレジストの塗布状
態が基板３上の位置によって変化するため、その後のホ
トレジストパターンニングに際し、パターン寸法精度及
びパターン位置精度が劣化する問題があった０例えば、
第５図及び第６図に示すように、パターン７の回転ステ
ージ２の中心側の付近、つまり、ｅ箇所及びｆ箇所に塗
布されるホトレジスト膜８の膜厚が他の箇所に比べて薄
くなる。

本発明は、以上述べたパターンが形成された基板上に液
状塗布膜を塗布する際に、塗布状態が基板上の位置によ
って変化するという問題点を除去し、均一な液状塗布膜
を形成することができる回転塗布装置を提供することを
目的とする。

（問題点を解決するための手段）本発明は、上記問題点を解決するために、基板上へ液状
塗布膜を形成する回転塗布装置において、基板を載置固
定した回転ステージを高速で回転させる際、該回転ステ
ージの回転軸を連続的に基板の直径方向へ変化させる手
段を設けるようにしたものである。

（作用）従来の場合、基板が固定されている回転ステージの回転
軸は固定された状態で、しかも１箇所であるため、その
軸の放射方向に垂直なパターンが存在した場合、その上
に塗布されるホトレジストが遠心力により基板の周辺部
に流れようとするがその流れを遮ることになり、パター
ン上のホトレジスト膜の塗布状態が軸方向と放射方向で
変化してしまう。

そこで、本発明によれば、回転塗布装置の回転ステージ
を回転させる際、回転軸を１箇所に固定させた状態で回
転させるのでなく、回転軸を連続的に基板の直径方向に
移動させて変化させるようにしたので、基板上に塗布さ
れた液状塗布膜、例えば、ホトレジスト膜へ作用する遠
心力が他方向へ向く結果、第８図及び第９図に示すよう
に、パターン７が形成された基板３であっても基板３上
の位置による影響を受けずに、均一な液状塗布膜例えば
、ホトレジスト膜８′の塗布を行うことができる。

（実施例）以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。

第１図は本発明の実施例を示す回転塗布装置の側面図、
第２図はその回転塗布装置の裏面斜視図である。

ホトレジスト膜が形成される基板３は■重器の回転ステ
ージ１０上に真空吸着などの方法で固定され、滴下ノズ
ル１より少量のホトレジストが基板３上に滴下供給され
る。その後、回転ステージ１０を回転させることになる
が、回転力はモータ２１よりモータ軸２０に結合された
歯車１９を経て歯車１８へ伝達され、歯車１８に結合さ
れた軸１７を介して回転ステージ１０を支持するアーム
１６へ伝達される。この時、別に用意したモータ１５を
一定回転ごとに回転方向を反転させ、その回転をモータ
軸１４に結合された歯車１３を経て、回転ステージｌＯ
に結合されたラック１２に伝達させる。

ここで、アーム１６が回転ステージ１０に結合されたス
ライドガイド１１によって案内され、モータ軸１４の軸
受けとなっているため、アーム１６がスライドガイドｌ
ｌ上を往復運動する。その結果、基板３上のホトレジス
トが遠心力によって均一に塗布される。但し、ここで２
０００〜５０００ｒｐｍモータ２１による回転速度がモ
ータ１５による１秒で１往復速度より、充分大きいこと
が重要である。

第７図は回転ステージに固定された基板の斜視図、第８
図は第７図のＣ部断面図、第９図は第７図のＤ部断面図
である。

これらの図に示すように、回転ステージを回転させる際
、回転軸の位置を連続的に変化させるようにしたので、
基板上に塗布されたホトレジスト膜へ作用する遠心力が
他方向へ向く結果、第７図に示すように、パターン７が
形成された基板３においても、第８図及び第９図に示す
ように、基板３上の位置による影響を受けずに、均一な
ホトレジスト膜８′の塗布状態を得ることができる。

なお、上記実施例においては、ホトレジストが塗布され
る例について述べたが、この他の液状塗布膜、例えば、
Ｓ　ＯＧ　（Ｓｉｌｉｃｏｎ　Ｏｎ　Ｇｌａｓｓ　）　
、ポリイミド樹脂等による中間絶縁膜やバンシヘーショ
ン膜等の形成を行う場合に、本発明が適用できることが
できることは言うまでもない。

また、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。

（発明の効果）以上、詳細に説明したように、本発明によれば、基板を
載置した回転ステージを回転させる際、回転軸の位置を
連続的に変化させるようにしたので、基板上に塗布され
た液状塗布膜へ作用する遠心力が他方向へ向く結果、ウ
ェハの半径方向に直交するパターンが形成された基板で
あってもその基板上の位置による影響を受けずに、均一
な液状塗布膜の形成を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す回転塗布装置の側面図、
第２図はその回転塗布装置の裏面斜視図、第３図は従来
のホトレジスト塗布装置の斜視図、第４図はそのホトレ
ジスト塗布装置の素材基板の斜視図、第５図は第４図の
Ａ部断面図、第６図は第４図のＢ部断面図、第７図は回
転ステージに固定された基板の斜視図、第８図は第７図
のＣ部所面図、第９図は第７図のＤ部断面図である。１・・・滴下ノズル、３・・・基板、ｌＯ・・・回転ス
テージ、１１・・・スライドガイド、１２・・・ラック
、１３．１８．１９・・・歯車、１４．２０・・・モー
タ軸、１５．２１・・・モータ、１６・・・アーム、１
７・・・軸。特許出願人　沖電気工業株式会社

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板上へ液状塗布膜を形成する回転塗布装置にお
いて、基板を載置固定した回転ステージを高速で回転さ
せる際、該回転ステージの回転軸を連続的に基板の直径
方向へ変化させる手段を具備することを特徴とする回転
塗布装置。
（２）前記回転ステージの回転軸を連続的に基板の直径
方向へ変化させる手段は回転ステージの裏面に固定され
るラック及びスライドガイドと、先端に設けられる前記
ラックに噛合する歯車と前記スライドガイドに係合して
案内されるスライド機構を具備する回転ステージの回転
軸とからなる特許請求の範囲第１項記載の回転塗布装置
。