JPS6231991B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、回転する基板上に一様な厚さの膜を
形成させうるようにした塗布装置に関する。

（従来技術と問題点） 一様な厚さの膜が表面に形成されているような
構成態様を有する基板としては、例えば、各種の
情報記録媒体円盤の原盤、その他、所定なパター
ンを光学的な記録手段によつて形成されるように
した各種の基板が知られている。

そして、前記のように一様な厚さの膜が表面に
形成されているような構成態様の基板を作る手段
としては、基板上に形成させるべき膜の構成物質
が溶媒に溶解されている状態の液体の層を表面に
付着させた基板を高速回転させて、基板上に一様
な厚さの膜を形成させるようにした、いわゆるス
ピンナ法による薄膜の形成が従来から広く採用さ
れて来ている。

さて、情報記録媒体円盤の原盤としては、鏡面
状に研磨されたガラス基板の表面上に、感光性高
分子材料による一様な厚さの膜を形成させた構成
態様のものが使用されるが、前記した情報記録媒
体円盤の原盤が、光学的情報記録媒体円盤の原盤
であつた場合には、光学的情報記録媒体円盤に形
成されるべきピツトの深さが良好な一様性を示す
ものとなるように、光学的情報記録媒体円盤の原
盤におけるガラス基板上に形成させるべき感光性
高分子材料による膜は、その厚さが例えば1100オ
ングストロームというように薄い状態で、しか
も、一段と一様性に優れているものであることが
必要とされる。

ところで、回転する基板上に一様な厚さの膜を
形成させる塗布装置としては、従来、第１図に示
すような構成の装置が使用されていた。

すなわち、従来の塗布装置を示す第１図の縦断
側面図において、１は容器、２は上蓋、３は中
蓋、４，５は中蓋３を上蓋２に取付けるための取
付部材、６はターンテーブル、７はガラス基板、
８は回転軸、Ｍは駆動用モータ、９は空気孔であ
つて、ターンテーブル６上のガラス基板７は、前
記した空気孔９と管１０とを介して真空ポンプ１
１で吸引される空気によつてターンテーブル６と
強固に固着される。

第１図示の装置において、上蓋２と中蓋３とが
一体的に構成されている状態の蓋構体を取外ずし
てから、低い回転速度で回転しているターンテー
ブル６上のガラス基板７の上面に、感光性高分子
材料を溶媒に溶解させた状態の液体を供給し、次
いで、容器１に上蓋２と中蓋３とが一体的に構成
されている状態の蓋構体を取付けて容器１を密封
状態にし、ターンテーブル６によつてガラス基板
７を例えば300rpmのように高速回転させる。

前記のようにガラス基板７が高速回転すると、
ガラス基板７上の液体は遠心力によつてガラス基
板７の内周から外周の方向へと薄く押拡げられ、
一部がガラス基板７の外周から飛び出して容器１
に衝突して反射する。

ガラス基板７の外周から飛び出した液体が容器
１で反射して再びガラス基板７上に振り掛かつた
場合には、ガラス基板７上に形成されるべき感光
性高分子材料による膜の厚さが不均一なものとな
るが、第１図示の塗布装置ではガラス基板７の上
面に対して、例えば数ミリメートルというような
僅かな間隙を隔てて中蓋３を設けているために、
前記の原因によつてガラス基板７上に形成される
べき感光性高分子材料による膜の厚さが不均一に
なるようなことはない。

そして、前記した第１図示のような構成を有す
る塗布装置では、ガラス基板上に形成させるべき
感光性高分子材料による膜が、比較的に厚いもの
であつた場合には、ガラス基板上に塗布する感光
性高分子材料の粘度と、ガラス基板の回転速度と
をそれぞれ所要のように設定することにより、ガ
ラス基板上へ全体的に一様な厚さの膜を形成させ
ることも可能であつたが、ガラス基板上に形成さ
せるべき感光性高分子材料による膜が、例えば
1100オングストローム程度というように比較的に
薄いものであつた場合には、ガラス基板上に塗布
する感光性高分子材料の粘度と、ガラス基板の回
転速度との設定により、ガラス基板の周辺部分に
近い部分における感光性高分子材料による膜の厚
さは比較的容易に一様にすることができたが、感
光性高分子材料の粘度と、ガラス基板の回転速度
との設定とをどのように行なつても、前記したガ
ラス基板の周辺部分に近い部分における感光性高
分子材料による膜の厚さに比べて、ガラス基板の
中心部分に近い部分における感光性高分子材料に
よる膜の厚さの方が小さくなり、結局、前記した
２条件の設定の仕方をどのようにしても、ガラス
基板上に形成される感光性高分子材料による膜
を、それの厚さが全体的に一様な状態のものにす
ることができないという点が問題になつた。

上記の問題点を解決するために本出願人会社で
は、先に、基板上に形成させるべき膜の構成物質
が溶媒に溶解されている状態の液体の層を表面に
付着させた基板上に間隔を隔てて配設される蓋部
材の構成形態を特殊なものとすることにより、基
板の回転中における基体の中心部分からの溶媒の
蒸発速度を、他の部分の蒸発速度よりも早くなる
ようにして、基板上に一様な厚さの膜を形成させ
ることができるようにした回転する基板上に一様
な厚さの膜を形成させる塗布装置を提案し、それ
を実施することによつて予期した効果を挙げ得て
いる。

第２図及び第３図は、前記した本出願人会社の
既提案の塗布装置の代表例のものの縦断側面図で
あつて、第２図及び第３図の各図において、既述
した第１図示の塗布装置の構成部分と対応する構
成部分には、第１図中に使用した図面符号と同一
の図面符号が付されている。

第２図及び第３図における符号１４はそれぞれ
中蓋であり、前記の中蓋１４は取付部材４，５に
よつて上蓋２に固着されることにより、それぞれ
蓋構体を構成している。蓋構体における上蓋２と
容器１とは蝶番１３によつて連結されていて、蓋
構体は蝶番１３を中心にして図中の矢印Ｒ方向に
回動自在に開閉動作を行なうことができる。そし
て、前記して蓋構体の開閉動作は、例えば図中に
示されているワイヤ１８によつて行なわれる。

また、第２図及び第３図中における符号１２
は、高速回転する基板７から遠心力によつて飛ば
される液体を反射させる反射板であつて、この反
射板１２に衝突して反射する液体は、中蓋１４と
基板７との間隙の方向には向うことがないように
されるのである。

第２図及び第３図中に示されている蓋構体にお
ける中蓋１４は、それの中心部付近の領域14aと
基板７の表面との間隔が比較的大きな距離L1と
なされ、また、それの周辺部付近の領域14cと基
板７の表面との間隙が、前記した距離L1につい
てL1＞L1の関係にある距離L2となされており、
さらに、前記したように基板７の表面からの距離
がL1であるような中心部付近の領域14aと、基板
７の表面からの距離がL2であるような周辺部付
近の領域14cとの中間の部分14bは、基板７の表
面との距離が次第に変化している傾斜面となされ
ている。

第３図中に示されている中蓋１４における中心
部付近14aには孔１５が穿設されており、また、
第２図及び第３図に示されている構成例では、中
蓋１４における中心部付近の領域14aが直径D1の
円形状であるとされており、また、第２図におい
て基板７の直径はD2であるとされている。

中蓋１４における中心部付近の領域14aの直径
D1は、仮に中蓋１４が第１図に示されている中
蓋のように平坦な形状で、かつ、無孔なものであ
つたとし、その中蓋が基板７の表面からの距離が
L2の位置に配置されていて基板７が高速回転さ
れた場合に、基板７上に形成された膜の厚さが一
定な厚さを示す外周部分に比べて薄い膜が形成さ
れる範囲に略々対応するようにして定められてい
てもよい。

第２図と第３図とに示す構成例装置で使用され
ている中蓋１４における周辺部付近の領域14cと
基板７の表面との間隔L2は、基板７の上面から
遠心力で飛出した液体が反射板１２に衝突して跳
返つても、それが基板７上に戻るようなことがな
いようにするために、例えば５mmというように比
較的に小さな値に設定される。

また、中蓋１４における中心部付近の領域14a
と基板７の表面との間隔L1は、前記した中蓋１
４における周辺部付近14cと基板７の表面との間
隔L2に較べて大きく設定されるのであるが、第
２図示の構成例装置で使用される中蓋１４の中心
部付近の領域14aには孔が穿設されておらず、第
３図示の構成例装置で使用されている中蓋１４の
中心部付近の領域14aには孔１５が穿設されてい
るから、第２図及び第３図示の構成例装置中で、
中心部付近の領域14aに孔１５が穿設されていな
い状態の中蓋１４が使用されている第２図示の構
成例装置における中蓋１４の中心部付近の領域
14aと基板７の表面との間隔L1の方が、中心部付
近の領域14aに孔１５が穿設されている状態の中
蓋１４が使用されている第３図示の構成例装置の
中蓋１４における中心部付近の領域14aと基板７
の表面との間隔L1に比べて大きく設定される。

第２図及び第３図示の構成例装置を用いて基板
７（ガラス基板７）の表面に一様な厚さの膜を形
成させるのには、まず、上蓋２と中蓋１４とが一
体的に結合されている状態の蓋構体を蝶番１３に
より回動させて容器１を開放し、ターンテーブル
６にガラス基板７を結合する。

次に、駆動用モータＭによつて低速回転されて
いるターンテーブル６に結合されているガラス基
板７上に、感光性高分子材料をシンナーで稀釈す
ることによつて所定の粘度にされた液体を、図示
されていないノズルからガラス基板７の径方向に
ノズルを移動させながらガラス基板上に供給し
て、ガラス基板７上に前記して液体の被覆層を形
成させる。

前記のようにして、ガラス基板７の表面に液体
の被覆層が形成され終つたならば、ノズルを容器
１外に退避させた後に蓋構体を蝶番１３で回動さ
せると、容器１は上蓋２で密封状態にされる。こ
の状態において、上蓋２に取付部材４，５によつ
て固着されている中蓋１４は、それの各部がガラ
ス基板７に対してそれぞれ所定の間隔L1、L2を
示すような状態で配置されることになるから、駆
動用モータＭを高速回転（例えば300rpm）させ
てターンテーブル６と一体的になされているガラ
ス基板７を高速回転させる。

約１分間にわたつてガラス基板７を高速回転さ
せた後に、駆動用モータＭの回転数を低下させる
とともに、蓋構体を開放した状態において約数分
間にわたつてガラス基板７を低速回転させてから
駆動用モータＭを停止させる。

上記のようにしてガラス基板７の表面には、感
光性高分子材料による一様な厚さの薄膜が形成さ
れるのであるが、前記した既提案の塗布装置にお
いてどのような理由によつてガラス基板７上に一
様な厚さの膜が形成されうるのかを説明すると次
のとおりである。

第１図示の従来例装置についての説明で明らか
にしたように、第１図示の従来例装置によつてガ
ラス基板７上に薄膜を形成させようとした場合に
は、ガラス基板の周辺部分に近い部分における感
光性高分子材料による膜に厚さに比べて、ガラス
基板７の中心部分に近い部分における膜の厚さの
方が小さくなつていたが、それは、感光性高分子
材料を溶解させるのに用いられていた溶媒が、ガ
ラス基板７の高速回転中に蒸発してガスとなり、
前記したガラス基板７の表面と平坦な中蓋３との
間の狭い空隙内に充満することにより、溶媒の蒸
発が抑圧されて液状に保持されている期間がガラ
ス基板７の中心部分に近い部分になる程長くなる
ために、ガラス基板７の中心部分に近い部分では
液状に保持されている期間にわたり有効に働く遠
心力の作用により膜の厚さが薄くなるものと考え
られる。

ところが、前記した既提案の塗布装置では、基
板の周辺部に近い部分の基板の表面との間隔が小
さく、基板の中心部に近い部分の基板の表面との
間隔が大きくなされている如き構成形態を有する
蓋部材、すなわち、傘状の蓋部材を、膜の構成物
質が溶媒に溶解されている状態の液体の層が付着
されている基板の上方に配設したことにより、ガ
ラス基板７の中心部に近い部分でも溶媒のガス化
が抑圧されることがなく、ガラス基板上には一様
な厚さの高分子材料による膜が容易に形成されう
るのである（ガラス基板７上に一様な厚さの膜を
形成させるのには、ガラス基板７の大きさD2、
ガラス基板７の表面に塗布される液体の粘度、ガ
ラス基板７の回転数、傘状の蓋部材における周辺
部付近の領域あるいは周辺部とガラス基板７の表
面との間隔L2、などに応じて、前記した傘状の
蓋部材における中心部付近の領域の大きさD1
や、傘状の蓋部材の中心部付近の領域におけるガ
ラス基板７の表面からの間隔L1などが、それぞ
れ、所定のように設定されるべきものである）。

また、傘状の蓋部材における中心部付近の領域
に孔１５を穿設すると、その孔を通してガスが流
通して、ガラス基板７の中心部付近の溶媒が蒸発
し易くなるために、前記した孔の径を適当なもの
にすると、ガラス基板７上に形成される薄膜の厚
さを一層均一なものとして作ることができる。

そして、第２図及び第３図を参照して説明した
既提案の回転する基板上に一様な厚さの膜を形成
させる塗布装置において、それを第３図示の如き
構成形態なものとして実施するのに、D1……120
mm、D2……355mm、L1……15mm、L2……５mm、
孔１５の直径……３mmとして実施した場合に、基
板上で直径が40mmから直径が120mmまでの部分に
塗布された薄膜の厚さとして、外周の部分が厚く
なるという傾向が認められるにしても、1100オン
グストローム±30オングストロームの範囲内に納
まるようになされ得たが、その後に、塗膜の厚さ
のばらつきに対する要求が1100オングストローム
±10オングストロームというように、より一層厳
しくなつたことによつて、前記した既提案の塗布
装置では性能が不充分となり、それの改善が求め
られた。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、基板上に形成させるベき膜の構成物
質が溶媒に溶解されている状態の液体の層を表面
に付着させた基板を高速回転させて、基板上に一
様な厚さの膜を形成させるようにするのに、平坦
な蓋部材、または基板の周辺部に近い部分の基板
の表面との間隔が小さく、基板の中心部に近い部
分の基板の表面との間隔が大きくなされている如
き構成形態を有する蓋部材を、膜の構成物質が溶
媒に溶解されている状態の液体の層が付着されて
いる基板の上方に配設させるとともに、前記した
基板と蓋部材との間の空間部と蓋部材の外方の空
間部との間に、蓋部材の外方の空間部から基板と
蓋部材との間の空間部に対してガスを供給できる
ようにする手段を蓋部材に設けた塗布装置におい
て、前記した基板と蓋部材との間の空間部と蓋部
材の外方の空間部との間に設けられている蓋部材
の外方の空間部から基板と蓋部材との間の空間部
に対してガスを供給できるようにする手段とし
て、蓋部材の外方の空間部から基板と蓋部材との
間の空間部へのガスの供給量が、蓋部材の中心部
から外周部に行くに従がつて減少するように構成
されているものを用いてなる回転する基板上に一
様な厚さの膜を形成させる塗布装置を提供するも
のである。

（実施例） 以下、添付図面を参照しながら先発明の回転す
る基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置
の具体的な内容について詳細に説明する。

第４図は、本発明の回転する基板上に一様な厚
さの膜を形成させる塗布装置の一実施態様の縦断
側面図であつて、第４図において、既述した第１
図乃至第３図に示されている回転する基板上に一
様な厚さの膜を形成させる塗布装置の構成部分と
対応する構成部分には、第１図乃至第３図中に使
用されている図面符号と同一の図面符号が付され
ている。

第４図において符号１４は中蓋であり、前記の
中蓋１４は取付部材４，５によつて上蓋２に固着
されることにより蓋構体を構成している。前記の
蓋構体における上蓋２と容器１とは蝶番１３によ
つて連結されていて、蓋構体は蝶番１３を中心に
して図中の矢印Ｒ方向に回動自在に開閉動作を行
なうことができる。そして、前記した蓋構体の開
閉動作は、例えば図中に示されているワイヤ１８
によつて行なわれる。

また、第４図中における符号１２は、高速回転
する基板７から遠心力によつて飛ばされる液体を
反射させる反射板であつて、この反射板１２に衝
突して反射する液体は、中蓋１４と基板７との間
隙の方向には向うことがないようにされるのであ
る。

第４図中に示されている蓋構体における中蓋１
４は、それの中心部付近の領域14aと基板７の表
面との間隔が比較的大きな距離L1となされ、ま
た、それの周辺部付近の領域14cと基板７の表面
との間隔が、前記した距離L1についてL1＞L2の
関係にある距離L2とされており、さらに、前記
したように基板７の表面からの距離がL1である
ような中心部付近の領域14aと、基板７の表面か
らの距離がL2であるような周辺部付近の領域14c
との中間の部分14bは、基板７の表面との距離が
次第に変化している傾斜面となされており、か
つ、中蓋１４における中心部付近14aには複数個
の孔１６，１６……が穿設されている。

また、第４図に示されている実施例では、中蓋
１４における中心部付近の領域14aが直径D1の円
形状であるとされており、基板７の直径はD2で
あるとされている。

中蓋１４における中心部付近の領域14aの直径
D1は、仮に中蓋１４が第１図に示されている中
蓋のように平坦な形状で、かつ、無孔なものであ
つたとし、その中蓋が基板７の表面からの距離が
L2の位置に配置されていて７が高速回転された
場合に、基板７上に形成された膜の厚さが一定な
厚さを示す外周部分に比べて薄い膜が形成される
範囲に略々対応するようにして定められてもよ
い。

第４図示されている実施例装置で使用されてい
る中蓋１４における周辺部付近の領域14cと基板
７の表面との間隔L2は、基板７の上面から遠心
力で飛出した液体が反射板１２に衝突して跳返つ
ても、それが基板７上に戻るようなことがないよ
うにするために、例えば５mmというように比較的
に小さな値に設定される。

さて、本発明の回転する基板上に一様な厚さの
膜を形成させる塗布装置においては、基板と蓋部
材との間の空間部と蓋部材の外方の空間部との間
に設けられている蓋部材の外方の空間部から基板
と蓋部材との間の空間部に対してガスを供給でき
るようにする手段として、蓋部材の外方の空間部
から基板と蓋部材との間の空間部へのガスの供給
量が、蓋部材の中心部から外周部に行くに従がつ
て減少するように構成されているものを用いて、
基板上の所定の範囲にわたつて所定の厚さの薄膜
を構成させるようにするものであり、第４図示の
本発明の回転する基板上に一様な厚さの膜を形成
させる塗布装置の一実施例では、蓋構体における
蓋部材として用いられる中蓋１４を、複数個の透
孔１６，１６……が穿設されている中心部付近の
領域14aと、周辺部付近の領域14cと中間部14bと
からなる傘状のものとしているが、本発明の実施
に当つては、中蓋１４として第１図に示されてい
る中蓋のように平坦な形状で、それの中心部付近
から外周部の方に向つて複数の透孔が穿設されて
いる状態の中蓋１４、あるいは、第４図中の中蓋
１４においてそれの周辺部付近の領域14cを除い
た状態の傘状の中蓋１４が用いられていてもよ
い。

第５図は、第４図に示されている本発明の回転
する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装
置の中蓋１４における中心部付近の領域14aに穿
設させるべき複数個の透孔１６，１６……の配列
パターンの一例を示す平面図であるが、この第５
図の複数の透孔１６，１６……の配列パターンに
従がつて、厚さが１mmの中蓋１４における直径
D1が120mmの円形状の中心部付近の領域14a内
に、前記の領域14aの中心から半径10mmの円の円
周を８等分するような位置に、それぞれ直径が
1.2mmの透孔を穿設してなる中蓋１４を用いて蓋
構体を構成させ、感光性高分子材料をシンナーで
稀釈して所定の粘度にされた液体が供給されてい
るガラス基板７の上方を前記の蓋構体によつて覆
い、前記のガラス基板７を300rpmで約１分間回
転させた後に基板７の回転数を低下させ、次い
で、蓋構体を開放した状態で数分間低速回転させ
てから回転を停止させるようにしてガラス基板７
上に薄膜を形成させたところ、ガラス基板７にお
ける直径40mmの部分から直径120mmの部分までの
薄膜の厚さを、1100オングストローム±10オング
ストロームにさせることができた（なお、この場
合におけるL1は15mm、L2は５mmである）。

第６図及び第７図のａならびに第８図のａは、
本発明の回転する基板上に一様な厚さの膜を形成
させる塗布装置の中蓋１４における中心部付近の
領域14aに穿設させるべき複数個の透孔１６，１
６……の配列パターンの他の例を示す平面図であ
つて、まず、第６図示の実施例においては、一定
の高さの中蓋１４における中心部付近の領域14a
に、その領域14aの中心に１個の透孔１６ａを穿
設するとともに、前記した領域14aの中心から外
周の方に向かつてそれぞれ異なる半径の円周上
に、それぞれ複数個の透孔１６ｂ，１６ｂ……，
１６ｃ，１６ｃ……，１６ｄ，１６ｄ……、を穿
設している。

前記した第６図示の実施例において、中蓋１４
における中心部付近の領域14aに、その領域14aの
中心に穿設された１個の透孔１６ａ、及び前記し
た領域14aの中心から外周の方に向かつてそれぞ
れ異なる半径の円周上に穿設されるべき各透孔１
６ｂ，１６ｃ，１６ｄは、透孔１６ａの断面積を
Ａ、透孔１６ｂの断面積をＢ、透孔１６ｃの断面
積をＣ、透孔１６ｄの断面積をＤとし、また、前
記した各透孔１６ａ〜１６ｄの個数を、透孔１６
ａの個数が１個、透孔１６ｂの個数がNb個、透
孔１６ｃの個数がNc個、透孔１６ｄの個数をNd
個としたときに、前記した各透孔１６ａ〜１６ｄ
における面積と個数について、次の関係が満足さ
れるようにするものであり、 Ａ＞Ｂ・Nb＞Ｃ・Nc＞Ｄ・Nd それにより、前記した第６図示の実施例において
も、前記した基板７と蓋部材（中蓋１４）との間
の空間部と蓋部材の外方の空間部との間に設けら
れている蓋部材の外方の空間部から基板と蓋部材
との間の空間部に対してガスを供給できるように
する手段は、蓋部材の外方の空間部から基板と蓋
部材との間の空間部へのガスの供給量が、蓋部材
の中心部から外周部に行くに従がつて減少するよ
うに構成されているものとなされるのである。

次に、第７図示の実施例においては、中蓋１４
の厚さが第７図のｂに示されているように、それ
の中心から外周に行くに従がつて次第に厚くなつ
ており、第７図のａに示されているように中心部
付近の領域14aに、その領域14aの中心に断面積が
Ａの複数個の透孔１６ｅ，１６ｅ……が穿設され
ているとともに、前記した領域14aの中心からの
外周の方に向かつてそれぞれ異なる半径の中周上
に、断面積がＡの透孔１６ｆ，１６ｆ……、断面
積がＡの透孔１６ｇ，１６ｇ……がそれぞれ穿設
されている。

前記した第７図のａ，ｂに示されている実施例
においては、各透孔１６ｅ〜１６ｇの断面積は同
一であるが、領域14aの中心から外周の方に向か
つてそれぞれ異なる半径の円周上に設けられてい
る各透孔の長さがそれぞれ異なつていて、領域
14aの中心から外周の方に行くに従がつて、透孔
がそれを通過するガスに対して大きな抵抗を示す
ようになされていて、この第７図示の実施例の場
合においても、既述した第６図示の実施例の場合
と同様に、前記した基板７と蓋部材（中蓋１４）
との間の空間部と蓋部材の外方の空間部との間に
設けられている蓋部材の外方の空間部から基板と
蓋部材との間の空間部に対してガスを供給できる
ようにする手段は、蓋部材の外方の空間部から基
板と蓋部材との間の空間部へのガスの供給量が、
蓋部材の中心部から外周部に行くに従がつて減少
するように構成されているものとなされるのであ
る。

第８図のａ，ｂに示す実施例においては、第８
図のｂの断面図に示されているように、中蓋１４
は同一の厚さであるが、各透孔１６ｅ〜１６ｇの
実質的な長さが、前記した第７図示の実施例の場
合と同様になるように、各透孔１６ｅ〜１６ｇに
対して、それぞれ異なる長さのパイプを付けてい
る。この第８図のａ，ｂに示す実施例において
も、既述した第６図及び第７図示の実施例の場合
と同様に、前記した基板７と蓋部材（中蓋１４）
との間の空間部と蓋部材の外方の空間部との間に
設けられている蓋部材の外方の空間部から基板と
蓋部材との間に空間部に対してガスを供給できる
ようにする手段は、蓋部材の外方の空間部から基
板と蓋部材との間の空間部へのガスの供給量が、
蓋部材の中心部から外周部に行くに従がつて減少
るように構成されているものとなされることは明
らかである。

これまでに説明した各実施例においては、前記
した基板７と蓋部材（中蓋１４）との間の空間部
と蓋部材の外方の空間部との間に設けられている
蓋部材の外方の空間部から基板と蓋部材との間の
空間部に対してガスを供給できるようにする手段
として、蓋部材の所定の個所に複数個の透孔を設
けた構成態能のものや採用されているが、本発明
の実施に当つては、前記した基板７と蓋部材（中
蓋１４）との間の空間部と蓋部材の外方の空間部
との間に設けられている蓋部材の外方の空間部か
ら基板と蓋部材との間の空間部に対してガスを供
給できるようにする手段として、所定の断面積を
有するように構成されている環状のスリツトが用
いられてもよいことが勿論である。

第４図及び前記した本発明の各実施例に従う塗
布装置を用いて基板７（ガラス基板７）の表面に
一様な厚さの膜を形成させるのには、まず、上蓋
２と中蓋１４とが一体的に結合されている状態の
蓋構体を蝶番１３により回動させて容器１を開放
し、ターンテーブル６にガラス基板７を結合す
る。

次に、駆動用モータＭによつて低速回転されて
いるターンテーブル６に結合されているガラス基
板７上に、感光性高分子材料をシンナーで稀釈す
ることによつて所定の粘度にされた液体を、図示
されていないノズルからガラス基板７の径方向に
ノズルを移動させながらガラス基板上に供給し
て、ガラス基板７上に前記した液体の被覆層を形
成させる。

前記のようにして、ガラス基板７の表面に液体
の被覆層が形成され終つたならば、ノズルを容器
１外に退避させた後に蓋構体を蝶番１３で回動さ
せると、容器１は上蓋２で密封状態にされる。こ
の状態において、駆動用モータＭを高速回転（例
えば300rpm）させてターンテーブル６と一体的
になされているガラス基板７を高速回転させる。

約１分間にわたつてガラス基板７を高速回転さ
せた後に、駆動用モータＭの回転数を低下させる
とともに、蓋構体を開放した状態において約数分
間にわたつてガラス基板７を低速回転させてから
駆動用モータＭを停止させる。

上記のようにしてガラス基板７の表面には、感
光性高分子材料による一様な厚さの薄膜が形成さ
れるのであり、例えば、D1……120mm、D2……
355mm、L1……15mm、L2……５mm、孔１６の直径
……1.2mmとして実施した場合に、基板上で直径
が40mmから直径が120mmまでの部分に塗布された
薄膜の厚さとして、1100オングストローム±10オ
ングストロームというように結果が得られた。

前記したように本発明の塗布装置においてガラ
ス基板７上に一様な厚さの膜を形成される理由は
次のとおりである。すなわち、第３図示の既提案
装置についての説明で明らかにしたように、前記
して既提案の塗布装置では、基板の周辺部に近い
部分の基板の表面との間隔が小さく、基板の中心
部に近い部分の基板の表面との間隔が大きくなさ
れている如き構成形態を有する蓋部材を、膜の構
成物質が溶媒に溶解されている状態の液体の層が
付着されている基板の上方に配設したことによ
り、ガラス基板７の中心部に近い部分でも溶媒の
ガス化が抑圧されることがなく、ガラス基板上に
は比較的一様な厚さの高分子材料による膜が容易
に形成されうるのであり、また、傘状の蓋部材に
おける中心部付近の領域に孔１５を穿設すると、
その孔を通してガスが流通して、ガラス基板７の
中心部付近の溶媒が蒸発し易くなるために、前記
した孔の径を適当なものにすると、ガラス基板７
上に形成される薄膜の厚さを一層均一なものとし
て作ることができるのであるが、前記した本発明
の回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる
塗布装置においては、基板７と蓋部材（中蓋１
４）との間の空間部と蓋部材の外方の空間部との
間に設けられている蓋部材の外方の空間部から基
板と蓋部材との間の空間部に対してガスを供給で
きるようにする手段として、蓋部材の外方の空間
部から基板と蓋部材との間の空間部へのガスの供
給量が、蓋部材の中心部から外周部に行くに従が
つて減少するように構成されているものと用いた
ことによつて、蓋部材の外方の空間部から基板と
蓋部材との間の空間部へのガスの供給量が一層適
正な状態になされて、一様な薄膜の形成が達成さ
れるようになつたものである。

（効果） 以上、詳細に説明したところから明らかなよう
に、本発明の回転する基板上に一様な厚さの膜を
形成させる塗布装置は、基板上に形成させるベき
膜の構成物質が溶媒に溶解されている状態の液体
の層を表面に付着させた基板を高速回転させて、
基板上に一様な厚さの膜を形成させるようにする
のに、平坦な蓋部材、または基板の周辺部に近い
部分の基板の表面との間隔が小さく、基板の中心
部に近い部分の基板の表面との間隔が大きくなさ
れている如き構成形態を有する蓋部材を、膜の構
成物質が溶媒に溶解されている状態の液体の層が
付着されている基板の上方に配設させるととも
に、前記した基板と蓋部材との間の空間部と蓋部
材の外方の空間部との間に、蓋部材の外方の空間
部から基板と蓋部材との間の空間部に対してガス
を供給できるようにする手段を蓋部材に設けた塗
布装置において、前記した基板と蓋部材との間の
空間部と蓋部材の外方の空間部との間に設けられ
ている蓋部材の外方の空間部から基板と蓋部材と
の間の空間部に対してガスを供給できるようにす
る手段として、蓋部材の外方の空間部から基板と
蓋部材との間の空間部へのガスの供給量が、蓋部
材の中心部から外周部に行くに従がつて減少する
ように構成されているものを用いてなるものであ
るから、本発明の塗布装置では既述した既提案の
塗布装置に比べて、蓋部材の外方の空間部から基
板と蓋部材との間の空間部へのガスの供給量が一
層適正なものとなされることによつて、広い範囲
にわたつて一様な膜厚の薄膜を基板上に構成させ
ることができたのであり、本発明により既提案の
問題点は良好に解消できたのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の塗布装置の一例構成のものの縦
断側面図、第２図及び第３図は既提案装置の各異
なる構成例のものの縦断側面図、第４図は本発明
装置の一実施例の縦断側面図、第５図乃至第８図
は中蓋に設ける透孔の説明図である。 １……容器、２……上蓋、３，１４……中蓋、
４，５……中蓋３，１４を上蓋２に取付けるため
の取付部材、６……ターンテーブル、７……ガラ
ス基板、８……回転軸、Ｍ……駆動用モータ、９
……空気孔、１０……管１０、１１……真空ポン
プ、１２……反射板、１３……蝶番、１５……
孔、１６，１６ａ〜１６ｇ……透孔。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板上に形成させるベき膜の構成物質が溶媒
   に溶解されている状態の液体の層を表面に付着さ
   せた基板を高速回転させて、基板上に一様な厚さ
   の膜を形成させるようにするのに、平坦な蓋部
   材、または基板の周辺部に近い部分の基板の表面
   との間隔が小さく、基板の中心部に近い部分の基
   板の表面との間隔が大きくなされている如き構成
   形態を有する蓋部材を、膜の構成物質が溶媒に溶
   解されている状態の液体の層が付着されている基
   板の上方に配設させるとともに、前記した基板と
   蓋部材との間の空間部と蓋部材の外方の空間部と
   の間に、蓋部材の外方の空間部から基板と蓋部材
   との間の空間部に対してガスを供給できるように
   する手段を蓋部材に設けた塗布装置において、前
   記した基板と蓋部材との間の空間部と蓋部材の外
   方の空間部との間に設けられている蓋部材の外方
   の空間部から基板と蓋部材との間の空間部に対し
   てガスを供給できるようにする手段として、蓋部
   材の外方の空間部から基板と蓋部材との間の空間
   部へのガスの供給量が、蓋部材の中心部から外周
   部に行くに従がつて減少するように構成されてい
   るものを用いてなる回転する基板上に一様な厚さ
   の膜を形成させる塗布装置。