JPH05161865A - 回転塗布装置 - Google Patents

回転塗布装置

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Publication number
JPH05161865A
JPH05161865A JP33053491A JP33053491A JPH05161865A JP H05161865 A JPH05161865 A JP H05161865A JP 33053491 A JP33053491 A JP 33053491A JP 33053491 A JP33053491 A JP 33053491A JP H05161865 A JPH05161865 A JP H05161865A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
substrate
shaped substrate
rotary
rotation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33053491A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Miyashita
英生 宮下
Masakazu Tsukada
雅一 塚田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd, Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP33053491A priority Critical patent/JPH05161865A/ja
Publication of JPH05161865A publication Critical patent/JPH05161865A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 円盤状基板に塗布液をスピンコート法によっ
て塗布する回転装置において、該円盤状基板の回転と同
期して回転し、該円盤状基板の下部から基板側に送風す
るように傾斜角をつけた回転翼を有することを特徴とす
る回転塗布装置。 【効果】 本発明の回転塗布装置によれば、気流が円盤
状基板下面から吹き出されるために、ミスト状の紫外線
硬化型樹脂が円盤状基板裏面に飛散してくることが防止
でき、圧縮空気を吹き出す構造も、回転と圧縮空気の吹
き出しのタイミングを調整する必要もなくなり、従って
回転塗布装置の構造が簡素化できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、円盤状基板に塗布液を
スピンコート法により塗布して均一な皮膜を形成する回
転塗布装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来知られている円盤状基板の樹脂被膜
方法は、例えば、光ディスクでは、グルーブと称される
溝が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタ
クリルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
レフィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルー
ブが形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称
される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗
布してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた
後、紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
【0003】次に、真空蒸着法やスパッタ法等によりグ
ルーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを
作製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コー
ト剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法によ
り回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜してい
た。
【0004】また、コンパクトディスクでは、予め所定
の情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、
情報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッ
タ法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保
護コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート
法により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜
を製膜していた。
【0005】このように、ハードコート剤や保護コート
剤等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法
により回転塗布する場合には、樹脂を一定量円盤状基板
に塗布した後高速回転させて余分な紫外線硬化型樹脂を
振り切るので、樹脂がミスト状となって周囲に飛散す
る。このミスト状の樹脂が円盤状基板の裏面に飛散して
くるのを防止するために、図4に示したように円盤状基
板の裏面から圧縮気体を吹き出していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、圧縮気体を吹き出す構造を有する必要があり、
また、回転と圧縮気体の吹き出しのタイミングを調整す
る必要があるので、回転塗布装置の構造が複雑となって
いた。
【0007】本発明が解決しようとする課題は、円盤状
基板に紫外線硬化型樹脂であるハードコート剤又は保護
コート剤をスピンコート法により塗布する回転塗布装置
において、紫外線硬化型樹脂が円盤状基板の裏面へ飛散
するのを防止する構造を簡素化することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、円盤状基板に塗布液をスピンコート法によ
って塗布する回転装置において、該円盤状基板の回転と
同期して回転し、該円盤状基板の下部から基板側に送風
するように傾斜角をつけた回転翼を有することを特徴と
する回転塗布装置を提供する。
【0009】
【作用】本発明によれば、円盤状基板にハードコート剤
又は保護コート剤等の紫外線硬化型樹脂をスピンコート
法によって塗布する回転塗布装置において、円盤状基板
の回転と同期して回転し、円盤状基板側に送風するよう
に傾斜角をつけた回転翼を有するので、円盤状基板上の
余分な紫外線硬化型樹脂を振り切るために円盤状基板支
持台が回転すると回転翼も同期して回転し、この回転翼
の回転により円盤状基板下面に気流が発生する。
【0010】この気流が円盤状基板下面から吹き出すこ
とによって、ミスト状の紫外線硬化型樹脂が円盤状基板
裏面に飛散してくることが防止でき、圧縮気体を吹き出
す構造も回転と圧縮気体の吹き出しのタイミングを調整
する必要もなく、その結果、回転塗布装置の構造が簡素
化できる。
【0011】
【実施例】以下、実施例を示しながら具体的説明を行な
う。
【0012】(実施例)図1に示したように、円盤状基
板3側に送風するように傾斜角θが水平方向に対して1
20度となっている回転翼1が4枚有り、この回転翼1
は、円盤状基板支持台2と直結した構造を有し、円盤状
基板3の下面と接しないように作製された部材を用意し
た。
【0013】ここで、回転翼1の傾斜角は、回転により
円盤状基板側に送風するような角度であれば、いずれの
角度でも良いが、好ましくは、回転翼1が回転した時に
効率的に気流が発生する角度が良い。
【0014】本実施例では、一例として傾斜角を水平方
向に対して120度とした。
【0015】また、円盤状基板支持台2の周囲には、内
径が円盤状基板3の外径と一致する側壁4が円盤状基板
3との間隙5が0.5〜1mmとなるように設置されてお
り、高速回転した時に円盤状基板3の下面より効率的に
気流が吹き出される構造となっている。
【0016】次に、図2に示したようにグルーブが形成
された円盤状プラスチック基板6をグルーブ形成面側を
下にして円盤状基板支持台2に設置した後、円盤状基板
支持台2に設けられた真空吸着穴7により真空吸着して
保持し、モーター8により円盤状基板支持台2と円盤状
プラスチック基板6と回転翼1を 60rpmの低速回転で
回転させながら円盤状プラスチック基板6上に塗布ノズ
ル9でハードコート剤「EX−704」(大日本インキ
化学工業社製)10を塗布するが、低速回転時には、樹
脂はミスト状ではないので円盤状プラスチック基板6の
下面から気体を吹き出す必要はなく、本実施例のように
回転翼を使用すれば低速回転時に気体が吹き出すことは
ない。
【0017】その後、図3に示したように円盤状基板支
持台2と円盤状プラスチック基板6と回転翼1を 6,
000rpmの高速回転で回転させたところ、余分なハー
ドコート剤10が振り切られてミスト状となって飛散す
るが、回転翼1により発生した気流11が回転速度に応
じた流量で円盤状基板3の下面より効率的に間隙5から
吹き出されて、ミスト状となったハードコート剤10は
円盤状プラスチック基板6の裏面に飛散することはな
い。
【0018】
【発明の効果】本発明の回転塗布装置では、円盤状基板
に紫外線硬化型樹脂をスピンコート法によって塗布する
場合、円盤状基板支持台と直結した回転翼を有し、円盤
状基板上の余分な紫外線硬化型樹脂を振り切るために円
盤状基板支持台が回転すると回転翼も一体となって回転
し、この回転翼の回転により円盤状基板下面に気流が発
生する。
【0019】この気流が円盤状基板下面から吹き出され
るために、ミスト状の紫外線硬化型樹脂が円盤状基板裏
面に飛散してくることが防止でき、圧縮空気を吹き出す
構造も、回転と圧縮空気の吹き出しのタイミングを調整
する必要もなくなり、従って回転塗布装置の構造が簡素
化できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例による回転翼と円盤状基板支持台が一
体構造となった部材の側面図である。
【図2】本実施例により円盤状プラスチック基板に紫外
線硬化型樹脂を低速回転で塗布する概念図である。
【図3】本実施例により円盤状プラスチック基板上の余
分な紫外線硬化型樹脂を振り切る工程を示した概念図で
ある。
【図4】従来方法により円盤状基板に紫外線硬化型樹脂
を塗布した後、余分な紫外線硬化型樹脂を振り切る工程
を示した概念図である。
【符号の説明】
1 回転翼 2 円盤状基板支持台 3 円盤状基板 4 側壁 5 間隙 6 円盤状プラスチック基板 7 真空吸着穴 8 モーター 9 塗布ノズル 10 ハードコート剤 11 気流

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円盤状基板に塗布液をスピンコート法に
    よって塗布する回転装置において、該円盤状基板の回転
    と同期して回転し、該円盤状基板の下部から基板側に送
    風するように傾斜角をつけた回転翼を有することを特徴
    とする回転塗布装置。
  2. 【請求項2】 円盤状基板の回転と同期する回転翼が円
    盤状基板支持体と直結して回転することを特徴とする請
    求項1記載の回転塗布装置。
JP33053491A 1991-12-13 1991-12-13 回転塗布装置 Pending JPH05161865A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33053491A JPH05161865A (ja) 1991-12-13 1991-12-13 回転塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33053491A JPH05161865A (ja) 1991-12-13 1991-12-13 回転塗布装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05161865A true JPH05161865A (ja) 1993-06-29

Family

ID=18233713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33053491A Pending JPH05161865A (ja) 1991-12-13 1991-12-13 回転塗布装置

Country Status (1)

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JP (1) JPH05161865A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020129483A1 (ja) * 2018-12-17 2020-06-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020129483A1 (ja) * 2018-12-17 2020-06-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP2020098841A (ja) * 2018-12-17 2020-06-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

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