JP2002102778A - 膜形成方法および膜形成装置 - Google Patents
膜形成方法および膜形成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被塗布物表面の凹凸に影響されることなく、
上面が平坦でかつ膜厚の均一性に優れた膜を形成できる
膜形成方法を提供する。 【解決手段】 半径方向に規則性のある凹凸を表面に備
えた被塗布物１を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、
その表面中央部に上方から塗布液１２を供給し、遠心力
により被塗布物１表面に膜を形成する膜形成方法におい
て、前記回転時に、被塗布物１上の塗布液１２に振動を
与えながら膜を形成する。
上面が平坦でかつ膜厚の均一性に優れた膜を形成できる
膜形成方法を提供する。 【解決手段】 半径方向に規則性のある凹凸を表面に備
えた被塗布物１を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、
その表面中央部に上方から塗布液１２を供給し、遠心力
により被塗布物１表面に膜を形成する膜形成方法におい
て、前記回転時に、被塗布物１上の塗布液１２に振動を
与えながら膜を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の半
径方向に規則性をもって連続する凹凸を有する被塗布物
に保護膜等のために膜を形成するために主として利用さ
れる膜形成方法および膜形成装置に関するものである。
径方向に規則性をもって連続する凹凸を有する被塗布物
に保護膜等のために膜を形成するために主として利用さ
れる膜形成方法および膜形成装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、光ディスク等の平板状の被塗布物
上面に厚さ数μｍ〜数十μｍ程度の膜を形成する膜形成
方法として、ほぼ水平に保持した回転台の上に被塗布物
を設置し、被塗布物を回転させながら、その表面中央部
に上方から塗布液を定量に吐出し、遠心力を利用して塗
布液を被塗布物の表面上に広げて膜を形成する膜形成方
法が広く使用されている。なお膜の厚みは、吐出された
塗布液が、遠心力により被塗布物の上面をなぞりながら
広がる際、塗布液の粘度と遠心力の関係により、被塗布
物上面に残る塗布液の厚みにより決定される。
上面に厚さ数μｍ〜数十μｍ程度の膜を形成する膜形成
方法として、ほぼ水平に保持した回転台の上に被塗布物
を設置し、被塗布物を回転させながら、その表面中央部
に上方から塗布液を定量に吐出し、遠心力を利用して塗
布液を被塗布物の表面上に広げて膜を形成する膜形成方
法が広く使用されている。なお膜の厚みは、吐出された
塗布液が、遠心力により被塗布物の上面をなぞりながら
広がる際、塗布液の粘度と遠心力の関係により、被塗布
物上面に残る塗布液の厚みにより決定される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の膜形成方法では、被塗布物上面に凹凸があると、こ
の凹凸面に塗布するため、塗布した塗布液上面にも凹凸
が発生し、形成される膜上面が平坦なものでないという
問題がある。さらに従来の方法では、遠心力を利用する
ため、被塗布物上面に凹凸がある場合、遠心力による塗
布液の進行方向に壁が存在する形となって、その壁の内
周側で塗布液が溜まり、その部位の厚みが、膜全体とし
て見たときに局地的に厚い、不均一な膜を形成してしま
う問題があった。
来の膜形成方法では、被塗布物上面に凹凸があると、こ
の凹凸面に塗布するため、塗布した塗布液上面にも凹凸
が発生し、形成される膜上面が平坦なものでないという
問題がある。さらに従来の方法では、遠心力を利用する
ため、被塗布物上面に凹凸がある場合、遠心力による塗
布液の進行方向に壁が存在する形となって、その壁の内
周側で塗布液が溜まり、その部位の厚みが、膜全体とし
て見たときに局地的に厚い、不均一な膜を形成してしま
う問題があった。
【０００４】本発明は、上記の問題点に鑑み、被塗布物
上面の凹凸に影響されることなく、膜の上面が平坦でか
つ均一性の優れたものを形成できる膜形成方法および膜
形成装置を提供することを目的としている。
上面の凹凸に影響されることなく、膜の上面が平坦でか
つ均一性の優れたものを形成できる膜形成方法および膜
形成装置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願の第１発明は上記目
的を達成するため、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほ
ぼ水平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方
から塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を
形成する膜形成方法において、前記回転時に、被塗布物
上の塗布液に振動を与えながら膜を形成することを特徴
とする。
的を達成するため、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほ
ぼ水平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方
から塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を
形成する膜形成方法において、前記回転時に、被塗布物
上の塗布液に振動を与えながら膜を形成することを特徴
とする。
【０００６】第１発明によれば、被塗布物の回転による
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、その際塗布液に振動が与えら
れるので、塗布液は前記凹凸をスムースに乗り越えるこ
とができ、前記凹凸の影響を少なくして、被塗布物表面
の全面に均一状態に塗布液を拡げることが可能となる。
この結果、第１発明によれば、上面が平坦で膜厚の均一
性にすぐれた膜を形成することができる。
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、その際塗布液に振動が与えら
れるので、塗布液は前記凹凸をスムースに乗り越えるこ
とができ、前記凹凸の影響を少なくして、被塗布物表面
の全面に均一状態に塗布液を拡げることが可能となる。
この結果、第１発明によれば、上面が平坦で膜厚の均一
性にすぐれた膜を形成することができる。
【０００７】第１発明において、被塗布物に振動を与え
て、塗布液を振動させるように構成すれば好適である。
また第１発明において、被塗布物表面に半径方向に規則
性をもって連続する凹凸を備える場合、前記凹凸の半径
方向のピッチより短い波長となる振動を塗布液に与える
ように構成すると、塗布液が前記凹凸をより一層スムー
スに乗り越えることができるので、上面平坦性、膜厚均
一性をよりすぐれたものとすることができる。
て、塗布液を振動させるように構成すれば好適である。
また第１発明において、被塗布物表面に半径方向に規則
性をもって連続する凹凸を備える場合、前記凹凸の半径
方向のピッチより短い波長となる振動を塗布液に与える
ように構成すると、塗布液が前記凹凸をより一層スムー
スに乗り越えることができるので、上面平坦性、膜厚均
一性をよりすぐれたものとすることができる。
【０００８】第１発明の方法を具体的に実施するため、
半径方向に規則性をもって連続する凹凸を表面に備えた
被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、その表
面中央部に上方から塗布液を供給し、遠心力により被塗
布物表面に膜を形成する膜形成装置において、被塗布物
を保持して回転する回転台の回転軸に振動を与える振動
発生装置を設け、この振動発生装置によって発生する振
動を、被塗布物の凹凸の半径方向のピッチより短い波長
となるように構成すると、好適である。
半径方向に規則性をもって連続する凹凸を表面に備えた
被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、その表
面中央部に上方から塗布液を供給し、遠心力により被塗
布物表面に膜を形成する膜形成装置において、被塗布物
を保持して回転する回転台の回転軸に振動を与える振動
発生装置を設け、この振動発生装置によって発生する振
動を、被塗布物の凹凸の半径方向のピッチより短い波長
となるように構成すると、好適である。
【０００９】本願の第２発明は上記目的を達成するた
め、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持し
ながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供
給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成
方法において、前記回転時に、ノズルより被塗布物表面
に気体を吹き付けながら膜を形成することを特徴とす
る。
め、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持し
ながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供
給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成
方法において、前記回転時に、ノズルより被塗布物表面
に気体を吹き付けながら膜を形成することを特徴とす
る。
【００１０】第２発明によれば、被塗布物の回転による
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、その際塗布液に気体が吹き付
けられる。そして凹凸を乗り越えるとき、塗布液にも凹
凸が生じるが、その際凸部は凹部よりも気体の力を大き
く受けることとなり、凸部の高さが小さくなる方向に塗
布液が拡がる。このため前記凹凸の影響を少なくして、
被塗布物表面の全面に均一状態に塗布液を拡げることが
可能となる。この結果、第２発明によれば、上面平坦性
および膜厚均一性にすぐれた膜を形成することができ
る。
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、その際塗布液に気体が吹き付
けられる。そして凹凸を乗り越えるとき、塗布液にも凹
凸が生じるが、その際凸部は凹部よりも気体の力を大き
く受けることとなり、凸部の高さが小さくなる方向に塗
布液が拡がる。このため前記凹凸の影響を少なくして、
被塗布物表面の全面に均一状態に塗布液を拡げることが
可能となる。この結果、第２発明によれば、上面平坦性
および膜厚均一性にすぐれた膜を形成することができ
る。
【００１１】第２発明において、被塗布物の上方にその
半径方向の異なる位置のそれぞれにノズルを配し、これ
らノズルを被塗布物の半径方向に振動させながら被塗布
物表面に気体を吹き付けるように構成すると、被塗布物
表面の全面にわたり気体を均等に吹き付けることができ
る。すなわち、複数のノズルにより気体吹き付け位置を
分散させて気体の均等吹き付けを図り、さらに気体の吹
き付け量がノズルの設置位置により強弱がある影響を緩
和するためノズルを振動させて、一層の気体の均等吹き
付けを図ることができる。この結果、上面平坦性および
膜厚均一性をよりすぐれたものとすることができる。
半径方向の異なる位置のそれぞれにノズルを配し、これ
らノズルを被塗布物の半径方向に振動させながら被塗布
物表面に気体を吹き付けるように構成すると、被塗布物
表面の全面にわたり気体を均等に吹き付けることができ
る。すなわち、複数のノズルにより気体吹き付け位置を
分散させて気体の均等吹き付けを図り、さらに気体の吹
き付け量がノズルの設置位置により強弱がある影響を緩
和するためノズルを振動させて、一層の気体の均等吹き
付けを図ることができる。この結果、上面平坦性および
膜厚均一性をよりすぐれたものとすることができる。
【００１２】第２発明の方法を具体的に実施するため、
半径方向に規則性をもって連続する凹凸を表面に備えた
被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、その表
面中央部に上方から塗布液を供給し、遠心力により被塗
布物表面に膜を形成する膜形成装置において、被塗布物
の上方にその半径方向の異なる位置のそれぞれにノズル
を配し、これらノズルから被塗布物表面に気体を吹き付
けるように構成すると共に、これらノズルを被塗布物の
半径方向に振動させる振動発生装置を設けた構成とする
と、好適である。
半径方向に規則性をもって連続する凹凸を表面に備えた
被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、その表
面中央部に上方から塗布液を供給し、遠心力により被塗
布物表面に膜を形成する膜形成装置において、被塗布物
の上方にその半径方向の異なる位置のそれぞれにノズル
を配し、これらノズルから被塗布物表面に気体を吹き付
けるように構成すると共に、これらノズルを被塗布物の
半径方向に振動させる振動発生装置を設けた構成とする
と、好適である。
【００１３】本願の第３発明は上記目的を達成するた
め、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持し
ながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供
給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成
方法において、加圧された密閉空間内で被塗布物表面に
膜を形成することを特徴とする。
め、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持し
ながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供
給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成
方法において、加圧された密閉空間内で被塗布物表面に
膜を形成することを特徴とする。
【００１４】第３発明によれば、被塗布物の回転による
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、この凹凸によって形成されて
いる塗布液の凹凸の凸部は、密閉空間の高圧力を凹部よ
り強く受け、凹部に向け流下するので、塗布液は均一状
態で拡がっていく。このため、第３発明によれば、上面
平坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成することが
できる。
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、この凹凸によって形成されて
いる塗布液の凹凸の凸部は、密閉空間の高圧力を凹部よ
り強く受け、凹部に向け流下するので、塗布液は均一状
態で拡がっていく。このため、第３発明によれば、上面
平坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成することが
できる。
【００１５】本願の第４発明は上記目的を達成するた
め、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持し
ながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供
給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成
方法において、被塗布物表面と所定の隙間を保ったブレ
ードを被塗布物の上方にその半径方向に配して、被塗布
物表面に膜を形成することを特徴とする。
め、凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持し
ながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供
給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成
方法において、被塗布物表面と所定の隙間を保ったブレ
ードを被塗布物の上方にその半径方向に配して、被塗布
物表面に膜を形成することを特徴とする。
【００１６】第４発明によれば、被塗布物の回転による
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、被塗布物表面と所定の隙間を
保ったブレードを配しているので、このブレードにより
設定した隙間を通って塗布液が拡がっていく。このため
前記凹凸の影響を少なくして、被塗布物表面の全面に均
一状態で塗布液を拡げることが可能となる。この結果、
第４発明によれば、上面平坦性および膜厚均一性にすぐ
れた膜を形成することができる。
遠心力で塗布液が被塗布物表面の凹凸を乗り越えながら
外周側に拡がっていくが、被塗布物表面と所定の隙間を
保ったブレードを配しているので、このブレードにより
設定した隙間を通って塗布液が拡がっていく。このため
前記凹凸の影響を少なくして、被塗布物表面の全面に均
一状態で塗布液を拡げることが可能となる。この結果、
第４発明によれば、上面平坦性および膜厚均一性にすぐ
れた膜を形成することができる。
【００１７】第４発明において、塗布液の粘度が高い場
合は、ブレードの下辺をナイフエッジ形状とし、被塗布
物の回転方向に対する正面側を鉛直面に、背面側を傾斜
面（水平に対し５０°〜７０°、望ましくは６０°前
後）とし、塗布液の粘度が低い場合は、前記正面側を傾
斜面（水平に対し５０°〜７０°、望ましくは６０°前
後）に、背面側を鉛直面とすると、ブレードを通過した
塗布液のブレードへの付着量を少なくして、塗布液を全
面に均一状態に拡げることができ、好適である。
合は、ブレードの下辺をナイフエッジ形状とし、被塗布
物の回転方向に対する正面側を鉛直面に、背面側を傾斜
面（水平に対し５０°〜７０°、望ましくは６０°前
後）とし、塗布液の粘度が低い場合は、前記正面側を傾
斜面（水平に対し５０°〜７０°、望ましくは６０°前
後）に、背面側を鉛直面とすると、ブレードを通過した
塗布液のブレードへの付着量を少なくして、塗布液を全
面に均一状態に拡げることができ、好適である。
【００１８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１実施形態に係
る膜形成装置を示す。図１において、１は半径方向に規
則性をもって連続する凹凸を表面に備えた光ディスク等
の円板状の被塗布物、２は、被塗布物１の表面に塗布液
１２を吐出供給する塗布液供給ノズル、３は被塗布物１
を水平に保持しながら回転する回転台、４は回転による
塗布液１２の飛散を防ぐカバー、５は前記カバー４内の
空気や飛散物を排出する排気ダクト、６は回転台３の回
転軸１３に振動を与える振動発生装置である。なお、前
記回転軸１３はモータ（図示省略）によって回転駆動さ
れる。
る膜形成装置を示す。図１において、１は半径方向に規
則性をもって連続する凹凸を表面に備えた光ディスク等
の円板状の被塗布物、２は、被塗布物１の表面に塗布液
１２を吐出供給する塗布液供給ノズル、３は被塗布物１
を水平に保持しながら回転する回転台、４は回転による
塗布液１２の飛散を防ぐカバー、５は前記カバー４内の
空気や飛散物を排出する排気ダクト、６は回転台３の回
転軸１３に振動を与える振動発生装置である。なお、前
記回転軸１３はモータ（図示省略）によって回転駆動さ
れる。
【００１９】例えば光ディスクの表面に保護膜を形成す
るために上記装置が用いられ、前記回転台３を回転さ
せ、この回転台３上に保持した被塗布物１を回転させた
状態で、被塗布物１の表面中央部に、その上方に位置す
る塗布液供給ノズル２から定量の塗布液１２を吐出供給
し、遠心力を利用して、被塗布物１の表面全体に塗布液
１２を拡げて、塗布液１２の膜を形成する。この膜形成
の際に、振動発生装置６によって回転軸１３に振動を与
え、この振動を回転台３、被塗布物１に伝え、塗布液１
２が振動するようにしている。前記被塗布物１の表面に
はほぼ同心状の多数の円形の記録再生用溝等が形成さ
れ、半径方向に規則性をもって連続する凹凸が形成され
ているが、前記振動を、前記凹凸の半径方向のピッチよ
り短い波長となるように設定している。
るために上記装置が用いられ、前記回転台３を回転さ
せ、この回転台３上に保持した被塗布物１を回転させた
状態で、被塗布物１の表面中央部に、その上方に位置す
る塗布液供給ノズル２から定量の塗布液１２を吐出供給
し、遠心力を利用して、被塗布物１の表面全体に塗布液
１２を拡げて、塗布液１２の膜を形成する。この膜形成
の際に、振動発生装置６によって回転軸１３に振動を与
え、この振動を回転台３、被塗布物１に伝え、塗布液１
２が振動するようにしている。前記被塗布物１の表面に
はほぼ同心状の多数の円形の記録再生用溝等が形成さ
れ、半径方向に規則性をもって連続する凹凸が形成され
ているが、前記振動を、前記凹凸の半径方向のピッチよ
り短い波長となるように設定している。
【００２０】上記のように膜の形成を行うと、前記遠心
力により塗布液１２が前記凹凸を乗り越えながら外周側
に拡がる際に、前記振動を与えられることにより前記凹
凸をスムースに乗り越えることができる。このため、前
記凹凸の影響を少なくして、被塗布物１の表面全体に均
一状態に塗布液１２を拡げることができる結果、上面平
坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成することがで
きる。
力により塗布液１２が前記凹凸を乗り越えながら外周側
に拡がる際に、前記振動を与えられることにより前記凹
凸をスムースに乗り越えることができる。このため、前
記凹凸の影響を少なくして、被塗布物１の表面全体に均
一状態に塗布液１２を拡げることができる結果、上面平
坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成することがで
きる。
【００２１】上記第１実施形態では、振動発生装置６を
回転軸１３の側方に接するように配設しているが、振動
発生装置６を回転台３に接するように配してもよく、ま
た回転軸１３に偏荷重を与えて回転そのものにより振動
が発生するように構成してもよい。また前記振動は、前
記凹凸の半径方向のピッチより大きい波長のものであっ
てもよい。
回転軸１３の側方に接するように配設しているが、振動
発生装置６を回転台３に接するように配してもよく、ま
た回転軸１３に偏荷重を与えて回転そのものにより振動
が発生するように構成してもよい。また前記振動は、前
記凹凸の半径方向のピッチより大きい波長のものであっ
てもよい。
【００２２】図２は本発明の第２実施形態に係る膜形成
装置を示す。図２において、１は被塗布物、２は塗布液
供給ノズル、３は回転台、４はカバー、５は排気ダクト
であって、第１実施形態と同様に構成されている。
装置を示す。図２において、１は被塗布物、２は塗布液
供給ノズル、３は回転台、４はカバー、５は排気ダクト
であって、第１実施形態と同様に構成されている。
【００２３】本実施形態においては、被塗布物１の上方
にその半径方向に１列に複数のエアノズル７が配設さ
れ、被塗布物１の回転時にその表面に向け空気を吹き付
け、被塗布物１上の塗布液１２の液表面を振動させうる
ように構成されている。この空気の吹き付けにより、被
塗布物１上の塗布液１２が遠心力により前記凹凸を乗り
越えながら外周側に拡がる際に、塗布液１２にも生ずる
凹凸の凸部は凹部よりも空気の力を大きく受け、凸部が
高さが小さくなる方向に塗布液１２が拡がる。このた
め、前記凹凸の影響を少なくして、被塗布物１の表面全
体に均一状態に塗布液１２を拡げることができる結果、
上面平坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成するこ
とができる。
にその半径方向に１列に複数のエアノズル７が配設さ
れ、被塗布物１の回転時にその表面に向け空気を吹き付
け、被塗布物１上の塗布液１２の液表面を振動させうる
ように構成されている。この空気の吹き付けにより、被
塗布物１上の塗布液１２が遠心力により前記凹凸を乗り
越えながら外周側に拡がる際に、塗布液１２にも生ずる
凹凸の凸部は凹部よりも空気の力を大きく受け、凸部が
高さが小さくなる方向に塗布液１２が拡がる。このた
め、前記凹凸の影響を少なくして、被塗布物１の表面全
体に均一状態に塗布液１２を拡げることができる結果、
上面平坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成するこ
とができる。
【００２４】上記第２実施形態では、複数のエアノズル
７を被塗布物１の半径方向に１列に配設しているが、複
数のエアノズル７を前記半径方向の異なる位置のそれぞ
れにさえ配すれば、必ずしも１列でなくてもよく、また
スリット状の吹出口を有する１本のエアノズルで複数の
エアノズル７の代わりとしてもよい。さらに空気以外の
他の気体を吹き付けうるようにノズルを構成してもよ
い。
７を被塗布物１の半径方向に１列に配設しているが、複
数のエアノズル７を前記半径方向の異なる位置のそれぞ
れにさえ配すれば、必ずしも１列でなくてもよく、また
スリット状の吹出口を有する１本のエアノズルで複数の
エアノズル７の代わりとしてもよい。さらに空気以外の
他の気体を吹き付けうるようにノズルを構成してもよ
い。
【００２５】また前記エアノズル７を被塗布物１の半径
方向に振動させるように構成すると、被塗布物１の表面
全体にわたり空気を均等に吹き付けることができ好適で
ある。さらに、エアノズル７から吹き付ける空気中に塗
布液１２の溶剤を気化させて混合することで、塗布液１
２の乾燥速度を制御できるように構成すると好適であ
る。
方向に振動させるように構成すると、被塗布物１の表面
全体にわたり空気を均等に吹き付けることができ好適で
ある。さらに、エアノズル７から吹き付ける空気中に塗
布液１２の溶剤を気化させて混合することで、塗布液１
２の乾燥速度を制御できるように構成すると好適であ
る。
【００２６】図３は本発明の第３実施形態に係る膜形成
装置を示す。図３において、１は被塗布物、２は塗布液
供給ノズル、３は回転台、４はカバー、５は排気ダクト
であって、第１実施形態と同様に構成されている。
装置を示す。図３において、１は被塗布物、２は塗布液
供給ノズル、３は回転台、４はカバー、５は排気ダクト
であって、第１実施形態と同様に構成されている。
【００２７】本実施形態においては、回転台３の周囲の
空間を密閉空間２０となしえるよう、前記カバー４を閉
じるための蓋８を備えると共に、前記密閉空間２０内の
圧力を制御するための空気供給手段９を備えている。
空間を密閉空間２０となしえるよう、前記カバー４を閉
じるための蓋８を備えると共に、前記密閉空間２０内の
圧力を制御するための空気供給手段９を備えている。
【００２８】上記の装置を用いて、被塗布物１の中央部
に塗布液１２を吐出供給した後、塗布液供給ノズル２を
カバー４の外に退避させ、蓋８を閉めてカバー４内を密
閉空間２０とし、空気供給手段９より加圧空気を供給
し、密閉空間２０を高圧状態にした後、回転台３を回転
させて膜形成を行っている。
に塗布液１２を吐出供給した後、塗布液供給ノズル２を
カバー４の外に退避させ、蓋８を閉めてカバー４内を密
閉空間２０とし、空気供給手段９より加圧空気を供給
し、密閉空間２０を高圧状態にした後、回転台３を回転
させて膜形成を行っている。
【００２９】上記のように膜の形成を行うと、前記遠心
力により塗布液１２が前記凹凸を乗り越えながら外周側
に拡がる際に、塗布液１２にも生ずる凹凸の凸部が密閉
空間２０の高圧力を凹部より強く受け、凹部に向け流下
するので、塗布液１２は均一状態に拡がっていく。この
ため上面平坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成す
ることができる。
力により塗布液１２が前記凹凸を乗り越えながら外周側
に拡がる際に、塗布液１２にも生ずる凹凸の凸部が密閉
空間２０の高圧力を凹部より強く受け、凹部に向け流下
するので、塗布液１２は均一状態に拡がっていく。この
ため上面平坦性および膜厚均一性にすぐれた膜を形成す
ることができる。
【００３０】図４、図５は本発明の第４実施形態に係る
膜形成装置を示す。図４において、１は被塗布物、２は
塗布液供給ノズル、３は回転台、４はカバー、５は排気
ダクトであって、第１実施形態と同様に構成されてい
る。
膜形成装置を示す。図４において、１は被塗布物、２は
塗布液供給ノズル、３は回転台、４はカバー、５は排気
ダクトであって、第１実施形態と同様に構成されてい
る。
【００３１】本実施形態においては、被塗布物１の表面
と所定の隙間を保ったブレード１０を被塗布物１の上方
にその半径方向に配している。ブレード１０の下辺１１
は、ナイフエッジ形状とし、塗布液１２の粘度が高い場
合は、図５の（ａ）に示すように被塗布物１の回転方向
（図に示す矢印方向）に対する正面側を鉛直面に、背面
側を水平に対し６０°傾斜する傾斜面としている。塗布
液１２の粘度が低い場合は、図５の（ｂ）に示すよう
に、前記下辺１１の形状を、被塗布物１の回転方向（図
に示す矢印方向）に対する正面側を水平に対し６０°傾
斜する傾斜面とし、背面側を鉛直面としている。
と所定の隙間を保ったブレード１０を被塗布物１の上方
にその半径方向に配している。ブレード１０の下辺１１
は、ナイフエッジ形状とし、塗布液１２の粘度が高い場
合は、図５の（ａ）に示すように被塗布物１の回転方向
（図に示す矢印方向）に対する正面側を鉛直面に、背面
側を水平に対し６０°傾斜する傾斜面としている。塗布
液１２の粘度が低い場合は、図５の（ｂ）に示すよう
に、前記下辺１１の形状を、被塗布物１の回転方向（図
に示す矢印方向）に対する正面側を水平に対し６０°傾
斜する傾斜面とし、背面側を鉛直面としている。
【００３２】上記の装置を用いて、膜形成を行うと、被
塗布物１の回転による遠心力で塗布液１２が前記凹凸を
乗り越えながら外周側に拡がっていくが、被塗布物１の
表面と所定の隙間を保ったブレード１０を配しているた
め、このブレード１０により設定した隙間を通って塗布
液１２が拡がっていく。このため前記凹凸の影響を少な
くして、被塗布物１の表面全体に均一状態に塗布液１２
を広げることが可能となる。この結果、上面平坦性およ
び膜厚均一性にすぐれた膜を形成することができる。
塗布物１の回転による遠心力で塗布液１２が前記凹凸を
乗り越えながら外周側に拡がっていくが、被塗布物１の
表面と所定の隙間を保ったブレード１０を配しているた
め、このブレード１０により設定した隙間を通って塗布
液１２が拡がっていく。このため前記凹凸の影響を少な
くして、被塗布物１の表面全体に均一状態に塗布液１２
を広げることが可能となる。この結果、上面平坦性およ
び膜厚均一性にすぐれた膜を形成することができる。
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、被塗布物上面の凹凸に
影響されることなく、上面が平坦でかつ膜厚の均一性に
すぐれた膜を形成することができる。
影響されることなく、上面が平坦でかつ膜厚の均一性に
すぐれた膜を形成することができる。
【図１】本発明の第１実施形態の膜形成装置の概略図で
ある。
ある。
【図２】本発明の第２実施形態の膜形成装置の概略図で
ある。
ある。
【図３】本発明の第３実施形態の膜形成装置の概略図で
ある。
ある。
【図４】本発明の第４実施形態の膜形成装置の概略図で
ある。
ある。
【図５】上記第４実施形態におけるブレードの下辺の形
状を示し、（ａ）はその塗布液粘度が高い場合の例を示
す図、（ｂ）はその塗布液粘度が低い場合の例を示す図
である。
状を示し、（ａ）はその塗布液粘度が高い場合の例を示
す図、（ｂ）はその塗布液粘度が低い場合の例を示す図
である。
１ 被塗布物 ２ 塗布液供給ノズル ３ 回転台 ６ 振動発生装置 ７ エアノズル ８ 蓋 １０ ブレード １１ 下辺 １２ 塗布液 １３ 回転軸 ２０ 密閉空間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｄ (72)発明者 中 裕之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AB17 EA05 4D075 AC64 AC84 DA07 DC21 4F042 AA07 DD07 EB09 EB18 EB19 5D121 AA04 EE22 EE24 EE28 GG20 GG28 GG30 5F046 JA02 JA07 JA10 JA16
Claims (11)
- 【請求項１】 凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水
平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方から
塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成
する膜形成方法において、前記回転時に、被塗布物上の
塗布液に振動を与えながら膜を形成することを特徴とす
る膜形成方法。 - 【請求項２】 被塗布物に振動を与えて、塗布液を振動
させることを特徴とする請求項１記載の膜形成方法。 - 【請求項３】 被塗布物はその表面に半径方向に規則性
をもって連続する凹凸を備え、前記凹凸の半径方向のピ
ッチより短い波長となる振動を塗布液に与えることを特
徴とする請求項１又は２記載の膜形成方法。 - 【請求項４】 半径方向に規則性をもって連続する凹凸
を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回
転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供給し、遠
心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成装置にお
いて、被塗布物を保持して回転する回転台の回転軸に振
動を与える振動発生装置を設け、この振動発生装置によ
って発生する振動を、被塗布物の凹凸の半径方向のピッ
チより短い波長となるように設定したことを特徴とする
膜形成装置。 - 【請求項５】 凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水
平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方から
塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成
する膜形成方法において、前記回転時に、ノズルより被
塗布物表面に気体を吹き付けながら膜を形成することを
特徴とする膜形成方法。 - 【請求項６】 被塗布物の上方にその半径方向の異なる
位置のそれぞれにノズルを配し、これらノズルを被塗布
物の半径方向に振動させながら被塗布物表面に気体を吹
き付けることを特徴とする請求項５記載の膜形成方法。 - 【請求項７】 半径方向に規則性をもって連続する凹凸
を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回
転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供給し、遠
心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成装置にお
いて、被塗布物の上方にその半径方向の異なる位置のそ
れぞれにノズルを配し、これらノズルから被塗布物表面
に気体を吹き付けるように構成すると共に、これらノズ
ルを被塗布物の半径方向に振動させる振動発生装置を設
けたことを特徴とする膜形成装置。 - 【請求項８】 凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水
平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方から
塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成
する膜形成方法において、加圧された密閉空間内で被塗
布物表面に膜を形成することを特徴とする膜形成方法。 - 【請求項９】 凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水
平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方から
塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成
する膜形成方法において、被塗布物表面と所定の隙間を
保ったブレードを被塗布物の上方にその半径方向に配し
て、被塗布物表面に膜を形成することを特徴とする膜形
成方法。 - 【請求項１０】 ブレードの下辺をナイフエッジ形状と
し、被塗布物の回転方向に対する正面側を鉛直面に、背
面側を傾斜面にしたことを特徴とする請求項９記載の膜
形成方法。 - 【請求項１１】 ブレードの下辺をナイフエッジ形状と
し、被塗布物の回転方向に対する正面側を傾斜面に、背
面側を鉛直面にしたことを特徴とする請求項９記載の膜
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000298263A JP2002102778A (ja) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | 膜形成方法および膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000298263A JP2002102778A (ja) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | 膜形成方法および膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002102778A true JP2002102778A (ja) | 2002-04-09 |
Family
ID=18780245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000298263A Pending JP2002102778A (ja) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | 膜形成方法および膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002102778A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010207723A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 樹脂膜形成装置 |
| JP2010541118A (ja) * | 2007-10-04 | 2010-12-24 | プリンコ アメリカ コーポレイション | 光ディスクの塗布工具、光ディスクの塗布方法及び光ディスクの製造方法 |
| JP2017050576A (ja) * | 2016-12-15 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 |
| JP2017050575A (ja) * | 2016-12-15 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 |
| CN112517319A (zh) * | 2020-12-01 | 2021-03-19 | 北京中科开迪软件有限公司 | 一种用于光盘制造的光盘旋涂设备 |
-
2000
- 2000-09-29 JP JP2000298263A patent/JP2002102778A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010541118A (ja) * | 2007-10-04 | 2010-12-24 | プリンコ アメリカ コーポレイション | 光ディスクの塗布工具、光ディスクの塗布方法及び光ディスクの製造方法 |
| JP2010207723A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 樹脂膜形成装置 |
| JP2017050576A (ja) * | 2016-12-15 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 |
| JP2017050575A (ja) * | 2016-12-15 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 |
| CN112517319A (zh) * | 2020-12-01 | 2021-03-19 | 北京中科开迪软件有限公司 | 一种用于光盘制造的光盘旋涂设备 |
| CN112517319B (zh) * | 2020-12-01 | 2021-07-09 | 北京中科开迪软件有限公司 | 一种用于光盘制造的光盘旋涂设备 |
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