JPH07106334B2 - レジスト塗布装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスクのマスタリング工程においてガラ
スなどの基板上にフォトレジストを塗布するような場合
に用いられるレジスト塗布装置に関するものである。

従来の技術 光ディスクの原盤は、ガラス盤などの上にフォトレジス
ト層が形成されたものにレーザービームで信号を記録し
てつくられる。

基板上にフォトレジスト層を形成する方法はいくつかの
方式が考えられるが、一般に行なわれているのがスピニ
ング法である。これは、基板上にフォトレジストを垂下
し、高速で回転させることによって均一な薄い膜を決成
する方法である。この方式において、ガラス盤などの基
板上に均一にむらなくレジストを塗布するための方策が
各種試みられている。レジスト層の厚みには乾燥速度が
大きく影響し、そのためには溶剤蒸気圧をあるレベルで
均一にコントロールする必要がある。その中で有効な方
式の一つが基板上方にアッパープレートを設けて基板上
に供給されたレジストの溶剤蒸気の拡散を防ぎ、溶剤蒸
気圧を基板全周で均一にすることにより成膜の厚みむら
をなくする方式である。

以下図面を参照しながら、上述の方式を説明する。第２
図において、１′はチャンバー、２′はカバー、３′は
カバーに設けられた開口、４′はターンテーブル、５′
はガラス盤、６′はスピンドル、14はアッパープレー
ト、９′はアッパープレートを吊す複数の支持部材、1
0′は排気孔、13′はガラス盤上に供給されたレジスト
である。

以上のように構成された装置について、以下その動作に
ついて説明する。

まず、ガラス盤５′が図示されない駆動装置により低速
で回転し、その上にやはり図示されないノズルよりレジ
ストが供給される。レジストがガラス盤５′のほぼ全周
に行き渡ってから、ガラス盤５′を高速で回転させてそ
の上のレジストの大部分を遠心力によって振り切り、薄
いレジスト層を形成する。

レジスト13′がガラス盤５′の上に供給されてから高速
で振り切られるまでの間、レジストの溶剤蒸気はアッパ
ープレートで周囲に拡散するのを妨げられ、全周でほぼ
均一な蒸気圧を維持することができ、レジストの乾燥速
度を均一にする。また、高速回転時には、ガラス盤表面
の空気の流れをアッパープレートがある程度制限し、盤
面上への流入空気による部分的な乾燥速度の促進を抑え
る役目を果たしている。そのため、アッパープレートが
ない場合に比べて全周での厚みむらを少なくすることが
できる。

発明が解決しようとする問題点 しかし、上記のような構成では、外周部はアッパープレ
ートとの間から溶剤蒸気が逃げれるのに対し、内周部は
逃げ場がなくて中心付近で蒸気圧が高くなる。また、高
速回転時においても、中心付近での空気の流れが悪くな
り、溶剤蒸気圧が高くなる。その結果、実験結果では内
周特に中心付近で膜厚が薄くなる傾向にあった。これ
は、中心付近での乾燥が遅れるため、遠心力による拡散
が打ち勝って膜が薄くなるものと思われる。

本発明は、上記の点に鑑み、アッパープレートを用いた
塗布装置において、中心付近での溶剤蒸気圧を他の部分
とほぼ同じレベルにし、全周での膜厚を均一にすること
のできるレジスト塗布装置を提供することを目的とする
ものである。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明のレジスト塗布装
置は、レジストを供給するノズルが、アッパープレート
とガラス基板の間を移動するし低速回転させながらレジ
スト塗布を行うと共に、基板表面に近接対向して設けら
れたアッパープレートに、基板中心付近に対応する位置
に１個または複数の開口を設けたものである。

作用 本発明は上記した構成によって、レジストを供給するノ
ズルが、アッパープレートとガラス基板の間を移動する
ためレジストの溶剤蒸気の拡散を防ぎながら、基板全周
に均一にレジストを供給でき、アッパープレートの中心
付近からも若干の溶剤蒸気が逃げることができるように
していることによって、高速回転時においても、アッパ
ープレートの開口から空気が進入し、中心付近に溜って
いる溶剤蒸気を追い出して蒸気圧を下げることができる
ものである。

実 施 例 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。第１図において、１はチャンバー、２はカバ
ー、３はカバー３に設けられた開口、４はターンテーブ
ル、５は基板（ガラス盤）、６はスピンドル、７はアッ
パープレート、８はアッパープレート７に設けられた開
口、９はアッパープレートを複数個所で支持する支持部
材、10は排気孔、11はレジストを供給するノズル、12は
ノズル11がチャンバー内に進入するための扉である。13
はレジストを示す。

以上のように構成された塗布装置についてその動作を説
明する。まず、チャンバー１に設けられた扉12が開いて
ノズル11がチャンバー内に入り、ガラス盤５の上にレジ
ストを供給する。この時、ガラス盤を低速で回転させ、
ノズル11を中心付近から外周にゆっくりと動かし、ガラ
ス盤全面に均一にレジストを供給するのが好ましい。そ
の後、ノズル11はチャンバー１の外に後退し、扉12は閉
じられる。

その後、ガラス盤は急速に高速回転に立上り、レジスト
を遠心力で振り切る。それと同時に排気孔10からチャン
バー内の空気が排気される。この目的は、主にチャンバ
ー１の内壁にあたってミスト状になったレジスト飛抹を
ガラス盤上に付着させないように強制的に外部に出すこ
とである。排気が行なわれると、それと連動して、カバ
ー２の開口３から新しい空気がチャンバー内に吸い込ま
れる。

高速回転で大部分のレジストを振り切ったガラス盤は、
乾燥のために、そ回転数か又は適当な回転数でしばらく
回転させられる。

高速回転時及びそれに続く乾燥のための回転時には、回
転によるポンピング作用でガラス盤の外周部からと同時
にアッパープレートの開口８からも空気がガラス盤に吸
い込まれる。外周から吸い込まれる空気流は外周部で活
発であり、中心付近ではあまり働かない。しかし、アッ
パープレートの開口８はガラス盤の中心付近に対応する
位置に設けられているので、ガラス盤の中心付近には開
口８から吸い込まれた空気が流れ、レジスト溶剤蒸気を
外に運び出す。

また、この様なチャンバーは通常クリーンブースなどの
下に置かれるので、カバーの開口３からチャンバー内に
流入する空気はクリーンであり、その一部がアッパープ
レートの開口８からガラス盤上に流れる。

以上のように、装置によれば、ガラス盤の中心付近に対
応する位置に一個又は複数個の開口を設けることによ
り、レジスト供給時から高速回転の立上り時いおいて、
溶剤蒸気は中心部からも流出し、従来のように中心部で
蒸気圧が高くなることがない。

また、高速回転時と乾燥時においても、中心部に空気の
流れを生じ、溶剤蒸気が溜ることがない。

また、本発明は第１図の実施例に限られることなく、チ
ャンバーの上方より強制的にクリーンエアーを供給する
構成のものでもよい。また、一般にガラス盤表面とレジ
ストとは密着性が悪いために、レジストに先立って密着
強化剤を塗布することがよく行なわれている。そのよう
な工程においても本発明は有効であり、アッパープレー
トとの間に溜った密着強化剤の蒸気をすばやく追い出
し、その乾燥を早める。また、同様の効果によってその
膜厚も均一にすることができる。

アッパープレートに設けた開口は中心に１個所でもよ
く、又中心付近に同心円状に設けられ複数個のものでも
よい。レジストを供給するノズルは、アッパープレート
の中心付近に設けられた固定式のものでもよく、チャン
バー外に退出するものだけに限られることはない。

発明の効果 以上のように、本発明によるレジスト塗布装置では、レ
ジストを供給するノズルが、アッパープレートとガラス
基板の間を移動するためレジストの溶剤蒸気の拡散を防
ぎながら、基板全周に均一にレジストを供給できる。ま
た、ガラス基板の中心付近においてレジスト溶剤蒸気圧
が他の部分に比べて高くなることをなくすことができる
ため、乾燥速度も遅くならず、内外周ともに均一な膜厚
が得られる。

また、中心付近から流入する空気流のために乾燥速度が
速くなり、工程に要する時間を短くすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のレジスト塗布装置の主要部
を示す断面図、第２図は従来例のレジスト塗布装置の主
要部を示す断面図である。 1,1′……チャンバー、2,2′……カバー、3,3′……開
口、4,4′……ターンテーブル、5,5′……ガラス盤、6,
6′……スピンドル、７……アッパープレート、８……
アッパープレートに設けられた開口、9,9′……支持部
材、10,10′……排気孔、11……ノズル、12……扉、13,
13′……レジスト、14……アッパープレート。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】チャンバー（１）の中に基板（５）を載置
   して回転するターンテーブル（４）と、前記基板の表面
   に近接対向し、中心付近に開口（８）を有するアッパー
   プレート（７）と、前記基板と前記アッパープレートの
   間を移動し、前記基板表面にレジストを供給するノズル
   （11）を設けたことを特徴とするレジスト塗布装置。