JPS62140674A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS62140674A JPS62140674A JP27955685A JP27955685A JPS62140674A JP S62140674 A JPS62140674 A JP S62140674A JP 27955685 A JP27955685 A JP 27955685A JP 27955685 A JP27955685 A JP 27955685A JP S62140674 A JPS62140674 A JP S62140674A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- upper plate
- resist
- center
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光ディスクのマスタリング工程においてガラ
スなどの基板上にフォトレジストを塗布するような場合
に用いられるレジスト塗布装置に関するものである。
スなどの基板上にフォトレジストを塗布するような場合
に用いられるレジスト塗布装置に関するものである。
従来の技術
元ディスクの原盤は、ガラス盤などの上に７オトレジス
ト層が形成されたものにレーザービームで信号を記録し
てつくられる。
ト層が形成されたものにレーザービームで信号を記録し
てつくられる。
基板上にフォトレジスト層を形成する方法はいくつかの
方式が考えられているが、一般に行なわれているのがス
ピニング法である。これは、基板上に７オトレジストを
垂下し、高速で回転させることによって均一な薄い膜を
決成する方法である。
方式が考えられているが、一般に行なわれているのがス
ピニング法である。これは、基板上に７オトレジストを
垂下し、高速で回転させることによって均一な薄い膜を
決成する方法である。
この方式において、ガラス盤などの基板上に均一にむら
なくレジストを塗布するための方策が各種試みられてい
る。レジスト層の厚みには乾燥速度が大きく影響し、そ
のためには溶剤蒸気圧をあるレベルで均一にコントロー
ルする必要がある。その中で有効な方式の一つが基板上
方にアッパープレートを設けて基板上に供給されたレジ
ストの溶剤蒸気の拡散を防ぎ、溶剤蒸気圧を基板全周で
均一にすることにより成膜の厚みむらをなくする方式で
ある。
なくレジストを塗布するための方策が各種試みられてい
る。レジスト層の厚みには乾燥速度が大きく影響し、そ
のためには溶剤蒸気圧をあるレベルで均一にコントロー
ルする必要がある。その中で有効な方式の一つが基板上
方にアッパープレートを設けて基板上に供給されたレジ
ストの溶剤蒸気の拡散を防ぎ、溶剤蒸気圧を基板全周で
均一にすることにより成膜の厚みむらをなくする方式で
ある。
以下図面を参照しながら、上述の方式を説明する。第２
図において、１′はチャンバー、２′はカバー、ゴはカ
バーに設けられた開口、４′はターンテーブル、６′は
ガラス盤、６′はスピンドル、１４はアッパープレート
、つはアッパープレートを吊す複数の支持部材、１０′
は排気孔、１３′はガラス盤上に供給されたレジストで
ある。
図において、１′はチャンバー、２′はカバー、ゴはカ
バーに設けられた開口、４′はターンテーブル、６′は
ガラス盤、６′はスピンドル、１４はアッパープレート
、つはアッパープレートを吊す複数の支持部材、１０′
は排気孔、１３′はガラス盤上に供給されたレジストで
ある。
以上のように構成された装置について、以下その動作に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、ガラス盤５′が図示されない、琳動装置により低
速で回転し、その上にやはり図示されないノズルよりレ
ジストが供給される。レジストがガラス盤５′のほぼ全
周に行き渡ってから、ガラス盤５′を高速て回転させて
その上のレジストの大部分を遠心力によって振り切り、
薄いレジスト層を形成する。
速で回転し、その上にやはり図示されないノズルよりレ
ジストが供給される。レジストがガラス盤５′のほぼ全
周に行き渡ってから、ガラス盤５′を高速て回転させて
その上のレジストの大部分を遠心力によって振り切り、
薄いレジスト層を形成する。
レジスト１３′がガラス盤ｄの上に供給されてから高速
で振り切られるまでの間、レジストの溶剤蒸気はアッパ
ープレートで周囲に拡散するのを妨げられ、全周でほぼ
均一な蒸気圧を維持することができ、レジストの乾燥速
度を均一にする。また、高速回転時には、ガラス盤表面
の空気の流れをアッパープレートがある程度制限し、盤
面上への流入空気による部分的な乾燥速度の促進を抑え
る役目を果たしている。そのため、アッパープレートト
かない場合に比べて全周での厚みむらを少なくすること
ができる。
で振り切られるまでの間、レジストの溶剤蒸気はアッパ
ープレートで周囲に拡散するのを妨げられ、全周でほぼ
均一な蒸気圧を維持することができ、レジストの乾燥速
度を均一にする。また、高速回転時には、ガラス盤表面
の空気の流れをアッパープレートがある程度制限し、盤
面上への流入空気による部分的な乾燥速度の促進を抑え
る役目を果たしている。そのため、アッパープレートト
かない場合に比べて全周での厚みむらを少なくすること
ができる。
発明が解決しようとする問題点
しかし、上記のような構成では、外周部はアッパープレ
ートとの間から溶剤蒸気が逃げれるのに対し、内周部は
逃げ場がなくて中心付近で蒸気圧が高くなる。また、高
速回転時においても、中心付近での空気の流れが悪くな
り、溶剤蒸気圧が高くなる。その結果、実、験結果では
内周特に中心付近で膜厚が薄くなる傾向にあった。これ
は、中心付近での乾燥が遅れるため、遠心力による拡散
が打ち勝って膜が薄くなるものと思われる。
ートとの間から溶剤蒸気が逃げれるのに対し、内周部は
逃げ場がなくて中心付近で蒸気圧が高くなる。また、高
速回転時においても、中心付近での空気の流れが悪くな
り、溶剤蒸気圧が高くなる。その結果、実、験結果では
内周特に中心付近で膜厚が薄くなる傾向にあった。これ
は、中心付近での乾燥が遅れるため、遠心力による拡散
が打ち勝って膜が薄くなるものと思われる。
本発明は、上記の点に鑑み、アッパープレートを用いた
塗布装置において、中心付近での溶剤蒸気圧を他の部分
とほぼ同じレベルにし、全周での膜厚を均一にすること
のできるレジスト塗布装置を提供することを目的とする
ものである。
塗布装置において、中心付近での溶剤蒸気圧を他の部分
とほぼ同じレベルにし、全周での膜厚を均一にすること
のできるレジスト塗布装置を提供することを目的とする
ものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために、本発明のレジスト塗布装
置は、基板表面に近接対向して設けられたアッパープレ
ート【、基板中心付近に対応する位置に１個または複数
の開口を設けたものである。
置は、基板表面に近接対向して設けられたアッパープレ
ート【、基板中心付近に対応する位置に１個または複数
の開口を設けたものである。
作 用
本発明は、上記した構成によって、アッパープレートの
中心付近からも若干の溶剤蒸気が逃げることができるよ
うにしている。また、高速回転時においても、アッパー
プレートの開口がら空気が進入し、中心付近に溜ってい
る溶剤蒸気を追い出して蒸気圧を下げることができるも
のである。
中心付近からも若干の溶剤蒸気が逃げることができるよ
うにしている。また、高速回転時においても、アッパー
プレートの開口がら空気が進入し、中心付近に溜ってい
る溶剤蒸気を追い出して蒸気圧を下げることができるも
のである。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。第１図において、１はチャンバー、２はカバー
、３はカバー３に設けられた開口、４はターンテーブル
、５は基板（ガラス盤）、６はスピンドル、７はアッパ
ープレート、８はアッパープレート７に設けられた開口
、９はアッパープレートを複数個所で支持する支持部材
、１ｏは排気孔、１１はレジストを供給するノズル、１
２はノズル１１がチャンバー内に進入するだめの扉であ
る。１３はレジストを示す。
明する。第１図において、１はチャンバー、２はカバー
、３はカバー３に設けられた開口、４はターンテーブル
、５は基板（ガラス盤）、６はスピンドル、７はアッパ
ープレート、８はアッパープレート７に設けられた開口
、９はアッパープレートを複数個所で支持する支持部材
、１ｏは排気孔、１１はレジストを供給するノズル、１
２はノズル１１がチャンバー内に進入するだめの扉であ
る。１３はレジストを示す。
以上のように構成された塗布装置についてその動作を説
明する。まず、チャンバー１に設けられた扉１２が開い
てノズル１１がチャンバー内ニ入り、ガラス盤６の上に
レジストを供給する。この時、ガラス盤を低速で回転さ
せ、ノズル１１を中心付近から外周にゆっくりと動かし
、ガラス盤全面に均一にレジストを供給するのが好まし
い。その後、ノズル１１はチャンバー１の外に後退し、
扉１２は閉じられる。
明する。まず、チャンバー１に設けられた扉１２が開い
てノズル１１がチャンバー内ニ入り、ガラス盤６の上に
レジストを供給する。この時、ガラス盤を低速で回転さ
せ、ノズル１１を中心付近から外周にゆっくりと動かし
、ガラス盤全面に均一にレジストを供給するのが好まし
い。その後、ノズル１１はチャンバー１の外に後退し、
扉１２は閉じられる。
その後、ガラス盤は急速に高速回転に立上り、レジスト
を遠心力で振り切る。それと同時に排気孔１ｏからチャ
ンバー内の空気が排気される。この目的は、主にチャン
バー１の内壁にあたってミスト状になったレジスト飛沫
をガラス盤上に付着させないように強制的に外部に出す
ことである。
を遠心力で振り切る。それと同時に排気孔１ｏからチャ
ンバー内の空気が排気される。この目的は、主にチャン
バー１の内壁にあたってミスト状になったレジスト飛沫
をガラス盤上に付着させないように強制的に外部に出す
ことである。
排気が行なわれると、それと連動して、カバー２の開口
３から新しい空気がチャンバー内に吸い込まれる。
３から新しい空気がチャンバー内に吸い込まれる。
高速回転で大部分のレジストを振り切ったガラス盤は、
乾燥のために、その回転数か又は嫡出な回転数でしばら
く回転させられる。
乾燥のために、その回転数か又は嫡出な回転数でしばら
く回転させられる。
高速回転時及びそれに続く乾燥のための回転時には、回
転によるポンピング作用でガラス盤の外周部からと同時
にアッパープレートの開口８からも空気がガラス盤に吸
い込まれる。外周から吸い込捷れる空気流は外周部で活
発であり、中心付近ではあまり働かない。しかし、アッ
パープレートの開口８はガラス盤の中心付近に対応する
位置に設けられているので、ガラス盤の中心付近には開
口８から吸い込まれた空気が流れ、レジスト溶剤蒸気を
外に運び出す。
転によるポンピング作用でガラス盤の外周部からと同時
にアッパープレートの開口８からも空気がガラス盤に吸
い込まれる。外周から吸い込捷れる空気流は外周部で活
発であり、中心付近ではあまり働かない。しかし、アッ
パープレートの開口８はガラス盤の中心付近に対応する
位置に設けられているので、ガラス盤の中心付近には開
口８から吸い込まれた空気が流れ、レジスト溶剤蒸気を
外に運び出す。
また、この様なチャンバーは通常クリーンブースなどの
下に置かれるので、カバーの開口３からチャンバー内に
流入する空気はクリーンであり、その一部がアッパーグ
レートの開口８からガラス盤」二に流れる。
下に置かれるので、カバーの開口３からチャンバー内に
流入する空気はクリーンであり、その一部がアッパーグ
レートの開口８からガラス盤」二に流れる。
以上のように、装置によれば、ガラス盤の中心付近に対
応する位置に一個又は複数個の開口を設けることにより
、レジスト供給時から高速回転の立上り時において、溶
剤蒸気は中心部からも流出し、従来のように中心部で蒸
気圧が高くなることがない。
応する位置に一個又は複数個の開口を設けることにより
、レジスト供給時から高速回転の立上り時において、溶
剤蒸気は中心部からも流出し、従来のように中心部で蒸
気圧が高くなることがない。
また、高速回転時と乾燥時においても、中心部に空気の
流れを生じ、溶剤蒸気が溜ることがない。
流れを生じ、溶剤蒸気が溜ることがない。
また、本発明は第１図の実施例に限られることなく、チ
ャンバーの上方より強制的にクリーンエアーを供給する
構成のものでもよい。また、一般にガラス盤表面とレジ
ストとは密着性が悪いために、レジストに先立って密着
強化剤を塗布することがよく行なわれている。そのよう
な工程においても本発明は有効であり、アッパープレー
トとの間に溜った密着強化剤の蒸気をすげやく追い出し
、その乾燥を早める。また、同様の効果によってその膜
厚も均一にすることができる。
ャンバーの上方より強制的にクリーンエアーを供給する
構成のものでもよい。また、一般にガラス盤表面とレジ
ストとは密着性が悪いために、レジストに先立って密着
強化剤を塗布することがよく行なわれている。そのよう
な工程においても本発明は有効であり、アッパープレー
トとの間に溜った密着強化剤の蒸気をすげやく追い出し
、その乾燥を早める。また、同様の効果によってその膜
厚も均一にすることができる。
アッパープレートに設けた開口は中心に１個所でもよく
、又中心付近に同心円状に設けられた複数個のものでも
よい。レジストを供給するノズルは、アッパープレート
の中上・付近に設けられた固定式のものでもよく、チャ
ンバー外に退出するものだけに限られることはない。
、又中心付近に同心円状に設けられた複数個のものでも
よい。レジストを供給するノズルは、アッパープレート
の中上・付近に設けられた固定式のものでもよく、チャ
ンバー外に退出するものだけに限られることはない。
発明の効果
以上のように、本発明によるレジスト塗布装置では、ガ
ラス盤の中心付近においてレジスト溶剤蒸気圧が他の部
分に比べて高くなることをなくすことができるため、乾
燥速度も遅くならず、内外周ともに均一な膜厚が得られ
る。
ラス盤の中心付近においてレジスト溶剤蒸気圧が他の部
分に比べて高くなることをなくすことができるため、乾
燥速度も遅くならず、内外周ともに均一な膜厚が得られ
る。
また、中心付近から流入する空気流のために乾燥速度が
速くなり、工程に要する時間を短くすることができる。
速くなり、工程に要する時間を短くすることができる。
第１図は本発明の一実施例のレジスト塗布装置の主要部
を示す断面図、第２図は従来例のレジスト塗布装置の主
要部を示す断面図である。 １．１′・・・・・・チャンバー、２ 、２’・・・・
・・カバー、３゜３′・・・・・・開口、４．４′・・
・・・・ターンテーブル、５ 、５’・・・・・ガラス
盤、６１６′・・・・・・スピンドル、７・・・・・・
アッパープレート、８・・・・・・アッパーグレートニ
設ケられた開口、９．９’・・・・・支持部材、１０，
１０′・・・排気孔、１１・・・・・・ノズル、１２・
・・・・・扉、１３ 、１３’・・・・・・レジスト、
１４・・・・・アッパー フレート。 １−−−力ｙ２ハ〜 ２−−一カノ（− ３−−−ルｄ）コ ４−一り−ンテー７゛ル ７−−−アッパ０−アＬ４ ｇ−−一潤口 ｑ−＆持祁す ｆ′−−一才花コ（、Ｘ ｆｌ−一ノズ・・、。
を示す断面図、第２図は従来例のレジスト塗布装置の主
要部を示す断面図である。 １．１′・・・・・・チャンバー、２ 、２’・・・・
・・カバー、３゜３′・・・・・・開口、４．４′・・
・・・・ターンテーブル、５ 、５’・・・・・ガラス
盤、６１６′・・・・・・スピンドル、７・・・・・・
アッパープレート、８・・・・・・アッパーグレートニ
設ケられた開口、９．９’・・・・・支持部材、１０，
１０′・・・排気孔、１１・・・・・・ノズル、１２・
・・・・・扉、１３ 、１３’・・・・・・レジスト、
１４・・・・・アッパー フレート。 １−−−力ｙ２ハ〜 ２−−一カノ（− ３−−−ルｄ）コ ４−一り−ンテー７゛ル ７−−−アッパ０−アＬ４ ｇ−−一潤口 ｑ−＆持祁す ｆ′−−一才花コ（、Ｘ ｆｌ−一ノズ・・、。
Claims (1)
- チャンバーの中に基板を載置して回転するターンテーブ
ルと、前記基板上にレジストを供給するノズルとを設け
、前記基板の表面に近接対向させてアッパープレートを
設け、前記アッパープレートに前記基板中心付近に対応
する位置に開口を設けたことを特徴とするレジスト塗布
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60279556A JPH07106334B2 (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60279556A JPH07106334B2 (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 | レジスト塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62140674A true JPS62140674A (ja) | 1987-06-24 |
| JPH07106334B2 JPH07106334B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=17612612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60279556A Expired - Fee Related JPH07106334B2 (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07106334B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS64737A (en) * | 1987-03-27 | 1989-01-05 | Toshiba Corp | Applicator for resist |
| WO1997006894A1 (en) * | 1995-08-21 | 1997-02-27 | Tapematic S.P.A. | Improved compact disc spin coater |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5472973A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-11 | Hitachi Ltd | Rotary applying unit |
| JPS57173335U (ja) * | 1981-04-24 | 1982-11-01 |
-
1985
- 1985-12-12 JP JP60279556A patent/JPH07106334B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5472973A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-11 | Hitachi Ltd | Rotary applying unit |
| JPS57173335U (ja) * | 1981-04-24 | 1982-11-01 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS64737A (en) * | 1987-03-27 | 1989-01-05 | Toshiba Corp | Applicator for resist |
| WO1997006894A1 (en) * | 1995-08-21 | 1997-02-27 | Tapematic S.P.A. | Improved compact disc spin coater |
| US5803968A (en) * | 1995-08-21 | 1998-09-08 | Schwartz; Vladimir | Compact disc spin coater |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07106334B2 (ja) | 1995-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |