JPH05347032A - 光ディスク原盤製造装置 - Google Patents
光ディスク原盤製造装置Info
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- JPH05347032A JPH05347032A JP15546992A JP15546992A JPH05347032A JP H05347032 A JPH05347032 A JP H05347032A JP 15546992 A JP15546992 A JP 15546992A JP 15546992 A JP15546992 A JP 15546992A JP H05347032 A JPH05347032 A JP H05347032A
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- disk master
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 現像ムラの生じない均一な現像を行えるよう
にすること。 【構成】 ガラス基盤１４表面にフォトレジストを塗布
してフォトレジスト膜１５を形成し、このフォトレジス
ト膜１５に光ビームを照射して潜像を形成した後、これ
を現像して光ディスク原盤１６を作製するようにした光
ディスク原盤製造装置において、任意量の現像液１１を
収容した容器１２と、この容器１２内の現像液１１面に
現像面を対向させて光ディスク原盤１６を保持する原盤
保持部材１７と、この原盤保持部材１７を介して光ディ
スク原盤１６を現像液１１に対して回転させながら浸漬
・引上げする回転昇降手段２０とを設け、光ディスク原
盤１６の現像面全面を同時に現像液１１に接触させてタ
イムラグのない状態で現像を開始させて、現像ムラが発
生しないようにした。
にすること。 【構成】 ガラス基盤１４表面にフォトレジストを塗布
してフォトレジスト膜１５を形成し、このフォトレジス
ト膜１５に光ビームを照射して潜像を形成した後、これ
を現像して光ディスク原盤１６を作製するようにした光
ディスク原盤製造装置において、任意量の現像液１１を
収容した容器１２と、この容器１２内の現像液１１面に
現像面を対向させて光ディスク原盤１６を保持する原盤
保持部材１７と、この原盤保持部材１７を介して光ディ
スク原盤１６を現像液１１に対して回転させながら浸漬
・引上げする回転昇降手段２０とを設け、光ディスク原
盤１６の現像面全面を同時に現像液１１に接触させてタ
イムラグのない状態で現像を開始させて、現像ムラが発
生しないようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤製造装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、この種の光ディスク原盤製造装
置では、ガラス基盤表面にフォトレジストを塗布してフ
ォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に光ビ
ームを照射して潜像を形成した後、これを現像液で現像
することにより光ディスク原盤を作製するようにしてい
る。
置では、ガラス基盤表面にフォトレジストを塗布してフ
ォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に光ビ
ームを照射して潜像を形成した後、これを現像液で現像
することにより光ディスク原盤を作製するようにしてい
る。
【０００３】このようなプロセス中、現像プロセスにお
ける現像液の塗布方式として、幾つかの方式が提案され
ている。第１の方式として、光ディスク原盤の回転中心
部に対して現像液を垂直吐出させるノズル孔を有するア
ームノズルを備えたものがある。図２はこの方式を示す
もので、まず、ガラス基盤１の裏面側はターンテーブル
２上に、このターンテーブル２中に形成したバキューム
孔３からのバキューム吸引により吸着保持されている。
ここに、ガラス基盤１上にはフォトレジスト膜４がター
ンテーブル２の回転により全面に均一に塗布されてお
り、このフォトレジスト膜４には原盤露光機により情報
用ピットが潜像として記録されている。ついで、ガラス
基盤１とフォトレジスト膜４とにより構成された光ディ
スク原盤５の回転中心部の上方に位置させてノズル孔６
を有するＬ字形のアームノズル７が設けられている。こ
れにより、現像液８をノズル孔６を通して光ディスク原
盤５の現像面（フォトレジスト膜４側）上に垂直に吐出
させることにより、同図（ｂ）に示すように、光ディス
ク原盤５上の情報記録領域Ａの全域に渡って現像液８が
塗布される。これにより、情報記録領域Ａについての現
像がなされ、情報用ピットが形成される。
ける現像液の塗布方式として、幾つかの方式が提案され
ている。第１の方式として、光ディスク原盤の回転中心
部に対して現像液を垂直吐出させるノズル孔を有するア
ームノズルを備えたものがある。図２はこの方式を示す
もので、まず、ガラス基盤１の裏面側はターンテーブル
２上に、このターンテーブル２中に形成したバキューム
孔３からのバキューム吸引により吸着保持されている。
ここに、ガラス基盤１上にはフォトレジスト膜４がター
ンテーブル２の回転により全面に均一に塗布されてお
り、このフォトレジスト膜４には原盤露光機により情報
用ピットが潜像として記録されている。ついで、ガラス
基盤１とフォトレジスト膜４とにより構成された光ディ
スク原盤５の回転中心部の上方に位置させてノズル孔６
を有するＬ字形のアームノズル７が設けられている。こ
れにより、現像液８をノズル孔６を通して光ディスク原
盤５の現像面（フォトレジスト膜４側）上に垂直に吐出
させることにより、同図（ｂ）に示すように、光ディス
ク原盤５上の情報記録領域Ａの全域に渡って現像液８が
塗布される。これにより、情報記録領域Ａについての現
像がなされ、情報用ピットが形成される。
【０００４】第２の方式として、アームノズルの側壁の
数箇所にノズル孔を形成することにより光ディスク原盤
の全面に渡って現像液を垂直に吐出させるものがある。
図３はこの方式を示すもので、図２に示したアームノズ
ル７に代えて、側壁の数箇所にノズル孔９を形成したア
ームノズル１０を半径方向に位置させて用いるようにし
たものである。
数箇所にノズル孔を形成することにより光ディスク原盤
の全面に渡って現像液を垂直に吐出させるものがある。
図３はこの方式を示すもので、図２に示したアームノズ
ル７に代えて、側壁の数箇所にノズル孔９を形成したア
ームノズル１０を半径方向に位置させて用いるようにし
たものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図２に示し
たような第１の従来方式の場合、光ディスク原盤５が回
転し、現像液８がフォトレジスト膜４上に吐出された直
後の状態としては、図２（ｂ）に示すように、ノズル孔
６の光ディスク原盤５に対する垂直角のズレによって現
像液８が一方向に流れやすくなる。このため、現像液８
の吐出直後から、全面に渡って現像液８が覆うに至るま
でに、タイムラグが発生し、この結果として、現像終了
後に外観上にムラを生じてしまうことになる。このよう
なタイムラグをなくすには、光ディスク原盤５の回転数
を高速とすればよいが、高速にするとフォトレジスト膜
４上に現像液８を吐出させた際に飛散してしまい、現像
部と未現像部とが生じ、現像ムラが発生することにな
る。
たような第１の従来方式の場合、光ディスク原盤５が回
転し、現像液８がフォトレジスト膜４上に吐出された直
後の状態としては、図２（ｂ）に示すように、ノズル孔
６の光ディスク原盤５に対する垂直角のズレによって現
像液８が一方向に流れやすくなる。このため、現像液８
の吐出直後から、全面に渡って現像液８が覆うに至るま
でに、タイムラグが発生し、この結果として、現像終了
後に外観上にムラを生じてしまうことになる。このよう
なタイムラグをなくすには、光ディスク原盤５の回転数
を高速とすればよいが、高速にするとフォトレジスト膜
４上に現像液８を吐出させた際に飛散してしまい、現像
部と未現像部とが生じ、現像ムラが発生することにな
る。
【０００６】これは、図３に示したような第２の従来方
式の場合も同様であり、現像液８の吐出直後から、全面
に渡って現像液８が覆うに至るまでに、タイムラグが発
生し、この結果として、現像終了後に外観上にムラを生
じてしまうことになる。また、図４（ａ）は図示のよう
な塗布状態が全面に形成され、３０秒現像した時の現像
ムラの状態をノズル孔９との位置関係で表したものであ
る。この場合、ノズル孔９に位置するところはフォトレ
ジスト膜４の膜減りが大きく、ノズル孔９から離れた位
置では膜減りが小さいことから、同図（ｂ）に示すよう
な現像ムラが現れることになってしまう。
式の場合も同様であり、現像液８の吐出直後から、全面
に渡って現像液８が覆うに至るまでに、タイムラグが発
生し、この結果として、現像終了後に外観上にムラを生
じてしまうことになる。また、図４（ａ）は図示のよう
な塗布状態が全面に形成され、３０秒現像した時の現像
ムラの状態をノズル孔９との位置関係で表したものであ
る。この場合、ノズル孔９に位置するところはフォトレ
ジスト膜４の膜減りが大きく、ノズル孔９から離れた位
置では膜減りが小さいことから、同図（ｂ）に示すよう
な現像ムラが現れることになってしまう。
【０００７】このようなことは、例えば特開平２−１３
４６４０号公報に示されるように、アームノズルのノズ
ル孔の吐出角度をレジスト面（現像面）に対して鋭角と
なるように設定したものでも同様である。
４６４０号公報に示されるように、アームノズルのノズ
ル孔の吐出角度をレジスト面（現像面）に対して鋭角と
なるように設定したものでも同様である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、ガラス基盤表面にフォトレジストを塗布してフォト
レジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に光ビーム
を照射して潜像を形成した後、これを現像して光ディス
ク原盤を作製するようにした光ディスク原盤製造装置に
おいて、任意量の現像液を収容した容器と、この容器内
の現像液面に現像面を対向させて前記光ディスク原盤を
保持する原盤保持部材と、この原盤保持部材を介して前
記光ディスク原盤を前記現像液に対して回転させながら
浸漬・引上げする回転昇降手段とを設けた。
は、ガラス基盤表面にフォトレジストを塗布してフォト
レジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に光ビーム
を照射して潜像を形成した後、これを現像して光ディス
ク原盤を作製するようにした光ディスク原盤製造装置に
おいて、任意量の現像液を収容した容器と、この容器内
の現像液面に現像面を対向させて前記光ディスク原盤を
保持する原盤保持部材と、この原盤保持部材を介して前
記光ディスク原盤を前記現像液に対して回転させながら
浸漬・引上げする回転昇降手段とを設けた。
【０００９】請求項２記載の発明では、請求項１記載の
発明に加え、容器内の現像液温を任意温度に設定する液
温調節手段を設けた。
発明に加え、容器内の現像液温を任意温度に設定する液
温調節手段を設けた。
【００１０】また、請求項３記載の発明では、回転昇降
手段を自在継手を介して装置本体に対して結合させた。
手段を自在継手を介して装置本体に対して結合させた。
【００１１】さらに、請求項４記載の発明では、回転昇
降手段による光ディスク原盤の回転数を任意に可変設定
自在とし、請求項５記載の発明では、回転昇降手段によ
る光ディスク原盤の回転数をプログラマブルに可変設定
するシーケンサを有するものとした。
降手段による光ディスク原盤の回転数を任意に可変設定
自在とし、請求項５記載の発明では、回転昇降手段によ
る光ディスク原盤の回転数をプログラマブルに可変設定
するシーケンサを有するものとした。
【００１２】
【作用】請求項１記載の発明によれば、原盤保持部材に
より保持された光ディスク原盤を、回転昇降手段により
回転させながら容器に収容された現像液中に浸漬させる
と、光ディスク原盤の現像面は全面的に同時に現像液に
接触して浸漬することになる。これにより、現像ムラを
生ずることなく均一な現像が行われ、現像後に光ディス
ク原盤は回転昇降手段により現像液中から引上げられ
る。
より保持された光ディスク原盤を、回転昇降手段により
回転させながら容器に収容された現像液中に浸漬させる
と、光ディスク原盤の現像面は全面的に同時に現像液に
接触して浸漬することになる。これにより、現像ムラを
生ずることなく均一な現像が行われ、現像後に光ディス
ク原盤は回転昇降手段により現像液中から引上げられ
る。
【００１３】請求項２記載の発明によれば、容器中の現
像液の温度が適宜温度に任意設定されるので、フォトレ
ジスト膜の反応状態を、形成された潜像に応じて制御し
得ることになる。
像液の温度が適宜温度に任意設定されるので、フォトレ
ジスト膜の反応状態を、形成された潜像に応じて制御し
得ることになる。
【００１４】また、請求項３記載の発明によれば、回転
昇降手段が装置本体に対して自在継手を介して結合され
ているので、装置本体の水平が保てない状況下でも光デ
ィスク原盤と現像液表面とは常に水平に保たれ、全面同
時接触が確保される。
昇降手段が装置本体に対して自在継手を介して結合され
ているので、装置本体の水平が保てない状況下でも光デ
ィスク原盤と現像液表面とは常に水平に保たれ、全面同
時接触が確保される。
【００１５】さらに、請求項４記載の発明によれば、光
ディスク原盤の回転数が任意に可変設定されるので、現
像面に残留した気泡の除去が様々な状況に適応させて可
能となる。また、請求項５記載の発明によれば、シーケ
ンサにより光ディスク原盤の回転数をプログラマブルに
設定することで、一連の現像工程、例えば、現像液との
接触工程、本現像工程、現像液からの引上げ工程、純水
でのリンス工程等、各々の状況に適した回転数が確保さ
れる。
ディスク原盤の回転数が任意に可変設定されるので、現
像面に残留した気泡の除去が様々な状況に適応させて可
能となる。また、請求項５記載の発明によれば、シーケ
ンサにより光ディスク原盤の回転数をプログラマブルに
設定することで、一連の現像工程、例えば、現像液との
接触工程、本現像工程、現像液からの引上げ工程、純水
でのリンス工程等、各々の状況に適した回転数が確保さ
れる。
【００１６】
【実施例】本発明の一実施例を図１に基づいて説明す
る。まず、現像液１１を収容した上方開口の容器１２が
装置本体１３上に設けられている。また、既にフォトレ
ジスト塗布、潜像形成済みでガラス基盤１４上にフォト
レジスト膜１５を現像面として有する光ディスク原盤１
６が用意されている。このような光ディスク原盤１６を
現像面側を下向きにして前記容器１２内の現像液面に対
向させて保持するターンテーブル（原盤保持部材）１７
が設けられている。このターンテーブル１７は上下駆動
装置１８と回転駆動装置１９とによる回転昇降手段２０
に連結され、回転駆動及び上下移動されるように保持さ
れている。ここに、この回転昇降手段２０は上下駆動装
置１８部分で前記装置本体１３に結合されているが、回
転駆動装置１９との間に介在させた自在継手２１により
垂直面内で回動自在に前記光ディスク原盤１６（ターン
テーブル１７）を保持することになる。従って、光ディ
スク原盤１６の中心（重心）と回転駆動装置１９からの
回転軸中心とを一致させることにより、装置本体１３の
設置状況に関係なく、光ディスク原盤１６を常に水平状
態に保ち得るものとなる。ちなみに、容器１２の現像液
面は装置本体１３の設置状況に関係なく常に水平である
ので、光ディスク原盤１６の現像面は常に現像液面と水
平状態で平行な関係に維持される。また、前記容器１２
の下部には収容した現像液１１の温度を任意温度に調節
設定するための液温調節手段２２が設けられている。
る。まず、現像液１１を収容した上方開口の容器１２が
装置本体１３上に設けられている。また、既にフォトレ
ジスト塗布、潜像形成済みでガラス基盤１４上にフォト
レジスト膜１５を現像面として有する光ディスク原盤１
６が用意されている。このような光ディスク原盤１６を
現像面側を下向きにして前記容器１２内の現像液面に対
向させて保持するターンテーブル（原盤保持部材）１７
が設けられている。このターンテーブル１７は上下駆動
装置１８と回転駆動装置１９とによる回転昇降手段２０
に連結され、回転駆動及び上下移動されるように保持さ
れている。ここに、この回転昇降手段２０は上下駆動装
置１８部分で前記装置本体１３に結合されているが、回
転駆動装置１９との間に介在させた自在継手２１により
垂直面内で回動自在に前記光ディスク原盤１６（ターン
テーブル１７）を保持することになる。従って、光ディ
スク原盤１６の中心（重心）と回転駆動装置１９からの
回転軸中心とを一致させることにより、装置本体１３の
設置状況に関係なく、光ディスク原盤１６を常に水平状
態に保ち得るものとなる。ちなみに、容器１２の現像液
面は装置本体１３の設置状況に関係なく常に水平である
ので、光ディスク原盤１６の現像面は常に現像液面と水
平状態で平行な関係に維持される。また、前記容器１２
の下部には収容した現像液１１の温度を任意温度に調節
設定するための液温調節手段２２が設けられている。
【００１７】このような構成において、光ディスク原盤
１６の現像は回転昇降手段２０によりこの光ディスク原
盤１６を回転させながら容器１２内の現像液１１中に浸
漬させることにより行われる。この時、現像液面に対し
て平行状態に維持された光ディスク原盤１６の現像面は
その全面が同時に現像液１１に接触して浸漬することに
なる。即ち、従来方式による場合の現像ムラの根本的原
因は、光ディスク原盤の現像面上で現像反応の開始に時
間差（タイムラグ）が生ずることにあると考え、本実施
例では、基本的にはディップ法によるものとし、このよ
うに現像面の全面を同時に現像液１１に接触させること
で現像ムラの発生を防止したものである。
１６の現像は回転昇降手段２０によりこの光ディスク原
盤１６を回転させながら容器１２内の現像液１１中に浸
漬させることにより行われる。この時、現像液面に対し
て平行状態に維持された光ディスク原盤１６の現像面は
その全面が同時に現像液１１に接触して浸漬することに
なる。即ち、従来方式による場合の現像ムラの根本的原
因は、光ディスク原盤の現像面上で現像反応の開始に時
間差（タイムラグ）が生ずることにあると考え、本実施
例では、基本的にはディップ法によるものとし、このよ
うに現像面の全面を同時に現像液１１に接触させること
で現像ムラの発生を防止したものである。
【００１８】より具体的な処理について説明する。ま
ず、ガラス基盤１４上に密着材としてＨＭＤＳを塗布
し、その上にポジ型フォトレジストを０．１６μｍの膜
厚で塗布したフォトレジスト膜１５を形成し、熱処理し
た後、Ａｒレーザ光を用いたレーザカッティングにより
プリフォーマット部及びプリグルーブ部を潜像として形
成した光ディスク原盤１６を用意した。容器１２内の現
像液１１は、ポジ型フォトレジスト用の現像液を現像
液：純水＝１：２の割合で希釈したもので、現像時間の
関係からその液温は液温調節手段２２により２３℃に制
御されている。上記のように潜像が形成された光ディス
ク原盤１６はフォトレジスト膜１５側を下向きにしてタ
ーンテーブル１７下面にセットされ、容器１２内の現像
液１１中に浸漬される。現像液１１に浸漬させる際に
は、降下速度５〜１０mm／sec 、光ディスク原盤１６の
回転数は１００〜３００rpm とした。これらの降下速
度、回転数の条件設定は、フォトレジスト膜１５表面が
現像液１１と接触する瞬間、レジスト膜表面に残る気泡
の除去能力が高い点にある。従って、上記条件に限定さ
れるものではなく、現像液１１の液温やレジスト面のぬ
れ性によって様々な適正値をとり得る。また、浸漬の程
度は、後工程を考慮し、ガラス基盤１４の板厚の約半分
までとした。浸漬の程度も、光ディスク原盤１６の回転
数や容器１２の大きさにより決まるものであり、現像工
程中、現像液１１の泡立ち現象によってレジスト面が現
像液１１から離れないことで決定される。このような浸
漬状態を６０秒間維持して現像工程を完了する。その
後、光ディスク原盤１６を現像液１１中から引上げ、純
水によるリンスを１８０秒間行う。このリンス工程で
は、回転数を浸漬時よりもやや高めに設定し、純水によ
るリンス効率を高める。
ず、ガラス基盤１４上に密着材としてＨＭＤＳを塗布
し、その上にポジ型フォトレジストを０．１６μｍの膜
厚で塗布したフォトレジスト膜１５を形成し、熱処理し
た後、Ａｒレーザ光を用いたレーザカッティングにより
プリフォーマット部及びプリグルーブ部を潜像として形
成した光ディスク原盤１６を用意した。容器１２内の現
像液１１は、ポジ型フォトレジスト用の現像液を現像
液：純水＝１：２の割合で希釈したもので、現像時間の
関係からその液温は液温調節手段２２により２３℃に制
御されている。上記のように潜像が形成された光ディス
ク原盤１６はフォトレジスト膜１５側を下向きにしてタ
ーンテーブル１７下面にセットされ、容器１２内の現像
液１１中に浸漬される。現像液１１に浸漬させる際に
は、降下速度５〜１０mm／sec 、光ディスク原盤１６の
回転数は１００〜３００rpm とした。これらの降下速
度、回転数の条件設定は、フォトレジスト膜１５表面が
現像液１１と接触する瞬間、レジスト膜表面に残る気泡
の除去能力が高い点にある。従って、上記条件に限定さ
れるものではなく、現像液１１の液温やレジスト面のぬ
れ性によって様々な適正値をとり得る。また、浸漬の程
度は、後工程を考慮し、ガラス基盤１４の板厚の約半分
までとした。浸漬の程度も、光ディスク原盤１６の回転
数や容器１２の大きさにより決まるものであり、現像工
程中、現像液１１の泡立ち現象によってレジスト面が現
像液１１から離れないことで決定される。このような浸
漬状態を６０秒間維持して現像工程を完了する。その
後、光ディスク原盤１６を現像液１１中から引上げ、純
水によるリンスを１８０秒間行う。このリンス工程で
は、回転数を浸漬時よりもやや高めに設定し、純水によ
るリンス効率を高める。
【００１９】これら一連の工程中における光ディスク原
盤１６の回転数の変化は、シーケンサ（図示せず）に入
力されたプログラムにより制御されている。例えば、現
像液１１への浸漬中に現像液１１の泡立ち現象を抑える
ため、光ディスク原盤１６の回転数を１／２〜１／３ま
で低下させることが可能となる。
盤１６の回転数の変化は、シーケンサ（図示せず）に入
力されたプログラムにより制御されている。例えば、現
像液１１への浸漬中に現像液１１の泡立ち現象を抑える
ため、光ディスク原盤１６の回転数を１／２〜１／３ま
で低下させることが可能となる。
【００２０】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、ディップ
現像法とし、容器内の現像液面に現像面を対向させて原
盤保持部材で保持させた光ディスク原盤を回転昇降手段
で回転させながら現像液中に浸漬させ、その後、引上げ
ることにより現像するようにしたので、光ディスク原盤
の現像面全面を同時に現像液に接触させてタイムラグの
ない状態で現像を開始させることができ、よって、現像
ムラの発生のない均一な現像を行うことができる。
現像法とし、容器内の現像液面に現像面を対向させて原
盤保持部材で保持させた光ディスク原盤を回転昇降手段
で回転させながら現像液中に浸漬させ、その後、引上げ
ることにより現像するようにしたので、光ディスク原盤
の現像面全面を同時に現像液に接触させてタイムラグの
ない状態で現像を開始させることができ、よって、現像
ムラの発生のない均一な現像を行うことができる。
【００２１】加えて、請求項２記載の発明によれば、液
温調節手段を設けて容器内の現像液の温度を任意温度に
設定し得るようにしたので、フォトレジスト膜の反応状
態を、形成された潜像に応じて最適となるように容易に
制御できるものとなる。
温調節手段を設けて容器内の現像液の温度を任意温度に
設定し得るようにしたので、フォトレジスト膜の反応状
態を、形成された潜像に応じて最適となるように容易に
制御できるものとなる。
【００２２】また、請求項３記載の発明によれば、自在
継手により装置本体・回転昇降手段間を結合したので、
装置本体を水平に保てない状況下でも光ディスク原盤を
常に水平状態に保持しながら回転・昇降させることがで
き、よって、常に現像液面と平行な状態に維持でき、全
面同時接触を確実に行わせることができる。
継手により装置本体・回転昇降手段間を結合したので、
装置本体を水平に保てない状況下でも光ディスク原盤を
常に水平状態に保持しながら回転・昇降させることがで
き、よって、常に現像液面と平行な状態に維持でき、全
面同時接触を確実に行わせることができる。
【００２３】さらに、請求項４記載の発明によれば、光
ディスク原盤の回転数を任意に可変設定自在としたの
で、現像面に残留した気泡の除去を、様々な状況に応じ
て容易に行い得るものとなる。
ディスク原盤の回転数を任意に可変設定自在としたの
で、現像面に残留した気泡の除去を、様々な状況に応じ
て容易に行い得るものとなる。
【００２４】また、請求項５記載の発明によれば、光デ
ィスク原盤の回転数をプログラマブルに設定するシーケ
ンサを設けたので、現像液との接触工程、本現像工程、
現像液からの引上げ工程、純水でのリンス工程といった
一連の現像工程に関して、各々の状況に適した回転数を
設定して、適正な現像処理を行わせることができる。
ィスク原盤の回転数をプログラマブルに設定するシーケ
ンサを設けたので、現像液との接触工程、本現像工程、
現像液からの引上げ工程、純水でのリンス工程といった
一連の現像工程に関して、各々の状況に適した回転数を
設定して、適正な現像処理を行わせることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す正面図である。
【図２】第１の従来例を示し、（ａ）は縦断正面図、
（ｂ）は平面図である。
（ｂ）は平面図である。
【図３】第２の従来例を示し、（ａ）は縦断正面図、
（ｂ）は平面図である。
（ｂ）は平面図である。
【図４】第２の従来例の現像液塗布状況を示し、（ａ）
は縦断正面図、（ｂ）は一部切欠いた平面図である。
は縦断正面図、（ｂ）は一部切欠いた平面図である。
１１ 現像液 １２ 容器 １３ 装置本体 １４ ガラス基盤 １５ フォトレジスト膜 １６ 光ディスク原盤 １７ 原盤保持部材 ２０ 回転昇降手段 ２１ 自在継手 ２２ 液温調節手段
Claims (5)
- 【請求項１】 ガラス基盤表面にフォトレジストを塗布
してフォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜
に光ビームを照射して潜像を形成した後、これを現像し
て光ディスク原盤を作製するようにした光ディスク原盤
製造装置において、任意量の現像液を収容した容器と、
この容器内の現像液面に現像面を対向させて前記光ディ
スク原盤を保持する原盤保持部材と、この原盤保持部材
を介して前記光ディスク原盤を前記現像液に対して回転
させながら浸漬・引上げする回転昇降手段とを設けたこ
とを特徴とする光ディスク原盤製造装置。 - 【請求項２】 容器内の現像液温度を任意温度に設定す
る液温調節手段を設けたことを特徴とする請求項１記載
の光ディスク原盤製造装置。 - 【請求項３】 回転昇降手段を自在継手を介して装置本
体に対して結合させたことを特徴とする請求項１記載の
光ディスク原盤製造装置。 - 【請求項４】 回転昇降手段による光ディスク原盤の回
転数を任意に可変設定自在としたことを特徴とする請求
項１記載の光ディスク原盤製造装置。 - 【請求項５】 回転昇降手段による光ディスク原盤の回
転数をプログラマブルに可変設定するシーケンサを有す
ることを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15546992A JPH05347032A (ja) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 光ディスク原盤製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15546992A JPH05347032A (ja) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 光ディスク原盤製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05347032A true JPH05347032A (ja) | 1993-12-27 |
Family
ID=15606736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15546992A Pending JPH05347032A (ja) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 光ディスク原盤製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05347032A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6265323B1 (en) | 1998-02-23 | 2001-07-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate processing method and apparatus |
| US6632476B2 (en) | 2000-03-15 | 2003-10-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
-
1992
- 1992-06-16 JP JP15546992A patent/JPH05347032A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6265323B1 (en) | 1998-02-23 | 2001-07-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate processing method and apparatus |
| US6632476B2 (en) | 2000-03-15 | 2003-10-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
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