JPH0990644A - 現像装置及び現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、現像装置及び現像方法において、レ
ジスト層表面に残留した現像液によつて現像完了後に意
図しない現像が進行してしまう後現像による現像のばら
つきを防止するようにする。 【解決手段】希釈した酸でなる定着液を基板表面のレジ
スト層に供給する定着液供給手段を設けるようにした。
また所定周波数以上の波を定着液に印加する印加手段を
配した定着液供給手段を設けるようにした。また定着液
に高圧力を加えて基板表面に供給するようにした。さら
に所望の温度に温めた定着液を供給するようにした。レ
ジスト層表面に残留する現像液は、希釈した酸でなる定
着液により中和される。また所定周波数以上の波を印加
した定着液により短時間で拡散される。また高圧力によ
り基板表面の拡散層を薄くさせる。さらに温めることに
より定着液の反応を促進させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【目次】以下の順序で本発明を説明する。 発明の属する技術分野 従来の技術（図５及び図６） 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 発明の実施の形態 （１）第１実施例（図１及び図２） （２）第２実施例（図３及び図４） （３）他の実施例 発明の効果

【０００２】

【発明の属する技術分野】本発明は現像装置及び現像方
法に関し、例えば光デイスクの原盤となるスタンパのレ
ジスト層に潜像記録された所望の光デイスク信号でなる
ピツトを現像する際に用いられる現像装置及び現像方法
に適用して好適なものである。

【０００３】

【従来の技術】従来、この種の現像装置として、図５に
示すような基板が１枚毎に装置内部に搬送される、いわ
ゆる枚葉式のスピンプロセツサでなる現像装置１があ
る。現像装置１は製造ラインに組み込み可能なものであ
り、当該現像装置１内に搬送されてくる光デイスクの原
盤となるスタンパのレジスト層に潜像記録された所望の
情報パターンを現像することにより当該レジスト層に所
望の情報信号を表す凹部でなるピツトを形成する。

【０００４】現像装置１は、所定の長さを有する円柱で
なる出力軸２の一方の端部がモータ（図示せず）に接続
され、他方の端部に円板状のターンテーブル３が設けら
れている。ターンテーブル３上に設置されるガラス板４
の表面には感光物質でなるレジスト層が形成されてお
り、このレジスト層には予め露光記録により所望の光デ
イスク信号が潜像記録されている。ターンテーブル３
は、例えば真空吸着等の方式によりガラス板４を固定す
るようになされており、出力軸２を介してモータ（図示
せず）より伝達される動力により所定の速度で回転す
る。

【０００５】ガラス板４の上部には現像ノズル５及び純
水ノズル６が設けられている。現像ノズル５は、ガラス
板４のレジスト層にアルカリ水溶液でなる現像液を供給
することにより、ガラス板４のレジスト層に露光記録に
よつて潜像記録された所望の情報パターンを現像させ
る。また純水ノズル６は、ガラス板４のレジスト層に純
水を供給することによりレジスト層に残留した現像液を
除去する。この結果、レジスト層の現像が停止され、現
像された所望の情報パターンが定着される。現像ノズル
５及び純水ノズル６は、ターンテーブル３を所定の速度
で一定に回転させることにより、ガラス板４のレジスト
層全体に現像液及び純水を供給することができる。

【０００６】またガラス板４の上部及び下部には現像モ
ニタ７が設けられている。現像モニタ７は、ガラス板４
の下部に設けられた検出器８と、ガラス板４を挟んで検
出器８と対向する位置に設けられたレーザ発振部９とで
なる。ガラス板４のレジスト層の現像が開始されると、
レーザ発振部９はガラス板４の表面にＨｅＮｅレーザを
照射する。照射されたＨｅＮｅレーザはガラス板４を透
過して検出器８に入射される。

【０００７】現像開始直後のガラス板４表面のレジスト
層は滑らかな平板状態であるために検出器８に入射する
ＨｅＮｅレーザにはそのまま直進する０次光のみしかあ
らわれないが、現像が進行して、ピツトが形成されるに
従い、このピツトの列がいわゆるグレーテイングの条件
を満たすために、照射したレーザの波長とピツト列のピ
ツチによりある決まつた角度で０次光の回折光でなる１
次光及び２次光があらわれて、検出器８に検出されるよ
うになる。この１次光及び２次光は現像の進行に比例し
て角度が変化する。検出器８は、このような１次光及び
又は２次光の強度変化を検出し、所定の強度になつた時
点で現像が完了したと判断して、停止信号を制御部（図
示せず）に送出する。制御部はこの停止信号を受ける
と、現像ノズル５からの現像液の供給を停止させると共
に純水ノズル６からの純水の供給を開始させる。

【０００８】さらに現像装置１は、全体が外チヤンバ１
０及び内チヤンバ１１により密閉されており、装置内部
で使用した液体や発生した気体などを装置外部に漏らさ
ないようになされている。内部で使用した液体類はドレ
ン１２を介して排出され、また発生した気体類やミスト
は排気口１３を介して排気される。

【０００９】このような現像装置１においては、図６に
示すような手順により現像処理を実行する。まず、基板
となるガラス板４の表面に形成されたレジスト層に、所
望の光デイスク信号を露光記録により潜像記録する（ス
テツプＳＰ１）。この後、ガラス板４を現像装置１のタ
ーンテーブル３上に設置し、純水ノズル６から純水を供
給することによりレジスト層表面の不純物を洗浄する
（ステツプＳＰ２）。

【００１０】続いて、現像ノズル５からガラス板４上に
現像液を供給することにより、レジスト層の現像処理を
行う（ステツプＳＰ３）。この際、現像モニタ７により
レジスト層の現像状態を検出する。現像モニタ７により
現像完了が検出された時点で現像液の供給を停止する。
続いて純水ノズル６から純水をガラス板４上に供給して
レジスト層表面の現像液を除去することにより現像され
た所望の情報パターンを定着する（ステツプＳＰ４）。
ガラス板４のレジスト層に残留していた現像液の除去が
完了した後、ターンテーブル３を高速回転させることに
よりガラス板４上の水分を除去し、乾燥させる（ステツ
プＳＰ５）。以上の工程により、ガラス板４上のレジス
ト層の現像処理が完了する。

【００１１】因みにこのような手順により現像処理を完
了したガラス板４の表面に薄い金属層及び電気メツキ層
を形成することにより当該金属層及び電気メツキ層でな
るメタルマスタスタンパが得られ、このメタルマスタス
タンパを原型としてマザースタンパが、更にこのマザー
スタンパを原型としてスタンパが得られる。こうして得
られたスタンパを洗浄、乾燥及び保護膜形成、続いて裏
面研磨処理した後、余剰部分を機械加工で除去すること
により最終的なスタンパが得られる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところでかかる構成の
現像装置１においては、上述したように現像ノズル５か
ら供給する現像液によりガラス板４表面のレジスト層に
潜像記録された所望の情報パターンを現像した後に、純
水ノズル６から供給される純水によつて現像液を除去す
ることにより現像を停止するようになされている。

【００１３】ところがレジスト層の表面とレジスト層に
供給した純水との界面に生じる拡散層においては、純水
の『流れ』によつて現像液を速やかに除去することがで
きない。拡散層では純水中に構成分子を拡散させてアル
カリ濃度を低下させることによつてのみ、現像液を除去
することができる。このため現像液が純水中に拡散する
ことによつて実際に現像が停止されるまでに時間がかか
ることになり、この期間も意図しない現像が進行する
（以下、これを後現像とよぶ）という問題がある。当該
問題は、現像対象となるガラス板４のレジスト層におい
て現像ムラを引き起こすために、光デイスクにおいては
信号のばらつきの、また半導体及び液晶においては信号
線の線幅のばらつきの原因となる。

【００１４】レジスト層に照射したレーザ光の１次光及
び又は２次光のレベルを検出することにより現像を停止
するタイミングを決定するという現像装置１で用いられ
ている手法は、レジスト層の厚さや感度等の要素による
ばらつきを吸収する上ですぐれた方法であるといえる。
しかし後現像は純水の水温、圧力及び水量等のばらつき
により現像の進行速度が変動するために現像状態が時間
に比例せず、現像を停止するタイミングを制御すること
が困難であり、現像のばらつきを完全に吸収することが
できない。

【００１５】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、レジスト層表面に残留した現像液によつて現像完了
後に意図しない現像が進行する後現像による現像のばら
つきを防止し得る現像装置及び現像方法を提案しようと
するものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、希釈した酸でなる定着液を基板表
面のレジスト層に供給する定着液供給手段を設けるよう
にした。また本発明においては、所定周波数以上の波を
定着液に印加する印加手段を配した定着液供給手段を設
けるようにした。また本発明においては、供給する定着
液に高圧力を加えて基板表面に供給するようにした。さ
らに本発明においては、所望の温度に温めた定着液を供
給するようにした。

【００１７】レジスト層表面に残留する現像液は、希釈
した酸でなる定着液により中和される。またこの現像液
は、所定周波数以上の波を印加した定着液によつて短時
間で拡散される。また高圧力により基板表面の拡散層を
薄くさせる。さらに温めることにより定着液の反応を促
進させる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。

【００１９】（１）第１実施例 図５との対応部分に同一符号を付して示す図１におい
て、２０は全体として現像装置を示し、純水ノズル６の
代わりに定着ノズル２１を設けると共に、ガラス板４の
上部に所定位置に設けられた支点（図示せず）を中心と
して所定の範囲内で回動するノズルアーム２２を設け、
定着ノズル２１及び現像ノズル５をノズルアーム２２の
遊端部に配したことを除いて、現像装置１（図５）と同
様に構成されている。

【００２０】定着ノズル２１は内部に切替え機構を有し
ており、純水と希釈した酸（以下、これを希酸と呼ぶ）
でなる定着液とを切り替えてガラス板４のレジスト層に
供給できるようになされている。ここでこの希酸は、現
像装置２０を構成する材質への腐食性を考慮して、当該
材質に影響を及ぼさないものを選択する。例えば、ほう
酸、酢酸又は塩酸等の無機酸（但し、ふつ酸を除く）
や、クエン酸、リンゴ酸又はマロン酸等の有機酸が好適
である。またノズルアーム２２はガラス板４の外周方向
から中心方向へ、また中心方向から外周方向へスイング
するようになされている。

【００２１】現像装置２０は、図２に示すような手順に
よりガラス板４上のレジスト層の現像を行う。まずＨｅ
Ｃｄ(442nm) 、Ｋｒ(413nm) 及びＡｒ(351nm) 等の波長
光でなるレーザを用いて、ガラス板４表面に形成された
レジスト層に所望の光デイスク信号を露光記録により潜
像記録する（ステツプＳＰ１１）。

【００２２】次に、ガラス板４を現像装置１のターンテ
ーブル３上に設置する。この際に前処理として、ガラス
板４に定着ノズル２１から純水を供給することにより、
ガラス板４の表面に付着している不純物を洗浄する（ス
テツプＳＰ１２）。続いて現像ノズル５からアルカリ水
溶液でなる現像液をガラス板４上に均一に供給すること
により、ガラス板４のレジスト層に潜像記録されている
光デイスク信号を現像する（ステツプＳＰ１３）。

【００２３】また現像ノズル５から現像液を供給するこ
とにより現像が開始されると同時に、現像モニタ７が動
作してレーザ発振器９からレーザ光を出射する。このレ
ーザ光はガラス板４を透過して検出器８に入射される。
検出器８は現像の進行に伴つて生じるレーザ光の１次光
及び又は２次光のレベルを検出することにより、ガラス
板４上のレジスト層の現像状況を判断する。検出器８は
１次光及び又は２次光のレベルが所定の値になつた時点
で、停止信号を出力する。

【００２４】現像装置１は、停止信号が検出器８から出
力されると現像液の供給を停止すると共に、直ちに定着
ノズル２１から希酸でなる定着液をガラス板４上に供給
する（ステツプＳＰ１４）。この希酸でなる定着液は、
レジスト層表面の拡散層に残留したアルカリ水溶液でな
る現像液を中和することにより、現像を速やかに停止さ
せる。こうして一定時間定着液による定着作業を行つた
後、定着ノズル２１から定着液に代えて純水を供給する
ことにより、ガラス板４表面を洗浄する（ステツプＳＰ
１５）。洗浄が完了した後、ターンテーブル３を高速回
転させることによつてガラス板４上の水分を除去して乾
燥させる（ステツプＳＰ１６）。かくして、ガラス板４
上のレジスト層を現像することにより、所望の光デイス
ク信号でなるピツトが形成される。

【００２５】以上の構成において、現像ノズル５からレ
ジスト層に現像液を供給する際、また定着ノズル２１か
らレジスト層に純水又は定着液を供給する際に、ノズル
アーム２２はガラス板４の外周部と中心部とを往復する
ようにスイングする。この際、ターンテーブル３も所定
の回転速度で回転させる。これにより、現像液、純水及
び定着液はレジスト層全体に均一に供給され、現像ムラ
を防止し得る。

【００２６】またこのように現像ノズル５及び定着ノズ
ル２１を同一箇所にまとめて配したことにより、現像完
了と共に直ちに定着液を供給することができ、後現像の
一因となる時間のロスを防止することができる。例えば
現像ノズル５及び定着ノズル２１が同一箇所に配されて
いない場合は、現像完了後に現像ノズル５をガラス板４
上から移動させた後、定着ノズル２１をガラス板４上に
移動させてから定着液の供給が開始されることになる。
従つて現像ノズル５及び定着ノズル２１を移動させるた
めの時間がかかることになり、この間定着液を供給する
ことができずに現像が進行してしまうことになる。

【００２７】さらに現像完了後の停止及び定着工程でレ
ジスト層に供給される希酸は、レジスト層表面の拡散層
に残留したアルカリ水溶液でなる現像液を強制的に中和
して短時間で現像を停止させることができ、拡散層に残
留した現像液による後現像を防止することができる。

【００２８】また現像装置１においては、霧状になつた
現像液中のアルカリ分が現像装置１内に付着した後に乾
燥して難溶性の固体となつて積層されるため、洗浄後の
レジスト層がこの積層物により再汚染されてしまうとい
う問題があつた。しかし定着工程で現像液を中和させる
ようになされているために、周囲に現像液の飛沫が飛散
した場合においてもこの現像液は定着液により中和化さ
れており、洗浄後のガラス板４が現像液の飛沫により、
再汚染されることを防止することができる。同様に、飛
沫が乾燥してチヤンバ内に堆積することによる現像装置
２０内の汚染を防止して現像装置２０内部に残留したア
ルカリ分を一定期間毎に洗浄しなければならないという
整備上の問題を防止することができる。

【００２９】以上の構成によれば、希酸を用いて現像液
を中和させるようにしたことにより、短時間で後現像を
停止させることができ、後現像による現像のばらつきを
防止し得ると共に、装置内に残留する現像液の飛沫等に
よるレジスト層及び装置内部の汚染を防止し得る現像装
置２０及び現像方法を実現できる。

【００３０】（２）第２実施例 図１との対応部分に同一符号を付して示す図３におい
て、３０は全体として現像装置を示し、定着ノズル２１
に代えて純水ノズル３１を設け、純水ノズル３１を現像
ノズル５と共にノズルアーム２２の遊端部に配したこと
を除いて、現像装置２０（図１）と同様に構成されてい
る。

【００３１】純水ノズル３１は、従来の純水ノズル６
（図５）のノズル内に超音波振動子を設けた構成でな
り、レジスト層に供給する純水に超音波を印加するよう
になされている。ここで純水に印加する超音波の周波数
は、超音波を印加したことにより純水に泡等が発生しな
いように１[MHz] 以上であるようになされている。すな
わちレジスト層に供給する純水内に泡が発生することに
より、この泡がレジスト層を傷付ける状態（いわゆるキ
ヤビテーシヨン）が生じたり、またこの泡がレジスト面
に付着して付着面に現像液が触れないために現像ムラが
生じたりすることを防止する。

【００３２】現像装置３０は図４に示すような手順によ
りレジスト層の現像を行う。まず光デイスクの原盤とな
るガラス板４の表面に形成したレジスト層に、レーザ光
を用いて所望の光デイスク信号を露光記録することによ
り潜像記録する（ステツプＳＰ２１）。次に、ガラス板
４を現像装置３０のターンテーブル３上に設置して、ガ
ラス板４のレジスト層に純水ノズル３１から純水を供給
して不純物の洗浄を行う（ステツプＳＰ２２）。続い
て、現像ノズル５からガラス板４のレジスト層にアルカ
リ水溶液でなる現像液を供給し、ガラス板４のレジスト
層に潜像記録されている光デイスク信号を現像する（ス
テツプＳＰ２３）。

【００３３】現像装置３０は、現像モニタ７により現像
完了を検出して現像液の供給を停止する。現像停止後は
純水ノズル３１から、所定周波数以上の超音波を印加す
ることによりアジテーシヨン（撹拌）効果を与えた純水
をガラス板４上に供給する（ステツプＳＰ２４）。こう
して一定時間純水洗浄を行つた後、ターンテーブル３を
高速回転させることによりガラス板４上の水分を除去し
て乾燥させる（ステツプＳＰ２５）。かくして、ガラス
板４上のレジスト層を現像することにより、所望の光デ
イスク信号でなるピツトが形成される。

【００３４】以上の構成において、現像ノズル５及び純
水ノズル３１をノズルアーム２２の遊端部に配して、タ
ーンテーブル３の回転動作とノズルアーム２２のガラス
板４の外周方向から中心方向へのスイングとを併用する
ことによつて、現像液及び純水をガラス板４のレジスト
層全体に均一に供給することができ、現像ムラを防止し
得る。

【００３５】また現像完了時の定着及び洗浄工程で、超
音波を印加した純水をレジスト層に供給するようにした
ことにより、純水に与えられたアジテーシヨン（撹拌）
効果によつて、レジスト層表面の拡散層に残留するアル
カリ水溶液でなる現像液をより速やかに拡散させること
ができ、レジスト層表面を洗浄すると共に後現像を防止
することができる。

【００３６】以上の構成によれば、従来の純水ノズルに
超音波振動子を設けることによつて純水でなる定着液に
超音波を印加するようにしたことにより、現像液を速や
かに拡散させて短時間で現像を停止させることができ
る。かくして、簡易な構成で後現像を防止することがで
き、後現像による現像のばらつきを防止し得る現像装置
３０及び現像方法を実現できる。

【００３７】（３）他の実施例 なお上述の第１実施例及び第２実施例においては、本発
明を枚葉式のスピンプロセツサでなる現像装置２０及び
３０に適用した場合について述べたが、本発明はこれに
限らず、他の方式による現像装置においても本発明を適
用し得る。

【００３８】また上述の第１実施例及び第２実施例にお
いては、本発明を光デイスクの原盤となるスタンパのレ
ジスト層を現像する現像装置２０及び３０に適用した場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば半
導体及び液晶の配線面を現像する現像装置等の他の現像
装置にも適用し得る。

【００３９】また上述の第１実施例及び第２実施例にお
いては、現像液供給手段でなる現像ノズル５及び定着液
供給手段でなる定着ノズル２１又は純水ノズル３１をノ
ズルアーム２２の遊端側に配してノズルアーム２２をス
イングさせることにより、ガラス板４上のレジスト層に
均一に現像液、定着液又は純水を供給させる場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、例えばガラス板４
の半径と同じ大きさでなるノズルを用いて現像液供給手
段及び定着液供給手段としてもよい。このようにすれ
ば、ノズルを固定したままの状態でレジスト層全体に現
像液、定着液又は純水をより均一かつ速やかに供給する
ことができる。

【００４０】さらに上述の第１実施例及び第２実施例に
おいては、本発明を、アルカリ水溶液でなる現像液によ
りレジスト層に潜像記録された所望の光デイスク信号を
現像する現像装置に適用した場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、アルカリ水溶液以外の現像液を用
いる現像装置においても適用し得る。

【００４１】また上述の第１実施例においては、定着液
として希酸をガラス板４のレジスト層に供給する場合に
ついて述べたが、本発明はこれに限らず、定着ノズル２
１に超音波発振子を設けて、当該希酸に超音波を印加し
て供給するようにしてもよい。これにより、希酸による
現像液の中和効果に超音波によるアジテーシヨン効果が
加わり、後現像をより短時間で停止させることができ
る。またこの場合も、希酸で中和することにより現像液
のアルカリ分が堆積することを防止する効果は実施例と
同様に得られる。

【００４２】さらに上述の第１実施例においては、定着
液として希酸をレジスト層に供給する場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、供給する希酸に高圧力を
かけて供給するようにしてもよい。これにより、希酸に
よる中和効果に加えて、高圧力によつて前述の拡散層を
薄くする効果が得られ、より短時間で後現像を停止させ
ることができる。

【００４３】また上述の第１実施例においては、定着液
として希酸をレジスト層に供給する場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、供給する希酸を所望の温度
に温めて供給するようにしてもよい。これにより、希酸
による中和効果が与えられた温度により促進され、より
短時間で後現像を停止させることができる。

【００４４】また上述の第２実施例においては、定着液
として超音波を印加した純水をレジスト層に供給する場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、温純水を
供給するようにしてもよい。これにより温度による拡散
効果が得られ、レジスト表面の拡散層に残る現像液のア
ルカリイオンの拡散速度を早めることができ、短時間で
後現像を停止させることができる。

【００４５】また上述の第２実施例においては、定着液
として超音波を印加した純水をレジスト層に供給する場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、温純水に
超音波を印加して供給するようにしてもよい。これによ
り、超音波を印加したことによるアジテーシヨン効果に
加えて、温度によりアルカリ分子の拡散速度が早まる拡
散効果が得られ、より短時間で後現像を停止させること
ができる。

【００４６】さらに上述の第２実施例においては、定着
液として超音波を印加した純水をレジスト層に供給する
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、供給す
る純水に高圧力をかけて供給するようにしてもよい。こ
れにより、高圧力により拡散層を薄くする効果が得ら
れ、実施例の場合と同様に短時間で後現像を停止させる
ことができる。

【００４７】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、定着液に
よりレジスト層表面に残留する現像液を中和又は拡散さ
せるようにしたことにより、後現像を短時間で停止させ
ることができ、後現像による現像のばらつきを防止し得
る現像装置及び現像方法を実現し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例による現像装置の構成を示す側面図
である。

【図２】第１実施例による現像方法（手順）を示すフロ
ーチヤートである。

【図３】第２実施例による現像装置の構成を示す側面図
である。

【図４】第２実施例による現像方法（手順）を示すフロ
ーチヤートである。

【図５】従来の現像装置の構成を示す側面図である。

【図６】従来の現像方法（手順）を示すフローチヤート
である。

【符号の説明】

１、２０……現像装置、２……出力軸、３……ターンテ
ーブル、４……ガラス板、５……現像ノズル、６、３１
……純水ノズル、７……現像モニタ、８……検出器、９
……レーザ発振部、１０……外チヤンバ、１１……内チ
ヤンバ、１２……ドレン、１３……排気口、２１……定
着ノズル、２２……ノズルアーム。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板表面に形成され、露光記録によつて所
   望の情報パターンを潜像記録されたレジスト層にアルカ
   リ性でなる現像液を供給する現像液供給手段と、 上記レジスト層に定着液を供給する定着液供給手段とを
   具え、 上記定着液を現像完了直後に供給することにより上記レ
   ジスト層の現像を停止させることを特徴とする現像装
   置。
2. 【請求項２】上記現像装置は、 中心軸を回転駆動させることにより当該中心軸の一方の
   端部に設置した上記基板を回転させる回転駆動手段と、 上記現像液による上記レジスト層の現像状態を検出する
   検出手段と、 上記検出手段の検出結果に応じて上記現像液の供給を停
   止させると共に、上記定着液の供給を開始させる供給制
   御手段と、 上記現像液供給手段及び定着液供給手段を上記基板の外
   周側と内周側との区間で往復移動させる移動手段とを具
   えることを特徴とする請求項１に記載の現像装置。
3. 【請求項３】上記定着液は希釈した酸でなることを特徴
   とする請求項１に記載の現像装置。
4. 【請求項４】上記定着液供給手段は、 純水でなる上記定着液に所定周波数以上の波を印加する
   印加手段を具えることを特徴とする請求項１に記載の現
   像装置。
5. 【請求項５】上記定着液は温純水でなることを特徴とす
   る請求項１に記載の現像装置。
6. 【請求項６】上記定着液供給手段は、 上記定着液に所定周波数以上の波を印加する印加手段を
   具えることを特徴とする請求項３に記載の現像装置。
7. 【請求項７】上記定着液供給手段は、 上記定着液に所定周波数以上の波を印加する印加手段を
   具えることを特徴とする請求項５に記載の現像装置。
8. 【請求項８】基板表面に形成されたレジスト層に露光記
   録によつて潜像記録された所望の情報パターンを上記レ
   ジスト層に供給する現像液により現像し、 現像完了直後に上記レジスト層に供給する定着液により
   現像を停止させることによつて上記所望の情報パターン
   を定着させることを特徴とする現像方法。
9. 【請求項９】上記定着液は希釈した酸でなることを特徴
   とする請求項８に記載の現像方法。
10. 【請求項１０】上記定着液は、 所定周波数以上の波を印加した純水でなることを特徴と
    する請求項８に記載の現像方法。
11. 【請求項１１】上記定着液は温純水でなることを特徴と
    する請求項８に記載の現像方法。
12. 【請求項１２】上記定着液に高圧力を加えることを特徴
    とする請求項９に記載の現像方法。
13. 【請求項１３】上記定着液に高圧力を加えることを特徴
    とする請求項１０に記載の現像方法。
14. 【請求項１４】上記定着液に高圧力を加えることを特徴
    とする請求項１１に記載の現像方法。
15. 【請求項１５】上記定着液は所定周波数以上の波を印加
    したことを特徴とする請求項９に記載の現像方法。
16. 【請求項１６】上記定着液は所定周波数以上の波を印加
    したことを特徴とする請求項１１に記載の現像方法。